JP3214540B2 - レーザ加工機 - Google Patents

レーザ加工機

Info

Publication number
JP3214540B2
JP3214540B2 JP27438895A JP27438895A JP3214540B2 JP 3214540 B2 JP3214540 B2 JP 3214540B2 JP 27438895 A JP27438895 A JP 27438895A JP 27438895 A JP27438895 A JP 27438895A JP 3214540 B2 JP3214540 B2 JP 3214540B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beam
laser
emitted
polarized light
circularly polarized
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP27438895A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH09108880A (ja
Inventor
達哉 森池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Alps Electric Co Ltd filed Critical Alps Electric Co Ltd
Priority to JP27438895A priority Critical patent/JP3214540B2/ja
Publication of JPH09108880A publication Critical patent/JPH09108880A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3214540B2 publication Critical patent/JP3214540B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/72Repair or correction of mask defects

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜精密加工に好適な
レーザ加工機に関する。
【0002】
【従来の技術】近時、YAGレーザ加工機によって薄膜
精密加工を行う技術が確立され、例えば液晶表示素子を
製造する際に必要なカラーフィルタや透明電極のトリミ
ング加工が極めて簡単且つ確実に行える等、高精度で微
細な加工が要求される各種分野において、かかるレーザ
加工機を用いることにより加工時間の短縮や加工精度の
向上、設備費の削減等が推進できるものと、大いに注目
されている。
【0003】さて、この種のレーザ加工機は通常、レー
ザ発振器から供給されたレーザビーム(YAGレーザ)
を光学系により所定の光路に沿って導いて被加工物に照
射させる加工機本体と、搭載した被加工物をリニアモー
タ等により互いに直交する2方向へ移送可能なXYテー
ブルと、これら加工機本体およびXYテーブルを載置し
たベース盤(定盤)とを備えて概略構成され、振動の影
響を排除するためにベース盤は除振台上に設置されるこ
とが多い。ここで、前記光学系には、拡散防止レンズや
収束レンズ、対物レンズ等のレンズ群に加えて、所定の
大きさの光透過光を有するアパーチャが配設されてお
り、レーザ発振器から供給されたレーザビームは該アパ
ーチャを通過することによってビーム形状が成形される
ので、光路の先端部に位置する前記対物レンズから被加
工物に向けて、所定のビーム形状のレーザ光がスポット
状に照射されるようになっている。なお、アパーチャに
入射されるレーザビームの光軸まわりのエネルギー分布
は、光軸から離れるにつれて光エネルギーが正規分布曲
線に従い低下するという特性を有するが、このレーザビ
ームの光軸をアパーチャの光透過光の中心に合致させる
ことにより、該アパーチャを通過するとレーザビームは
不要な低エネルギー部分がカットされることになって、
前記対物レンズから出射されるビームスポットを所望の
パワー(エネルギーレベル)に設定することが可能とな
る。
【0004】このように概略構成されるレーザ加工機
は、XYテーブルを駆動制御して被加工物を水平面内で
移動させることができるので、前記ビームスポットに対
して、この被加工物を所定の軌跡で移動させることによ
り、ビーム照射による所望の加工パターンが被加工物に
描画できるようになっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種のレ
ーザ加工機を使用して、例えば液晶表示素子のカラーフ
ィルタのレーザトリミング加工を行えば、カラーフィル
タの周囲に遮光膜(ブラックマトリクス)が簡単に形成
できてコストダウンの向上が図れるが、このように微細
