JP6562316B2 - 露光装置 - Google Patents
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Description
この発明は露光装置に関するものであり、特に、ショートアークフラッシュランプからの真空紫外光を平行光として被処理物に照射して各種の処理を行う露光装置に係わるものである。
近年、波長200nm以下の真空紫外光(以下、VUVともいう)が様々な分野で用いられている。この波長帯の光を発光できるLEDは存在せず、放電ランプが光源として用いられている。例えば、フォトレジストによるパターン形成工程を用いずにVUVとマスクを用い、直接光で化学反応を引き起こして自己組織化単分子膜(以下、SAM膜)をパターニングする技術が開発されている。
従来、このようなVUV光源としては、波長185nmに輝線を有する低圧水銀ランプが使用されてきた。しかしながら、最近では、より短波長の光、具体的には波長180nm以下のVUVが有効であるといわれることから、波長172nmの真空紫外光を放射するエキシマランプを光源とした開発も行われている。ところで、これらのランプから放射される光は発散光であるために、マスクを用いた微細な選択的表面改質(パターニング)には不向きであるとされ、解像可能なパターンサイズに限界があるといわれている。具体的に述べると、ラインパターンでは100μm程度が限界といわれている。
従来、このようなVUV光源としては、波長185nmに輝線を有する低圧水銀ランプが使用されてきた。しかしながら、最近では、より短波長の光、具体的には波長180nm以下のVUVが有効であるといわれることから、波長172nmの真空紫外光を放射するエキシマランプを光源とした開発も行われている。ところで、これらのランプから放射される光は発散光であるために、マスクを用いた微細な選択的表面改質(パターニング)には不向きであるとされ、解像可能なパターンサイズに限界があるといわれている。具体的に述べると、ラインパターンでは100μm程度が限界といわれている。
近時、より微細なパターニングに適した光源装置の開発が要請されており、このようなことから新規のVUV光源を用いた光照射装置について提案されていて、例えば、特開2016−192343号公報(特許文献1)にその構造が開示されている。
図9にその概略構造が示されていて、ハウジング101内にショートアークフラッシュランプ102及び反射ミラー103を下方に光が照射されるように配し、下方には光透過窓104が設けられていて、ハウジングの内部を窒素で満たしている。
反射ミラー103と光透過窓104との間には部材は配置されておらず、窓面において光はドーナツ状(円環状)の分布を示すので、その照度が高く均一である一部分にのみアパーチャ105を配置するものである。
図9にその概略構造が示されていて、ハウジング101内にショートアークフラッシュランプ102及び反射ミラー103を下方に光が照射されるように配し、下方には光透過窓104が設けられていて、ハウジングの内部を窒素で満たしている。
反射ミラー103と光透過窓104との間には部材は配置されておらず、窓面において光はドーナツ状(円環状)の分布を示すので、その照度が高く均一である一部分にのみアパーチャ105を配置するものである。
この特許文献1記載の技術は、従来の発光長が長いランプ(エキシマランプ、低圧水銀ランプ)に替えて、発光長がより短いショートアークフラッシュランプを光源として採用するものである。このフラッシュランプから放射されたVUV光を、反射ミラーを用いて平行光(ないしは略平行光)として露光用光源としての光照射装置を構成するものである。
この従来技術によれば、ランプに反射ミラーとして放物面鏡を取り付け、レンズ等の光学系が無い状態で平行光を形成していた。しかしながら、ドーナツ状に放射される光の一部分のみを利用するものであるために、光利用効率が低かった。また、照射面での照度均一性も高くはなかった。
