JP4328320B2 - 露光用光源 - Google Patents
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Description
以下、この発明に基づいた露光用光源の実施例1について、図を参照して説明する。まず、図1および図2に従って説明すると、基板1に実装された複数の面発光素子2から発する光8を発光源として用い、この光8を該面発光素子2に接近して配置された光学多角柱3の端面から入射させ、光学多角柱3によって照度を均一化する。光学多角柱3の他の端面から出射する光9は、レンズ4によって集光させて曲面ミラー5に照射され、曲面ミラー5によって平行光11に変えられて、フォトマスク6に平行光11が照射される。フォトマスク6に照射された平行光11によってフォトマスク6に描かれたパターンを被露光基板7上に形成された感光膜に転写する露光を行なう。上記の構成において、光学多角柱3は1個でもよいが細い光学多角柱を束ねたものでもよい。また、図1において、レンズ4は1個として示しているが、複数枚を組み合わせてもよい。
図4は、さらに高出力の平行光を得るため、この発明に基づいた実施例2における露光用光源の構成を示した図である。基板101に実装された複数の面発光素子102(説明の便宜上、図4には1個のみ示す)から発する光108を発光源として用い、この光108を該半導体面発光素子102に接近して配置したレンズ104に入射させる。また、基板101、半導体面発光素子102およびレンズ104から構成される光照射ユニット112を複数台設け、各光照射ユニット112から発する光109を、レンズ104と曲面ミラー105の中間位置に設けた照度を均一化するためのフライアイレンズ113に集光させ、フライアイレンズ113を通過した光110を曲面ミラー105に照射して平行光111に変えてフォトマスク106に照射する。フォトマスク106に照射された平行光111によってフォトマスク106に描かれたパターンを被露光基板107上に形成された感光膜に転写する露光を行なう。このように、図1に示した実施例における露光用光源に比べて少なくとも数倍の高出力露光用光源を実現することが出来る。
図5は、さらに高出力の平行光を得るための他の実施例を示した図である。この実施例3で用いる光照射ユニット212は、上記図1から図3に示したものと同様の構成を有し、基板1、複数の面発光素子2、光学多角柱3、および、レンズ4から構成されている。図5には、複数の光照射ユニット212を便宜上複数の矩形で図示している。
上記図6および図7に示した実施例3は、各光照射ユニットに用いられるレンズが、一般的な円形レンズであるが、レンズを四角形にした他の実施例を図8および図9に示す。図8は側面図で、各光照射ユニットが基板1に実装された面発光素子2、光学四角柱3A、レンズ群4A、および面発光素子2の冷却部7Aから構成されていることを示している。
次に、図10および図11は、2つの露光ステーション220a,220bを有する露光装置において、複数の光照射ユニット212の照射方向または照射位置を変えて、2つの露光ステーション220a,220bへ交互に光を照射する構成を示したものである。
Claims (4)
- 平面状に集合させた複数の面発光素子を有する発光源と光学系とを用いて前記面発光素子から発する光を集光させて曲面ミラーに照射し、前記曲面ミラーによって平行光に変えて露光面に光を照射する、露光用光源であって、
前記平面状に集合させた複数の面発光素子に対して、少なくとも1個の光学多角柱の端面を接近させて配置し、前記面発光素子から発する光を、前記光学多角柱に直接入射させ且つ該光学多角柱を通過させて照度を均一化したのち、レンズによって集光させて前記曲面ミラーに照射し、前記曲面ミラーによって平行光に変えて露光面に照射するようになされた、露光用光源。 - 前記平面状に集合させた複数の面発光素子と、前記光学多角柱と、前記レンズとを有する光照射ユニットを複数台設け、前記複数の光照射ユニットから発する光を、前記曲面ミラーに照射して平行光に変えて露光面に光を照射する、請求項1に記載の露光用光源。
- 前記複数の光照射ユニットに用いられる前記レンズが四角形であり、前記複数の光照射ユニットに対応する複数の前記四角形レンズを光照射方向と直交する方向に互いに接着して密集させて配置した、請求項2に記載の露光用光源。
- 前記複数の光照射ユニットを回転させて光照射方向または光照射位置を変えることにより2つの露光ステーションへ交互に光照射するようになされた、請求項2または3に記載の露光用光源。
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