JP2015164199A - 周波数調整可能なレーザーデバイス - Google Patents

周波数調整可能なレーザーデバイス Download PDF

Info

Publication number
JP2015164199A
JP2015164199A JP2015075762A JP2015075762A JP2015164199A JP 2015164199 A JP2015164199 A JP 2015164199A JP 2015075762 A JP2015075762 A JP 2015075762A JP 2015075762 A JP2015075762 A JP 2015075762A JP 2015164199 A JP2015164199 A JP 2015164199A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
movable
laser device
etalon
laser
freedom
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015075762A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6199923B2 (ja
Inventor
デイビッド ロバーツ マクマートリー
David Roberts Mcmurtry
ロバーツ マクマートリー デイビッド
ジェイムス ハロウェイ アラン
James Holloway Alan
ジェイムス ハロウェイ アラン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renishaw PLC
Original Assignee
Renishaw PLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Renishaw PLC filed Critical Renishaw PLC
Publication of JP2015164199A publication Critical patent/JP2015164199A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6199923B2 publication Critical patent/JP6199923B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/14External cavity lasers
    • H01S5/141External cavity lasers using a wavelength selective device, e.g. a grating or etalon
    • H01S5/143Littman-Metcalf configuration, e.g. laser - grating - mirror
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08004Construction or shape of optical resonators or components thereof incorporating a dispersive element, e.g. a prism for wavelength selection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08059Constructional details of the reflector, e.g. shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/081Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
    • H01S3/0813Configuration of resonator
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/105Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/105Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
    • H01S3/1055Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length one of the reflectors being constituted by a diffraction grating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/106Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/106Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/1062Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using a controlled passive interferometer, e.g. a Fabry-Perot etalon

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

【課題】モードホッピングが抑制された周波数調整可能なレーザーデバイスを提供する。【解決手段】複数の光学部品から形成されるレーザーキャビティを含むチャープレーザーデバイスは、光線を生成するためのレーザー光源20、スペクトル調整要素28、および、光線をスペクトル調整要素に向けるための3つのレンズ22,24,26、固定ミラー30および可動ミラー32を含む。可動ミラーは、第1の自由度34で可動であり、スペクトル調整要素への入射角を変更することにより、レーザーキャビティの有効光路長およびスペクトル調整要素の調整周波数を同時に変更する。有効光路長と調整周波数は、可動ミラーの第1の自由度以外のどのような自由度の動きにも実質的に反応しない。【選択図】図2