この発明が解決しようとする課題は、上記従来技術の問題点に鑑みて、鏡筒内に波長200nm以下の真空紫外光を放射するショートアークフラッシュランプおよび該ランプからの光を反射する集光鏡を備え、前記鏡筒の下部には光照射窓を備えてなる光照射装置を備えた露光装置において、照度分布の均一性を維持しつつ、照射面積の大面積化を実現した露光装置を提供することである。
上記課題を解決するために、この発明に係る露光装置では、前記光照射装置は、前記鏡筒内に、前記集光鏡によって反射された光を平行化する光学系を備え、該光学系は、前記ランプと前記光照射窓の間に同一光軸上に沿って直線状に配置された複数のレンズ部材からなるものであって、前記光照射装置が複数備えられるとともに、該光照射装置の下方には、一体的に搬送されるマスクステージとワークステージとが配置されていて、前記複数の光照射装置において、搬送方向にみて隣接する前記光照射装置は、その光照射窓の一部が搬送方向で重なり合うような位置関係に配置されていて、搬送方向にみて積算光量が均しくなる有効照射領域が形成されていることを特徴とする。
また、前記光照射窓は平行な一対の辺を有する多角形であることを特徴とする。
また、前記光照射窓が直角四辺形であって、その一辺が搬送方向に対し傾斜していることを特徴とする。
また、前記光照射装置における前記鏡筒の内部は不活性ガスで充填されており、該鏡筒の下端面には不活性ガス排出口が設けられていて、前記光照射窓の周辺から前記マスクステージ上のマスクに向かって不活性ガスが吹き付けられることを特徴とする。
また、前記光照射窓が直角四辺形であって、その一辺が搬送方向に対し傾斜していることを特徴とする。
また、前記光照射装置における前記鏡筒の内部は不活性ガスで充填されており、該鏡筒の下端面には不活性ガス排出口が設けられていて、前記光照射窓の周辺から前記マスクステージ上のマスクに向かって不活性ガスが吹き付けられることを特徴とする。
この発明のショートアークフラッシュランプを有する光照射装置を複数用いた露光装置によれば、複数の光照射装置を狭い範囲で密集して配置でき、該光照射装置からのVUV平行光の照射領域での積算照度の均一化が図られ、照射面積の大面積化が図られるものである。
また、各光照射装置の下端面から不活性ガスをマスクに対して吹き付けるので、マスク上で不活性ガスが均一に存在して、光照射窓から出射したVUV光がマスクに至るまでの間での減衰が効果的に抑制される。
また、各光照射装置の下端面から不活性ガスをマスクに対して吹き付けるので、マスク上で不活性ガスが均一に存在して、光照射窓から出射したVUV光がマスクに至るまでの間での減衰が効果的に抑制される。
図1は本発明の露光装置に用いられるショートアークフラッシュランプを用いた光照射装置の全体を表すものである。
図1において、本発明に用いられる光照射装置1は、鏡筒2と、その内部に設けられたショートアークフラシュランプ3と、これを取り囲む集光鏡4と、光学系5と、最下部に設けられた光照射窓6とを備えている。
鏡筒2は、複数の鏡筒ユニット20〜25からなり、これら各鏡筒ユニットにはそれぞれランプ3や、光学系5を構成する複数のレンズ部材51〜55が保持されている。
この光学系5は、ランプ3から出射され集光鏡4で反射された光を、平行化し照度を均一化するためのものであって、例えば、第1のレンズ部材(両凹レンズ)51、第2のレンズ部材(平凸レンズ)52、第3のレンズ部材(インテグレータレンズ)53、第4のレンズ部材(凸メニスカスレンズ)54および第5のレンズ部材(両凸レンズ)55から構成されている。
図1において、本発明に用いられる光照射装置1は、鏡筒2と、その内部に設けられたショートアークフラシュランプ3と、これを取り囲む集光鏡4と、光学系5と、最下部に設けられた光照射窓6とを備えている。
鏡筒2は、複数の鏡筒ユニット20〜25からなり、これら各鏡筒ユニットにはそれぞれランプ3や、光学系5を構成する複数のレンズ部材51〜55が保持されている。
この光学系5は、ランプ3から出射され集光鏡4で反射された光を、平行化し照度を均一化するためのものであって、例えば、第1のレンズ部材(両凹レンズ)51、第2のレンズ部材(平凸レンズ)52、第3のレンズ部材(インテグレータレンズ)53、第4のレンズ部材(凸メニスカスレンズ)54および第5のレンズ部材(両凸レンズ)55から構成されている。
