JP2015114439A - 紫外線照射装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光源の光軸方向における消光比および紫外線照度の悪化を抑制した、高照度で高信頼性の紫外線ランプ及び紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】光を放出する光源１１と、前記光源１１より放出された光を入射し紫外線を出射するフィルタ１３と、前記フィルタ１３の出射側に配置され、前記紫外線が照射され、前記紫外線の偏光光を放出するワイヤーグリッド偏光素子２２と、前記ワイヤーグリッド偏光素子２２が配置され、ワイヤーグリッド偏光素子２２に対応して開口部を有するフレーム２１と、を具備し、前記光源に沿って照射領域を有する紫外線照射装置１において、光源１１の長さをＬ［ｍｍ］、前記フレーム２１の前記開口部の全長をＴＬ［ｍｍ］、前記照射領域ＩＡの長さをＡ［ｍｍ］としたとき、Ｌ＞ＴＬ＞Ａの関係を満たす。
【選択図】図２

Description

本発明の実施形態は、紫外線照射装置に関する。

液晶パネルの配向膜処理であるラビング工程に変わる技術として、光配向技術が注目されている。光配向膜用の紫外線照射装置としては、線状の光源である棒状ランプにグリッド偏光素子を組み合わせることが行われていた。グリッド偏光素子は、偏光素子に入射する光の角度に対する出射する偏光光の消光比の依存性が、蒸着膜やブリュースタ角を利用した偏光素子に比べて小さい。そのため、棒状ランプから出射する光のような発散光であっても、入射角度が±４５°の範囲であれば、光が照射される領域全体にわたって、比較的良好な消光比の偏光光が得られる。そのため、棒状ランプの長さを、光配向膜の幅に対応させて設け、光配向膜を紫外線照射装置に対して相対的に一方向に移動させれば、原理的には１本のランプで、広い面積の光配向膜の配向処理を行うことができる。

特開２００９−２６５２９０公報 特開２０１１−１４５３８１公報

本発明の実施形態は、光源の光軸方向における消光比および紫外線照度の悪化を抑制した紫外線照射装置を提供する。

本発明における実施形態の紫外線照射装置は、光を放出する光源と；前記光源より放出された光を入射し紫外線を出射するフィルタと；前記フィルタの出射側に配置され、前記紫外線が照射され、前記紫外線の偏光光を放出するワイヤーグリッド偏光素子と；前記ワイヤーグリッド偏光素子が配置され、前記偏光素子に対応して開口部が設けられるフレームと；具備し、前記光源に沿って照射領域を有する紫外線照射装置において、前記光源の長さをＬ［ｍｍ］、前記フレームの前記開口部の全長をＴＬ［ｍｍ］、前記照射領域の長さをＡ［ｍｍ］としたとき、Ｌ＞ＴＬ＞Ａの関係を満たす。

本発明の実施形態によれば、光源の光軸方向における消光比および紫外線照度の悪化を抑制した紫外線照射装置を提供できる。

図１は、第１の実施形態に係る紫外線照射装置を例示する模式図である。 第１の実施形態に係る紫外線照射装置を例示する模式的正面図である。 第１の実施形態に係る紫外線照射装置において偏光光の軌跡を例示する模式的断面図である。 第１の実施形態に係る紫外線照射装置において光源の長軸方向における紫外線照度分布を示す図である。 第１の実施形態に係る紫外線照射装置において偏光軸の測定箇所を例示する模式的上面図である。 第１の実施形態に係る紫外線照射装置において偏光軸の測定結果を示す図である。 第１の実施形態に係る紫外線照射装置においてＬ／ＡおよびＴＬ／Ａを種々変化させた時の均斉度を示す図である。 従来の紫外線照射装置を示す図である。 第１の実施形態に係る紫外線照射装置の変形例の概略を示す図である。 第１の実施形態に係る紫外線照射装置の他の変形例の概略を示す図である。

本発明における実施形態の紫外線照射装置は、光を放出する光源と；前記光源より放出された光を入射し紫外線を出射するフィルタと；前記フィルタの出射側に配置され、前記紫外線が照射され、前記紫外線の偏光光を放出するワイヤーグリッド偏光素子と；前記ワイヤーグリッド偏光素子が配置され、前記偏光素子に対応して開口部が設けられるフレームと；具備し、有効照射領域を有する紫外線照射装置において、前記光源の長さをＬ［ｍｍ］、前記フレームの前記開口部の全長をＴＬ［ｍｍ］、前記照射領域の長さをＡ［ｍｍ］としたとき、Ｌ＞ＴＬ＞Ａの関係を満たす。

