JP4472151B2 - 照射光振分機構およびそれを備えた装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に、両面露光装置に用いられる場合に都合がよく、光源部から照射された光を、一方と他方とに振分けるための照射光振分機構、および、それを有する装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、プリント回路基板等の製作に使用され、基板の両面を露光するための露光装置（以下、単に「露光装置」という。）として、種々の機構を有するものが提案されている。このような露光装置の基本的な構成は、一般に、光源部と、光源部から照射された光を基板に導く光学系と、該基板の露光が行なわれる露光処理部と、該基板の前記露光処理部への搬入および搬出を行なうための基板の搬送機構とを備えている。
【０００３】
このような露光装置に対する要求として、稼働率の向上と、ランニングコストの低減化とがある。このような要求を満たすために、特公平７−７８６３０号特許公報では、光源部から照射される光を平行光線とするための光学的手段と、角度が変更可能な反射鏡とを用いて、１個の光源部のみで基板の一面と他面とを露光処理することによって、稼働率と、ランニングコストをある程度、改善させた露光装置が開示されている。図３に、従来の１例の露光装置１１の構成を模式的に示す。
【０００４】
図３に示すように、前記露光装置１１は、基板Ｗ、ＷとマスクＭ１、Ｍ２とがそれぞれ垂直方向に保持された状態で露光処理が行なわれ、基板Ｗの一面を露光する第１露光処理部１７と、他面を露光する第２露光処理部２７とが装置ハウジング８０の左右両端部に位置し、マスク枠３０、３０に各々保持された各マスクＭ１、Ｍ２は対応する基板Ｗ、Ｗに対して内側に位置し、中央部付近に備えられた光源部１０から照射された光によって基板Ｗの露光処理が行なわれるように構成されている。
【０００５】
そして、基板Ｗ、Ｗは、各々、吸着板を有するホルダ６０に保持されて第１露光処理部１７と第２露光処理部２７との間を往復して、基板Ｗの一面と他面の露光処理が行なわれるようになっている。また、光源部１０およびこの光源部１０から照射された光を、第１露光処理部１７に導く第１光学経路、または第２露光処理部２７に導く第２光学経路に向けて反射して振分けるための反射鏡の角度（反射鏡２０Ａまたは２０Ｂ）を変更することが可能な照射光振分機構２０が備えられている。
【０００６】
このようにして、従来の露光装置１１は、前記反射鏡の角度を適宜に切り換えることによって、第１光学経路、または第２光学経路を通して、第１露光処理部１７、または第２露光処理部２７に向けて光を導き、基板Ｗの一面と他面の露光処理が別々に行なわれるように構成されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような露光装置１１においては、照射光振分機構２０に含まれる反射鏡の角度（反射鏡２０Ａ、または２０Ｂ）の切り換えが、該反射鏡を回転させることによって行なわれているため、該反射鏡の角度が比較的ずれ易く、このため適当な頻度で、該反射鏡の設定位置と、その設定位置における該反射鏡の角度とを更正する作業が必要とされた。また、前記反射鏡の角度を厳密に一定に再現することは比較的難しく、このため極めて安定な露光処理を保証するのが困難という問題点があった。
【０００８】
また、前記反射鏡は前記光源部の近傍に配置されているため、前記光源部から発生する熱を比較的受け易く、該反射鏡を冷却するための冷却機構が設けられている。しかしながら、前記反射鏡の角度の切り換えが、該反射鏡を回転させることによって行なわれる従来の照射光振分機構においては、該反射鏡と前記冷却機構との距離を、該反射鏡の回転半径より大きくしなければならず、このため該反射鏡の冷却効率の向上にはおのずから限界があった。したがって、このような従来の露光装置を、比較的長時間に渡って、連続的に稼動させた場合に、前記照射光振分機構の冷却が不充分となり易く、その結果として、前記反射鏡の温度が比較的高い温度まで上昇し、該反射鏡に形成された反射膜がはがれ易くなるという問題があった。
【０００９】