最上部に位置するランプ鏡筒ユニット20には、ランプ3および集光鏡4が保持されている。ここで用いられるランプ3はショートアークフラシュランプであり、図2にその概要構造が示されている。
このショートアークフラッシュランプ3は、発光空間を形成する発光管301と、その発光管301の一端に連続して管軸方向に沿って外方に延びる第1封止管302と、他端に連続して管軸方向に沿って外方に延びる第2封止管303を有していて、前記第2封止管303には封止用ガラス管304が挿入されており、その重なり領域において両者は溶着されている。
このショートアークフラッシュランプ3は、発光空間を形成する発光管301と、その発光管301の一端に連続して管軸方向に沿って外方に延びる第1封止管302と、他端に連続して管軸方向に沿って外方に延びる第2封止管303を有していて、前記第2封止管303には封止用ガラス管304が挿入されており、その重なり領域において両者は溶着されている。
前記発光管301内には、一対の第1主電極305と第2主電極306とが対向配置されている。前記第1主電極305は、その芯線307が第1封止管302に段継ガラスなどの手段により封着されて外方に気密に導出されており、一方、前記第2主電極306は、その芯線308が前記封止用ガラス管304に段継ガラスなどの手段により封着されて外方に気密に導出されている。
そして、前記発光管301内の一対の主電極305、306の間には、一対の第1始動補助電極310と第2始動補助電極311が配設されていて、それぞれの内部リード312、315と外部リード313、316とが、前記第2封止管303と封止用ガラス管304との間の溶着領域において、金属箔314、317を介して電気的に接続されている。
前記始動補助電極310、311の外部リード313、316が導出される側にある第2封止管303にはアルミニウム製などの口金320が固定されている。この口金320と第2封止管303との間の空隙には、第1の接着剤321が充填され、仕切り部材323を介して、口金320と封止用ガラス管304との間の空隙には第2の接着剤322が充填されている。
この第2の接着剤322中には、第2封止管303から導出された外部リード313、316が埋設され、口金320の後方から外部に導出されている。この外部リード313、316は、その後方部において絶縁性の被覆材313a、316aによって被覆されている。
なお、このようなショートアークフラシュランプ3の詳細は、特開2016−131135号公報に開示されている。
この第2の接着剤322中には、第2封止管303から導出された外部リード313、316が埋設され、口金320の後方から外部に導出されている。この外部リード313、316は、その後方部において絶縁性の被覆材313a、316aによって被覆されている。
なお、このようなショートアークフラシュランプ3の詳細は、特開2016−131135号公報に開示されている。
前記鏡筒2は、細長い筒状をなし、例えば、アルミニウムを切削した円筒状部材によって構成されている。この鏡筒2は、複数の鏡筒ユニット20〜25からなり、最上部に位置する鏡筒ユニットは、内部にランプ3を収容保持するランプ鏡筒ユニット20を構成している。そして、このランプ鏡筒ユニット20内には、ランプ3を取り囲むように集光鏡4が設けられていて、この集光鏡4は、例えば楕円集光鏡である。
ランプ3の口金320は、ランプ保持部材31によってランプ鏡筒ユニット20の上部に保持されており、このランプ保持部材31には、鏡筒2内に開口する不活性ガス供給口32が形成されていて、不活性ガス供給管33が接続され、窒素(N2)、ネオン(Ne)、アルゴン(Ar)、クリプトン(Kr)などの不活性ガスが供給される。
不活性ガス供給管33から不活性ガス供給口32を経てランプ鏡筒ユニット20内に供給される不活性ガスは、集光鏡4とランプ3の間隙からランプに沿って下方に流下して、ランプ3を冷却し、更に下方に流れていく。
