JP2015165040A - 基板ホルダ、めっき装置及びめっき方法 - Google Patents
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Abstract
Description
る特徴を有する基板、即ち貼り合わせ基板とバンプ又は表面に開口部を有するレジストが形成された基板に対して給電してめっきを行うことができる。
導電体88(図3参照)と電気的に接続されている。
90の導電体88に対向した位置(図中下面)に、導電体88から給電可能に構成された脚部93b,94bを有している。
ら延び、第1の電気接点体93cに対して略垂直になるように湾曲して形成されている。図8に示すように、第1の電気接点端部93aの先端部には、所定の角度で折り曲げられた折り曲げ部93e(突起部の一例に相当する)が設けられている。この折り曲げ部93eは、後述するように基板Wと接触する接触部となる。
ポート基板W1と、サポート基板W1に貼り付けられたアクティブウェハW2から構成された、貼り合わせ基板Wが示されている。この貼り合わせ基板Wでは、例えばアクティブウェハW2にTSVが形成されており、アクティブウェハW2の表面が被めっき面となる。このため、アクティブウェハW2の表面には導電層であるシード層104が形成されている。なお、このような貼り合わせ基板Wは、その製造工程に起因してアクティブウェハW2の径がサポート基板W1の径よりも小さく、サポート基板W1は通常の基板と同じ大きさで製造されることが多い。
第2の給電部材端部がそれぞれ基板に接触する基板上の第1の位置および第2の位置は、フロント平面部、フロントベベル部、フロントショルダ部、アペックス部、バックショルダ部、バックベベル部、裏面平面部のうち、それぞれ異なる位置から選択されうる。
ブロー槽、34 めっき槽、36 オーバーフロー槽、38 銅めっきユニット、40
基板ホルダ搬送装置、42 第1のトランスポータ、44 第2のトランスポータ、52 載置プレート、50 レール、54 第1保持部材、56 ヒンジ、58 第2保持部材、60 シール部材、60a リップ部、60b リップ部、61 基部、62 シールホルダ、64 押さえリング、64a 突条部、74 クランパ、80 保持面、82 ハンド、88 導電体、90 支持体、92 電気接点、93a 第1の電気接点端部、93b 第1の脚部、93c 第1の電気接点体、93d 孔、93e 折り曲げ部、94a 第2の電気接点端部、94b 第2の脚部、94c 第2の電気接点体、94d 孔、94e 折り曲げ部、95 電気接点、95a 電気接点端部、95b 脚部、95c 電気接点体、95e 球面部、96 電気接点、96a 電気接点端部、96b
脚部、96c 電気接点体、96e かぎ爪部、97 電気接点、97a 電気接点端部、97b 脚部、97c 電気接点体、97e 湾曲部、98 電気接点、98a 電気接点端部、98b 脚部、98c 電気接点体、98e 突部、101 フロント平面部、102 フロントベベル部、103 フロントショルダ部、104 シード層、105 レジスト、106 アペックス部、107 バックショルダ部、108 バックベベル部、109 裏面平面部109、P1 第1の位置、P2 第2の位置、W 基板、W1 サポート基板、W2 アクティブウェハ。
Claims (13)
- 基板を保持するための基板ホルダであって、
前記基板を保持するための基板保持面と、
異なる特徴を備える基板に給電できるように構成される第1の給電部材及び第2の給電部材と、を有し、
前記第1の給電部材は、前記基板保持面の内側へ向かって延び且つ前記基板保持面の第1の位置上に配置される第1の給電部材端部を有し、
前記第2の給電部材は、前記基板保持面の内側へ向かって延び且つ前記基板保持面の第2の位置上に配置される第2の給電部材端部を有し、
前記第1の位置は、前記第2の位置に対して前記基板保持面の中心側に位置する、
基板ホルダ。 - 請求項1に記載された基板ホルダであって、
前記第1の給電部材は、前記第2の給電部材と分離可能に構成された、
基板ホルダ。 - 請求項1又は2に記載された基板ホルダであって、
少なくとも1つの前記第1の給電部材端部と少なくとも1つの前記第2の給電部材端部とが、前記基板の円周方向に沿うように、交互に隣接して配置された、
基板ホルダ。 - 請求項1ないし3のいずれか一項に記載された基板ホルダであって、
前記第1の給電部材端部及び/又は前記第2の給電部材端部が、前記基板と接触する突起部を有する、
基板ホルダ。 - 基板を保持するための基板ホルダであって、
前記基板に接触するように構成された給電部材を有し、
前記給電部材は、前記基板の第1の位置に接触するように構成された第1の給電部材端部と、前記基板の前記第1の位置よりも径方向外側の前記基板の第2の位置に接触するように構成された第2の給電部材端部とを有し、
前記第1の給電部材端部は、前記第2の給電部材端部と分離可能に構成された、
基板ホルダ。 - 請求項1ないし5のいずれか一項に記載された基板ホルダを有する、
めっき装置。 - 第1の基板又は前記第1の基板とは異なる特徴を備える第2の基板を保持した基板ホルダとアノードとをめっき液内で対向配置させる工程と、
前記第1の基板又は前記第2の基板とアノードとに電圧を印加する工程と、を有するめっき方法であって、
前記基板ホルダは、前記第1の基板及び前記第2の基板に接触するように構成された給電部材を有し、
前記給電部材は、前記第1の基板のフロント平面部に接触するように構成された第1の給電部材端部と、前記第2の基板のフロントベベル部又はフロントショルダ部に接触するように構成された第2の給電部材端部とを有する、
めっき方法。 - 請求項7に記載されためっき方法であって、
前記第1の基板は、貼り合わせ基板であり、
前記第2の基板は、バンプ又は再配線形成用の基板である、
めっき方法。 - 請求項7に記載されためっき方法であって、
前記第1の基板は、貼り合わせ基板であり、
前記第2の基板は、表面に開口部を有するレジストが形成された基板である、