Description

本発明は周波数制御可能なレーザーデバイスに関する。特に、本発明は、高周波で変調又はチャープ可能な周波数制御可能なレーザーデバイスと関連する。
周波数チャープレーザーデバイスは、干渉測定などで使用されることが知られている。特に、レーザーキャビティが、平行光が導かれる回折格子を含む、いわゆるリトロースキームを実施するレーザーデバイスを提供することが知られている。回折格子を傾けることは、同時にレーザーの周波数とキャビティ長さが変更されることを許容して、モードホッピングせずに必要な周波数調整を提供する。しかし、リトロー構成は不利益を持ち、回折格子は、明確に定義された枢軸点のまわりで回転しなければならない。従って、格子動作の必要な精度を提供するために必要な非常に安定しているメカニカルな構成は、高周波変調スピードを得ることを難しくする。
特許文献1は、上記されたリトロースキームおよび同様なリットマンスキームに基づくレーザーキャビティの様々な例を記述する。特に、特許文献1は、レーザー周波数および望まれないモードホッピング効果を導入せずに出力周波数が変更されることを可能にするキャビティ長さの同期的な変化を提供するために、回折格子またはミラーのための枢軸点が数学的にどのように導き出されるかを詳細に記述する。
米国特許6,049,554号明細書
本発明の第1の面によると、複数の光学部品から形成されたレーザーキャビティを含む周波数調整可能なレーザーデバイスであって、前記複数の光学部品は、光線を生成するためのレーザー光源、スペクトル調整要素、および、前記光線を前記スペクトル調整要素に向けるための1つ以上のさらなる光学部品を含み、前記複数の光学部品の少なくとも一つは、第1の自由度で可動であり、このような前記第1の自由度で前記少なくとも一つの可動の光学部品の動きは、レーザーキャビティの有効光路長、および、スペクトル調整要素の調整周波数を変更し、それにより、モードホッピングが抑制された調整周波数を提供し、前記有効光路長、および、調整周波数は、前記第1の自由度以外の自由度における少なくとも一の可動の光学部品のいずれの動きに対しても実質的に反応しない、ことを特徴とする周波数調整可能なレーザーデバイスが提供される。
従って、本発明は、周波数制御可能または調整可能なレーザーデバイスを提供し、これは、共振またはレーザーキャビティがレーザー光源(例えば、レーザーダイオード)、スペクトル調整要素(例えば、回折光学要素および/またはエタロン)、および、1つ以上のさらなる光学部品を含む複数の光学部品(例えば、レンズ、ガラスブロック、帯域通過フィルタ、ミラーなど)から形成される。複数の光学部品の少なくとも一つは、例えば、直線の軸に沿って移動可能または軸回りに回転可能な可動の光学部品のように、第1の自由度で可動である。第1の自由度の可動の光学部品の動きは、レーザーキャビティの有効光路長およびスペクトル調整要素の調整周波数を、モードホッピングせずに周波数調整を提供する方法で同時に変更するように構成される。
本発明者らは、リトローおよびリットマンスキームに基づく既知の周波数調整可能なレーザーの欠点は、移動部品(例えば、回折格子または回折格子への光の入射角をコントロールする後方への反射板)の回転動作が非常に正確にコントロールされなければならないことであると認識していた。移動部品の制御不可能な傾きまたは移動を生じさせる枢軸点のどのような動きも、キャビティ長および調整周波数の同期はずれ変化をもたらし、これは、調整の間に起こる望ましくないモードホッピング効果をもたらす可能性がある。従って、先行技術デバイスにおいては、移動部品がその回りを回転するポイントは、高い精度の(それゆえに相対的に高コストの)モーションコントロール手段を使ってコントロールされる。このようなモーションコントロール装置の寿命は多少制限される。
先行技術デバイスと違って、本発明のレーザーデバイスは、有効光路長と調整周波数が、前記少なくとも一つの可動の光学部品の第1の自由度以外の自由度でのどのような小さい動きにも実質的に反応しないように配置される。すなわち、必要な同時の光路長および周波数調整の変化は、光学部品の1つの(すなわち第1の)自由度での動きにより主に起きて、他の自由度のどのような動きに対しても耐性がある。これは、第1の自由度においてのみ動きの制御が必要であることについて、および、他の自由度のコントロールされていない動きは許容できることについて利点を有する。従って、本発明は、あまり複雑でない(例えば、より安価な)動き制御装置を使用すること、および/または、より高速で動き制御装置を駆動することを提供する。
本発明者は、上記の問題を認識して、上記の定義された解決方法を見つけ、有効キャビティ長、およびスペクトル調整要素から提供される周波数調整をコントロールするために、可動の光学部品の1自由度を超えるコントロールが使用できる多くの具体的な光学構成を考案した。例えば、図2ないし図5を参照して、以下で詳細に説明される実施形態は、システムに関し、第1の自由度のビーム指向ミラーが軸線に沿った直線方向の移動を含み、他の自由度(たとえば、傾斜、他の軸線に沿った移動など)におけるミラーの動きは、有効キャビティ長、および、1自由度のビーム指向ミラーの直線方向の動きによって与えられる周波数調整の同時の変化に実質的に影響がない。これは、必要なモーションコントロールの複雑さを低減し、これに対応してデバイスコストを削減する。
ある自由度において本体の動きを定義することは、力学においてよく知られていることに注意することが重要である。特に、固定ポイント、または別の本体に対する対象物の動き(例えば、デバイスのハウジングまたは空間内のあるポイントに対する光学部品の動き)は、対象物の自由度の観点から記述できる。3次元において、拘束されていない対象物は6自由度に動くことができる。これらの6自由度は、3つの直線移動(並進移動)の自由度(すなわち、対象物は3つの相互に直角な直線方向の軸線に沿って動くことができる)、および、3つの回転自由度(すなわち、対象物はピッチング、ローリングおよびヨーイング可能である)を含む。先行技術のリトローおよびリットマンスキームでは、高度に拘束された回転構成を与えることにより、可動の光学部品の6つの自由度すべての動きをコントロールすることが必要である。対照的に、本発明が必要とするのは、第1の自由度においてのみ制御を提供することであり、これは、他の自由度における動きが、第1の自由度の動きから生じる有効キャビティ長および周波数調整の変化に対して、小さな、実体の無い、すなわち無視できる影響しか持たないからである。
有利には、レーザーデバイスは、第1の自由度における前記少なくとも一つの可動の光学部品の動きをコントロールするためのアクチュエーターを含む。アクチュエーターは、他の自由度における少なくとも一つの可動の光学部品の動きについては、制限、または、コントロールしない。多くの種々のアクチュエーターが使用可能である。例えば、アクチュエーターは、可動の光学部品および/または可動の光学部品を回転させるためのモーターに直線方向の動きを与えるために、1つ以上の圧電要素を含んでもよい。アクチュエーターシステムは、簡単で、信頼性があり、頑強であることが望ましい。例えば、アクチュエーターは、便宜的には、曲げ機構を含む。曲げ機構は、一般的に、相対的に程度の低いモーションコントロールしか提供しないが、これは本発明のデバイスにおいては許容できる。曲げメカニズムは、コンパクトで、非常に信頼性があるという利点も有する。アクチュエーターは、以下で詳細に記述されるように、平衡振動メカニカルシステムまたは音叉構成でもよい。好適には、アクチュエーターは、前記少なくとも一つの可動の光学部品の素早い(例えば振動性または回転の)動きを許容する。便宜的には、そのような動きは、5Hz以上、さらに好ましくは10Hz以上、さらに好ましくは50Hz以上、さらに好ましくは100Hz以上、さらに好ましくは200Hz以上、さらに好ましくは500Hz以上、さらに好ましくは1KHz以上の繰り返し率でレーザー出力の周波数変調を生じさせることを可能にする。本発明はそのような高い繰り返し率を容易にする。なぜなら、少なくとも一つの可動の光学部品の第1の自由度の動きをコントロールすることが必要なだけであるからである。繰り返し率が増大したときに起こる可能性がある、可動の光学部品のコントロールされない他の自由度の動きは、有効キャビティ長の変化および関連する調整周波数に対して最小の影響を有する。そのような繰り返し率は、リットマンまたはリトロースキームでは未だ達成されていない1Hzの繰り返し率よりもずっと大きい。
便宜的には、1つ以上のさらなる光学部品は、1つ以上の可動のビーム指向要素を含む。1つ以上の可動のビーム指向要素は反射性で(例えば、それらは可動ミラーを含んでもよい)、および/または、透過性でもよい(例えば、それらはレンズ、ガラスプレートなどを含んでもよい)。個々の可動のビーム指向要素は、好適には、第1の自由度において可動である。例えば、アクチュエーターは、第1の自由度において個々の可動のビーム指向要素を動かすことができる。前記少なくとも一つの可動の光学部品の第1の自由度の動きは、直線方向の軸線に沿った並進移動または軸線に関する回転であってもよい。複数の可動のビーム指向要素が提供される場合には、第1の自由度の動きは、異なる可動のビーム指向要素に対して異なっていてもよい。有利には、第1の自由度における1つ以上の可動のビーム指向要素の動きは、スペクトル調整要素への光線の入射角を変更する。第1の自由度の1つ以上の可動のビーム指向要素の動きは、レーザーキャビティの有効光路長も変更する。これは、光路の物理的な長さを増大させる、および/または、光路に沿って屈折率を変更することにより(例えば、ガラスプレートなどの光学部品への光線の入射角を変更することにより)、達成できる。
有利には、1つ以上の可動のビーム指向要素は、第1の自由度において可動の第1の可動のビーム指向要素を含む。第1の可動のビーム指向要素だけの動きは、好適には、有効光路長と調整周波数の同時の変更を提供する。そのような例では、第1の可動のビーム指向要素は、レーザーデバイス内で唯一の移動部分または可動の光学部品であってもよい。以下で記述されるように、第1の可動のビーム指向要素は、直線的に並進移動可能なミラー、または、光線内で回転可能な透過性(例えば、ガラス)プレートであってもよい。
レーザーデバイスの1つ以上のさらなる光学部品は、好適には、少なくとも一つのレンズを含む。第1の可動のビーム指向要素が提供される場合には、第1の可動のビーム指向要素は、有利には、前記少なくとも一つのレンズの焦点深度内(例えば、焦点位置、または焦点位置の近傍)に配置される。便宜的には、レーザーデバイスの1つ以上のさらなる光学部品は、1対のレンズを含む。そして、ビーム指向要素は、好適には、個々のレンズの焦点深度(例えば、実質的に焦点位置、または焦点位置近傍)内で一対のレンズの間に配置される。ビーム指向要素へ平行光ビームを導くのではなくビーム指向要素へ光線の焦点を合わせることによって、第1の自由度以外の自由度のビーム指向要素のコントロールされない動きの影響をさらに減らす利点を有する。
1つ以上の可動のビーム指向要素は、反射性のビーム指向要素であってもよい。有利に、1つ以上の可動のビーム指向要素のそれぞれが、可動ミラーを含む。便宜的には、光線は、斜めの角度から(すなわち、ミラーの法線ベクトルと平行でない方向から)1つ以上の可動のビーム指向要素のそれぞれの可動ミラーに入射する。例えば、光は、ミラーの法線ベクトルから45°の角度で、個々の可動ミラーへ、入射および反射された光ビームが実質的にお互いに直角であるように、導かれる。そのような可動ミラーへの光の入射角は、有効光路長、および、モードホッピングせずに周波数調整を可能にする調整周波数における、必要な同時の変化を提供するように選択可能である。