また、前記反射鏡の角度の切り換えが、該反射鏡を回転させることによって行なわれる従来の照射光振分機構においては、回転する際に発生する振動の影響によって、該反射鏡が破損する可能性を完全に拭い去ることはできなかった。さらに、前記反射鏡が紫外線を受けた累積時間が長くなると、該反射鏡を構成する蒸着物質が光化学的に変質するため、そこに振動と冷却不足とが相乗して、その蒸着物質が該反射鏡の基板から剥離し易くなるという問題があった。
【００１０】
したがって、本発明は前記した問題点に鑑み、光を反射させる反射鏡の角度のずれを防止する照射光振分機構、および、光源部から照射された光を所定の方向に振分けるための照射光振分機構を備え、光を反射させる反射鏡の角度のずれを防止し、かつ冷却機構を改善して反射鏡の劣化を防止することによって極めて安定な露光処理を行なうことができる装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
前記した課題を解決するために、本発明者等は、所定の２つの方向に光を反射させる照射光振分機構において、２枚の反射鏡の角度をそれぞれ一定に保持させたままいずれか一方の角度に切り換え、かつ該反射鏡の冷却効率を高める照射光振分機構について鋭意検討を行なった。
その結果、角度が一定の２枚の反射鏡を水平方向または垂直方向に移動させることによって、各々の反射鏡が光源部から照射された光を反射させる所定位置に配置させることができるとともに、各々の反射鏡に独立した冷却機構を設けて反射鏡の冷却効率を向上させることが可能なことをみいだし、本発明を創作するに至った。
【００１２】
すなわち、前記した課題を解決するための本発明の請求項１に係る照射光振分機構は、光源部から照射された紫外線を含む光を、反射させる複数枚の反射鏡と、これらの反射鏡の角度を、それぞれ所定角度に固定した状態で保持する保持部と、この保持部を所定位置に移動する移動手段と、を備えることを特徴とする。なお、露光装置に用いる場合には、照射光振分機構は、基板の一面と他面に、マスクを介して所定波長の光を照射して前記基板の両面を露光するための露光装置に用いられる照射光振分機構において、前記照射光振分機構は、光源部から照射された光を、反射させる反射鏡と、これらの反射鏡の角度を、それぞれ所定角度に固定した状態で保持する保持部と、この保持部を所定位置に移動する移動手段とを備える構成であることが好ましい。
【００１３】
請求項１のように構成すれば、前記照射光振分機構が前記光源部から照射された光を反射させる角度を常に一定に保持されて、安定した露光処理行なうことが可能となる。
さらに、前記照射光振分機構が水平方向または垂直方向に移動して前記反射鏡を所定位置に配置させるため、前記した従来の照射光振分機構が回転動作によって前記反射鏡を所定位置に配置させていたのに比べて、この照射光振分機構の周辺部からの発塵を低く抑えることができる。
なお、本発明にあっては、前記水平方向または垂直方向に移動する移動手段とは、水平面内で行なわれるｘ軸またはｙ軸方向の移動、およびｚ軸回りの回転（回転角：θ）移動、または垂直面内で行なわれるｚ軸方向の移動を含む。
【００１４】
請求項２に係る照射光振分機構は、請求項１に記載の照射光振分機構において、前記保持部が、前記移動手段により直線方向に移動することを特徴とする。
なお、請求項１において、前記照射光振分機構は、反射鏡を冷却するための冷却機構が設けられて構成されることであってもよい。
【００１５】
請求項２のように構成すれば、前記した効果に加えて、冷却効率をより高めることができて、前記反射鏡に形成された反射膜のはがれを可及的に低く抑えることが可能となる。
【００１６】
請求項３に係る装置は、光源部から照射された紫外線を含む光を第１光学経路または第２光学経路に向けて反射して振分ける照射光振分機構を備えた装置であって、前記照射光振分機構は、第１反射鏡と第２反射鏡と、これらの第１反射鏡および第２反射鏡を予め所定角度に固定した状態で保持する保持部と、を有し、前記保持部が所定位置に移動することにより、光源部から照射された紫外線を含む光が前記第１反射鏡に照射されると前記第１光学経路に向けて反射され、前記第２反射鏡に照射されると前記第２光学経路に向けて反射されることを特徴とするものである。
なお、装置として露光装置に用いる場合は、請求項１または請求項２に記載の照射光振分機構が備えられ、基板の一面と他面に、マスクを介して所定波長の光を照射して前記基板の両面を露光するための露光装置であって、前記照射光振分機構によって第１光学経路に振分けられた光を、前記基板の一面の露光処理が行なわれる第１露光処理位置に導く第１光学手段と、前記照射光振分機構によって第２光学経路に振分けられた光を、前記基板の他面の露光処理が行なわれる第２露光処理位置に導く第２光学手段と、前記基板を、各所定位置に搬送する搬送手段と、この搬送手段により搬送された基板とを位置決めし、前記第１光学手段を介して露光処理する第１露光処理部と、この第１露光処理部により、片面が露光処理された前記基板を反転して、前記搬送手段により搬送し、その搬送された基板を位置決めし、前記第２光学手段を介して露光処理する第２露光処理部とを備えることを特徴とする。
【００１７】
請求項３のように構成すれば、前記照射光振分機構が前記光源部から照射された光を反射させる角度を常に一定に保持されて、安定した露光処理行なうことができるとともに、冷却効率をより高められ、前記反射鏡に形成された反射膜のはがれを可及的に低く抑えることが可能な露光装置となる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
つぎに本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
なお、本発明のこの実施の形態のみに限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく限りにおいて、適宜に変更することが可能である。
【００１９】
［第１実施形態］
図１は、本発明に係る第１実施形態の露光装置を模式的に示す。図１に示すように、本発明に係る露光装置１は、基板Ｗ、ＷおよびマスクＭ１、Ｍ２が、それぞれホルダ６、１６に保持された状態で露光処理を行なうものであり、基板Ｗの一面を露光する第１露光処理部７と、基板Ｗの他面を露光する第２露光処理部７０とが、装置ハウジング８の内部に配置されている。
【００２０】
そして、マスク枠３１、３１に保持されたマスクＭ１、Ｍ２は、各々対応する基板Ｗの一面、基板Ｗの他面に対して外側に配置され、曲面反射鏡４１、４１からの光によって露光処理が行なわれるように構成されている。
【００２１】
《光学系》
次に、本発明に係る露光装置で行なわれる露光処理のための光学系を構成する各要素について説明する。
【００２２】
（光源部）
図１に示すように、装置ハウジング８の中央部付近には、露光用の光源である光源部１０が垂直に配置されている。この光源部１０は、特に限定されるものではなく、当該分野で従来公知である、所定の紫外線を含む光を照射することが可能な光源を用いることができる。このような光源としては、たとえば、低圧水銀灯、ロングアークランプ、ショートアークランプ、キセノンランプ、エキシマ・レーザ、銅蒸気レーザ等が挙げられる。
【００２３】
このような光源部１０によって照射された光は、照射光振分機構２によって、図１に示す第１光学経路、および第２光学経路に向けて選択的に振分けられて反射される。
【００２４】
（照射光振分機構）
本発明に係る露光装置に用いられる照射光振分機構は、とくに限定されるものではなく、光を所定方向に安定して導くことができるものであればよい。
【００２５】
このような照射光振分機構として、光源部から照射された光を反射させる反射鏡が所定の光学経路に対応して、予め所定角度に設定された２枚の反射鏡から構成されれば、比較的簡便かつ低コストで前記作用を実現させることができる。たとえば、図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示す照射光振分用反射鏡１３、１４、１５のうちのいずれか１つを本発明に係る照射光振分機構に適用することができ、必要に応じてこのような照射光振分用反射鏡１３、１４、１５を適宜に使い分けることができる。
【００２６】
図２（ａ）に示す照射光振分用反射鏡１３は、反射鏡１３Ａと反射鏡１３Ｂとが台座Ｓ１の上に配置され、さらに、これらの反射鏡１３Ａ、反射鏡１３Ｂの各々の側面の近傍部に冷却装置Ｃが設けられて構成されている。そして、互いに露光装置１の左右両端に向かう、互いに反対方向の第１光学経路および第２光学経路に向けて、光源部１０から照射された光を反射させるものである。
【００２７】
図２（ａ）では、反射鏡１３Ａ、１３Ｂが各々、台座Ｓ１に対して所要の角度αを有するように構成されている。なお、冷却装置Ｃからの送風によって反射鏡１３Ａ、１３Ｂを効率的に冷却するために、仮想線で示すように、適宜にこれらの反射鏡の下部が空洞となるように構成してもよい。さらに、必要に応じて、反射鏡１３Ａ、１３Ｂが、台座Ｓ１に対してなす角度αが、可変に設定できるように構成してもよい。
【００２８】
図２（ｂ）に示す照射光振分用反射鏡１４は、反射鏡１４Ａと反射鏡１４Ｂとが台座Ｓ２に対して角度βを有するように配置され、さらに、これらの反射鏡１４Ａ、反射鏡１４Ｂの各々の側面の近傍部に冷却装置Ｃが設けられて構成されている。そして、互いに露光装置１の内側に向けて交差する方向の第１光学経路および第２光学経路に向けて、光源部から照射された光を反射させるものである。
【００２９】
なお、該照射光振分用反射鏡１４においても、図２（ａ）に示す照射光振分用反射鏡１３と同様に、冷却装置Ｃからの送風によって反射鏡１４Ａ、１４Ｂを効率的に冷却するために、仮想線で示すように、適宜にこれらの反射鏡の下部が空洞となるように構成してもよい。さらに、該照射光振分用反射鏡１４においても、図２（ａ）に示す照射光振分用反射鏡１３と同様に、必要に応じて、反射鏡１４Ａ、１４Ｂが、台座Ｓ２に対してなす角度βが、可変に設定できるように構成してもよい。
【００３０】
図２（ｃ）に示す照射光振分用反射鏡１５は、反射鏡１５Ａと反射鏡１５Ｂとが台座Ｓ３に対して角度γを有するよう配置され、さらにこれらの反射鏡１５Ａ、反射鏡１５Ｂの各々の側面の近傍部に冷却装置Ｃが設けられて構成されている。そして、互いに露光装置の外側に向けて平行方向の第１光学経路および第２光学経路に向けて、光源部から照射された光を反射させる機能を有するものである。
【００３１】
なお、該照射光振分用反射鏡１５においても、図２（ａ）、（ｂ）に各々示す照射光振分用反射鏡１３、１４と同様に、冷却装置Ｃからの送風によって反射鏡１５Ａ、１５Ｂを効率的に冷却するために、仮想線で示すように、適宜にこれらの反射鏡の下部が空洞となるように構成してもよい。さらに、該照射光振分用反射鏡１５においても、図２（ａ）、（ｂ）に各々示す照射光振分用反射鏡１３，１４と同様に、必要に応じて、反射鏡１５Ａ、１５Ｂが、台座Ｓ３に対してなす角度γが、可変に設定できるように構成してもよい。
【００３２】
本発明に係る露光装置１に含まれる照射光振分機構２で行なわれる反射鏡の所定角度の設定は、図１に示すように、光源部１０から照射された光を第１光学系に向けて反射する反射鏡２Ａ（１３Ａ、１４Ａ、１５Ａ）の位置と、該光を第２光学系に向けて反射する反射鏡２Ｂ（１３Ｂ、１４Ｂ、１５Ｂ）の位置とを水平方向（ｘ軸、またはｙ軸方向）に移動させることによって、反射鏡２Ａまたは２Ｂを所定位置に設定して切り換えることができる。なお、図１では、照射光振分機構２が、反射鏡２Ａまたは反射鏡２Ｂの切り換えを水平方向（ｘ軸、またはｙ軸方向）に移動して行なう場合について示したが、本発明はこのような実施の形態のみに限定されるものではない。
【００３３】
たとえば、図１に示す照射光振分機構２を垂直方向（ｚ軸方向）回りに回転移動して、反射鏡２Ａまたは反射鏡２Ｂの切り換えを行なうように構成したり、あるいは、光源部１０から照射された光を水平方向に導く光学系を設けて、この光学系からの光を照射光振分機構によって垂直方向（ｚ軸方向）に導くようにし、この照射光振分機構に含まれる２つの反射鏡の切り換えを、垂直方向（ｚ軸方向）の移動、または、水平方向（ｘ軸、またはｙ軸方向）あるいは垂直方向の回りの回転移動によって行なうように構成したりすることもできる（ここでは、ｘ軸方向、ｙ軸方向、ｚ軸方向を「直線方向」という。）。
【００３４】
このように、照射光振分機構２の駆動方式を水平方向または垂直方向の動作とすることによって、前記従来の照射光振分機構２０の駆動方式が回転動作のみであったのに比べて、渦巻き状の気流の発生を防ぐことができるため、本発明に係る照射光振分機構２では発塵をより低く抑えることが可能となる。
【００３５】
なお、台座Ｓ１（Ｓ２、Ｓ３）を移動させるための移動機構（図示せず）は、図１に示す反射鏡２Ａ、２Ｂを所要の精度で移動させることができるものであれば、特に限定されるものではない。このような移動機構としては、ＬＭガイドや送りネジを駆動するためのサーボモータあるいはステッピングモータ等を備えて構成される。さらに、このような移動機構は、光源から照射された光が直接当たらないように、台座Ｓ１（Ｓ２、Ｓ３）の下部に配設されるか、カバー体（図示せず）により遮蔽された状態にあることが望ましい。
【００３６】
そして、光源部１０から照射された光を、第１光学系に向けて選択的に振分けて反射する場合には、照射光振分機構２に備えられた図示しない駆動機構によって、照射光振分機構２が図１の右側の所定位置に向けて移動し、この光を図１の左側に位置する第１光学手段に含まれる光学調整手段３に向けて反射させるようにする。
【００３７】
また、光源部１０から照射された光を、第２光学系に向けて選択的に振分けて反射する場合には、照射光振分機構２に備えられた図示しない駆動機構によって、照射光振分機構２が図１の左側の所定位置に向けて移動し、この光を図１の右側に位置する第２光学手段に含まれる光学調整手段３に向けて反射させる。
【００３８】
このように構成される照射光振分機構２は、図１に示すように、光源部１０から照射された光を、第１光学経路、および第２光学経路に向けて反射させる反射鏡２Ａ、２Ｂが互いに独立して設けられているので、反射鏡２Ａ、２Ｂを、独立して冷却することができる。これよって、反射鏡２Ａ、２Ｂの表面に蒸着等によって形成された鏡面を構成する膜の膜はがれを可及的に防止することが可能となる。
【００３９】
なお、図２の（ｂ）、（ｃ）に示す照射光振分用反射鏡１４、１５を、本発明に係る露光装置に適用する場合にも、前記した照射光振分機構２と同様にして、それぞれの照射光振分機構を水平方向または垂直方向に移動させて、それぞれの照射光振分機構が有する反射鏡を所定の位置に配置させるものである。
【００４０】
《冷却機構》
図２の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示す照射光振分用反射鏡１３、１４、１５にあっては、光源部１０から照射された光を、第１光学経路、および第２光学経路に向けて反射させる各々の反射鏡１３Ａおよび１３Ｂ、反射鏡１４Ａおよび１４Ｂ、または反射鏡１５Ａおよび１５Ｂが互いに独立して設けられており、しかも、これらの反射鏡１４Ａおよび１４Ｂ、または反射鏡１５Ａおよび１５Ｂを、後記する冷却装置によって効率的に冷却することができる。これよって、反射鏡１３Ａおよび１３Ｂ、反射鏡１４Ａおよび１４Ｂ、または反射鏡１５Ａおよび１５Ｂの表面に蒸着等によって形成された鏡面を構成する膜の膜はがれを可及的に防止することが可能となる。
【００４１】
本発明に係る露光装置に用いられる冷却装置Ｃは、図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示すように、反射鏡１３Ａおよび１３Ｂ、反射鏡１４Ａおよび１４Ｂ、または反射鏡１５Ａおよび１５Ｂの近傍部に配置して設けることが可能である。すなわち、本発明に係る照射光振分機構にあっては、前記したように互いに異なる角度に配置されて成る複数の反射鏡が、たとえば同一の台座上に固定された照射光振分用反射鏡を備え、このように構成される照射光振分用反射鏡を水平方向または垂直方向に移動させることによって前記反射鏡の角度を切り換え行なうため、冷却装置Ｃを反射鏡１３Ａおよび１３Ｂ、反射鏡１４Ａおよび１４Ｂ、または反射鏡１５Ａおよび１５Ｂの近傍部に配置させることが可能となる。
【００４２】
このような冷却装置Ｃは、一定の冷却効率に保持されるために、図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示すように、反射鏡１３Ａおよび１３Ｂ、反射鏡１４Ａおよび１４Ｂ、または反射鏡１５Ａおよび１５Ｂと同一の台座Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３上の所定位置に固設されることが好ましい。
【００４３】
