JP4328320B2 - 露光用光源 - Google Patents

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Description

この発明は、基板の表面に形成された感光膜(フォトレジスト)上に、パターンが描かれたフォトマスクを通して光を照射することによって、フォトマスクに描かれたパターンを基板の表面に形成された感光膜上に転写する露光処理に用いられる露光用光源に関する。
従来、基板の表面に形成された感光膜上に、パターンが描かれたフォトマスクを通して光を照射することによって、フォトマスクに描かれたパターンを基板の表面に形成された感光膜上に転写する露光処理に用いられる露光用光源は、発光源として感光膜の感光に適した紫外線から青色にいたる短波長の光を発する水銀ランプ等のランプが用いられてきた。この種のランプは高出力品が比較的容易に製作出来ることから広く用いられているが、次のような問題を包含している。即ちこの種のランプは水銀などの有害物質を用いていること、また使用時にランプ内圧が高いため破裂する危険性がある。さらに近年露光処理される基板の面積が、大きくなる傾向に合わせて、高出力ランプが使用されるようになったが、それに伴って発熱量も非常に大きくなり、冷却、冷房負荷の増大を招いている。
しかしながら、上記のような問題をこの種のランプは包含しているが、今までこの種のランプに代わる高出力の優れた発光源が見当らず、一部高出力レーザが使用されているが、大変高価であり普及するには至っていない。このため露光用光源の発光源としては、水銀ランプ等のランプが多用されているのが現状である。
以上本願に係る発明についての背景の技術を、出願人の知得した一般的技術情報に基づいて説明したが、出願人の記憶する範囲において、本願の出願前までに先行技術文献情報として開示すべき情報を出願人は有しておらず、かつ、本願に先行する出願人自身の特許出願等についても認識していない。
この発明が解決しようとする課題は、上述したような問題を包含するランプに代わる発光源を用いた露光用光源を提供しようとするものである。近年、開発と実用化が進む半導体面発光素子は、紫外線から青色にいたる短波長の光を発する製品も実用化され、その出力も時を追って高い製品が実用化されつつある。半導体面発光素子はランプに比べて多くの特長を持っている。即ち寿命が非常に長く、ON,OFF制御が容易であり、発熱量も少なく軽量小型である点にある。したがって、この発明の目的は、こうした特長を備える半導体面発光素子を用いて、ランプに代わる発光源を用いた露光用光源を実現しようとするものである。
半導体面発光素子は高出力の製品が実用化されつつあるとは云え、ランプの出力に比べて一素子当たりの出力は相当低いので、ランプに代わり半導体面発光素子を用いて、露光用光源を実現しようとすれば、数多くの素子を使用せねばならない。一方、近年ますます高精細化するフォトマスクに描かれたパターンを忠実に基板に転写する必要から、露光用光源として要求される光は、照度が均一な平行光である。露光処理で許容される光質の平行光を得るためには、幾何光学上発光源が従来用いられているショートアークランプのように小さいことが条件となるが、一つの半導体面発光素子は高出力のショートアークランプの発光体であるアークよりも小さいので、平面状に集合させる半導体面発光素子の適切な数量選択によって、平行光を得るに十分な一つの発光源として用いることが可能である。
本発明に基づく露光用光源によれば、従来のランプを用いた露光用光源の問題点を解決した高性能高出力の平行光の露光用光源を実現することが可能となる。
以下、本発明に基づいた面発光素子を用いた露光用光源についてより詳細に説明を行なう。第一に、平面状に集合させた複数の面発光素子を有する発光源と光学系とを用いて上記面発光素子から発する光を集光させて曲面ミラーに照射し、上記曲面ミラーによって平行光に変えて露光面に照射する露光用光源である。
次に望ましい形態を示すと、平面状に集合させた複数の面発光素子に、少なくとも1個の光学多角柱の端面を接近させて配置し、上記面発光素子から発する光を、上記光学多角柱を通過させて照度を均一化したのち、レンズによって集光させて曲面ミラーに照射し、曲面ミラーによって平行光に変えて露光面に照射するようにする。