反射性の可動のビーム指向要素が提供される場合には、第1の自由度の可動ミラーの動きは、好適には、直線方向の軸線に沿った可動ミラーの並進移動を含む。好適には、可動ミラーの動きの直線方向の軸線は、ミラーの法線ベクトルと平行である。そのような直線方向の動きは、例えば曲げおよび/または圧電要素を含むアクチュエーターによって提供できる。代替のミラーは、ミラーの法線ベクトルと一致しない軸線のまわりで回転できる。これは、回転の間にミラーの有効な直線方向の並進移動を提供する。
透過性の可動のビーム指向要素が提供できる。透過性ビーム指向要素は、空気とはあ異なる屈折率を有するプレートまたはレンズを含んでもよい。例えば、ガラスプレートまたはレンズが提供できる。好適には、個々の透過性要素の第1の自由度の動きは、主にプレート表面にある部品と一緒の、回転軸線まわりの回転である。代替的には、例えば、透過性レンズの直線方向の並進移動は、第1の自由度であってもよい。
スペクトル調整要素は回折格子などの回折光学要素を含んでもよい。スペクトル調整要素はエタロンを含んでいてもよい。スペクトル調整要素は、回折格子およびエタロンの両方を含んでいてもよい。スペクトル調整要素を除いた1つ以上の光学部品は可動であってもよい。有利には、スペクトル調整要素は実質的に固定されている。例えば、デバイスハウジングまたはケーシングに対して実質的に不変の位置を有する。好適には、1つ以上のさらなる光学部品は、スペクトル調整要素に入射する光線を平行にするための1つ以上のレンズを含む。レーザーデバイスの1つ以上のさらなる光学部品は、波長選択性のコーティングやフィルタなどの光学フィルタを含んでいてもよい。エタロンがスペクトルの調整要素として提供される場合には、また、可変の波長選択的フィルタとして作動する回折要素を含めることが可能である。これは、以下で詳細に記述される。
本発明の第2の観点によれば、周波数制御可能なレーザーデバイスが提供され、これは、光線を生成するためのレーザー光源、スペクトル調整要素、スペクトル調整要素への光線の入射角を変更するための可動のビーム指向部品、および、少なくとも1つのレンズを備え、可動のビーム指向部品は、少なくとも一のレンズの焦点深度内(例えば、実質的に焦点位置)に配置されることを特徴としている。少なくとも1つのレンズは、透過性または反射性であってもよい。好適には、可動のビーム指向部品の動きは、レーザーキャビティの有効光路長およびスペクトル調整要素を同時に変更し、それにより、モードホッピングが抑制される周波数調整を提供する。
好適には、可動のビーム指向部品は、直線方向の軸線に沿って並進移動が可能なミラーを含む。代替的には、可動のビーム指向部品は、(例えば、傾斜)透過性部品を含む。便宜的には、スペクトル調整要素に入射する光線は、(例えば、少なくとも1つのレンズにより)平行にされる。スペクトル調整要素は、好適には、エタロンおよび/または回折光学要素を含む。
本発明の第3の観点によると、周波数調整可能なレーザーデバイスが提供され、これは、エタロン、および、前記エタロンへの入射光線を生成するためのレーザーダイオードを備え、前記エタロンは、前記レーザーデバイス内に実質的に固定され、エタロンへの光線の入射角が変更可能であり、前記レーザーデバイスのキャビティ長およびエタロンの通過周波数の両方は、エタロンへの光線の入射角が変更されたとき変化し、それにより、レーザーデバイスのモードホッピングを実質的に抑制する。
有利には、デバイスは、エタロンへの光線の入射角をコントロールするための1つ以上の追加の光学部品を含む。
従って、周波数調整可能なレーザーデバイスが本明細書で記述され、これは、エタロン、および、前記エタロンへの入射光線を生成するためのレーザーダイオードを備え、エタロンへの光線の入射角が変更可能である。好適には、エタロンへの光線の入射角を変更することは、レーザーデバイスのキャビティ長も変更する。便宜的には、レーザーデバイスのキャビティ長およびエタロンの通過周波数の両方は、エタロンへの光線の入射角が変更されるときに変化し、それにより、レーザーデバイスのモードホッピングが大幅に抑制される。
好適には、エタロンはレーザーデバイス内で実質的に固定して保持される。例えば、エタロンは、周波数調整可能なレーザーデバイスのハウジングに対して、固定、または、静止される。レーザーダイオードは固定されていてもよく、または、エタロンへの光線の入射角を変更するために移動されてもよい。
有利には、デバイスは、エタロン上への光線の入射角および/またはキャビティの光路長をコントロールするための1つ以上の追加の光学部品を含む。1つ以上の追加の光学部品は、プリズムやウェッジなどの、光線を指向するための1つ以上の可動の透過性部品を含んでもよい。有利には、デバイスは、光線を指向するための可動ミラーを含む。例えば、直線的に移動可能なミラーは、エタロンへの光線の入射角を変更するために提供できる。有利には、1対の(例えば平行な)可動ミラー(例えば、可動のハウジングに設置される)が提供される。
有利には、エタロンへの光線の入射角は、必要な周波数がチャープ変調された出力を提供するために、デバイスの作動中に連続的に変更される。例えば、1つ以上の追加の光学部品は、周波数がチャープ変調された出力を提供するために、急速に、回転、または振動させてもよい。
また、本明細書で記述され、提供されるエタロンは、くさび状の(平行ではない)内面を含む。有利には、そのようなエタロンは、上記した周波数調整可能なレーザーデバイスなどの周波数コントロールされたレーザーのキャビティに含めてもよい。エタロンの内面は、好適には、少なくとも部分的にはミラー化されている。そのような例において、エタロンは、それに入射する光線に対して可動であってもよい。好適には、エタロンのそのような相対的な動きは直線方向である(例えば、直線方向の軸線に沿った並進)。有利には、エタロンの相対的な動きは、光ビームの伝播の軸線と直角な方向の成分を有する。有利には、エタロンは、固定の光ビームに対して移動してもよく、あるいは、逆の関係であってもよい。エタロンは、必要に応じて、少なくとも一又は複数の光学要素または基板を含んでもよい。
好適には、エタロンの光学要素は成形される(例えば、くさび状)。好適には、光学要素の形状は、光ビームに対してエタロンが動かされる際に、レーザーキャビティの光路長を変更するように選択される。便宜的には、光学要素の形状は、往復の光路長をもたらし、それにより、モードホップ自由レーザー波長(周波数)調整を提供するように、選択される。
また、本明細書で記述され、提供される周波数調整可能なレーザーデバイスは、周波数選択的要素、および、光線を生成するためのレーザーダイオードを含み、光線は、レーザーダイオードから周波数選択的要素に向けて少なくとも一つの可動の反射要素を介して進む。有利には、少なくとも一つの可動の反射要素は、ミラーを含む。便宜的には、ミラーは直線方向の軸線に沿って並進可能である。好適には、ミラーは、光路に提供された1対のレンズの焦点範囲内に位置する。従って、そのような構成においては、先行技術のシステムに存在する正確にコントロールされた回転動作が必要ない。好適には、少なくとも一つの可動の反射要素の動きは、周波数選択的要素への光の入射角を変更する。周波数選択的要素は、エタロン(例えば、上記したエタロン)、(透過性または反射性の)光格子、多層コーティング、または他の波長選択性部品を含んでいてもよい。
また、本明細書では、周波数制御可能なレーザーデバイスが記述され、これは、レーザーキャビティを有し、このレーザーキャビティは、周波数選択性要素、レーザーダイオード、および、少なくとも一つの可動の反射要素を含み、少なくとも一つの可動の反射要素は、直線方向の軸線に沿って移動可能である。有利には、少なくとも一つの可動の反射デバイスの並進は、周波数選択的要素の通過周波数とキャビティ長さとを変更する。
なお、上記したデバイスにおいてエタロンが提供される時、エタロンモード選択フィルタが含むことが好ましい。そのようなエタロンモード選択フィルタは、好適には、エタロンのスペクトルの範囲以下の通過帯域を有し、レーザーのシングルモード作動を促進するが、必須ではない。
本発明は、添付図面を参照して例示としてのみ記述される。
リトロースキームを示す図。 ミラーを含む本発明のチャープレーザーデバイスを示す図。 回折格子を含む図2に示した代替の変調レーザーを示す図。 どのようにミラーが軸外の回転により効果的に直線的に移動できるかを示す図。 ミラーを移動させるための安定振動性のメカニズムを示す図。 エタロンおよび可動のガラスプレートを含む代替の変調レーザを示す図。 軸線周りに回転可能なミラーを含んでいる折り返されたビームパスレーザーデバイスを示す図。 代替の折り返されたビーム構成を有するレーザーデバイスを示す図。 直線的に移動可能なレンズを含む変調レーザーを示す図。 エタロンおよび回折格子を含むチャープレーザーデバイスを示す図。 固定のエタロンを含む代替のレーザー構成を示す図。 固定の回折格子またはエタロンおよび傾斜可能なガラスプリズムを含む代替の変調レーザーを示す図。 固定のエタロンおよび1対の傾斜可能なガラスプリズムを含む変調レーザーを示す図。 光軸に対して位置合わせされていない軸の周りを回転可能な固定のエタロンおよび1対のガラスプリズムを含む変調レーザーを示す図。 ハウジングにより保持された1対のミラーおよび固定のエタロン含む代替のチャープレーザーデバイスを示す図。 1対のヒンジ結合されたをミラーおよび固定のエタロンを含む代替の変調レーザーを示す図。 音叉振動構成により保持された1対の可動のプリズムの間に配置された固定のエタロンを含む代替の変調レーザーを示す図。 固定のエタロンと組み合わせられた回折格子を含む図17のデバイスの変形例を示す図。 固定のエタロンを通じる光の通路をコントロールする1対の反射面を有するボビンを示す図。 回転可能なくさび形のエタロンを有する変調レーザーを示す図。 直線的に可動のくさび形のエタロンを含む変調レーザーを示す図。
図1を参照することによって、外部のレーザーキャビティを提供することに関していわゆるリトロースキームを実行する先行技術であるチャープレーザーデバイスが記述される。レーザーダイオード2からの光は、レンズ6により回折格子4に向けて平行にされる。回折格子は、波長選択的要素として作用する。定義された枢軸点8に関する回折格子4を回転させると、通過周波数およびキャビティ長さが同時に変更され、それにより、モードホッピングせずにレーザーデバイスの出力周波数が変更されることを可能にする。従って、前後方向に回折格子を回転させることは、キャビティから、光出力の周波数が変調されることを可能にする。
先行技術であるリトロースキームを使って実施されるチャープレーザーデバイスは、多くの不利益を被る。例えば、枢軸点8に関する回折格子4の旋回動作を正確にコントロールしなければならない。特に、回折格子は、傾きまたは移動の動きなしで、図面の平面内の枢軸点8のまわりで前後に回転しなければならない。いかなるそのような傾きまたは移動の動きでも、レーザーキャビティの光路長の、回折格子のスペクトル調整特性に対する同期はずれ変化が原因で、モードホッピング効果を導きうる。さらに、回折格子の動きに必要な大きい半径は、周波数変化が達成されうる速さを制限し、それにより、デバイスが変調されうる最大周波数を制限する。
本発明者らは、モードホップ自由外部キャビティ調整可能なレーザースキームがレーザーキャビティ光路長と、スペクトル調整要素の同時の調整を必要とすることを認識している。mc次レーザーキャビティモードの波長λは、次で与えられる:
Figure 2015164199
ここで、ncLcがレーザーキャビティを通じた有効光路であり、mcは整数である。
スペクトル調整要素が、リトロー構成における回折格子である場合、入射ビームのパスに沿って戻って回折される一次波長は、次で与えられる:
Figure 2015164199
ここで、ngは格子の前の媒質の屈折率であり、Pgは、格子周期であり、θgはレーザー光の格子への入射角である。
スペクトル調整要素が回折格子の代わりにエタロンである場合、me次エタロンモードの波長は、次で与えられる:
Figure 2015164199
ここで、neがエタロンキャビティの屈折率であり、Leはエタロンミラーの分離であり、θeはエタロン内の光の入射角であり、meは整数である。