以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。

（第１の実施形態）
図１〜図３は、第１の実施形態に係る紫外線照射装置を概略の構成を示す斜視図、図２は、実施形態に係る紫外線照射装置の概略の構成を示す側面図、図３は、実施形態に係る紫外線照射装置の概略の構成を示す正面図である。

図１に示された実施形態の紫外線照射装置１は、ワークＷ（図１に二点鎖線で示す）の表面に、予め決められた基準方向ＲＤ（図１に一点鎖線で示す）と平行な偏光軸ＰＡ（図３に示し、振動方向ともいう）の紫外線ＵＢを照射する装置である。実施形態の紫外線照射装置１は、例えば、液晶パネルの配向膜や視野角補償フィルムの配向膜などの製造に用いられる。ワークＷの表面に照射される紫外線ＵＢの偏光軸ＰＡの基準方向ＲＤは、ワークＷの構造、用途、または、要求される仕様に応じて適宜設定される。以下、ワークＷの幅方向をＸ軸方向といい、Ｘ軸方向に直交しかつワークＷの長手方向（搬送方向ともいう）をＹ軸方向といい、Ｙ軸方向及びＸ軸方向に直交する方向をＺ軸方向と呼ぶ。

紫外線照射装置１は、図１、図２及び図３に示すように、光源部１０と、偏光素子部２０とを備えている。

光源部１０は、一様にあらゆる方向に振動しかつ所望の波長の紫外線ＵＡを放出する。光源部１０は、光源１１と、反射材１２と、フィルタ１３とを備えている。

光源１１は、例えば、紫外線透過性のガラス管内に水銀、アルゴン、キセノンなどの希ガスが封入された高圧水銀ランプや、高圧水銀ランプに鉄やヨウ素などのメタルハライドが更に封入されたメタルハライドランプなどの管型ランプで、少なくとも直線状の発光部を有している。光源１１の発光部の長手方向は、Ｘ軸方向と略平行であり、光源１１の発光部の長さは、ワークＷの幅よりも長い。光源１１は、線状の発光部から例えば波長が２００ｎｍから４００ｎｍの紫外線を放出する。光源１１が放出する紫外線は、さまざまな偏光軸成分を有する紫外線、いわゆる非偏光の紫外線である。なお、本発明では、光源として、例えば、波長が２００ｎｍから４００ｎｍの紫外線を照射できるＬＥＤチップ、レーザーダイオード、有機ＥＬなどの小型ランプを離間させて直線状に配置した構成とすることもできる。

本実施形態で、光源１１は、一つ設けられ、かつ、偏光素子部２０及びワークＷの上方に配置されている。光源１１の上方には、反射材１２が設けられ、光源１１の下方には、フィルタ１３が設けられている。反射材１２としては、平行型の放物ミラー、集光型の楕円ミラー、また、他の形状のミラーなどを用いることができる。フィルタ１３は、周知のバンドパスフィルタであって、光源１１が放出した紫外線のうち、例えば、２５４［ｎｍ］や３６５［ｎｍ］などの所望の波長の紫外線ＵＡを透過し、他の波長の紫外線が透過することを規制する。光源１１が放出した紫外線のうち、一部の所望の波長の紫外線ＵＡが直接フィルタ１３を透過して偏光素子部２０側に出射するとともに、残りの一部の所望の波長の紫外線ＵＡが反射材１２により反射されて、フィルタ１３を透過して偏光素子部２０の方向に出射する。光源部１０は、フィルタ１３を通して、偏光素子部２０の方向に所望の波長の紫外線ＵＡを出射する。

偏光素子部２０は、光源部１０が放出し、一様にあらゆる方向に振動したさまざまな偏光軸成分を有する紫外線ＵＡから基準方向ＲＤのみに振動した偏光軸ＰＡの紫外線ＵＢ（紫外線ＵＡの偏光光に相当）を取り出すものである。偏光素子部２０は、光源部１０の出射側に配置され、光源部１０からの紫外線ＵＡが照射され、紫外線ＵＢをワークＷの表面の照射領域ＩＡ（図２に示す）に放出する。なお、基準方向ＲＤのみに振動した偏光軸ＰＡの紫外線ＵＢを、一般に直線偏光という。また、紫外線ＵＡ，ＵＢの偏光軸ＰＡとは、当該紫外線ＵＡ，ＵＢの電場及び磁場の振動方向である。偏光素子部２０は、紫外線ＵＡが照射されて紫外線ＵＢを放出する方向に、フレーム２１に、Ｘ軸方向と略平行に配置された複数のワイヤーグリッド偏光素子２２が設けられている。また、フレーム２１には、ワイヤーグリッド偏光素子２２に対応して、開口部ＯＭが設けられている。