さらに高出力の露光用光源を得るには、平面状に集合させた複数の面発光素子と1つの光学系とから構成される光照射ユニットを複数台設け、各光照射ユニットから発する光を、フライアイレンズに集光させ、フライアイレンズを通過した光を曲面ミラーに照射して平行光に変えればよい。
なお、現在最も多く使用されている基板の表面に形成される感光膜(フォトレジスト)の感光波長は、水銀ランプの発する光の主な波長であるh(405nm)線、i(365nm)線、g(436nm)線に対応しているので、面発光素子を発光源にする場合にも複数の面発光素子が水銀ランプの複数の発光波長にそれぞれ対応する波長の光を発することが望ましい。このため、上記平面状に集合させた複数の面発光素子から発する光の波長が異なる種類の発光素子で構成すればよく、特定すれば上記平面状に集合させた複数の面発光素子の発光波長が、水銀ランプの複数の発光波長にそれぞれ対応する発光波長の面発光素子で構成すればよい。
また、平面状に集合させた複数の面発光素子、光学多角柱、および、レンズを有する光照射ユニットを複数台設け、上記複数の光照射ユニットから発する光を、曲面ミラーに照射して平行光に変えて露光面に光を照射するようにしてもよい。また、上記複数の光照射ユニットを、光照射方向と直交する円形内に密集させて配置し、光の出射面積を小さくして平行光の光質を向上させるようにしてもよい。
さらに、複数の光照射ユニットに用いられるレンズを四角形にして、上記複数の光照射ユニットに対応する複数の上記四角形レンズを光照射方向と直交する方向に互いに密着して密集させて配置し、光の出射面積を小さくして平行光の光質を向上させるようにしてもよい。また、複数の光照射ユニットに用いられるレンズを六角形にして、上記複数の光照射ユニットに対応する複数の上記六角形レンズを光照射方向と直交する方向に互いに密着して密集させて配置し、光の出射面積を小さくして平行光の光質を向上させるようにしてもよい。
また、上記光学多角柱の少なくとも一端面を球面にしてレンズ作用を兼ねた光学多角柱を用いてもよい。
さらに、複数の光照射ユニットの全数から光を照射する方式と、任意に定めた数量の光照射ユニットからのみ光を照射する方式とを選択可能に設けることで、光照射ユニット全数からのみ光を照射する方式に比べて、照度を容易に調節することが可能となる。また、光を照射する光照射ユニット数を減らすことによって照度は低下するが、光出射面積が小さくなるので、平行光の光質が向上し、フォトマスクのパターンをより忠実に基板に転写することが可能となる。
さらに、2つの露光ステーションを有し、上記複数の光照射ユニットの照射方向または照射位置を変えて、上記2つの露光ステーションへ交互に光照射するようにすれば、1つの光源で2つの露光ステーションに光を照射することができ、露光装置を安価に製作することができる。
以上記述した面発光素子の代表例は、半導体面発光素子としての発光ダイオード(LED)であるが、他の面発光素子でもよい。
また、上記高出力の露光用光源を得る光学系の場合は、照射される光の波長が異なる上記複数の光照射ユニットで構成すればよく、特定すれば照射される光の波長が水銀ランプの複数の発光波長にそれぞれ対応する上記複数の光照射ユニットで構成すればよい。
なお、複数の面発光素子が水銀ランプの複数の発光波長にそれぞれ対応する波長の光を発することが望ましいとしたが、水銀ランプの発光波長の内少なくとも2つの波長に対応すればよく、また発光波長も水銀ランプの発光波長に正確に一致しなくとも近い波長であればよい。
(実施例1)
以下、この発明に基づいた露光用光源の実施例1について、図を参照して説明する。まず、図1および図2に従って説明すると、基板1に実装された複数の面発光素子2から発する光8を発光源として用い、この光8を該面発光素子2に接近して配置された光学多角柱3の端面から入射させ、光学多角柱3によって照度を均一化する。光学多角柱3の他の端面から出射する光9は、レンズ4によって集光させて曲面ミラー5に照射され、曲面ミラー5によって平行光11に変えられて、フォトマスク6に平行光11が照射される。フォトマスク6に照射された平行光11によってフォトマスク6に描かれたパターンを被露光基板7上に形成された感光膜に転写する露光を行なう。上記の構成において、光学多角柱3は1個でもよいが細い光学多角柱を束ねたものでもよい。また、図1において、レンズ4は1個として示しているが、複数枚を組み合わせてもよい。