式(1)と(2)を同等視することにより、レーザーキャビティの光路長は回折格子の入射角の関数として得られる:
Figure 2015164199
式(1)と(3)を同等視することによりレーザーキャビティ光路長はエタロンの入射角の関数として提供される:
Figure 2015164199
式(4)と(5)から、特定のスキームについては、調整要素上(例えば回折格子またはエタロン上)への光の入射角の所与の変化に対してレーザー光路長において必要な変化を予測できることが分かる。従って、スペクトル調整要素(例えば、回折格子やエタロンなどの回折要素)へのレーザー光線の入射角を変更し、その間に同時に、名目上、式(4)または(5)に従ってレーザーキャビティ光路長を調整することにより動作する様々なスキームについて、以下に記述する。
ここで、図2ないし図10を参照して、どのように本発明の第1の観点に係るレーザーデバイスが提供できるかを記述する。これは、モードホッピングが抑制される周波数調整を提供するために、第1の自由度で複数の光学部品の1つを動かすことにより、レーザーキャビティの有効光路長、および、スペクトル調整要素の調整周波数を同時にを変更するのに使われる。また、これらの例では、有効光路長と調整周波数は、前記少なくとも一つの可動の光学部品の前記第1の自由度以外の自由度のいかなる動きに対しても実質的に反応しない。
図2を参照すると、チャープレーザーデバイスが示される。チャープレーザーデバイスは、レーザーダイオード20、レンズ22,24,26、エタロン28、固定ミラー30および可動ミラー32を含む。レンズ24、26は、有利には、往復のビームの横方向の分離を最小化するために、それらの焦点距離の合計によって分離される。図2の構成により、固定ミラー30、可動ミラー32、または、出力ビームを提供するために部分的に透過性であるレーザーダイオード20の後面とともに、共振キャビティを形成する。代替的には、光は、追加のビームスプリッタ部品(図示せず)を含めることによって、エタロン28からの反射から、または、部分的に反射性のミラー30、32を用いることにより、デバイスから抽出してもよい。レーザーダイオード20の前面は、反射防止(AR)コートをしてもよい。
矢印34により示された方向の可動ミラー32の直線移動は、エタロン28への光の入射角を変更し(それにより、エタロンの通過帯域の周波数を変更する)、同時に、キャビティの光路長を変更する。したがって、前後にミラー32を振動させると、必要な周波数チャープ出力(キャビティ長さを変更することによる)を提供し、一方で、モードホッピングすることを抑制するために同時にエタロンの通過周波数を変更する。
レンズ22、24の焦点深度内にミラー32が配置され、それゆえ、ミラー32のその他の小さい動き(例えば、傾斜)は無視できる影響しかないことに注意することが重要である。すなわち、ミラー32の方向34における直線位置は、正確にコントロールされる必要がある単一の自由度の動きである。従って、図2のデバイスの性能は、ミラー32の小さな傾斜または面内移動にほとんど依存しない。ミラー32は、従って、方向34に沿って速やかに移動でき、それにより、相対的に高い周波数でのチャープを可能にする、相対的に小さく、軽量の部品であってもよい。
図2に示したデバイスの多くの変形例もまた、本発明者らにより考案される。例えば、図2に記述されたレーザーダイオード20は、レーザー光を出力する、光ファイバーの端部、または他の要素と置換してもよい。角度Aは、図2において直角として記載されたが、そうであることは必ずしも必要ではないことに注意すべきである。可動ミラー32に対して、角度Aがより鋭角であるほど、エタロン28への入射角度の同様の変化に対して、光路がより大きく変化する。好適には、シングルモードのエタロン28対する好ましいレーザーの作用に必要なフィルタ(図示せず)が含まれる。光学面への光学コーティングが有利にこの目的を果たす。
レーザーキャビティの光路長の変更は、上記したような方向34に沿ったミラー32の通常の変位により実行される。光路長のそのような変更も、代替的には、レンズ22の横方向の変位、レンズ24の横方向の変位およびレーザーダイオード20の光軸方向の変位の1つ以上により実行される。さらに、光軸に対する固定ミラー30の非直角性は、必要な光路長変化の一部又は全部を提供するのに使用できる。これはミラーに沿った反射ポイントの動きによる。同様に、レンズ24とレンズ26との間にガラスプレート(図示せず)を、光路長変化をもたらすために設けることができる。
固定エタロン28を通る光の角度の変更は、上記したように、方向34におけるミラー32の通常の変位によりに実行される。そのような角度の変更も、代替的には、レンズ22の横方向の変位、レンズ24の横方向の変位およびレーザーダイオード20の横方向の変位の1つ以上により、実行される。レンズ22および/またはレンズ24が直線的に変位すると、初期の横方向のオフセットは、所定の横方向の変位に対してより直線的な(より放物線状ではない)応答を提供できる。同様に、エタロン28の調整は、(図2に示すように)それに初期の回転を提供することによって、光の入射角がより直線的な(より放物線状ではない)ように、選択できる。
図3を参照して、図2に示すチャープレーザーデバイスの変形例が記述される。デバイスは、エタロン28の代りに、図2のデバイスにおいて提供される回折格子42、レンズ26およびミラー30を含む。従って、同様な効果が、エタロンの代りの回折格子42の波長依存特性を利用して提供される。回折格子42を示したが、適切に強い回折次数を有する回折要素を含めることができる。図3の構成に関して、レーザー出力は、回折格子42の反射または透過回折次数によって提供される。
図4を参照すると、図2および図3を参照して説明されたシステムの可動ミラーを動かすための異なる技術が示される。ミラーを前後に移動する代りに、ミラー60は回転可能なシャフト62に設置される。表面ミラー60の平面は回転軸62の軸線と非直角であるように構成される。すなわち、図4に示す角度θは、0°以上である。この角度は、一定のミラー半径において必要な大きさのミラーの直線変位を与えるように設定される。
図5を参照して、図2および図3を参照して説明されたシステムの可動ミラーを動かすためのさらなる技術が示される。レーザー光源180からの光の焦点が第1のミラー195上にレンズ184により合わせられる。第1のミラー195および第2のミラー196は、振動性部材197に設置される。部材197は、第1および第2のミラー195、196を、同期して互いに接近および離隔するように共振させるために、駆動される。第1のミラー195の反射面は、エタロン188を通るビーム方向およびキャビティの有効光路長の両方を第1のミラー195の振動が変更するように、光路に配置される。第2のミラー196は純粋に機械的なカウンターバランスとして提供され、従って、非光学部品またはカウンターウェイトにより置換できる。また、第2のレンズ198をミラー194とともにレーザーキャビティの光路内に含めてもよい。
図6を参照して、図2ないし図5の反射構成の透過型の変形例が記述される。図2に示される可動ミラー32の代わりに、図6の構成は、光ビームの焦点の近くに配置された傾斜可能な透過ガラスプレート64を含む。エタロン28を通る光の角度の変更は、図の平面に実質的に垂直な軸線回りのプレート64の回転により影響を受ける。そのような回転は必要な光路長の変更も提供できる。これは、プレート64のステアリング効果によるプレート64自体を通る有効光路長の変化、および/または他の光学部品(例えばエタロン28)への光線の入射角度または位置の変化により生じる。この方法において、軸線回りのガラスプレート64の回転運動は、光路長およびエタロンの波長選択特性の両方をコントロールできる。従って、システムは、ガラスプレート64のわずかな移動および面法線に関する傾斜にほとんど依存しない。他の面内軸線に関する傾斜は、主として放物線状であり、したがって、システムに影響しない。
なお、ガラスプレート64の傾斜の効果は、(図において記述されるように)光軸に垂直な軸線に対して初期の回転を提供することにより、より直線状(より放物線状ではない)に選択される。さらに、ガラスプレート64に導入された非点収差を修正するために、1つ以上の追加の光学部品(図示せず)を含めてもよい。
図7は、折り返された光路を提供するために4つの固定ミラー220が配置されるリングタイプレーザーキャビティの形態のさらなる実施形態を示す。レーザー光源222とレンズ224は、回転可能なミラー232の第1の表面に光を導く。ミラー232の第1の表面で反射された光は、ミラー232の第2の表面で(またはミラー232の第1の表面の後面で)反射する前に、4つのミラー220のまわりの時計回りの光路を進み、その後、戻りミラー234を通過する。戻りミラー234で反射した光は、レーザー光源222に向けて、反時計回りの方向に光路に沿って戻る。エタロン230は光路に配置されている。
回転可能なミラー232は、その法線ベクトルと本質的に直角な軸線(例えば、図7において示された軸線R)に関して1自由度で回転するように配置される。従って、エタロン230を通過するビームの角度は、ミラー232の回転とともに変化するが、ミラー232の第2の表面での反射により、戻りミラー234への入射角は不変である。本例においては、回転可能なミラー232は、1対の平行な反射面を有する。このことは、ミラー232のどのような移動もシステムに影響しないので、有利である。回転可能なミラー232の法線ベクトルに関する回転は、影響を有さず、他の軸線に関する回転は放物線状のわずかな感度を有する。従って、ミラー232が回転すると、キャビティ光路はエタロン230の光の入射角との関係で変化する。さらなる光路長変化は、ミラー232内へのビーム伝播を許容することによって、または、ガラスプレート(図示せず)などの固定部品を戻りミラー234の前に含むことによって提供できる。
いずれの固定表面(例えば、ミラー220)も、エタロン230からシングルモードを選択し、システムの調整範囲を拡張する回折要素(例えば、格子)であってもよい。部品の移動に対して結果として生じる感度を許容できる場合、ミラー232の移動面が均等に回折を生じるものであってよい。いずれのシステムにおいても、回折表面の対は、基盤の膨張や屈折率の変化などの周囲の影響に対するビーム角度を安定させるために用いられる。図7に示す例は、ミラー232の時計回りまたは反時計回転に関して対称な光路変化を含む。また、ミラー232の回転による光路変化の改善された直線性を達成するために、キャビティの対称性をわずかにオフセットさせることも可能である。
当業者は、図7に示したものの代わりの、様々な代替のリングタイプ構成を容易に考え出すことに言及されるべきである。例えば、より多いまたはより少ない固定ミラー220を備えていてもよい。好適には、少なくとも3つのミラーを含む。
図8は、2つの固定ミラー220および固定戻りミラー234を含む、図7に示したシステムの変形例を示す。この構成において、レーザー光線はミラー232で反射し、ミラー232の後面で二回目の反射をし、戻りミラー234から戻る前に、時計回りの光路を進む。回転可能なミラー232の回転軸線Rに関する回転は、エタロンへの光の入射角を変更することと連携して、キャビティ光路長を変更するためにも用いられる。
図9は本発明のさらなる実施形態を示す。レーザー光源240は、第1のレンズ242 、固定エタロン244および第2のレンズ246を通じて光を通過させる。光は、共振キャビティを形成するために、ミラー248で後ろに反射される。レンズ242は可動である。例えば、それは、矢印250により示された方向に直線移動できる。実際、矢印250の方向に成分を有する、レンズ242のどのような動きでも十分である。矢印250で示した直線方向の軸線に沿っていないレンズの動き(すなわち、単一の自由度ではない)は、周波数調整とキャビティ長変化に対し無視できる影響がある。この単一の直線方向の自由度においてレンズを動かすことは、エタロン244への光の入射角を変更するために用いられ(それにより帯域通過周波数を変更する)、キャビティの光路長も変更する。従って、素早くレンズを前後に動かすことにより、必要な周波数チャープ効果を提供できる。システムの他の部品(例えば、第2のレンズ246またはレーザー光源240)の動作は、同様な効果を提供できる。