不活性ガス供給管33から不活性ガス供給口32を経てランプ鏡筒ユニット20内に供給される不活性ガスは、集光鏡4とランプ3の間隙からランプに沿って下方に流下して、ランプ3を冷却し、更に下方に流れていく。
ランプ鏡筒ユニット20の下方には、複数のレンズ鏡筒ユニット21〜25が設けられていて、これらレンズ鏡筒ユニット21〜25には、前記ランプ3から出射されて集光鏡4によって反射された光を平行化し、また、照度を均一化する光学系5を構成する複数のレンズ部材51〜55がそれぞれ保持されている。
つまり、第1のレンズ鏡筒ユニット21には第1のレンズ部材(両凹レンズ)51が、第2のレンズ鏡筒ユニット22には第2のレンズ部材(平凸レンズ)52が、第3のレンズ鏡筒ユニット23には第3のレンズ部材(インテグレータレンズ)53が、第4のレンズ鏡筒ユニット24には第4のレンズ部材(凸メニスカスレンズ)54が、そして、第5のレンズ鏡筒ユニット25には第5のレンズ部材(両凸レンズ)55が、それぞれ保持されている。
そして、最下部に位置する第5のレンズ鏡筒ユニット25の下端には、光照射窓6が設けられている。
なお、第1〜第5のレンズの選択及び組合せは、目的とする平行度及び照度均一性に合わせて適宜選択可能である。
つまり、第1のレンズ鏡筒ユニット21には第1のレンズ部材(両凹レンズ)51が、第2のレンズ鏡筒ユニット22には第2のレンズ部材(平凸レンズ)52が、第3のレンズ鏡筒ユニット23には第3のレンズ部材(インテグレータレンズ)53が、第4のレンズ鏡筒ユニット24には第4のレンズ部材(凸メニスカスレンズ)54が、そして、第5のレンズ鏡筒ユニット25には第5のレンズ部材(両凸レンズ)55が、それぞれ保持されている。
そして、最下部に位置する第5のレンズ鏡筒ユニット25の下端には、光照射窓6が設けられている。
なお、第1〜第5のレンズの選択及び組合せは、目的とする平行度及び照度均一性に合わせて適宜選択可能である。
こうして、ランプ鏡筒ユニット20と複数のレンズ鏡筒ユニット21〜25を組み合わせることで鏡筒2が構成され、その内部に設けられた第1〜第5のレンズ部材51〜55は、ランプ3と光照射窓6の間に同一光軸OA上に沿って直線状に配置された光学系5を構成する。
各レンズ鏡筒ユニット21〜25にはレンズ保持部211〜251が形成されていて、それぞれ、第1〜第5のレンズ部材51〜55を保持している。このレンズ保持部は、レンズ鏡筒ユニットを切削加工して段部として内側に突出するフランジ部で構成することができる。
そして、このレンズ保持部211〜251には、これらを光軸方向に貫通する通気孔212〜252がそれぞれ形成されていて、各レンズ部材51〜55の上面側と下面側の空間を連通している。
そして、このレンズ保持部211〜251には、これらを光軸方向に貫通する通気孔212〜252がそれぞれ形成されていて、各レンズ部材51〜55の上面側と下面側の空間を連通している。
そして、最下段に位置する第5のレンズ鏡筒ユニット25の下端に設けられた光照射窓6における、光取り出し部以外のフランジ領域61に、不活性ガス排出口62が形成されていて、不活性ガス供給口32から鏡筒2内に供給された不活性ガスが、鏡筒2内を下方に流れて該鏡筒2内を不活性ガス雰囲気とした後に、この不活性ガス排出口62から鏡筒2外に噴出される。
このように、ランプを冷却しつつ、鏡筒2内の酸素濃度を例えば10ppm(体積比)以下に抑える不活性ガス(窒素ガス)の流量は、例えば、25L(リットル)/minである。
このように、ランプを冷却しつつ、鏡筒2内の酸素濃度を例えば10ppm(体積比)以下に抑える不活性ガス(窒素ガス)の流量は、例えば、25L(リットル)/minである。
また、光学系5を構成するレンズ部材51〜55や、光照射窓6は、真空紫外光を効率よく利用するために、例えば200nm以下の光を透過する材料によって構成されている。