次に、図2および図3に示すように、複数の面発光素子2は基板1上に集合させて実装されている。図では各面発光素子2は説明しやすいように間隔をあけて描いているが、実際には最小限の間隔で密集させている。上述したように露光処理で許容される光質の平行光を得るためには発光源の大きさに限度があるが、面発光素子2の大きさは1mm〜2mm角程度であり、数個ないし数十個集合させた発光源としても十分に実用上支障のない平行光を得ることが可能である。
(実施例2)
図4は、さらに高出力の平行光を得るため、この発明に基づいた実施例2における露光用光源の構成を示した図である。基板101に実装された複数の面発光素子102(説明の便宜上、図4には1個のみ示す)から発する光108を発光源として用い、この光108を該半導体面発光素子102に接近して配置したレンズ104に入射させる。また、基板101、半導体面発光素子102およびレンズ104から構成される光照射ユニット112を複数台設け、各光照射ユニット112から発する光109を、レンズ104と曲面ミラー105の中間位置に設けた照度を均一化するためのフライアイレンズ113に集光させ、フライアイレンズ113を通過した光110を曲面ミラー105に照射して平行光111に変えてフォトマスク106に照射する。フォトマスク106に照射された平行光111によってフォトマスク106に描かれたパターンを被露光基板107上に形成された感光膜に転写する露光を行なう。このように、図1に示した実施例における露光用光源に比べて少なくとも数倍の高出力露光用光源を実現することが出来る。
(実施例3)
図5は、さらに高出力の平行光を得るための他の実施例を示した図である。この実施例3で用いる光照射ユニット212は、上記図1から図3に示したものと同様の構成を有し、基板1、複数の面発光素子2、光学多角柱3、および、レンズ4から構成されている。図5には、複数の光照射ユニット212を便宜上複数の矩形で図示している。
図4に示す実施例2においては、フライアイレンズ113を用いていたが、本実施例では、複数の光照射ユニット212から直接曲面ミラー205に光210を照射し、曲面ミラー205によって平行光211に変えて、フォトマスク206、被露光基板207に光を照射している。本実施例では、図4に示す実施例2の構成におけるフライアイレンズ113が設けられる位置と略同じ位置に、複数の光照射ユニット212を配置していることから、光路を短くすることが可能となる。
図6および図7は、図5に示す実施例3の構成で使用される複数の光照射ユニット212の配置を示す一例である。複数の光照射ユニット212を用いて平行光を得る場合に、平行光の光質すなわち光の平行度、露光面に対する垂直度等の向上を図るためには、集合させた複数の光照射ユニット212の外接円213を小さくすることが好ましい。したがって、複数の光照射ユニット212を光照射方向と直交する円形内に密集させて配置させることが重要である。図7は、19台の光照射ユニット212を円形内に密集させて配置した図であるが、仮に略同じ数量の光照射ユニットを四角形に配置すれば、その外接円内には空きスペースが発生し外接円が大きくなり、平行光の光質を悪化させる原因となる。なお、複数の光照射ユニット212を円形内に密集させて配置した図7に示す構成は、多角形配置にも見えるが、円形内配置に包含されるものとする。
また、図6では、基板1を各光照射ユニット212ごとに設けているが、一体の基板上に面発光素子2を実装しても構わない。いずれの構成であっても、高出力を得るために面発光素子2は、基板1部分で水冷される構造が好ましい。さらに、複数の光照射ユニット212は、1つの支持部材に組み込まれることが、組立精度の向上と低価格化のために有効である。
(実施例4)
上記図6および図7に示した実施例3は、各光照射ユニットに用いられるレンズが、一般的な円形レンズであるが、レンズを四角形にした他の実施例を図8および図9に示す。図8は側面図で、各光照射ユニットが基板1に実装された面発光素子2、光学四角柱3A、レンズ群4A、および面発光素子2の冷却部7Aから構成されていることを示している。
図9は、レンズ群4Aの正面図で、四角形レンズが縦横各3枚、合計9枚の四角形レンズが、光照射方向と直交する方向に互いに密着して密集させて配置されている。すなわち、9台の光照射ユニットで構成された光源を表わしている。面発光素子2から発する光は、図6および図7で示した実施例と同様に、光学四角柱3A、レンズ群4Aを通って曲面ミラー(図示省略)に集光されて平行光に変えられ、露光面に照射される。なお、レンズ群4Aから曲面ミラーに集光される光を光10Aで示す。