なトリミング加工において、従来のレーザ加工機はトリ
ミング幅に寸法誤差やばらつきが生じやすいという不具
合があり、例えば上述したカラーフィルタのレーザトリ
ミング加工ではマトリクス状の遮光膜の幅寸法が不均一
になりやすいので、良好な表示品位が得にくかった。
【0006】その理由について簡単に述べると、この種
のレーザ加工機にはレーザビームの光路中にビーム形状
を成形するためのアパーチャが設置されていて、このア
パーチャの光透過孔をレーザビームの高エネルギー部分
が通過するように光学系が設計されてはいるが、アパー
チャに入射されるレーザビームは光軸まわりのエネルギ
ー分布が正規分布なので、その光軸と前記光透過孔の中
心とが僅かにずれていても、レーザビームの低エネルギ
ー部分がアパーチャから出射されてしまうという現象が
起こりやすくなる。特に、レーザ発振器から供給される
レーザビームを予め複数本の分割ビームに分割し、これ
らの分割ビームをアパーチャの各光透過孔に通過させて
ビーム形状を成形する場合、各分割ビームの光軸と各光
透過孔の中心とが僅かにずれているだけで、対物レンズ
から被加工物に向けて照射される全てのビームスポット
の光軸まわりのエネルギー分布に局所的なむらを生じ
て、レーザビームの低エネルギー部分が照射される個所
では満足なレーザ加工が行えなくなってしまう。
【0007】本発明はかかる従来技術の課題に鑑みてな
されたもので、その目的は、被加工物に照射されるビー
ムスポットの光エネルギーに局所的なむらがなく、微細
な加工に好適なレーザ加工機を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明は、レーザビームを発振するレーザ発振器
と、前記レーザビームを所定の光路に沿って導く光学系
とを備え、この光学系に少なくとも、前記レーザ発振器
から出射されるレーザビームの直線偏光を円偏光に変換
する第1の位相差と、この第1の位相差から出射さ
れる円偏光を2方向へ向かう直線偏光に分割する第1の
ビームスプリッタと、この第1のビームスプリッタから
出射される2本の直線偏光をそれぞれ円偏光に変換する
一対の第2の位相差と、これら第2の位相差から出
射される円偏光のレーザビームの光軸まわりのエネルギ
ー分布をそれぞれ高エネルギー領域が拡大されるマルチ
モードに変換する一対のモード変換部材と、これらモー
ド変換部材から出射される円偏光をそれぞれ2方向へ向
かう直線偏光に分割して計4本の分割ビームを出射する
第2のビームスプリッタと、これら第2のビームスプリ
ッタから出射される分割ビームを透孔から通過させてビ
ーム形状を成形するビーム成形部材と、このビーム成形
部材から出射されるレーザビームを被加工物に向けてス
ポット状に照射する対物レンズとを配設した。なお、前
記モード変換部材の具体例としては、光ファイバが好適
である。
【0009】
【作用】レーザ加工機の光学系に、レーザ発振器から出
射されるレーザビームの直線偏光を円偏光に変換する第
1の位相差と、この第1の位相差から出射される円
偏光を2方向へ向かう直線偏光に分割する第1のビーム
スプリッタと、この第1のビームスプリッタから出射さ
れる2本の直線偏光をそれぞれ円偏光に変換する一対の
第2の位相差と、これら第2の位相差から出射され
る円偏光をそれぞれ2方向へ向かう直線偏光に分割して
計4本の分割ビームを出射する第2のビームスプリッタ
とを設ければ、簡単な構成で4本の分割レーザビームが
発生できると共に、第1および第2の位相差によって
4本の直線偏光(分割ビーム)のパワーのばらつきを調
整することができる。さらに、前記光学系における一対
の第2の位相差と第2のビームスプリッタとの間に、
各第2の位相差から出射される円偏光のレーザビーム
の光軸まわりのエネルギー分布をそれぞれ高エネルギー
領域が拡大されるマルチモードに変換する一対のモード
変換部材を設けたため、これらモード変換部材に入射さ
れた2本のレーザビームは、それぞれシングルモードが
マルチモードに変換された状態で出射される。つまり、
これらレーザビームは、光軸まわりのエネルギー分布曲
線がトップハット形に変換された状態、さらに換言する
なら光軸を中心とする高エネルギー領域の面積を拡大さ
せた状態で、モード変換部材から出射されることにな
る。したがって、かかるモード変換部材から出射された
2本のレーザビームを第2のビームスプリッタによって
4本の分割ビームに分割し、これら分割レーザビームを
ビーム成形部材となるアパーチャに入射させるように構
成しておけば、このレーザビームの光軸と該アパーチャ
の光透過光の中心とが極端な位置ずれを起こしていない
限り、該アパーチャを通過してビーム形状が成形される
のはレーザビームの高エネルギー部分のみであり、それ
ゆえ、光軸まわりのエネルギー分布がほぼ均一なビーム
スポットを被加工物に照射させることのできる光学系が
得られ、レーザビームの低エネルギー部分の照射に起因