さらに好ましくは波長200nmの光の透過率が80%以上の材料で構成されている。具体的にそれらの性質を有するのはフッ化物であり、さらに具体的には例えばフッ化カルシウム(CaF2)、フッ化マグネシウム(MgF2)、フッ化バリウム(BaF2)である。
さらに好ましくは波長200nmの光の透過率が80%以上の材料で構成されている。具体的にそれらの性質を有するのはフッ化物であり、さらに具体的には例えばフッ化カルシウム(CaF2)、フッ化マグネシウム(MgF2)、フッ化バリウム(BaF2)である。
ところで、上記実施例では、各鏡筒ユニットには、ランプやレンズが1つずつ設けられたものとして説明したが、一つの鏡筒にこれらが複数設けられるものであってもよい。例えば、前記第1の鏡筒ユニット21にランプ3と第1のレンズ部材51が設けられ、あるいは、第2の鏡筒ユニット22に第1のレンズ部材51と第2のレンズ部材52が設けられる構成としてもよい。
図3以下にこのような光照射装置を用いた露光装置の例が示されている。
図3は、搬送方向に直交する方向の断面図(A)とその上面図(B)であり、図4は搬送方向に沿った方向の断面図(A)とその上面図(B)である。
図3、4に示すように、複数の光照射装置1が、不図示の光学ベンチ等のフレームを基礎として設けられる架台11によって鏡筒2が保持されて配置される。定盤10上にはワークステージ12が、水平方向(XY方向)に移動可能に設けられている。このワークステージ12の上面にはワークWが載置支持されており、θ回転機構を設けてワークWを回転可能としている。
一方、マスク14はマスクステージ13に交換可能に固定されており、マスク14に設けられたアライメントマーク(不図示)の位置に対し、ワークに設けられたアライメントマーク(不図示)の位置が合うようにワークステージ12を移動させることにより、マスク14とワークWとの位置調整を行う。
マスク14は、例えば、ガラス等の光透過性基板上にクロム等の遮光材を蒸着後、パターンをエッチングし、遮光部と該遮光部が設けられていない透光部とを含む照射パターンを形成したものである。例えば、バイナリーマスク、位相シフトマスクなどを使用することができる。また、金属等の遮光性基板に対して透光部である開口部がパターン状に設けられたメタルマスクを使用することもできる。
図3は、搬送方向に直交する方向の断面図(A)とその上面図(B)であり、図4は搬送方向に沿った方向の断面図(A)とその上面図(B)である。
図3、4に示すように、複数の光照射装置1が、不図示の光学ベンチ等のフレームを基礎として設けられる架台11によって鏡筒2が保持されて配置される。定盤10上にはワークステージ12が、水平方向(XY方向)に移動可能に設けられている。このワークステージ12の上面にはワークWが載置支持されており、θ回転機構を設けてワークWを回転可能としている。
一方、マスク14はマスクステージ13に交換可能に固定されており、マスク14に設けられたアライメントマーク(不図示)の位置に対し、ワークに設けられたアライメントマーク(不図示)の位置が合うようにワークステージ12を移動させることにより、マスク14とワークWとの位置調整を行う。
マスク14は、例えば、ガラス等の光透過性基板上にクロム等の遮光材を蒸着後、パターンをエッチングし、遮光部と該遮光部が設けられていない透光部とを含む照射パターンを形成したものである。例えば、バイナリーマスク、位相シフトマスクなどを使用することができる。また、金属等の遮光性基板に対して透光部である開口部がパターン状に設けられたメタルマスクを使用することもできる。
このマスクステージ13とワークステージ12とは一体的に、前記光照射装置1に対して搬送されるものであり、複数の光照射装置1は、図3(B)、図4(B)に示すように、搬送方向Sにみていわゆる千鳥状に配置されている。なお、この例では、光照射装置1は3台の例であるが、ワークWの幅との関係で、2台であっても、あるいは4台以上であってもよい。
本発明の露光装置では、ワークWが光照射装置1に対して搬送される、いわゆる、スキャンタイプであり、光照射装置1の下端の光照射窓はマスク14に近接配置するが、一定の間隙が存在することになる。