この実施例4によれば、円形レンズよりもさらに各光照射ユニットを密集できるので、光の出射面積が小さくなり、高質の平行光を得ることが可能となる。また、レンズを互いに接着して一体化できるために、レンズの組立が円形レンズに比べて容易になる利点がある。
なお、本実施例では、レンズ群4Aを光軸方向に2枚のレンズで示しているが、光軸方向と直交する方向のレンズ9枚を含め、本実施例に基づき、レンズの枚数が制限されるものではない。また、レンズ群4Aに四角形レンズを用いた場合について示したが、六角形レンズを用いることによっても、同様の作用効果を得ることが可能である。
(実施例5)
次に、図10および図11は、2つの露光ステーション220a,220bを有する露光装置において、複数の光照射ユニット212の照射方向または照射位置を変えて、2つの露光ステーション220a,220bへ交互に光を照射する構成を示したものである。
図10は、複数の光照射ユニット212を、回転中心Cを中心にして回転させたもので、2つの露光ステーション220a,220bに光を交互に照射することを可能としている。図11は、複数の光照射ユニット212と曲面ミラー205との間に反転ミラー214を設け、反転ミラー214を回転させることにより、2つの露光ステーション220a,220bへ交互に光を照射する構成を示したものである。なお、反転ミラー214は、図11においては、平面ミラーを図示しているが、光路を短縮させたい場合には、曲面ミラーを用いることも可能である。
このように2つの露光ステーションを有する露光装置において、複数の光照射ユニット212の照射方向または照射位置を変えることによって、2つの露光ステーション220a,220bへ交互に光を照射するようにすれば、1つの光源で2つの露光ステーションに光を照射することができる。その結果、安価に露光装置を製作することが可能となる。
また、複数の光照射ユニットの全数から光を照射する方式と、任意に定めた数量の光照射ユニットからのみ光を照射する方式とを選択可能に設けることで、光照射ユニット全数からのみ光を照射する方式に比べて、照度を容易に調節することが可能となる。また、光を照射する光照射ユニット数を減らすことによって照度は低下するが、光出射面積が小さくなるので、平行光の光質が向上し、フォトマスクのパターンをより忠実に基板に転写することが可能となる。
また、従来用いられてきたランプは、ガラスで製造されているため破損しやすく、取付方向に制約があったが、面発光素子による光源は小型軽量で堅牢に製作できるので、取付方向は自由であり、回転や移動にも適している。また、ランプのように取り付け方向に制約がなく小型であるため、ランプ光源に比べ光路を短縮あるいは、簡素化することが容易であるため、信頼性の高い露光用光源を提供することができる。
また、上記各実施例において用いられる光学多角柱の少なくとも一端面を球面にしてレンズ作用を兼ねた光学多角柱を用いることも可能である。
以上、今回開示した上記実施の形態および実施例はすべての点で例示であって、限定的な解釈の根拠となるものではない。また、実施の形態および各実施例の構成を適宜組み合わせて、所望の構成からなる露光用光源を得ることが可能である。したがって、本発明の技術的範囲は、上記した実施の形態のみによって解釈されるのではなく、特許請求の範囲の記載に基づいて画定される。また、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
この発明に基づいた実施例1における露光用光源の構成を示す概念図である。 図1中のAで囲まれる領域の拡大図である。 図2中III−III線矢視図である。 この発明に基づいた実施例2における露光用光源の構成を示す概念図である。 この発明に基づいた実施例3における露光用光源の構成を示す概念図である。 実施例3における露光用光源に用いられる複数の光照射ユニットを示す図であり、図7中のVI−VI線矢視図である。 図6中のVII線矢視図である。 この発明に基づいた実施例4における露光用光源の構成を示す概念図(側面図)である。 この発明に基づいた実施例4における露光用光源に採用されるレンズ群の正面図である。 この発明に基づいた実施例5における露光用光源の第1の構成を示す概念図である。 この発明に基づいた実施例5における露光用光源の第2の構成を示す概念図である。
符号の説明