図10は、図3を参照して記述されたシステムの変形例を示す。レーザーキャビティは、また、レーザー光源20、第1のレンズ22、直線移動可能なミラー32、第2のレンズ24および回折格子42を含む。また、第2のレンズ24と回折格子42との間の光路に置かれたエタロン300が含まれる。図示しないけれども、エタロン300と回折格子42とは、単一の部品を形成するように結合できる。
エタロン300の追加により、(回折格子42のみを使うのに比べて)隣接レーザーキャビティモードの改善されたサイドモードサプレッションが提供され、一方で、回折格子42は、シングルモード作動を保証するために、隣接エタロンキャビティモードのサイドモードサプレッションを提供する。そのようなスキームの重要な利点は、回折格子42のフィルタ曲線が、入射角に依存し、エタロン300により選択されたレージングモードによって動かせられうることである。従って、この構成において、回折格子42は、エタロン300により選択される光の波長の変化とともに波長通過帯域が変化する可変波長バンドパスフィルタとして有効に作動する。その結果、自由スペクトル領域(FSR)を越えた調整、すなわちエタロン300のモード分離が可能になる。これは、モードホップ自由調整領域がエタロンのFSRに必然的に制限される固定波長フィルタ(例えば、多層コーティングなど)と対照的である。
上記した実施形態は、可動光学部品の動きであって、レーザーキャビティの光路長と調整周波数特性をコントロールする単一の(第1の)自由度以外の自由度の動きを容認する。多くのこれらの実施形態は、固定されたエタロンを含む。さらなる実施形態が、固定エタロンを含む本発明の第3の観点にしたがって記述される。
図11を参照すると、レーザーダイオード20からの光がレンズ22を通過し、可動ミラー52で反射するレーザーデバイスが示される。ミラーで反射された光は、エタロン50を通過し、その焦点が固定ミラー58にレンズ56により合わせられる。可動ミラー52は、反射されたビームの中央の光線が実質的にレンズ56の焦点54を通過するように移動され、回転する。この方法において、キャビティ長およびエタロンの通過周波数は、ミラー52の動きにより同時に変更できる。好適には、可動ミラー52はポイント54を中心に回転するが、これは必須ではない。作動可能であるけれども、図11の配置は、図3を参照して記述された構成よりも、ミラー52の偶発的な移動に敏感である。
図12を参照すると、代替のレーザーデバイスが示される。レーザーダイオードからの光70は、エタロン(適当なレンズ配置による)または回折格子を含むスペクトル調整または波長選択要素72へ向けられる。傾斜可能なプリズム74は、キャビティ内の光路長および波長選択的要素への光の入射角を変更するために用いられる。この方法において、キャビティ長と通過帯域周波数は、同時に調整できる。傾斜可能なプリズム74に代えて、可変の屈折率をもつ固定ウェッジを提供することが可能である(例えば、液晶を含むか、または可変の内部空気圧を有するウェッジ)。
図13はさらなる実施形態を示す。レーザーダイオード100は、ミラー110により後方に反射される前に、レンズ102、第1の傾斜可能なプリズム104、固定エタロン106および第2の傾斜可能なプリズム108を通過する光を生成する。使用において、第1の傾斜可能なプリズム104および第2の傾斜可能なプリズム108は、逆方向に傾けられ(たとえば、位置104’および例えば108’へ)、それにより、キャビティ長も変更しつつ、エタロン106への光の入射角を変更する。
図14はさらなる実施形態を示す。レーザー光源120は、レンズ122、第1の回転可能なプリズム124、固定エタロン126および第2の回転可能なプリズム128を通じて光をミラー130へ導く。第1の回転可能なプリズム124および第2の回転可能なプリズム128は、共通の軸線Aの回りに回転可能である。第1の回転可能なプリズム124、第2の回転可能なプリズム128は同期して同じ方向に回転する。これは、エタロン126を通る角度と光路長が変えられることを可能にする。第1の回転可能なプリズム124および第2の回転可能なプリズム128は、整合してもよい。この方法のプリズムの回転は、モードホッピング効果なしで出力の周波数がチャープされることを可能にする。
図15を参照すると、さらにチャープレーザーデバイスが示される。デバイスはレーザーダイオード140とレンズ142とを含む。第1のミラー144および第2のミラー146は、可動部材148により保持される。第1のミラー144および第2のミラー146は、お互いに対して固定された位置を有し、および、内側を向く実質的に平行な反射面を有する。可動部材148(そしてそれゆえ第1のおよび第2のミラー144と146)は、矢印149により示された方向において回転可能である。固定エタロン150は、第1および第2のミラー144、146の間の光路に挿入される。エタロン150は定位置に固定され、可動の部材148に取り付けられず、これとともに移動しない。
使用において、レーザーダイオード140からの光は第1のミラー144からエタロン150を経て第2のミラー146で反射される。そして、この光は、固定位置ミラー152に向けられてそこで反射し、共振キャビティを形成している同じ光路に沿ってレーザーダイオード140へ戻る。可動部材148の回転は、キャビティ長を変化させることに関連してエタロン150を通過する光の角度を変更するのがわかる。従って、可動部材148を前後に振動させることは、出力周波数をチャープし、モードホッピングすることを抑制する。
図16は図15のデバイスの変形例を示す。第1のミラー170と第2のミラー172との間にエタロン150が配置される。共振キャビティは、また、レーザーダイオード140、レンズ142および固定ミラー152で形成される。第1のおよび第2のミラーの同時の動きは、個々のミラーの一端部を、固定位置の枢軸点174に取り付けることによって達成される。個々のミラーの他端部は、ピボット178(曲げを含んでいてもよい)を介して直線的に移動可能な部材176に取り付けられる。移動可能な部材176(例えば、図11において「上下に」)の移動は、ミラーの角度を変更するけれども、そのミラーを平行に保つ。従って、エタロン150への光の入射角は変更され、そのような変更は、キャビティ長に対応した変化を提供する。従って、出力周波数は、モードホッピング効果なしでチャープされる。
図17は、上記の図5を参照して記述されたものと同様な振動する構成を使用したレーザーデバイスを示す。レーザーダイオード180は、レンズ184、第1のウェッジまたはプリズム186、エタロン188および第2のウェッジまたはプリズム190を介してミラー182に進む光を生成する。第1および第2のプリズム186、190は、振動部材192に設置される。部材192が駆動されて共振し、第1および第2のプリズム186、190をエタロン188に対して同期して接近および離隔する。これは、音叉タイプの構成として考えられる。第1のおよび第2のプリズム186、190をこの方法で同時に傾けることは、エタロン188への光の入射角が、キャビティ長を変更することと関連して変えられることを可能にする。
図18は図17の構成の反射の変形例を示す。反射型回折要素194はエタロン188と第2のプリズム190の間に配置される。回折要素と組み合わせてエタロンを使うことの利点は、図10を参照して上で詳細に説明されている。この例において、第2のプリズム190は純粋にメカニカルなバランスのために提供され、従って、非光学部品またはカウンターウェイトで置換できる。
図5、17、および18を参照して記述された例は、平衡し、二次元の、振動性の動きを示す。このような平衡した動作は、それがシステムの残りに対するメカニカルな外乱を最小化するので、有利である。また、上記の例は、二次元において示されたが、紙面(例えば)に垂直な軸線に関して反対に振動する3つ以上の部品の釣り合いの取れた振動メカニズムが同様に実現可能である。いわゆる「完全な」機構を提供する、相反する動きの振動に加えて、回転表面を含んでいるスキームが、以下で記述されるように、提供できる。
図19はさらなるレーザーデバイスを示す。第1の反射面202および第2の反射面203を有するボビンまたはリング200が提供される。リング200は、回転する軸線Rの回りに回転可能で、エタロン204はリング200に隣接して配置される。レーザーダイオード206およびレンズ208は、エタロン204を介して第2の反射面203に指向される、リング200の第1の反射面202に光線を導く。第2の反射面203で反射された光は、固定ミラー214に向けられる。ミラー214からの後ろに反射された光は、同じ光路に沿ってレーザーダイオード206に戻り、それにより、共振キャビティを形成する。円柱状の光学部品216、218は、エタロン204を通じて平行ビームを提供する。回転する軸線Rは、ボビン200の対称線に対してわずかにずれており、ボビンが回転すると、反射面203、203が入力レーザー光線に対して揺れ、これにより、エタロン204への光の有効光路長および入射角を変える。当業者にとって、可能な内部および外部の反射面を備える様々な代替の回転ディスクおよびプレートタイプスキームは容易に想到される。
図20は、レーザー光源80からの光が可動のエタロン82を通過してミラー84に進む代替のレーザーデバイスを示す。エタロン82は、第1のガラスプレート86および第2のガラスプレート88から形成される。第1のおよび第2のガラスプレートの内側の面は、コーティングされ、スペーサー要素90によってお互いに実質的に平行に保持されたミラーである。中空のキャビティが示されているけれども、キャビティはガラスで形成できる。第2のガラスプレート88は、ミラー84への光を指向するウェッジ角度を持つプリズムである。矢印92により示されるようにエタロン82を回転させると、エタロンへの光の入射角を引き起こし、それにより、通過周波数を変更する。エタロン82の同一の回転動作は、第2のガラスプレート88のウェッジを通る光路長を変更することにより、デバイスのキャビティ長も変更する。従って、帯域通過周波数およびキャビティ長は一緒にコントロールされる。
図21を参照して別のレーザーデバイスを示す。レーザー光源260は、第1のレンズ262、エタロン264および第2のレンズ266を通じる光を送る。光は、共振キャビティを形成するために、ミラー268により後ろに反射される。エタロン264は、第1のガラスプレート270および第2のガラスプレート272を含む。平行なミラー化された内面が使われる標準のエタロンと違って、第1および第2のガラスプレート270、272のミラーコートされた内面271、273は、お互いにわずかに角度が付けられている。例えば、ウェッジ角度は、好適には、λが波長であり、Dがビーム直径とすると、λ/Dより小さい。第1および第2のガラスプレート270、272の外面は、また、好適には、互いに不平行であり、好適には、内面と不平行である。
エタロンのミラー化された内面のウェッジ角度は、長さに沿って通過周波数が変更され、または、エタロンのウェッジ角度で変わることを意味している。光路長に対応した変化は、また、第1および第2のガラスプレートの外の角度を適切に選ぶことによって提供できる。この方法において、矢印274により示された方向のエタロン264の直線方向の移動は、光路長も変更する間、通過周波数(すなわち、光路のエタロン内面の間隔を変更することによる)を変更する効果がある。エタロンを移動させる代わりに、適切なビーム指向要素は、光ビームがエタロンを横切る位置を変更するために提供できる。例えば、光ビームは、傾けられたガラスプレートまたは変位したプリズムを使って移動できる。