ワイヤーグリッド偏光素子２２は、図２に示すように、フレーム２１の、開口部ＯＭに対応した各空間内に配置される。ワイヤーグリッド偏光素子２２は、石英ガラスなどで構成された平板状の基材の一方の表面に複数形成された直線状の電気導体を備えている。電気導体は、例えば、クロムやアルミニウム合金等の金属で構成され、基材の一方の表面に等間隔に平行に配置されている。電気導体の長手方向は、基準方向ＲＤと直交する。電気導体のピッチは、光源部１０から放出される紫外線ＵＡの波長の１／３以下であるのが望ましい。ワイヤーグリッド偏光素子２２は、光源部１０から放出される紫外線ＵＡのうち電気導体の長手方向に平行な偏光軸の紫外線の大部分を反射させ、電気導体の長手方向に直交する偏光軸ＰＡの紫外線ＵＢを通過させることで、紫外線ＵＡの偏光光である紫外線ＵＢを放出させる。なお、本実施形態で、ワイヤーグリッド偏光素子２２は、電気導体の長手方向がＹ軸方向と平行に配置されて、Ｘ軸方向と平行な偏光軸ＰＡの紫外線ＵＢを通過させる。即ち、本実施形態では、基準方向ＲＤは、Ｘ軸方向と略平行である。

また、本実施形態で、光源１１の長さをＬ［ｍｍ］、フレーム２１の開口部の全長をＴＬ［ｍｍ］、照射領域ＩＡの長さをＡ［ｍｍ］としたとき、Ｌ＞ＴＬ＞Ａの関係を満たす。また、光源１１の長さＬと、照射領域ＩＡの長さＡとの関係が、１．５０≦Ｌ／Ａ≦２．００である。また、フレーム２１の開口部の全長ＴＬおよび照射領域ＩＡの長さＡの関係が、ＴＬ／Ａ≧１．１０である。なお、ここでいう「長さ」とは、光源１１の延びる方向に対する長さのことであり、その向きは図１のＸ軸と平行な方向である。また、「フレーム２１の開口部の全長ＴＬ」とは、フレーム２１に複数配置された複数のワイヤーグリッド偏光素子２２の、Ｘ軸方向の長さであり、ワイヤーグリッド偏光素子２２とワイヤーグリッド偏光素子２２との間に介在するフレームＦを含むことを許容する。

次に、紫外線照射装置１の動作について説明する。前述した構成の実施形態に係る紫外線照射装置１は、ワークＷをＹ軸方向と略平行な矢印Ｙ１方向に搬送し、光源１１から紫外線を放出する。すると、光源１１が放出した紫外線のうち所望の波長の紫外線ＵＡが偏光素子部２０に照射されて、ワイヤーグリッド偏光素子２２により、基準方向ＲＤと平行な偏光軸ＰＡの紫外線ＵＢが偏光素子部２０からワークＷの表面の照射領域ＩＡに向けて放出される。

この際、ワイヤーグリッド偏光素子２２は、紫外線ＵＢの消光比に対する紫外線ＵＡの入射角度の影響が、蒸着膜やブリュースタ角を利用した偏光素子よりも小さい。このために、ワイヤーグリッド偏光素子２２は、光源部１０から出射する紫外線ＵＡのような非偏光の光であっても、入射角度が±４５度の範囲であれば、紫外線ＵＡが照射される領域全体にわたって、良好な消光比の紫外線ＵＢが得られる。したがって、紫外線照射装置１は、光源１１の長さをワークＷの幅に対応させて設け、ワークＷを矢印Ｙ１方向に相対的に移動させることで、原理的には、１本の光源１１で広い面積の照射領域ＩＡの配向処理を行う。