する加工精度の劣化を回避することができる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例を図1ないし図11に
基づいて説明する。
【0011】ここで、図1は本実施例に係るレーザ加工
機に組み込んだXYテーブルの正面図、図2は一部を図
示省略した該XYテーブルの側面図、図3は該XYテー
ブルを含むレーザ加工機の全体側面図、図4は該レーザ
加工機を覆う安全カバーの図3に対応する個所の側面
図、図5は該レーザ加工機でレーザビームの光路に配設
されている光学系のレイアウトを示す説明図、図6は該
レーザ加工機のレーザ発振器を示す説明図、図7は図6
に示すレーザ発振器に消磁カバーを取り付けた状態を示
す平面図、図8は該レーザ加工機のビーム照射部を示す
説明図、図9は図5に示す光学系で光ファイバから出射
されるレーザビームの光軸まわりのエネルギー分布を示
す特性図、図10は該レーザ加工機を用いてカラーフィ
ルタのトリミング加工を行う液晶表示素子の製造方法を
示す工程説明図、図11は図10に示す製造過程におい
てカラーフィルタをレーザトリミングする工程を示す説
明図である。
【0012】本実施例に係るレーザ加工機は、図3に示
すように、レーザ発振器5から供給されたレーザビーム
(YAGレーザ)をレンズ群やビームスプリッタ等から
なる光学系で導いて被加工物に照射させる加工機本体1
と、搭載した被加工物をリニアモータにより互いに直交
する2方向へ移送可能なXYテーブル2と、これら加工
機本体1およびXYテーブル2を載置した定盤(ベース
盤)3と、この定盤3を載置した除振台4とによって概
略構成されており、図3に鎖線で示すカバーフレーム6
を支持枠とする安全カバー7(図4参照)が、このレー
ザ加工機や真空ポンプ8等を覆っている。なお、図1中
の符号21は加工機本体1を載置している光学定盤を示
しており、この光学定盤21は支柱22を介して定盤3
に支持されている。
【0013】そして、このレーザ加工機に組み込んだX
Yテーブル2は、上面に多数開設した吸着孔を介して空
気を吸引することにより搭載した被加工物を吸着固定す
ることができる吸着テーブル9と、この吸着テーブル9
の底面中央部に開設されている軸穴に円柱状の支軸10
aを挿入して該吸着テーブル9を回動可能に支持するX
テーブル10と、このXテーブル10を摺動自在に支持
する一対の平行なX軸レール部11aを両側縁に設けて
なる断面形状が凹状の支持台11と、この支持台11の
内側に設置され前記X軸レール部11aに沿ってXテー
ブル10を往復直線移動させるX軸リニアモータ12
と、Xテーブル10の位置データを検出するX軸リニア
エンコーダ13と、支持台11を載置したYテーブル1
4と、前記X軸レール部11aと直交する方向に延びて
Yテーブル14を摺動自在に支持する3本のY軸レール
15,16と、これらY軸レール群15,16に沿って
Yテーブル14を往復直線移動させるY軸リニアモータ
17と、Yテーブル14の位置データを検出するY軸リ
ニアエンコーダ18とによって主に構成されている。た
だし、Xテーブル10と各X軸レール部11a間、およ
びYテーブル14と各Y軸レール15,16間にはそれ
ぞれ、テーブル側に設けたエアーノズルから圧縮空気を
吹き出すことによりエアーギャップが形成され、これら
のエアーギャップで摩擦力を低減することにより、被加
工物がX軸方向およびY軸方向へ円滑に移送できるよう
になっている。
【0014】なお、図1において、符号3aはY軸レー
ル群15,16の各底部を挿入して幅方向に位置決めす
るために定盤3の上面に設けた取付溝を示し、符号17
a,17b,17cはそれぞれY軸リニアモータ17を
構成するコイルと磁石とヨークを示し、符号18a,1
8bはそれぞれY軸リニアエンコーダ18を構成する光
素子等の検出部と目盛部(リニアスケール)を示してい
る。また、図2において、符号10bはXテーブル10
のエアー吹き出し面を示し、符号12a,12b,12
cはそれぞれX軸リニアモータ12を構成するコイルと
磁石とヨークを示し、符号13a,13bはそれぞれX
軸リニアエンコーダ13を構成する光素子等の検出部と
目盛部(リニアスケール)を示し、符号20は支軸10
aを回動中心として吸着テーブル9を回転駆動するため
のモータを示している。さらにまた、図2中の符号P
は、X軸リニアモータ12が生起する磁気駆動力の作用
点を示しており、本実施例の場合、この作用点PとXテ
ーブル10の重心とを略合致させることにより、Xテー
ブル10が起動時や停止時にガタを起こさないように配
慮してある。
【0015】このようなXYテーブル2を組み込んだレ
ーザ加工機は、XYテーブル2を駆動制御することによ
り、吸着テーブル9上に搭載した被加工物を水平面内に
おいて高い位置精度で移動させることができるので、加
工機本体1の光学系の先端部(対物レンズ)から照射さ
れるスポット状のレーザビーム(ビームスポット)に対