Claims (23)

  1. 複数の光学部品から形成されたレーザーキャビティを含む、周波数調整可能なレーザーデバイスであって、
    前記複数の光学部品は、光線を生成するためのレーザー光源、スペクトル調整要素、および、前記光線を前記スペクトル調整要素に向けるための1つ以上のさらなる光学部品を含み、
    前記複数の光学部品の少なくとも一つは第1の自由度で可動であり、このような、該少なくとも一つの可動の光学部品の前記第1の自由度での動きが、モードホッピングが抑制された調整周波数を提供するように、同期している前記レーザーキャビティの有効光路長および前記スペクトル調整要素の調整周波数を同時に変更し、
    前記複数の光学部品は、前記レーザーキャビティの前記有効光路長および前記スペクトル調整要素の前記調整周波数が、前記少なくとも一つの可動の光学部品の、前記第1の自由度以外のどのような自由度の動きにも実質的に依存しないように適合されおよび配置されており、および、前記少なくとも一つの可動の光学部品のそのような動きは、前記有効光路長と前記調整周波数の間の前記同期に実質的に影響しない、
    ことを特徴とする周波数調整可能なレーザーデバイス。
  2. 前記第1の自由度における前記少なくとも一つの可動の光学部品の動きをコントロールするためのアクチュエーターを含む、請求項1に記載のレーザーデバイス。
  3. 前記アクチュエーターは、前記少なくとも一つの可動の光学部品の、50Hz以上の繰り返し率で周波数変調を提供する動きを可能にする、請求項2に記載のレーザーデバイス。
  4. 前記アクチュエーターが、曲げメカニカルシステムおよび平衡振動メカニカルシステムの少なくとも一つを含む、請求項2または3に記載のレーザーデバイス。
  5. 前記少なくとも一つの可動の光学部品は、それぞれ前記第1の自由度で可動の1つ以上の可動のビーム指向要素を含み、前記1つ以上の可動のビーム指向要素の前記第1の自由度における動きが、前記スペクトル調整要素への前記光線の入射角を変更する、請求項1から4のいずれかに記載のレーザーデバイス。
  6. 前記1つ以上の可動のビーム指向要素は、その両方が可動部材によって保持されつつ前記第1の自由度で移動可能な第1の可動のビーム指向要素および第2の可動のビーム指向要素を備え、および、前記第1の可動のビーム指向要素および前記第2の可動のビーム指向要素の前記第1の自由度での動きが、前記スペクトル調整要素への前記光線の入射角を、該スペクトル調整要素が前記第1および第2の可動のビーム指向要素の間に位置している状態で変更する、請求項5に記載のレーザーデバイス。
  7. 前記1つ以上の可動のビーム指向要素は、前記第1の自由度で可動の第1の可動のビーム指向要素を含み、前記第1の可動のビーム指向要素だけの動きが、前記有効光路長および前記調整周波数の同時の変更を提供する、請求項5に記載のレーザーデバイス。
  8. 前記1つ以上のさらなる光学部品は、少なくとも一つのレンズを含み、前記第1の可動のビーム指向要素が少なくとも一つのレンズの焦点深度内に配置されている、請求項7に記載のレーザーデバイス。
  9. 前記第1の可動のビーム指向要素は可動ミラーを含み、前記光線は前記可動ミラーに斜めの角度で入射する、請求項7または8に記載のレーザーデバイス。
  10. 前記第1の可動のビーム指向要素は、ガラスプレートまたはレンズなどの透過性要素を含む、請求項7または8に記載のレーザーデバイス。
  11. 前記少なくとも一つの可動の光学部品の動きの前記第1の自由度は直動軸線に沿った移動である、請求項1から10のいずれかに記載のレーザーデバイス。
  12. 前記少なくとも一つの可動の光学部品の動きの前記第1の自由度は軸線周りの回転である、請求項1から10のいずれかに記載のレーザーデバイス。
  13. 前記スペクトル調整要素は、前記レーザーデバイス内に実質的に固定された状態に保たれている、請求項1から12のいずれかに記載のレーザーデバイス。
  14. 前記1つ以上のさらなる光学部品は、前記スペクトル調整要素に入射する前記光線を平行光にする、請求項1から13のいずれかに記載のレーザーデバイス。
  15. 前記スペクトル調整要素は回折光学要素を含む、請求項1から14のいずれかに記載のレーザーデバイス。
  16. 前記スペクトル調整要素はエタロンを含む、請求項1から15のいずれかに記載のレーザーデバイス。
  17. 光線を生成するためのレーザー光源、
    スペクトル調整要素、
    前記光線の前記スペクトル調整要素への入射角を変更するための可動のビーム指向部品、および、
    前記レーザー光源からの前記光線を前記可動のビーム指向部品に集中させるための少なくとも一つのレンズを有し、
    前記可動のビーム指向部品は、前記少なくとも一つのレンズの焦点深度内に配置されることを特徴とする周波数制御可能なレーザーデバイス。
  18. 前記可動のビーム指向部品はミラーを含む、請求項17に記載のレーザーデバイス。
  19. 前記可動のビーム指向部品は、プレートまたはレンズなどの透過性部品を含む、請求項17に記載のレーザーデバイス。
  20. 前記スペクトル調整要素に入射する前記光線が平行光にされる、請求項17〜19のいずれかに記載のレーザーデバイス。
  21. 前記スペクトル調整要素は、エタロンおよび回折要素のうち少なくとも一つを含む、請求項17〜20のいずれかに記載のレーザーデバイス。
  22. 周波数調整可能なレーザーデバイスであって、
    エタロン、および、
    前記エタロンへ入射する光線を生成するためのレーザーダイオードを備え、
    前記エタロンは、前記レーザーデバイス内に実質的に固定された状態に保たれており、および、前記光線の前記エタロンへの入射角が変更可能であり、
    前記レーザーデバイスのキャビティ長および前記エタロンの通過周波数は、前記光線の前記エタロンへの前記入射角が変更されたときに両方が変化し、それにより、前記レーザーデバイスのモードホッピングを実質的に抑制する、レーザーデバイス。
  23. 前記光線の前記エタロンへの前記入射角および前記キャビティの前記光路長をコントロールするための1つ以上の追加の光学部品を含む、請求項22に記載のデバイス。
JP2015075762A 2008-12-18 2015-04-02 周波数調整可能なレーザーデバイス Active JP6199923B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GBGB0823084.9A GB0823084D0 (en) 2008-12-18 2008-12-18 Laser Apparatus
GB0823084.9 2008-12-18