本発明の露光装置は200nm以下の真空紫外光を利用するものであるので、光照射窓とマスクの間の間隙に存在する酸素によって吸収が生じるが、この吸収を抑制するために、光照射装置1の下端には、板材もしくはブロック材などからなる被覆部材7が設けられていて、マスク14およびマスクステージ13上を覆うように近接配置される。
そして、図5に示すように、鏡筒2の下端面から噴出する不活性ガスNは、この被覆部材7によって、下方に近接配置されたマスク14に沿うように流され、これによって光照射窓とマスクの間の間隙の酸素を効果的にパージすることができるものである。
本発明の露光装置は200nm以下の真空紫外光を利用するものであるので、光照射窓とマスクの間の間隙に存在する酸素によって吸収が生じるが、この吸収を抑制するために、光照射装置1の下端には、板材もしくはブロック材などからなる被覆部材7が設けられていて、マスク14およびマスクステージ13上を覆うように近接配置される。
そして、図5に示すように、鏡筒2の下端面から噴出する不活性ガスNは、この被覆部材7によって、下方に近接配置されたマスク14に沿うように流され、これによって光照射窓とマスクの間の間隙の酸素を効果的にパージすることができるものである。
図6に本発明に用いられる光照射装置1の鏡筒2の下端面の光照射窓6の例が示されていて、正方形(A)、長方形(B)、平行四辺形(C)、台形(D)、六角形(E)等の多角形の例が示されている。これら多角形は、いずれかに平行する一対の辺を有するものである。
このような光照射窓6における、光取り出し部以外のフランジ領域61に、当該光出射窓6の周囲に不活性ガス排出口62が形成されていて、前述したように、光照射装置1の筐体2内を流下した不活性ガスは、この不活性ガス排出口62から噴出する。
このような光照射窓6における、光取り出し部以外のフランジ領域61に、当該光出射窓6の周囲に不活性ガス排出口62が形成されていて、前述したように、光照射装置1の筐体2内を流下した不活性ガスは、この不活性ガス排出口62から噴出する。
図7に、正方形状の光照射窓6を有する光照射装置が3台配置された例が示されている。
この実施例の場合、正方形の光照射窓6は、その一辺が、搬送方向Sに対して直交することなく、傾斜して配置される。そして、これら光照射装置1は、いわゆる千鳥状に配置され、複数の光照射装置1において、搬送方向にみて隣接する光照射装置1は、その光照射窓6の一部が、搬送方向Sで重なり合うような位置関係に配置されている。
こうすることで、各光照射窓6の照射領域には、重畳領域Yが形成され、この重畳領域Yの積算光量は、重ならない領域(非重畳領域)Zでの積算光量と等しくなる。これにより、複数の光照射装置1によって、搬送方向Sにみて積算光量が均しくなる有効照射領域Xが形成される。
このような関係は、光照射装置1が2台の場合、あるいは、4台以上の場合でも同様である。
この実施例の場合、正方形の光照射窓6は、その一辺が、搬送方向Sに対して直交することなく、傾斜して配置される。そして、これら光照射装置1は、いわゆる千鳥状に配置され、複数の光照射装置1において、搬送方向にみて隣接する光照射装置1は、その光照射窓6の一部が、搬送方向Sで重なり合うような位置関係に配置されている。
こうすることで、各光照射窓6の照射領域には、重畳領域Yが形成され、この重畳領域Yの積算光量は、重ならない領域(非重畳領域)Zでの積算光量と等しくなる。これにより、複数の光照射装置1によって、搬送方向Sにみて積算光量が均しくなる有効照射領域Xが形成される。
このような関係は、光照射装置1が2台の場合、あるいは、4台以上の場合でも同様である。
図8には、光照射窓6が四角形以外の例が示され、(A)は台形であり、(B)は六角形である。
これらの例の場合、平行する一対の辺は、搬送方向に対して直交して配置される。
このいずれの例においても、各光照射窓6はその一部が搬送方向で重なり合うように配置されていて、これにより、各光照射窓6によって、照射領域には、重畳部分Yが形成されて、この重畳領域Yの積算光量は、非重畳領域Zでの積算光量と等しくなる。これにより、有効照射領域Xが形成されることは、図7の実施例と同様である。
