JP6318719B2 - 硫酸系銅電解液、及びこの電解液を用いたデンドライト状銅粉の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明に係る硫酸系銅電解液は、銅イオンと、電解液1Lあたり10mg以上のポリアルキレングリコールと、電解液1Lあたり10mg以上200mg以下の塩化物イオンとを含有する。
銅イオン源は特に限定されないが、代表的なものとして、硫酸銅五水和物が挙げられる。銅イオンの濃度は、電解液1Lあたり20g以下であることが好ましく、15g以下であることがより好ましく、10g以下であることがさらに好ましい。銅イオン濃度が高すぎると、電気分解の際、陰極にデンドライト状の電解銅粉を形成することが難しく、被膜状の電解銅が形成され得るため、好ましくない。
ポリアルキレングリコールの例として、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びこれらのコポリマー等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリエチレングリコールアルキルエーテルを用いることもできる。これらは、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
塩化物イオン源は特に制限されないが、代表的なものとして、塩酸、塩化ナトリウム等が挙げられる。塩化物イオンの濃度は、電解液1Lあたり10mg以上200mg以下であり、20mg以上150mg以下であることがより好ましい。塩化物イオン濃度が低すぎると、電解銅粉のデンドライトの形状が成長し、電解銅粉の平均粒子径が30μmを超える可能性があるため、好ましくない。塩化物イオン濃度が高すぎると、デンドライト状を呈しない微細な電解銅粉が析出され得るため、好ましくない。
本発明の電解液は硫酸系である。硫酸の濃度は、電解液1Lあたり20g以上300g以下であることが好ましく、50g以上150g以下であることがより好ましい。硫酸濃度は、銅イオンの溶解度に影響する。硫酸濃度が低すぎる場合、高すぎる場合のいずれであっても、銅イオンの溶解度が低くなり、電解液中に硫酸銅の結晶が析出されることになるため、好ましくない。
本発明に係るデンドライト状銅粉の製造方法は、上記の硫酸系銅電解液を電気分解して負極にデンドライト状銅粉を析出させる工程を含む。
導電ペーストは、上記デンドライト状銅粉の製造方法によって製造されたデンドライト状銅粉を樹脂と混合することによって得られる。樹脂の種類は特に限定されるものでなく、フェノール樹脂、ポリアセタール樹脂等、導電ペーストで用いられる樹脂を広く利用できる。また、導電ペーストは、溶剤、可塑剤、潤滑剤、分散剤、帯電防止剤等を含むものであってもよい。
以下の組成からなる硫酸系銅電解液を調製し、実施例及び比較例に係る硫酸系銅電解液を得た。
〔硫酸系銅電解液の組成〕
硫酸銅五水和物:銅イオン濃度が10g/L
ポリアルキレングリコール:下記表1に記載のとおり
塩化物イオン:下記表1に記載のとおり
硫酸:遊離硫酸濃度が100g/L
ポリエチレングリコール:和光純薬工業社製,数平均分子量6,000
ポリプロピレングリコール:和光純薬工業社製,数平均分子量4,000
ポリエチレングリコール脂肪酸エステル:モノステアリン酸ポリエチレングリコール(製品名:花王社製エマノーン3299RV),数平均分子量250
ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールのコポリマー:ADEKA社製アデカプルロニックF−88,数平均分子量10,800
Claims (5)
- 電解法によってデンドライト状銅粉を製造するための硫酸系銅電解液であって、
電解液1Lあたり20g以下の銅イオンと、電解液1Lあたり10mg以上のポリアルキレングリコール、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル及びポリエチレングリコールアルキルエーテルからなる群から選択される1種以上と、電解液1Lあたり10mg以上200mg以下の塩化物イオンとを含有し、
前記ポリアルキレングリコール、前記ポリアルキレングリコールの脂肪酸エステル及び前記ポリアルキレングリコールのアルキルエーテルは、数平均分子量が100以上200,000以下である
硫酸系銅電解液。 - 前記ポリアルキレングリコールは、ポリプロピレングリコール又はポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールとのコポリマーである
請求項1に記載の硫酸系銅電解液。 - 請求項1又は2に記載の硫酸系銅電解液を電気分解して負極にデンドライト状銅粉を析出させる工程と、
前記負極から前記デンドライト状銅粉を剥離する工程と、を含む
デンドライト状銅粉の製造方法。 - 前記電気分解は、前記硫酸系銅電解液の温度が20℃以上60℃以下であり、電流密度が5A/dm2以上30A/dm2以下である条件の下で行われる、請求項3に記載のデンドライト状銅粉の製造方法。
- レーザ回折散乱法粒子径分布測定の体積基準の積算分率における前記デンドライト状銅粉の50%径(D50)が5μm以上30μm以下である、請求項3又は4に記載のデンドライト状銅粉の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014046025A JP6318719B2 (ja) | 2014-03-10 | 2014-03-10 | 硫酸系銅電解液、及びこの電解液を用いたデンドライト状銅粉の製造方法 |
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JP2015168867A JP2015168867A (ja) | 2015-09-28 |
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JP2014046025A Active JP6318719B2 (ja) | 2014-03-10 | 2014-03-10 | 硫酸系銅電解液、及びこの電解液を用いたデンドライト状銅粉の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP6318719B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111593373B (zh) * | 2020-07-13 | 2022-06-17 | 重庆有研重冶新材料有限公司 | 用于射孔弹的电解铜粉的生产方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5716188A (en) * | 1980-07-03 | 1982-01-27 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Electrolytic refinery of copper |
JPS59200786A (ja) * | 1983-04-28 | 1984-11-14 | Okuno Seiyaku Kogyo Kk | 硫酸銅メツキ浴及びこれを使用するメツキ方法 |
US5730854A (en) * | 1996-05-30 | 1998-03-24 | Enthone-Omi, Inc. | Alkoxylated dimercaptans as copper additives and de-polarizing additives |
JP4518262B2 (ja) * | 2004-03-23 | 2010-08-04 | 三菱マテリアル株式会社 | 高純度電気銅とその製造方法 |
JP2006283169A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Okuno Chem Ind Co Ltd | 酸性電気銅めっき液、及び含硫黄有機化合物の電解消耗量の少ない電気銅めっき方法 |
JP5442188B2 (ja) * | 2007-08-10 | 2014-03-12 | ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. | 銅めっき液組成物 |
JP6011992B2 (ja) * | 2012-04-06 | 2016-10-25 | 住友金属鉱山株式会社 | 電解銅粉末の製造方法 |
JP2013168375A (ja) * | 2013-04-03 | 2013-08-29 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | デンドライト状銅粉 |
-
2014
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Publication number | Publication date |
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JP2015168867A (ja) | 2015-09-28 |
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