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011541579A Division JP5832295B2 (ja) 2008-12-18 2009-12-16 周波数調整可能なレーザーデバイス

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015164199A true JP2015164199A (ja) 2015-09-10
JP6199923B2 JP6199923B2 (ja) 2017-09-20

Family

ID=40343803

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011541579A Expired - Fee Related JP5832295B2 (ja) 2008-12-18 2009-12-16 周波数調整可能なレーザーデバイス
JP2015075762A Active JP6199923B2 (ja) 2008-12-18 2015-04-02 周波数調整可能なレーザーデバイス

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011541579A Expired - Fee Related JP5832295B2 (ja) 2008-12-18 2009-12-16 周波数調整可能なレーザーデバイス

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9236712B2 (ja)
EP (1) EP2377212B1 (ja)
JP (2) JP5832295B2 (ja)
CN (2) CN102257686B (ja)
ES (1) ES2729257T3 (ja)
GB (1) GB0823084D0 (ja)
WO (1) WO2010070272A1 (ja)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0823084D0 (en) * 2008-12-18 2009-01-28 Renishaw Plc Laser Apparatus
CN102096185A (zh) * 2010-12-28 2011-06-15 福州高意光学有限公司 一种微型标准具及其透射波长微调方法
JP2013070029A (ja) * 2011-09-08 2013-04-18 Gigaphoton Inc マスタオシレータシステムおよびレーザ装置
CN102820612A (zh) * 2012-06-05 2012-12-12 中国科学院半导体研究所 重复频率连续可调的超短脉冲固体激光器
CN103814488B (zh) * 2012-06-30 2016-09-28 华为技术有限公司 一种外腔激光器
US20150016479A1 (en) * 2013-07-12 2015-01-15 Coherent Kaiserslautern GmbH Laser apparatus with beam translation
US9077450B2 (en) * 2013-09-06 2015-07-07 International Business Machines Corporation Wavelength division multiplexing with multi-core fiber
GB201410003D0 (en) * 2014-06-05 2014-07-16 Renishaw Plc Laser device
US10168421B1 (en) 2017-04-20 2019-01-01 The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy Weight-loaded target carrier for laser tracking
US10508917B1 (en) 2017-04-20 2019-12-17 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Spring-loaded target carrier for laser tracking
JP7086537B2 (ja) * 2017-07-27 2022-06-20 京セラSoc株式会社 外部共振器型半導体レーザ装置
JP7309322B2 (ja) * 2018-01-30 2023-07-18 住友重機械工業株式会社 レーザ装置
CN110488427A (zh) * 2018-05-14 2019-11-22 深圳市联赢激光股份有限公司 一种激光光源耦合装置及方法
WO2019224601A2 (en) * 2018-05-24 2019-11-28 Panasonic intellectual property Management co., Ltd Exchangeable laser resonator modules with angular adjustment
CN111896124A (zh) * 2020-06-08 2020-11-06 北京无线电计量测试研究所 一种飞秒激光脉冲时域宽度测量装置
CN215377956U (zh) * 2021-06-21 2021-12-31 苏州旭创科技有限公司 外腔激光器
CN114172011A (zh) * 2021-11-11 2022-03-11 徐州佳智信息科技有限公司 一种可智能调谐频率的医用激光器