なお、消光比とは、ワイヤーグリッド偏光素子２２の直線偏光である紫外線ＵＢの最大透過率を、直線偏光である紫外線ＵＢの最小透過率で除した値をいう。即ち、消光比＝最大透過率／最小透過率である。さらに、透過率とは、ワイヤーグリッド偏光素子２２を通過した紫外線ＵＢの放射発散度を、ワイヤーグリッド偏光素子２２に入射する紫外線ＵＡの放射発散度で除して、１００をかけて得られる値（％）である。即ち、透過率（％）＝（紫外線ＵＢの放射発散度／紫外線ＵＡの放射発散度）×１００である。

前述した構成の実施形態に係る紫外線照射装置１は、光源１１の長さをＬ［ｍｍ］、フレーム２１の開口部の全長をＴＬ［ｍｍ］、照射領域ＩＡの長さをＡ［ｍｍ］としたとき、Ｌ＞ＴＬ＞Ａの関係を満たす。Ｌ＝ＴＬ＝Ａ、つまり、光源１１の長さＬと、フレーム２１の開口部の全長ＴＬと、照射領域ＩＡの長さＡとが同一であるとき、照射領域ＩＡの端部における照度が低下し、照度の均一さ、つまり、均斉度が悪化するという問題がある。また、つまり、光源１１の長さＬと、フレーム２１の開口部の全長ＴＬと、照射領域ＩＡの長さＡとが同一であるとき、照射領域ＩＡの端部における偏光軸のずれが大きくなり、偏光軸の均一さが悪化するという問題がある。つまり、Ｌ＞ＴＬ＞Ａの関係を満たす構成とすることで、紫外線の光量と偏光軸との不均一さを抑制することができる。

また、光源１１の長さＬと、照射領域ＩＡの長さＡとを比較したとき、Ｌ≦Ａの関係となると、光源１１から放出される紫外線ＵＡが照射領域ＩＡの端部に到達しない。つまり、照射領域ＩＡの端部における紫外線照度が低下する。よって、Ｌ＞Ａ、すなわち、Ｌ／Ａ＞１．００の関係を満たせば、紫外線の光量と偏光軸との不均一さを抑制することができる。特に、Ｌ／Ａ≧１．５０の関係を満たせば、更に紫外線の光量と偏光軸との不均一さを抑制することができる。

また、照射領域ＩＡの長さＡと、フレーム２１の開口部の全長ＴＬとを比較したとき、Ａ≧ＴＬの関係となると、フレーム２１の開口部の全長ＴＬ、すなわち、偏光素子部２０から放出される紫外線ＵＢが照射領域ＩＡの端部に到達しない。つまり、照射領域ＩＡの端部における紫外線照度が低下する。従って、ＴＬ＞Ａ、すなわち、ＴＬ／Ａ＞１．００の関係を満たせば、紫外線の光量と偏光軸との不均一さを抑制することができる。特に、ＴＬ／Ａ≧１．１３を満たせば、更に紫外線の光量と偏光軸との不均一さを抑制することができる。

ここで、本実施形態の一例である実施例１と比較例１の照度分布について比較した。測定結果を図４に示す。なお、実施例１、比較例１とも、光源１１、反射材１２、ワイヤーグリッド偏光素子２２の位置は同じであり、光源１１−反射材１２の距離が３３．５［ｍｍ］、光源１１−ワイヤーグリッド偏光素子２２の距離が１２５［ｍｍ］である。また、反射材１２は、第１焦点位置が光源１１と一致、反射材１２−第２焦点位置が１３５［ｍｍ］となる楕円ミラーである。

実施例１は、Ｌ＝８００［ｍｍ］、ＴＬ＝４５０［ｍｍ］、Ａ＝４００［ｍｍ］のときの測定結果であり、Ｌ／Ａ＝２．００、ＴＬ／Ａ＝１．１３である。また、比較例１は、図８に示すとおり、Ｌ＝５００ｍｍ、Ｌ以外は実施例１と同じ条件で、ＴＬ＝４５０［ｍｍ］、Ａ＝４００［ｍｍ］のときの測定結果であり、Ｌ／Ａ＝１．２５、ＴＬ／Ａ＝１．１３である。また、照度分布は以下の方法にて測定を行った。すなわち、偏光素子部２０の、Ｘ軸方向の中心点Ｏを偏光軸測定位置：０ｍｍと定義し、その位置でウシオ電機製照度計ＵＩＴ−２５０を用いて照度の測定を行った。また、Ｘ軸を示す矢印と同じ方向を＋側、Ｘ軸を示す矢印と対向する方向を−側として照度を測定し、照度測定位置：０ｍｍの照度値で規格化した。また、相対照度［％］は１００［％］に近ければ近いほど、より均一であることを示す。