して、この被加工物を所定の軌跡で移動させることによ
り、ビーム照射による所望の加工パターンを被加工物に
描画することができる。
【0016】なお、XYテーブル2に組み込まれている
リニアモータ12,17は、重量物を駆動するため強い
磁力を発生するので、本実施例では、周辺に配置されて
いるモニター用のCRTや測定機に対してリニアモータ
12,17の磁力が悪影響を及ぼさないようにするた
め、主に強磁性体からなる安全カバー7でレーザ加工機
をすっぽり覆っている。すなわち、この安全カバー7は
図3,4に示すように、支持枠であるカバーフレーム6
に鉄板や消磁板等を取り付けてなるもので、具体的に
は、図4のア部はSUS304のステンレス板を取着し
た個所で、イ部とウ部はSUS304のステンレス板の
内側にSUS430の消磁板を付設して消磁効果を高め
た2層構造の個所で、このうちウ部は開閉可能な両開き
カバーとなっていて、さらにエ部は、着色アクリル板の
外側をウ部と同じ構成にした3層構造の個所となってい
る。このように、消磁効果を有する安全カバー7でレー
ザ加工機を覆い、しかもリニアモータ12,17の近傍
で強い磁力が予想される個所は2層構造にして消磁効果
を高めておけば、リニアモータ12,17の磁力が周辺
機器に悪影響を及ぼす虞がなくなり、ウ部の両開きカバ
ーを開けることにより加工機本体1の光学系の調整も容
易に行える。また、レーザビームが被加工物に正しく照
射されているかどうかを直接確認する際には、エ部の両
開きカバーを開ければ、着色アクリル板を介して安全に
目視確認が行える。
【0017】次に、このレーザ加工機の加工機本体1の
構成について、詳細に説明する。
【0018】レーザ発振器5は、図6に示すように、ア
ークランプ5a内で発生する電子線EにてYAGロッド
5bを励起することにより、このYAGロッド5bがレ
ーザ光を発振するように構成されている公知のものであ
り、本実施例では図5,7に示すように、2台のレーザ
発振器5を並設して2本のレーザビームが同時に供給で
きるようにしてある。
【0019】また、本実施例においては図7に示すよう
に、これら2台のレーザ発振器5の外周部に、強磁性体
の金属板からなる2層構造で両アークランプ5aを包囲
する消磁カバー42が設けてある。具体的に述べると、
この消磁カバー42は、鉄板やパーマロイ板からなり両
アークランプ5aを余裕をもって包囲する下シールド板
42aと、ケイ素鋼板からなり両アークランプ5aの大
きさに合わせた幅寸法を有する上シールド板42bとに
よって構成されており、強磁性体からなるこれら2層の
シールド板42a,42bの消磁効果により、この消磁
カバー42の内側では、XYテーブル2の前記リニアモ
ータ12,17の生起する磁力が極端に弱められてい
る。したがって、各レーザ発振器5のアークランプ5a
の電子線Eが、リニアモータ12,17の磁力の影響で
曲げられる心配がなく、それゆえ、各レーザ発振器5か
ら供給されるレーザビームのパワーやモードが変化した
り、アークランプ5aの寿命が劣化する虞はない。
【0020】次いで、加工機本体1の光学系について述
べると、2台のレーザ発振器5から供給された2本のレ
ーザビームはそれぞれ、図5に示すような光路に沿って
導かれる。なお、これら2台のレーザ発振器5から供給
される各レーザビームの光路中には、同等の構成の光学
系が配設されているので、一方のレーザビーム用の光学
系についてのみ符号を付して説明する。
【0021】レーザ発振器5から出射されたレーザビー
ムはまず、音響光学素子(AOM)23を経て反射ミラ
ー24で反射されてから、1/4λ板とも称される第1
の位相差板25へ入射されて直線偏光が円偏光に変換さ
れる。ここで、音響光学素子23は一種のスイッチング
素子であり、これがスイッチオンされると、超音波を加
えて光軸を歪ませることにより入射光(レーザビーム)
の大部分を使用不能な光となすことができる。つまり、
この音響光学素子23は、レーザ加工を行っている間は
オフ状態に保たれてレーザビームをそのまま通過させる
が、レーザ加工を一時中断させたいときにはオフ状態へ
の切換えが行われるようになっている。
【0022】さて、第1の位相差板25から出射された
円偏光のレーザビームは、拡散防止レンズ26を経て反
射ミラー27で反射された後、第1のビームスプリッタ
28へ入射されて2方向へ向かう直線偏光に分割され、
これにより、複数個所を同時にレーザ加工できる2本の
分割ビームが得られる。ただし、薄膜精密化工のような
微細な加工を行うためには、第1のビームスプリッタ2
8から出射される各分割ビームのパワー(エネルギーレ
ベル)を同等に設定しておかなければならないが、実際
には各部材の取付誤差等により2本の分割ビーム(直線
偏光)のパワーには若干のばらつきが生じやすい。そこ
で本実施例では、第1の位相差板25を光路中に回動可
能に設置し、この位相差板25を適宜回動させることに