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05226749A (ja) * 1992-02-10 1993-09-03 Hamamatsu Photonics Kk 波長可変レーザー装置
JPH11186648A (ja) * 1997-12-18 1999-07-09 Nec Corp 外部鏡型波長可変レーザ
US20040109487A1 (en) * 2002-12-06 2004-06-10 Zhang Guangzhi G. External cavity laser with dispersion compensation for mode-hop-free tuning
JP2004191551A (ja) * 2002-12-10 2004-07-08 Megaopto Co Ltd レーザー装置およびレーザー装置における波長選択方法
US20060109872A1 (en) * 2004-11-24 2006-05-25 Sanders Scott T Modeless wavelength-agile laser
JP2008130805A (ja) * 2006-11-21 2008-06-05 Yokogawa Electric Corp 外部共振器型波長可変光源
JP2012513112A (ja) * 2008-12-18 2012-06-07 レニショウ パブリック リミテッド カンパニー 周波数調整可能なレーザーデバイス

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01233785A (ja) 1988-03-14 1989-09-19 Mitsubishi Electric Corp 狭帯域化レーザ
US5243614A (en) 1990-11-28 1993-09-07 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Wavelength stabilizer for narrow bandwidth laser
US5956355A (en) * 1991-04-29 1999-09-21 Massachusetts Institute Of Technology Method and apparatus for performing optical measurements using a rapidly frequency-tuned laser
JP2594596Y2 (ja) 1993-04-13 1999-04-26 アンリツ株式会社 光偏向器
DE19515321A1 (de) 1995-04-20 1996-10-24 Gos Ges Zur Foerderung Angewan Durchstimmbare, justierstabile Laserlichtquelle mit spektral gefiltertem Ausgang
US5771252A (en) 1996-01-29 1998-06-23 Sdl, Inc. External cavity, continuously tunable wavelength source
JPH09260753A (ja) 1996-03-25 1997-10-03 Ando Electric Co Ltd 外部共振器型波長可変光源
JPH10133243A (ja) 1996-10-28 1998-05-22 Fuji Photo Film Co Ltd 光波長変換装置
JPH11293202A (ja) 1998-04-15 1999-10-26 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 貼り合わせ装置及び方法
US6463085B1 (en) 1998-09-09 2002-10-08 Coretek, Inc. Compact external cavity tunable lasers using hybrid integration with micromachined and electrooptic tunable elements
US6526071B1 (en) 1998-10-16 2003-02-25 New Focus, Inc. Tunable laser transmitter with internal wavelength grid generators
GB0007160D0 (en) 2000-03-25 2000-05-17 Renishaw Plc Wavelength tuning in external cavity lasers
JP3726676B2 (ja) 2000-11-28 2005-12-14 日本電気株式会社 外部共振器型モード同期半導体レーザ装置
WO2003077386A1 (en) * 2001-03-21 2003-09-18 Intel Corporation Graded thin film wedge interference filter and method of use for laser tuning
US6816516B2 (en) 2001-03-21 2004-11-09 Intel Corporation Error signal generation system
DE60100162T2 (de) * 2001-09-07 2003-11-13 Agilent Technologies, Inc. (N.D.Ges.D.Staates Delaware) Änderung der optischen Weglänge mittels eines Flüssigkristalls zur Abstimmung eines Lasers
US6967976B2 (en) 2002-08-29 2005-11-22 Picarro, Inc. Laser with reflective etalon tuning element
US20040202223A1 (en) 2003-04-08 2004-10-14 Eric Crosson External cavity laser having improved single mode operation
US7054518B2 (en) 2003-10-14 2006-05-30 Coronado Instruments, Inc. Etalon assembly tuned by applying counterbalanced compression forces
US7130320B2 (en) 2003-11-13 2006-10-31 Mitutoyo Corporation External cavity laser with rotary tuning element
JP2006024876A (ja) 2004-06-07 2006-01-26 Sun Tec Kk 波長走査型ファイバレーザ光源
JP4527479B2 (ja) 2004-09-10 2010-08-18 サンテック株式会社 波長走査型ファイバレーザ光源
US7843976B2 (en) * 2005-01-24 2010-11-30 Thorlabs, Inc. Compact multimode laser with rapid wavelength scanning
JP4885494B2 (ja) 2005-07-14 2012-02-29 サンテック株式会社 波長可変レーザ光源
JP4376837B2 (ja) 2005-08-05 2009-12-02 サンテック株式会社 波長走査型レーザ光源
JP2008071798A (ja) * 2006-09-12 2008-03-27 Sharp Corp レーザ光源装置
GB0724874D0 (en) 2007-12-20 2008-01-30 Uws Ventures Ltd Turntable laser
US8514898B1 (en) 2010-09-03 2013-08-20 Lighthouse Photonics, Inc. Methods and apparatus for increasing wavelength tuning speed in broadband mode-locked ultrafast lasers

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05226749A (ja) * 1992-02-10 1993-09-03 Hamamatsu Photonics Kk 波長可変レーザー装置
JPH11186648A (ja) * 1997-12-18 1999-07-09 Nec Corp 外部鏡型波長可変レーザ
US20040109487A1 (en) * 2002-12-06 2004-06-10 Zhang Guangzhi G. External cavity laser with dispersion compensation for mode-hop-free tuning
JP2004191551A (ja) * 2002-12-10 2004-07-08 Megaopto Co Ltd レーザー装置およびレーザー装置における波長選択方法
US20060109872A1 (en) * 2004-11-24 2006-05-25 Sanders Scott T Modeless wavelength-agile laser
JP2008130805A (ja) * 2006-11-21 2008-06-05 Yokogawa Electric Corp 外部共振器型波長可変光源
JP2012513112A (ja) * 2008-12-18 2012-06-07 レニショウ パブリック リミテッド カンパニー 周波数調整可能なレーザーデバイス

Also Published As

Publication number Publication date
CN102257686B (zh) 2013-12-04
EP2377212B1 (en) 2019-05-29
US20110243160A1 (en) 2011-10-06
JP5832295B2 (ja) 2015-12-16
JP6199923B2 (ja) 2017-09-20
WO2010070272A1 (en) 2010-06-24
JP2012513112A (ja) 2012-06-07
EP2377212A1 (en) 2011-10-19
CN103762499A (zh) 2014-04-30
US9236712B2 (en) 2016-01-12
ES2729257T3 (es) 2019-10-31
CN102257686A (zh) 2011-11-23
CN103762499B (zh) 2016-08-17
GB0823084D0 (en) 2009-01-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6199923B2 (ja) 周波数調整可能なレーザーデバイス
JP2005513791A (ja) 特に波長可変レーザのための再帰反射デバイス
JPH11163450A (ja) 波長可変光源
JP2007271761A (ja) 分光装置および波長分散制御装置
JP2020109856A (ja) レーザデバイス
JP2008130805A (ja) 外部共振器型波長可変光源
US8107509B2 (en) Monolithic folded F-P cavity and semiconductor laser using the same
WO2007037936A1 (en) Narrow band laser with wavelength stability
US20130259071A1 (en) Broadband optical accumulator and tunable laser using a supercontinuum cavity
WO2012073681A1 (ja) レーザ光源、干渉計および分光器
CN101505033B (zh) 半导体激光器
JP7457723B2 (ja) 外部共振器レーザ装置、対応するシステム及び方法
US6731661B2 (en) Tuning mechanism for a tunable external-cavity laser
JP2002244004A (ja) ビームスプリッタ用の調整装置
CN102315588B (zh) F-p腔及采用该f-p腔的激光器
JP7245093B2 (ja) 光学キット、及び、光学装置
WO2012126427A2 (zh) 一种外腔可调谐激光器,及其使用方法
JP2005159000A (ja) 半導体レーザ
JP2021033142A (ja) レーザスキャニング装置
JP2012168036A (ja) 光路長可変装置およびそれを用いた光干渉計ならびにフーリエ変換分光器
JP2001308453A (ja) 外部共振器型レーザ光源
JP2009094206A (ja) 外部共振器型波長可変光源及び光源装置
JP2004173054A (ja) 分散補償器及び分散補償システム
JP2000098267A (ja) 光フィルタ
JPH08240429A (ja) ビーム投射装置

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160217

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160315

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20160613

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160808

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20170124

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170523

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20170530

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170725

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170824

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6199923

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250