1,101 基板、2,102 面発光素子、3 光学多角柱、3A 光学四角柱、4,104 レンズ、4A レンズ群、5,105,205 曲面ミラー、6,106,206 フォトマスク、7,107,207 被露光基板、7A 冷却部、8,9,10,10A,108,109,110,210 光、11,211 平行光、113 フライアイレンズ、112,212 光照射ユニット、220a,220b 露光ステーション。

Claims (4)

  1. 平面状に集合させた複数の面発光素子を有する発光源と光学系とを用いて前記面発光素子から発する光を集光させて曲面ミラーに照射し、前記曲面ミラーによって平行光に変えて露光面に光を照射する、露光用光源であって、
    前記平面状に集合させた複数の面発光素子に対して、少なくとも1個の光学多角柱の端面を接近させて配置し、前記面発光素子から発する光を、前記光学多角柱に直接入射させ且つ該光学多角柱を通過させて照度を均一化したのち、レンズによって集光させて前記曲面ミラーに照射し、前記曲面ミラーによって平行光に変えて露光面に照射するようになされた、露光用光源。
  2. 前記平面状に集合させた複数の面発光素子と、前記光学多角柱と、前記レンズを有する光照射ユニットを複数台設け、前記複数の光照射ユニットから発する光を、前記曲面ミラーに照射して平行光に変えて露光面に光を照射する、請求項1に記載の露光用光源。
  3. 前記複数の光照射ユニットに用いられる前記レンズが四角形であり、前記複数の光照射ユニットに対応する複数の前記四角形レンズを光照射方向と直交する方向に互いに接着して密集させて配置した、請求項に記載の露光用光源。
  4. 記複数の光照射ユニットを回転させて光照射方向または照射位置を変えることにより2つの露光ステーションへ交互に光照射するようになされた、請求項2または3に記載の露光用光源。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009038255A (ja) * 2007-08-02 2009-02-19 San Ei Giken Inc 光源
TWI408511B (zh) * 2009-04-24 2013-09-11 E Way Technology Co Ltd Exposure machine and its exposure method
JP5355261B2 (ja) * 2009-07-07 2013-11-27 株式会社日立ハイテクノロジーズ プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光形成方法、及び表示用パネル基板の製造方法
JPWO2011096365A1 (ja) * 2010-02-05 2013-06-10 Nskテクノロジー株式会社 露光装置用光照射装置及びその点灯制御方法、並びに露光装置、露光方法及び基板
JP6057072B2 (ja) * 2013-03-22 2017-01-11 ウシオ電機株式会社 光源装置
JP2019101361A (ja) * 2017-12-07 2019-06-24 株式会社ユメックス スキャン式露光装置
JP2023009810A (ja) * 2021-07-08 2023-01-20 ウシオ電機株式会社 照明光学系および露光装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05249688A (ja) * 1992-03-09 1993-09-28 Asahi Optical Co Ltd 原版露光装置及び該装置の原版検査方法
JP3762091B2 (ja) * 1998-02-10 2006-03-29 キヤノン株式会社 近接場光リソグラフィー方法
JP4355384B2 (ja) * 1999-01-14 2009-10-28 キヤノン株式会社 パターン露光方法、露光装置、核酸アレイの形成方法及びペプチドアレイの形成方法
JP4472151B2 (ja) * 2000-10-19 2010-06-02 株式会社オーク製作所 照射光振分機構およびそれを備えた装置
JP2004207343A (ja) * 2002-12-24 2004-07-22 Nikon Corp 照明光源、照明装置、露光装置及び露光方法

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