より、2本の分割ビームのパワー調整が容易に行えるよ
うになっている。
【0023】第1のビームスプリッタ28から出射され
た一方の分割ビームは、反射ミラー29を経た後、光フ
ァイバ43を通過してから、回動可能な第2の位相差板
30に入射されて再び円偏光に変換され、この円偏光は
円筒レンズ31を経て長円形に拡大された後、第2のビ
ームスプリッタ35に入射されて、2方向へ向かう直線
偏光に分割される。同様に、第1のビームスプリッタ2
8から出射された他方の分割ビームは、反射ミラー32
を経た後、光ファイバ44を通過してから、回動可能な
第3の位相差板33に入射されて再び円偏光に変換さ
れ、この円偏光は円筒レンズ34を経て長円形に拡大さ
れた後、第2のビームスプリッタ35に入射されて、2
方向へ向かう直線偏光に分割される。すなわち、レーザ
発振器5から出射された1本のレーザビームが、所定の
光路を経て第2のビームスプリッタ35から出射される
ときには計4本のレーザビームに分割されることとな
り、ここでも第2および第3の位相差板30,33を適
宜回動させることにより、これら4本の分割ビームのパ
ワー調整が容易に行えるようになっている。
【0024】なお、第1および第2のビームスプリッタ
28,35として、本実施例では、2つのプリズム体を
接着させたタイプのものを用いているが、ガラス平板の
片面に反射層を設けたタイプのビームスプリッタを用い
てもよい。
【0025】また、上述した光路中で第2および第3の
位相差板30,33の前に設置されている光ファイバ4
3,44は、石英材料を反射膜で被覆して構成される公
知のもので、該反射膜で反射されながら伝送されるレー
ザビームはシングルモードがマルチモードに変換された
状態で出射されるので、各光ファイバ43,44へ入射
されたレーザビームの光軸まわりのエネルギー分布曲線
は、図9に符号L1で示すマルチモードのトップハット
形に変換された状態、換言するなら光軸を中心とする高
エネルギー領域の面積を拡大させた状態で出射されるこ
とになる。
【0026】こうして第2のビームスプリッタ35から
4本の分割ビームが出射されると、これらの分割ビーム
はビーム成形部材となるアパーチャ36を通過してか
ら、収束レンズ37や結像レンズ38等を経た後、光路
の先端部に位置する対物レンズ39に入射され、この対
物レンズ39から加工面Aに向けて、互いに平行な4本
の分割ビームがスポット状に照射されるようになってい
る。ただし、実際には、もう1台のレーザ発振器5から
出射されたレーザビームも、その光路の先端部に位置す
る対物レンズから4本の分割ビームとなって加工面に照
射されるので、結局、本実施例では、加工面に配置され
る被加工物に対して計8本の分割ビームがスポット状に
照射されて、複数個所のレーザ加工が同時に行えるよう
になっている。
【0027】なお、円筒レンズ31,34をアパーチャ
36の上流側に配置することにより、円筒レンズ31,
34に入射するレーザビームの横長楕円を縦長楕円に変
換して出射し、アパーチャ36の光透過孔36aの長方
形状に合わせることになる。
【0028】また、アパーチャ36の4個所には、各分
割ビームを通過させるための長方形状の光透過孔36a
が並設してあり、各分割ビームがその光路中に開口して
いる光透過孔36aを通過すると、ビーム形状は高速加
工に好適な長方形状に成形されることとなる。光透過孔
36aの長軸に平行な幅は、カラーフィルタのレーザト
リミング加工幅にほぼ等しくなっている。そして、この
アパーチャ36に入射される分割ビームは、光ファイバ
43または44を通過したマルチモードのレーザビーム
なので、このレーザビームの光軸と、その光路中に開口
している光透過孔36aの中心とが極端な位置ずれを起
こしていない限り、アパーチャ36を通過してビーム形
状が成形されるのは該レーザビームの高エネルギー部分
のみであり、不要な低エネルギー部分が対物レンズ39
へ導かれる心配はない。つまり、図9に示すように、ア
パーチャ36に入射されるレーザビームの光軸(横軸座
標が0の位置)が、その光路中に開口している幅寸法w
の光透過孔36aの中心(一点鎖線Cの横軸座標)に対
して若干ずれている場合、仮に光軸まわりのエネルギー
分布曲線が正規分布のガウシアン形(破線L2)になっ
ているとすると、レーザビームは低エネルギー部分もア
パーチャ36を通過することになるので、この低エネル
ギー部分が加工面Aに照射されてそこだけレーザ加工が
良好に行えず、例えばトリミング幅の寸法誤差やばらつ
きといった加工不良が招来されることになる。しかる
に、本実施例では、アパーチャ36に入射されるレーザ
ビームの光軸まわりのエネルギー分布曲線がトップハッ
ト形(実線L1)なので、その光軸が光透過孔36aの
中心に対して若干ずれていても、レーザビームの低エネ
ルギー部分がアパーチャ36を通過することはなく、そ
れゆえ、対物レンズ39から出射されるビームスポット
S(図8参照)を、光軸まわりの光エネルギーの分布が