これらの例の場合、平行する一対の辺は、搬送方向に対して直交して配置される。
このいずれの例においても、各光照射窓6はその一部が搬送方向で重なり合うように配置されていて、これにより、各光照射窓6によって、照射領域には、重畳部分Yが形成されて、この重畳領域Yの積算光量は、非重畳領域Zでの積算光量と等しくなる。これにより、有効照射領域Xが形成されることは、図7の実施例と同様である。
以上説明したように、本発明に係るショートアークフラッシュランプを有する光照射装置を用いた露光装置では、複数の光照射装置を狭い範囲で密集して配置でき、しかも、各光照射装置の光照射窓の一部を搬送方向で重なり合うように配置することで、該光照射装置からのVUV平行光の照射領域での積算照度の均一化が図られ、幅広の有効照射領域が形成でき、照射面積の大面積化が図られるものである。
また、各光照射装置の下端面から不活性ガスをマスクに対して吹き付けるので、マスク上で不活性ガスが均一に存在して、光照射窓から出射したVUV光がマスクに至るまでの間での減衰が効果的に抑制される。
また、各光照射装置の下端面から不活性ガスをマスクに対して吹き付けるので、マスク上で不活性ガスが均一に存在して、光照射窓から出射したVUV光がマスクに至るまでの間での減衰が効果的に抑制される。
1 光照射装置
2 鏡筒
20 ランプ鏡筒ユニット
21〜25 第1〜第5のレンズ鏡筒ユニット
211〜251 レンズ保持部
212〜252 通気孔
3 ショートアークフラッシュランプ
32 不活性ガス供給口
4 集光鏡
5 光学系
51〜55 第1〜第5のレンズ部材
6 光照射窓
62 不活性ガス排出口
7 被覆部材
12 ワークステージ
13 マスクステージ
14 マスク
W ワーク
X 有効照射領域
Y 重畳領域
X 非重畳領域
2 鏡筒
20 ランプ鏡筒ユニット
21〜25 第1〜第5のレンズ鏡筒ユニット
211〜251 レンズ保持部
212〜252 通気孔
3 ショートアークフラッシュランプ
32 不活性ガス供給口
4 集光鏡
5 光学系
51〜55 第1〜第5のレンズ部材
6 光照射窓
62 不活性ガス排出口
7 被覆部材
12 ワークステージ
13 マスクステージ
14 マスク
W ワーク
X 有効照射領域
Y 重畳領域
X 非重畳領域
Claims (4)
- 鏡筒内に波長200nm以下の真空紫外光を放射するショートアークフラッシュランプおよび該ランプからの光を反射する集光鏡を備え、前記鏡筒の下部には光照射窓を有する光照射装置を備えた露光装置であって、
前記光照射装置は、前記鏡筒内に、前記集光鏡によって反射された光を平行化する光学系を備え、該光学系は、前記ランプと前記光照射窓の間に同一光軸上に沿って直線状に配置された複数のレンズ部材からなるものであって、
前記光照射装置が複数備えられるとともに、該光照射装置の下方には、一体的に搬送されるマスクステージとワークステージとが配置されていて、
前記複数の光照射装置において、搬送方向にみて隣接する前記光照射装置は、その光照射窓の一部が搬送方向で重なり合うような位置関係に配置されていて、搬送方向にみて積算光量が均しくなる有効照射領域が形成されていることを特徴とする露光装置。 - 前記光照射窓は平行な一対の辺を有する多角形であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記光照射窓が直角四辺形であって、その一辺が搬送方向に対し傾斜していることを特徴とする請求項2に記載の露光装置。
- 前記光照射装置における前記鏡筒の内部は不活性ガスで充填されており、該鏡筒の下端面には不活性ガス排出口が設けられていて、前記光照射窓の周辺から前記マスクステージ上のマスクに向かって不活性ガスが吹き付けられることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の露光装置。
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