図４から明らかであるとおり、Ｌ＞Ａ（Ｌ／Ａ＞１．００）の関係を満たせば、照射領域ＩＡの端部における相対強度の落ち込みは軽減され、均一に紫外線が照射できることがわかった。これは、照射領域ＩＡにおいて、一方の端部の直上にあるランプからの光よりも、他方の端部の直上にあるランプからの光の斜め光が影響している。Ｌ＝Ａ（Ｌ／Ａ＝１．００）であると、照射領域ＩＡの他方の端部の直上にあるランプから照射領域ＩＡの一方の端部に照射される光の量が少なくなるため、照射領域ＩＡの端部において相対照度の落ち込みが生じる。一方、Ｌ＞Ａ（Ｌ／Ａ＞１．００）の関係を満たせば、照射領域ＩＡの他方の端部の直上にあるランプから照射領域ＩＡの一方の端部に照射される光の量が多くなり、照射領域ＩＡの端部における相対強度の落ち込みは軽減され、均一に紫外線が照射できる。

また、本実施形態の一例である実施例２と比較例２の偏光軸について比較した。測定箇所を図５に、測定結果を図６に示す。実施例２は、Ｌ＝８００［ｍｍ］（実施例１と同様）、ＴＬ＝５５０［ｍｍ］、Ａ＝４００［ｍｍ］のときの測定結果であり、Ｌ／Ａ＝２．００、ＴＬ／Ａ＝１．１３である。また、比較例２は、Ｌ＝８００［ｍｍ］（実施例２と同様）、ＴＬ＝３２５［ｍｍ］、Ａ＝４００［ｍｍ］のときの測定結果であり、Ｌ／Ａ＝２．００、ＴＬ／Ａ＝０．８１である。なお、図５は紫外線照射装置１を、Ｚ軸方向からワークＷへ向かって見た模式図である。また、偏光軸は以下の方法にて測定を行った。すなわち、照度分布の測定と同様にウシオ電機製照度計ＵＩＴ−２５０を用い、照度計に直接接触するように検光子を用いて照度測定を行い、マリュスの最小二乗法によるフィッティングにより偏光軸を求めた。なお、偏光軸は、０°に近いほど偏光軸が揃っていることを示し、具体的には０±０．１０°の範囲内であることが好ましい。

図６から明らかであるとおり、ＴＬ＞Ａ（ＴＬ／Ａ＞１．００）の関係を満たせば、照射領域ＩＡ内での偏光軸のバラツキが少ないことがわかった。

また、光源１１の長さＬ、フレーム２１の開口部の全長ＴＬ［ｍｍ］を種々変更し、均斉度の測定を行った。結果を図７に示す。なお、均斉度［％］は照度の均一さを表す指標であり、均斉度の値が小さければ小さいほどより照度が均一であることを示す。均斉度は以下の式で求め、均斉度［％］が１０［％］以下のときに判定を「○」、１０［％］より大きいときに判定を「×」とした。図７から明らかであるとおり、Ｌ＞ＴＬ＞Ａ、Ｌ／Ａ≧１．５０、ＴＬ／Ａ≧１．１３を満たせば、均斉度が１０［％］以下となり、照度が均一であることがわかった。なお、Ｌ／Ａが２を超えると均斉度が改善する傾向が見られたが、Ｌ／Ａが２を超えると、照射領域ＩＡの長さＡに対して光源の長さＬが半分以下となり、光源の長さＬの半分以上は実質的に光を有効に活用できていないことを意味するため、Ｌ／Ａは２以下が望ましい。
（変形例）

図９は、第１の実施形態に係る紫外線照射装置の変形例の概略の構成を示す模式的正面図である。

本変形例では、フィルタ１３を偏光素子部２０、すなわち、フレーム２１に設けた構成とした装置である。このような構成でも、実施形態１と同様に、Ｌ＞ＴＬ＞Ａ、Ｌ／Ａ≧１．５０、ＴＬ／Ａ≧１．１３を満たせば、均斉度が１０［％］以下となり、照度が均一であることがわかった。また、フィルタ１３を変更素子部２０に一体的に設けることで、フィルタ１３とワイヤーグリッド偏光素子２２とを一体に管理することができる。つまり、フィルタ１３とワイヤーグリッド偏光素子２２とを交換するとき、フィルタ１３とワイヤーグリッド偏光素子２２とが一体で設けられているため、交換作業の効率化を図ることができる。