ほぼ均一なレーザ光に設定することができて、加工形状
の寸法誤差が極めて少なくなっている。
【0029】図8は、上述した光路の先端部に位置する
対物レンズ39を含むビーム照射部40を示しており、
ここには、ビームスポットSを包囲する漏斗状のノズル
41のほかに、このノズル41と対物レンズ39との間
に圧縮空気を吹き出すエアー送出部40aと、ノズル4
1の先端近傍の空気を強制的に吸い込むエアー吸引部4
0bとが設けてあり、ノズル41の円錐面状の内壁面に
沿って上方から下方へ圧縮空気の流れ(図8中の矢印)
が形成されるように構成してある。すなわち、本実施例
では、レーザ加工時に発生する煙の多くをエアー吸引部
40bにて吸い込んで排出経路へ導くことにより、金属
成分等を含有するその煙が周辺の作業者の健康に悪影響
を及ぼさないように配慮してある。また、煙の一部がノ
ズル41の内部へ侵入したとしても、その煙は圧縮空気
の流れによって速やかにノズル41の下部から外部へと
排出されて、エアー吸引部40bに吸い込まれるように
なっているので、ビームスポットSや対物レンズ39に
煙の悪影響が及ぶ可能性も極めて少ない。
【0030】さて、このようなレーザ加工機を使用し
て、本実施例では、液晶表示素子の製造過程におけるカ
ラーフィルタのトリミング加工を行い、周囲を遮光膜に
て囲まれた所望のカラーフィルタを形成した。
【0031】かかる製造技術について述べると、まず、
図10(a)に示すように、ガラス基板等の透明基板5
0の片面に、ITOをパターニングすることにより、一
定のピッチ間隔で一方向に延びる多数本の透明電極51
を形成する。次いで、図10(b)に示すように、各透
明電極51上に、電着法や印刷法等の手法により、R
(赤)、G(緑)、B(青)のカラーフィルタ52を所
定の配列で積層する。ちなみに、図10(b)の例で
は、R,G,B,R,G,B,R……の順にカラーフィ
ルタ52が積層されている。そして、積層後、約250
℃で焼成してカラーフィルタ52を固化する。
【0032】しかる後、透明基板50を前記XYテーブ
ル2の吸着テーブル9上に搭載し、このXYテーブル2
を制御しながら、カラーフィルタ52の長手方向と直交
する方向に一定のピッチ間隔で8本の分割ビームを照射
することにより、R,G,Bのカラーフィルタ52を部
分的に除去するというレーザトリミング加工を行い、こ
れにより図10(c)に示すように、遮光膜が未形成で
はあるが所定の配置に並んだカラーフィルタ52が得ら
れる。なお、かかるカラーフィルタ52のレーザトリミ
ング加工を模式的に示す図11において、吸着テーブル
9上の透明基板50は同図の紙面直交方向に移送され、
その移動に伴い、対物レンズ39から照射されるビーム
スポットSがカラーフィルタ52の不要部分を除去して
いく。
【0033】そして、カラーフィルタ52の不要部分を
除去したなら、透明基板50のカラーフィルタ形成面に
ブラックレジストを塗布して乾燥させた後、他面側から
露光用光を照射し、露光後に現像処理して未露光の前記
ブラックレジストを除去することにより、図10(d)
に示すように、カラーフィルタ52の周囲の間隙部分に
遮光膜53を形成した。
【0034】このようにしてカラーフィルタ52や遮光
膜53を形成するという本実施例の製造技術において
は、前述したようにレーザビームの光路中に配設した位
相差板25,30,33等を適宜回動させることによ
り、複数本の分割ビームのパワーにばらつきが生じない
ように調整できるので、図11に示すように、透明電極
51上のカラーフィルタ52のみを除去するために必要
な所定のビームパワーを各分割ビームに過不足なく付与
することが容易であり、それゆえ、複数本(具体的には
8本)の分割ビームを複数個所に同時に照射することに
よって、カラーフィルタ52のレーザトリミング加工を
効率良く行うことができて、加工時間が大幅に短縮でき
る。また、本実施例では前述したように、アパーチャ3
6に入射されるレーザビームの光軸まわりのエネルギー
分布曲線をトップハット形にして、その低エネルギー部
分が該アパーチャ36を通過しないように工夫してある
ので、対物レンズ39から出射されるビームスポットS
を光軸まわりの光エネルギーの分布がほぼ均一なレーザ
光に設定することができ、よってカラーフィルタ52の
トリミング幅に寸法誤差やばらつきが少ない高精度なレ
ーザ加工が行えるようになっている。
【0035】なお、本実施例のように透明電極51を残
してカラーフィルタ52のみを除去すると、その後に行
われる洗浄工程やラビング処理工程において静電気の帯
電が起こりにくくなるので、静電気に起因する液晶表示
素子の表示むらや配向膜の損傷等が回避できるという利
点がある。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるレー
ザ加工機は、レーザ発振器から出射されたレーザビーム
を4本の分割ビームに分割し、これら分割ビームのパワ