そして、冷却装置Ｃからの送風によって、反射鏡１３Ａおよび１３Ｂ、反射鏡１４Ａおよび１４Ｂ、または反射鏡１５Ａおよび１５Ｂをより効率的に冷却するために、図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の仮想線で示すように、適宜にこれらの反射鏡の下部が空洞となるように構成してもよい。さらに、必要に応じて、反射鏡１３Ａおよび１３Ｂ、反射鏡１４Ａおよび１４Ｂ、または反射鏡１５Ａおよび１５Ｂが、各々の台座Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３に対してなす角度、α、β、γを、可変に設定できるように構成することも可能である。
【００４４】
本発明に係る冷却機構に用いられる冷却装置Ｃと反射鏡１３Ａおよび１３Ｂ、反射鏡１４Ａおよび１４Ｂ、または反射鏡１５Ａおよび１５Ｂとの距離は、とくに限定されるものではなく、照射光振分機構の動作を阻害することなく、かつ反射鏡１３Ａおよび１３Ｂ、反射鏡１４Ａおよび１４Ｂ、または反射鏡１５Ａおよび１５Ｂに接触しないような条件を満たすものであればよい。また、このような冷却装置Ｃは、当該分野で従来公知の冷却装置をそのまま適用することができる。
【００４５】
本発明に係る露光装置にあっては、露光処理の分解能をより高めるために、照射光振分機構２から出射された光が、第１光学手段、または第２光学手段に含まれる、所定の照度分布を有する光を形成させる光学調整手段３，３に入射される。この光学調整手段３，３は、当該分野で従来公知の集束光学系および偏光光学系の両方、またはいずれか一方で構成されている。
【００４６】
そして、前記照射光振分機構２から出射された光は、光学調整手段３、３によって、所定の照度分布および所定の偏光、の両者またはいずれか一方を有する光に形成された後、第１光学手段、および第２光学手段の各々に含まれる平面反射鏡Ｘ１、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ２、および曲面反射鏡４１によって反射され、マスクＭ１，Ｍ２を介して基板Ｗに照射される。これらの平面反射鏡Ｘ１、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ２、および曲面反射鏡は、いずれも角度が一定に固定されている。そのため、光学調整手段を経由して導かれた光を、より安定して、マスクＭ１、Ｍ２を介して、基板Ｗ、Ｗに照射させることができる。なお、図１に示す第１光学経路および第２光学経路は、互いに同じ光学系の要素を含んでいるのでそれらを同時に説明する。
【００４７】
（光学調整手段）
本発明に係る露光装置に用いられる光学手段に含まれる光学調整手段は、光源部１０から照射された光を調整して所望の照度分布を有する光、または所望の照度分布と偏光（直線偏光、楕円偏光、円偏光など）を有する光に整形するものであって、集束光学系のみ、または、集束光学系および偏光光学系から構成される。
【００４８】
前記集束光学系は、必要に応じて、当該分野で従来公知のフライアイレンズ、および、シリンドリカルレンズの両方、またはいずれか一方で構成することができる。
【００４９】
前記偏光光学系は、コストと効率とを調和させる観点から、当該分野で従来公知の柱体偏光プリズムを用いると都合がよい。
【００５０】
このように、光源部１０から照射された光は、光学調整手段３、３によって所望の照度分布や偏光を有する光に調整された後、平面反射鏡Ｘ１、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ２によって反射され、さらに、比較的大形の曲面反射鏡４１、４１に入射され、これによって最終的に平行光線とされ、第１露光処理部７、および第２露光処理部７０のそれぞれに送られる。
【００５１】
前記した光源部１０から光学調整手段３、３（フライアイレンズ、シリンドリカルレンズ、柱体偏光プリズムなどを含む）に至る光学系の要素は、装置ハウジング８の内部に収納され、余分な光が外部に漏れないようにされる。さらに、より好ましくは、第１光学経路に含まれる平面反射鏡Ｘ１、Ｘ２と、光学調整手段３、３（フライアイレンズ、シリンドリカルレンズ、柱体偏光プリズムなどを含む）との間、および、第２光学経路に含まれる平面反射鏡Ｘ１、Ｘ２と光学調整手段３、３（フライアイレンズ、シリンドリカルレンズ、柱体偏光プリズムなどを含む）との間、あるいは、光源部１０から光が照射される出射部（図示省略）には、図示しない開閉可能なシャッタ機構が設けられる。
【００５２】
図１に示す露光装置１において、第１露光処理部７にある基板Ｗに対して露光処理を施すときは、照射光振分機構２が矢印に沿って図１の右側方向に移動して、光源部１０の下部に設けられた図示しないシャッタ機構が開かれ、光源部１０から照射された光を図１の左側の光学調整手段３に向けて反射させ、光源部１０からの光が第１露光処理部７に与えられる。このとき、第２露光処理部７０に余分な光が漏れないように、図示しないシャッタ機構は閉じられた状態にある。
【００５３】
他方、第２露光処理部７０にある基板Ｗに対して露光処理を施すときには、照射光振分機構２が矢印に沿って図１の左側方向に移動して、光源部１０の下部に設けられた図示しないシャッタ機構が開かれ、光源部１０から照射された光を図１の右側の光学調整手段３に向けて反射させ、図示しないシャッタ機構が開かれ、基板Ｗに光源部１０からの光が第２露光処理部７０に与えられる。このとき図示しないシャッタは閉じられた状態にある。
【００５４】
《搬送系》
基板Ｗ、Ｗはそれぞれ、真空ポンプに連通されたホルダ６、１６の吸着面６ａ、６０ａに受け渡された後、基板Ｗ、Ｗと吸着面６ａ、６０ａとの間を負圧の状態に形成し、密着して保持される。そして、第１露光機構９、第２露光機構９０に各々含まれるホルダ６、１６は、図１の紙面に対して垂直方向に移動して、基板Ｗ、Ｗの搬入、または搬出を行なうための待機ステーション（図示省略）と、第１露光処理部７および第２露光処理部７０との各々の間で、同一直線上を往復するように構成されている。
【００５５】
なお、図１に示す本発明の第１実施形態では、前記第１露光処理部で基板の一面を露光処理した後、この基板を当該搬送系で反転させて第２露光処理部に搬送し、前記第２露光処理部でこの基板の他面を露光処理するように構成したものであるが、本発明はこのような搬送系のみに限定されるものではなく、ハンドラ等の焼枠とは別体に設けられた搬送系を用いる場合、あるいはこの基板を反転させる反転機を用いる場合等、本発明の効果を奏する限りにおいて、適宜に変形することが可能である。
【００５６】
また、第１露光機構９、および第２露光機構９０、各々における基板への異物の付着を低く抑えるためには、基板Ｗ、ＷおよびマスクＭ１、Ｍ２が、それぞれホルダ６、１６に垂直に保持された状態で露光処理が行なわれるように構成することが好ましい。
【００５７】
このように、本発明に係る露光装置１にあっては、基板Ｗ、Ｗの移動が同一直線上を往復するように構成されているので、基板Ｗ、Ｗのホルダ６、１６の移動時間をより短くすることができ、基板Ｗ、Ｗの露光処理のタクトタイムを一層短くすることが可能となる。しかも、基板Ｗ、Ｗの搬送を行なうホルダ６、１６が接続される駆動系の構成をより簡素化することが可能となるので、露光装置１の製造コストを低く抑えることが可能となる。
【００５８】
［第２実施形態］
以上、本発明の好適な露光装置の構成を、前記第１実施形態を用いて説明したが、本発明はこのほかにも、従来の露光装置の構成に対しても適用することが可能である。
【００５９】
たとえば、前記した図３に示す従来の露光装置１１に、本発明に係る照射光振分機構を適用することができる。すなわち、図３に示す従来の露光装置１１に含まれる照射光振分機構２０を、図２（ｃ）に示すような本発明に係る照射光振分機構に置き換えて適用することが可能である。このように構成すれば、光源部１０から照射された光を反射させる反射鏡の角度を切り換える作業が、この照射光振分機構２０を回転軸（図３に示す１点鎖線）を中心にして回転させることによって行なわれていたのに対し、照射光振分機構を水平方向または垂直方向に移動させて行なうことができるようになるので、前記反射鏡の角度が常に一定に固定されるようになり、露光処理が一層安定して行なわれるようになる。このように、本発明は、従来の前記露光装置に適用することができる。
【００６０】
以上、本発明の好ましい実施の形態について説明したが、本発明に係る露光装置はこのような実施の形態のみに限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく限りにおいて、適宜に変更することが可能である。たとえば、本発明に係る露光装置は、当該分野の当業者であれば容易に実現可能である、周辺機器と接続して構成することができるとともに、コンピュータシステムに設定された所定プログラムに基づいて自動的に露光処理を行なうように構成することができる。
【００６１】
【発明の効果】
以上説明した通りに構成される本発明は、以下ような効果を奏する。
本発明の請求項１によれば、前記照射光振分機構が前記光源部から照射された光を反射させる角度を常に一定に保持されて、安定した露光処理を行なうことができる。さらに、前記照射光振分機構が水平方向または垂直方向に移動して前記反射鏡を所定位置に配置させるため、前記した従来の照射光振分機構が回転動作によって前記反射鏡を所定位置に配置させていたのに比べて、この照射光振分機構の周辺部からの発塵を低く抑えることができる。
【００６２】
本発明の請求項２によれば、前記した効果に加えて、冷却効率をより高めることができて、前記反射鏡に形成された反射膜のはがれを可及的に低く抑えることができる。
【００６３】
本発明の請求項３によれば、前記照射光振分機構が前記光源部から照射された光を反射させる角度を常に一定に保持されて、安定した露光処理行なうことができるとともに、冷却効率をより高められ、前記反射鏡に形成された反射膜のはがれを可及的に低く抑えることができる露光装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る第１実施形態の露光装置の構成を模式的に示した正面図である。
【図２】本発明に係る露光装置に適用される、照射光振分機構の例を模式的に示した斜視図である。
【図３】従来の１例の露光装置の構成を模式的に示した正面図である。
【符号の説明】
１ 露光装置
２ 照射光振分機構
２Ａ，２０Ａ，２Ｂ，２０Ｂ 反射鏡
３ 光学調整手段
１３，１４，１５ 照射光振分機構に用いられる照射光振分用反射鏡
１３Ａ，１３Ｂ，１４Ａ，１４Ｂ，１５Ａ，１５Ｂ 反射鏡
４ 第１光学手段
５ 第２光学手段
６，１６，６０ ホルダ
６ａ 吸着板
６０ａ 吸着板
７，１７ 第１露光処理部
７０，２７ 第２露光処理部
８，８０ 装置ハウジング
９ 第１露光機構
９０ 第２露光機構
１０ 光源部
Ｃ 冷却装置
Ｍ１ 第１露光処理部に備えられたマスク
Ｍ２ 第２露光処理部に備えられたマスク
３０，３１ マスク枠
Ｘ１，Ｘ２ 平面反射鏡
４１ 曲面反射鏡
Ｗ 基板

Claims (4)

1. 光源部から照射された紫外線を含む光を、反射させる複数枚の反射鏡と、これらの反射鏡の角度を、それぞれ所定角度に固定した状態で保持する保持部と、この保持部を所定位置に移動する移動手段と、を備えることを特徴とする照射光振分機構。
2. 前記保持部は、前記移動手段により直線方向に移動することを特徴とする請求項１に記載の照射光振分機構。
3. 光源部から照射された紫外線を含む光を第１光学経路または第２光学経路に向けて反射して振分ける照射光振分機構を備えた装置であって、
   前記照射光振分機構は、第１反射鏡と第２反射鏡と、
   これらの第１反射鏡および第２反射鏡を予め所定角度に固定した状態で保持する保持部と、を有し、
   前記保持部が所定位置に移動することにより、光源部から照射された紫外線を含む光が前記第１反射鏡に照射されると前記第１光学経路に向けて反射され、前記第２反射鏡に照射されると前記第２光学経路に向けて反射されることを特徴とする照射光振分機構を備えた装置。
4. 請求項１又は請求項２に記載の照射光振分機構を備え、基板の両面を露光する装置であって、
   前記照射光振分機構によって第１光学経路に振分けられた光を、前記基板の一面の露光処理が行なわれる第１露光処理位置に導く第１光学手段と、
   前記照射光振分機構によって第２光学経路に振分けられた光を、前記基板の他面の露光処理が行なわれる第２露光処理位置に導く第２光学手段と、
   前記第１光学手段を介して前記基板の一面を露光処理する第１露光処理部と、
   前記第２光学手段を介して前記基板の他面を露光処理する第２露光処理部と、を備えることを特徴とする照射光振分機構を備えた装置。

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