図１０は、第１の実施形態に係る紫外線照射装置の他の変形例の概略を示す模式的正面図である。図１０（ａ）はフレーム２１の変形例を示す模式的正面図、図１０（ｂ）はフレーム２１およびワイヤーグリッド２２の他の変形例を示す模式的正面図、図１０（ｃ）はフレーム２１およびワイヤーグリッド偏光素子２２の他の変形例を示す模式的正面図である。

図１０（ａ）に示す変形例で、フレーム２３は、ワイヤーグリッド偏光素子２２とワイヤーグリッド偏光素子２２との境界部分に、ワイヤーグリッド偏光素子２２、２２を保持するための渡し構成を有しない。つまり、開口部ＯＭは、ワイヤーグリッド偏光素子２２に対応して、フレーム２３で一体的に形成されている。このような構成とすることで、例えば、ワイヤーグリッド偏光素子２２とワイヤーグリッド偏光素子２２との間に生じる境界部分を削減することができ、均斉度や消光比の悪化を抑制することができる。なお、本変形例において、フレーム２３の開口部の全長ＴＬ［ｍｍ］は、図１０（ａ）に示すように、フレーム２３に一体的に設けられた開口部ＯＭの全長のことである。

また、図１０（ｂ）に示すように、フレーム２５、２５は、Ｘ軸方向において複数に分割される構成としてもよい。このような構成とすることで、例えば、照射領域Ａが第１の実施形態より長大となった場合でも、フレーム２５、２５が複数に分割されることで、フレーム２５、２５の取扱いが容易とすることができる。なお、本変形例において、フレーム２５の開口部の全長ＴＬ［ｍｍ］は、図１０（ｂ）に示すように、複数のフレーム２５、２５のすべてに設けられた開口部ＯＭの全長のことである。

また、図１０（ｃ）に示すように、ワイヤーグリッド２８は、単体の構成としてもよい。このような構成とすることで、例えば、複数のワイヤーグリッド偏光素子２８を用いるときに比べて、複数のワイヤーグリッド偏光素子２８を保持するための渡し構成を有しなく、更にワイヤーグリッド偏光素子が単体で構成されていることから、複数のワイヤーグリッド偏光素子２２で構成したときのようにワイヤーグリッド偏光素子２２とワイヤーグリッド偏光素子２２との間に生じる隙間をなくすことができることで、例えば、ワイヤーグリッド偏光素子２２とワイヤーグリッド偏光素子２２との間に生じる境界部分を削減することができ、均斉度や消光比の悪化を更に抑制することができる。なお、本変形例において、フレーム２７の開口部の全長ＴＬ［ｍｍ］は、図１０（ａ）に示すように、フレーム２３に一体的に設けられた開口部ＯＭの全長のことである。

本発明のいくつかの実施形態及び変形例を説明したが、これらの実施形態及び変形例は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態及び変形例は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態及び変形例は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。

１０ 光源部、
１１ 光源、
１２ 反射材、
１３ フィルタ、
２０ 偏光素子部、
２１、２３、２５、２７ フレーム、
２２、２４、２６、２８ ワイヤーグリッド偏光素子

Claims (3)

1. 光を放出する光源と；
   前記光源より放出された光を入射し紫外線を出射するフィルタと；
   前記フィルタの出射側に配置され、前記紫外線が照射され、前記紫外線の偏光光を放出するワイヤーグリッド偏光素子と；
   前記ワイヤーグリッド偏光素子が配置され、前記偏光素子に対応して開口部が設けられるフレームと；
   を具備し、前記光源に沿って照射領域を有する紫外線照射装置において、
   前記光源の長さをＬ［ｍｍ］、前記フレームの前記開口部の全長をＴＬ［ｍｍ］、前記照射領域の長さをＡ［ｍｍ］としたとき、
   Ｌ＞ＴＬ＞Ａ
   の関係を満たす紫外線照射装置。
2. 前記光源の長さＬと、前記照射領域の長さＡとの関係が、
   １．５０≦Ｌ／Ａ≦２．００
   である請求項１記載の紫外線照射装置。
3. 前記フレームの前記開口部の全長ＴＬおよび前記照射領域の長さＡの関係が、
   ＴＬ／Ａ≧１．１３
   である請求項１または２記載の紫外線照射装置。