ーのばらつきを調整した状態でビーム成形部材まで導く
ことができると共に、ビーム成形部材の上流側に配置し
たモード変換部材によって、入射されるレーザビームの
光軸まわりのエネルギー分布を高エネルギー領域が拡大
されるマルチモードに変換して出射するように構成して
あるので、レーザビームの光軸とビーム成形部材の透孔
の中心とが極端な位置ずれを起こしていない限り、この
レーザビームは高エネルギー部分だけが該ビーム成形部
材を通過することとなり、それゆえ被加工物に照射され
るビームスポットの光軸まわりのエネルギー分布をほぼ
均一に設定することができて、レーザビームの低エネル
ギー部分の照射に起因する加工精度の劣化が確実に回避
できるという優れた効果を奏し、薄膜精密加工等の微細
な加工に好適なレーザ加工機といえる。
【0037】また、モード変換部材とビーム成形部材と
の間に円筒レンズを設けることにより、ビーム成形部材
の光透過孔を長方形状とし、レーザビームをこの長方形
状の長軸と平行な長軸となる楕円に変換できるため、ビ
ーム成形部材からの出射したビーム形状をより長軸方向
が長くなる長方形状にでき、カラーフィルタの一回のレ
ーザトリミング加工長さが長くなり、テーブルの高速移
動によるカラーフィルタの高速加工が可能なレーザ加工
機になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施例に係るレーザ加工機に組み込んだXY
テーブルの正面図である。
【図2】一部を図示省略した該XYテーブルの側面図で
ある。
【図3】該XYテーブルを含むレーザ加工機の全体側面
図である。
【図4】該レーザ加工機を覆う安全カバーの図3に対応
する個所の側面図である。
【図5】該レーザ加工機でレーザビームの光路に配設さ
れている光学系のレイアウトを示す説明図である。
【図6】該レーザ加工機のレーザ発振器を示す説明図で
ある。
【図7】図6に示すレーザ発振器に消磁カバーを取り付
けた状態を示す平面図である。
【図8】該レーザ加工機のビーム照射部を示す説明図で
ある。
【図9】図5に示す光学系で光ファイバから出射される
レーザビームの光軸まわりのエネルギー分布を示す特性
図である。
【図10】該レーザ加工機を用いてカラーフィルタのト
リミング加工を行う液晶表示素子の製造方法を示す工程
説明図である。
【図11】図10に示す製造過程においてカラーフィル
タをレーザトリミングする工程を示す説明図である。
【符号の説明】
1 加工機本 2 XYテーブル 5 レーザ発振器 9 吸着テーブル 10 Xテーブル 12 X軸リニアモータ 14 Yテーブル 17 Y軸リニアモータ 25 第1の位相差 30 第2の位相差 33 第3の位相差 28 第1のビームスプリッタ 35 第2のビームスプリッタ 36 アパーチャ(ビーム成形部材) 36a 光透過孔(透孔) 39 対物レンズ 43,44 光ファイバ(モード変換部材) 50 透明基板 51 透明電極 52 カラーフィルタ S ビームスポット

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザビームを発振するレーザ発振器
    と、前記レーザビームを所定の光路に沿って導く光学系
    とを備え、この光学系に少なくとも、前記レーザ発振器
    から出射されるレーザビームの直線偏光を円偏光に変換
    する第1の位相差と、この第1の位相差から出射さ
    れる円偏光を2方向へ向かう直線偏光に分割する第1の
    ビームスプリッタと、この第1のビームスプリッタから
    出射される2本の直線偏光をそれぞれ円偏光に変換する
    一対の第2の位相差と、これら第2の位相差から出
    射される円偏光のレーザビームの光軸まわりのエネルギ
    ー分布をそれぞれ高エネルギー領域が拡大されるマルチ
    モードに変換する一対のモード変換部材と、これらモー
    ド変換部材から出射される円偏光をそれぞれ2方向へ向
    かう直線偏光に分割して計4本の分割ビームを出射する
    第2のビームスプリッタと、これら第2のビームスプリ
    ッタから出射される分割ビームを透孔から通過させてビ
    ーム形状を成形するビーム成形部材と、このビーム成形
    部材から出射されるレーザビームを被加工物に向けてス
    ポット状に照射する対物レンズとを配設したことを特徴
    とするレーザ加工機。
  2. 【請求項2】 請求項1の記載において、前記第1およ
    び第2の位相差をそれぞれ前記レーザビームの光軸ま
    わりに回動可能に設けたことを特徴とするレーザ加工
    機。
  3. 【請求項3】 請求項1の記載において、前記ビーム成
    形部材として光ファイバを用いたことを特徴とするレー
    ザ加工機。
  4. 【請求項4】 請求項1の記載において、前記ビーム成
    形部材の透孔が前記被加工物のレーザトリミング加工幅