基板ホルダ。 - 請求項7ないし9のいずれか一項に記載されためっき方法であって、
前記第2の給電部材端部は、前記第1の基板のフロント平面部に接触するように構成された、
めっき方法。 - 請求項7ないし10のいずれか一項に記載されためっき方法であって、
少なくとも1つの前記第1の給電部材端部と少なくとも1つの前記第2の給電部材端部とが、前記第1の基板又は前記第2の基板の円周方向に沿うように、交互に隣接して配置された、
めっき方法。 - 請求項7ないし11のいずれか一項に記載されためっき方法であって、
前記第1の給電部材端部は、前記第2の給電部材端部と分離可能に構成された、
めっき方法。 - 請求項7ないし12のいずれか一項に記載されためっき方法であって、
前記第1の給電部材端部及び/又は前記第2の給電部材端部が、前記基板と接触する突起部を有する、
めっき方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018131663A (ja) * | 2017-02-16 | 2018-08-23 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダ、めっき装置、めっき方法、及び電気接点 |
WO2021049145A1 (ja) * | 2019-09-10 | 2021-03-18 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダ及びそれを備えた基板めっき装置、並びに電気接点 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6747859B2 (ja) | 2016-05-09 | 2020-08-26 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダ及びこれを用いためっき装置 |
JP6795915B2 (ja) * | 2016-06-10 | 2020-12-02 | 株式会社荏原製作所 | アノードに給電可能な給電体及びめっき装置 |
CN114214709A (zh) * | 2016-09-08 | 2022-03-22 | 株式会社荏原制作所 | 基板保持架、镀覆装置、以及基板保持架的制造方法 |
CN111613548B (zh) * | 2019-02-25 | 2023-05-23 | 奇景光电股份有限公司 | 晶圆吹干设备 |
JP2020141001A (ja) * | 2019-02-27 | 2020-09-03 | キオクシア株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP7244408B2 (ja) * | 2019-12-13 | 2023-03-22 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダ |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003518333A (ja) * | 1999-12-22 | 2003-06-03 | ステアーグ ミクロテヒ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 基板保持体 |
JP2004076022A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-03-11 | Ebara Corp | 基板ホルダ及びめっき装置 |
JP2005259942A (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Tetsuya Hojo | ウエハーチップのポストバンプ形成方法および装置 |
JP2006016651A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Shinko Electric Ind Co Ltd | ウエハめっき用治具 |
JP2008546913A (ja) * | 2005-06-28 | 2008-12-25 | セミトゥール・インコーポレイテッド | 被加工物の電気処理用のコンタクト・アセンブリ、および被加工物の電気処理のためのコンタクト・アセンブリを備える装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2617848B2 (ja) * | 1992-02-07 | 1997-06-04 | 株式会社荏原製作所 | 半導体ウエハの鍍金治具 |
US6156167A (en) * | 1997-11-13 | 2000-12-05 | Novellus Systems, Inc. | Clamshell apparatus for electrochemically treating semiconductor wafers |
KR100691201B1 (ko) * | 1998-07-10 | 2007-03-08 | 세미툴 인코포레이티드 | 무전해 도금 및 전기 도금을 사용하는 구리 도금 방법 및그 장치 |
US7022211B2 (en) * | 2000-01-31 | 2006-04-04 | Ebara Corporation | Semiconductor wafer holder and electroplating system for plating a semiconductor wafer |
US6398926B1 (en) * | 2000-05-31 | 2002-06-04 | Techpoint Pacific Singapore Pte Ltd. | Electroplating apparatus and method of using the same |
DE20108954U1 (de) * | 2001-05-29 | 2002-10-10 | Ramsauer, Dieter, 42555 Velbert | Stangenverschluß |
KR100980051B1 (ko) * | 2002-06-21 | 2010-09-06 | 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 | 기판홀더 및 도금장치 |
JP4030882B2 (ja) * | 2003-01-09 | 2008-01-09 | 新光電気工業株式会社 | めっき治具 |
WO2004107422A2 (en) * | 2003-05-27 | 2004-12-09 | Ebara Corporation | Plating apparatus and plating method |
JP4021833B2 (ja) * | 2003-10-30 | 2007-12-12 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板メッキ装置 |
CN101971319B (zh) * | 2008-03-13 | 2013-03-06 | 株式会社尼康 | 基板保持架、基板保持单元、基板搬送装置和基板贴合装置 |
JP5766048B2 (ja) * | 2010-08-19 | 2015-08-19 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダ及びめっき装置 |
JP5847832B2 (ja) * | 2011-10-19 | 2016-01-27 | 株式会社Jcu | 基板めっき治具 |
JP5643239B2 (ja) * | 2012-01-30 | 2014-12-17 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダ及びめっき装置 |
CN104032360B (zh) * | 2014-06-04 | 2017-01-04 | 昆山久顺电子科技有限公司 | 太阳能电池片电镀夹具 |
-
2014
- 2014-12-18 JP JP2014256522A patent/JP6508935B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2015
- 2015-01-16 TW TW104101441A patent/TWI630680B/zh not_active IP Right Cessation
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003518333A (ja) * | 1999-12-22 | 2003-06-03 | ステアーグ ミクロテヒ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 基板保持体 |
JP2004076022A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-03-11 | Ebara Corp | 基板ホルダ及びめっき装置 |
JP2008156758A (ja) * | 2002-06-21 | 2008-07-10 | Ebara Corp | 基板ホルダ及びめっき装置 |
JP2005259942A (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Tetsuya Hojo | ウエハーチップのポストバンプ形成方法および装置 |
JP2006016651A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Shinko Electric Ind Co Ltd | ウエハめっき用治具 |
JP2008546913A (ja) * | 2005-06-28 | 2008-12-25 | セミトゥール・インコーポレイテッド | 被加工物の電気処理用のコンタクト・アセンブリ、および被加工物の電気処理のためのコンタクト・アセンブリを備える装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018131663A (ja) * | 2017-02-16 | 2018-08-23 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダ、めっき装置、めっき方法、及び電気接点 |
WO2021049145A1 (ja) * | 2019-09-10 | 2021-03-18 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダ及びそれを備えた基板めっき装置、並びに電気接点 |
JP2021042416A (ja) * | 2019-09-10 | 2021-03-18 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダ及びそれを備えた基板めっき装置、並びに電気接点 |
JP7264780B2 (ja) | 2019-09-10 | 2023-04-25 | 株式会社荏原製作所 | 基板ホルダ及びそれを備えた基板めっき装置、並びに電気接点 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI630680B (zh) | 2018-07-21 |
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US10316425B2 (en) | 2019-06-11 |
CN104878435B (zh) | 2018-09-04 |
TW201533839A (zh) | 2015-09-01 |
KR102103538B1 (ko) | 2020-04-22 |
US20150247253A1 (en) | 2015-09-03 |
KR20150102686A (ko) | 2015-09-07 |
CN104878435A (zh) | 2015-09-02 |
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