    に等しい長方形状となることを特徴とするレーザ加工
    機。
  5. 【請求項5】 請求項1の記載において、前記モード変
    換部材と前記ビーム成形部材との間に円筒レンズを設け
    たことを特徴とするレーザ加工機。
JP27438895A 1995-10-23 1995-10-23 レーザ加工機 Expired - Fee Related JP3214540B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27438895A JP3214540B2 (ja) 1995-10-23 1995-10-23 レーザ加工機

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27438895A JP3214540B2 (ja) 1995-10-23 1995-10-23 レーザ加工機

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09108880A JPH09108880A (ja) 1997-04-28
JP3214540B2 true JP3214540B2 (ja) 2001-10-02

Family

ID=17540982

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27438895A Expired - Fee Related JP3214540B2 (ja) 1995-10-23 1995-10-23 レーザ加工機

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3214540B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6054235A (en) * 1997-09-08 2000-04-25 Photon Dynamics, Inc. Color filter repair method
CN1211862C (zh) * 1999-04-07 2005-07-20 壳牌太阳能股份有限公司 衬底薄膜烧蚀方法及其设备
JP2006026712A (ja) * 2004-07-20 2006-02-02 Nissan Motor Co Ltd レーザ加工装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH09108880A (ja) 1997-04-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3159906B2 (ja) 液晶表示素子の製造方法
JP5556774B2 (ja) 露光装置
JP2003255552A (ja) レーザ照射装置並びに走査レーザ光を用いた露光方法及び走査レーザ光を用いたカラーフィルタの製造方法
JP5057382B2 (ja) 露光装置及び基板の製造方法
JP3533600B2 (ja) 凹版並びに凹版の製造方法及びその装置
JP3214540B2 (ja) レーザ加工機
KR100254833B1 (ko) 액정표시소자의제조방법및그의레이저가공기
JP5598789B2 (ja) 露光装置用光照射装置及び露光装置
JPH09141481A (ja) レーザ加工機
JPH09108878A (ja) レーザ加工機
JP5935294B2 (ja) 近接露光装置及び近接露光方法
CN104977811A (zh) 曝光装置及其固定方法
JP2004354659A (ja) パターン描画装置
JPH09141462A (ja) レーザ加工機
JP2011167723A (ja) レーザ照射装置およびレーザ照射方法
KR101138681B1 (ko) 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법
JP2001079680A (ja) レーザ加工装置及びレーザ加工方法
JP2000263268A (ja) レーザ加工装置及びその装置を用いて加工する方法
JP7278868B2 (ja) レーザ加工装置
KR100490342B1 (ko) 노광방법 및 장치
KR101578385B1 (ko) 근접 노광 장치, 근접 노광 방법 및 조명 광학계
JP2010122619A (ja) パターン描画装置、パターン描画方法及びパターン描画用のマスク
JP4472151B2 (ja) 照射光振分機構およびそれを備えた装置
JP2004114068A (ja) 光加工装置
JP2023066564A (ja) 照明光学系及びレーザ加工装置

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20010703

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees