JP2015096482A - 有害生物防除剤 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)一般式(I):
(2) 一般式(I):
R1はハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、(C1-C6)アルキル基、(C2-C6)アルケニル基、(C2-C6)アルキニル基、(C3-C6)シクロアルキル基、(C1-C6)ハロアルキル基、(C1-C6)アルコキシ基、(C2-C6)アルケニルオキシ基、(C2-C6)アルキニルオキシ基、(C3-C6)シクロアルコキシ基、(C1-C6)ハロアルコキシ基、(C1-C6)アルキルチオ基、(C2-C6)アルケニルチオ基、(C2-C6)アルキニルチオ基、(C3-C6)シクロアルキルチオ基、(C1-C6)ハロアルキルチオ基、(C1-C6)アルキルアミノ基、(C2-C6)アルケニルアミノ基、(C2-C6)アルキニルアミノ基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C2-C6)アルケニルアミノ基、ジ(C2-C6)アルキニルアミノ基、(C1-C6)アルキルスルフィニル基、(C2-C6)アルケニルスルフィニル基、(C2-C6)アルキニルスルフィニル基、(C3-C6)シクロアルキルスルフィニル基、(C1-C6)ハロアルキルスルフィニル基、(C1-C6)アルキルスルホニル基、(C2-C6)アルケニルスルホニル基、(C2-C6)アルキニルスルホニル基、カルボキシル基、(C1-C6)アルキルカルボニル基、(C1-C6)アルコキシカルボニル基、(C1-C6)アルキルアミノカルボニル基、ジ(C1-C6)アルキルアミノカルボニル基、(C1-C6)アルキルカルボニルオキシ基、(C1-C6)アルキルカルボニルアミノ基又は(C1-C6)アルキルカルボニル(C1-C6)アルキルアミノ基であり;
R2はハロゲン原子、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基、(C1-C6)アルキル基、(C2-C6)アルケニル基、(C2-C6)アルキニル基、(C1-C6)ハロアルキル基、(C1-C6)アルコキシ基、(C2-C6)アルケニルオキシ基、(C2-C6)アルキニルオキシ基、(C1-C6)アルキルチオ基、(C2-C6)アルケニルチオ基、(C2-C6)アルキニルチオ基、(C1-C6)アルキルアミノ基、(C2-C6)アルケニルアミノ基、(C2-C6)アルキニルアミノ基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C2-C6)アルケニルアミノ基、ジ(C2-C6)アルキニルアミノ基、(C1-C6)アルキルスルフィニル基、(C2-C6)アルケニルスルフィニル基、(C2-C6)アルキニルスルフィニル基、(C1-C6)アルキルスルホニル基、(C2-C6)アルケニルスルホニル基、(C2-C6)アルキニルスルホニル基、(C1-C6)アルキルオキシ(C1-C6)アルキル基、(C1-C6)アルキルチオ(C1-C6)アルキル基、(C1-C6)アルキルアミノ(C1-C6)アルキル基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ(C1-C6)アルキル基、ヒドロキシル(C1-C6)アルキル基、カルボキシル基、(C1-C6)アルキルカルボニル基、(C1-C6)アルキルアミノカルボニル基、ジ(C1-C6)アルキルアミノカルボニル基、(C1-C6)アルキルカルボニルオキシ基、(C1-C6)アルキルカルボニルチオ基、(C1-C6)アルキルカルボニルアミノ基又はジ(C1-C6)アルキルカルボニルアミノ基であり;WはCH又は窒素原子であり;nは1〜4の整数であり;nが2以上のとき、複数のR1は同一又は異なっていてもよく;R2が(C1-C6)アルキル基のとき、R1の置換位置はオルト位ではない〕で表される(1)の化合物又はその塩。
(3)(1)に記載の化合物又はその塩を有効成分として含有する有害生物防除剤、
(4)(1)に記載の化合物又はその塩を有効成分として含有する農園芸用有害生物防除剤、
(5)(1)に記載の化合物又はその塩を有効成分として含有する殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤又は殺土壌害虫剤、
(6)(1)に記載の化合物又はその塩を有効成分として含有する殺虫剤又は殺ダニ剤、
(7)(1)に記載の化合物又はその塩を有効成分として含有する殺動物寄生生物剤、
(8)(1)に記載の化合物又はその塩の有効量を施用して有害生物を防除する方法。
本明細書中、「ターシャリー」を「tert-」と表記する場合がある。
本発明化合物は、式(II)の化合物と式(III)の化合物を、パラジウム触媒、銅塩及び塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
パラジウム触媒としては、例えばテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリドなどが挙げられる。
銅塩としてはヨウ化銅(I)が挙げられる。
塩基としては、有機塩基でも無機塩基でもいずれのものでもよい。有機塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルアミンのようなアミン塩基などが挙げられる。無機塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩などが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばアミン塩基;N,N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリルのような非プロトン性極性溶媒;テトラヒドロフランのようなエーテル類;などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。
反応温度は、通常約20℃から使用する溶媒の沸点の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜24時間で行うことができる。
前記一般式(I)中、R2がNH2である式(I−b)の化合物は、R2がNO2である式(I−a)の化合物を金属及び酸を用いて還元することにより、或いはそれに準じる反応により製造することができる。
金属としては、例えば鉄、亜鉛、スズなどが挙げられる。
酸としては、例えば塩酸、硫酸のような無機酸;酢酸のような有機酸;などが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4−ジオキサンのようなエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチルのようなエステル類;水;などから1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
反応温度は、通常約20℃から使用する溶媒の沸点の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜24時間で行うことができる。
前記一般式(I)中、R2がNHR3である式(I−c)の化合物は、式(I−b)の化合物とR3Xとを塩基の存在下反応させることで製造することができる。
塩基としては、例えば水素化ナトリウムのようなアルカリ金属水素化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;などが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4−ジオキサンのようなエーテル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンのような酸アミド類;などから1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
反応温度は、通常約20℃から使用する溶媒の沸点の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜48時間で行うことができる。
前記一般式(I)において、R2がNHCOR4である式(I−d)の化合物及びR2がN(COR4)2である式(I−e)の化合物は、式(I−b)の化合物とカルボン酸ハロゲン化物R4COXまたはカルボン酸無水物(R4CO)2Oとを反応させることで製造することができる。
該反応は、必要に応じて塩基の存在下で行うことができる。塩基としては、例えば水素化ナトリウムのようなアルカリ金属水素化物;炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩;水酸化ナトリウムのようなアルカリ金属水酸化物;トリエチルアミンのようなアミン類;などが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4−ジオキサンのようなエーテル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノンのような酸アミド類;ジクロロメタン、クロロホルムのような脂肪族ハロゲン化炭化水素;などから1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
反応温度は、通常約−20℃から使用する溶媒の沸点の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜48時間で行うことができる。
前記一般式(I)中、R2がSR3である式(I−f)の化合物は、式(I−b)の化合物と、無機亜硝酸塩又は亜硝酸エステルとを反応させてジアゾニウム化合物とした後、R3SH又は(R3S)2と反応させることにより、製造することができる。
無機亜硝酸塩としては、例えば亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウムなどが挙げられる。
亜硝酸エステルとしては、例えば亜硝酸ターシャリーブチル、亜硝酸イソアミルなどが挙げられる。
該反応は、必要に応じて銅触媒の存在下で行うことができる。銅触媒としては、酸化銅(I)、硫酸銅(II)五水和物などが挙げられる。
該反応は、必要に応じて酸の存在下で行うことができる。酸としては、塩酸、硫酸のような無機酸;酢酸、メタンスルホン酸のような有機酸;などが挙げられる。
該反応は、必要に応じて塩基の存在下で行うことができる。塩基としては、例えば水素化ナトリウムのようなアルカリ金属水素化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;などが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルムのような脂肪族ハロゲン化炭化水素類;トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドのような非プロトン性極性溶媒;水;などから1種又は2種以上を適宜選択することができる。
反応温度は通常−20℃〜200℃の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜24時間で行うことができる。
式(I−g)の化合物は、式(I−f)の化合物と酸化剤とを反応させることにより製造することができる。
酸化剤としては、例えば3−クロロ過安息香酸のようなカルボン酸の過酸化物;過酸化水素水;などが挙げられる。
溶媒としては、例えばジクロロメタン、クロロホルムのような脂肪族ハロゲン化炭化水素などが挙げられる。
反応温度は、通常約−20℃から使用する溶媒の沸点の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜24時間で行うことができる。
前記一般式(I)中、R2がXである式(I−h)の化合物は、式(I−b)の化合物を、無機亜硝酸塩もしくは亜硝酸エステルとの反応にてジアゾニウム塩とした後、ハロゲン化剤と反応させることにより、製造することができる。
無機亜硝酸塩及び亜硝酸エステルとしては、前記製法〔5〕と同様のものが挙げられる。
ハロゲン化剤としては、例えば塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン;塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸等のハロゲン化水素酸;塩化銅(I)、臭化銅(I)、ヨウ化銅(I)等のハロゲン化銅(I); 塩化銅(II)、臭化銅(II)等のハロゲン化銅(II);テトラフルオロホウ酸;などが挙げられる。
該反応は必要に応じて銅触媒の存在下で行うことができる。銅触媒としては、前記したハロゲン化銅(I)、ハロゲン化銅(II)、酸化銅(I)、硫酸銅(II)五水和物などが挙げられる。
該反応は、必要に応じて酸の存在下で行うことができる。酸としては、前記に挙げたハロゲン化水素酸、硫酸等の無機酸;酢酸、メタンスルホン酸等の有機酸;などが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、前記製法〔5〕と同様のものが挙げられ、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
反応温度は通常−20℃〜200℃の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜24時間で行うことができる。
前記一般式(I)中、R2がNHR3である式(I−c)の化合物は、下記のスキームに示される方法にて製造することができる。
(工程1)
式(I−i)の化合物は、式(I−b)の化合物と二炭酸ジターシャリー−ブチルを塩基の存在下反応させることで製造できる。
塩基としては、例えば水素化ナトリウムのようなアルカリ金属水素化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミドのようなアルカリ金属アミド;などが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば前記製法〔3〕と同様のものが挙げられ、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
反応温度は、通常約−20℃から使用する溶媒の沸点の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜48時間で行うことができる。
(工程2)
式(I−j)の化合物は、式(I−i)の化合物とR3X(Xは前述のとおりである。)とを塩基の存在下反応させることで製造することができる。
塩基としては、前記製法〔3〕と同様のものが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、工程1と同様のものが挙げられ、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
反応温度は、通常約−20℃から使用する溶媒の沸点の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜48時間で行うことができる。
(工程3)
式(I−c)の化合物は、式(I−j)の化合物と酸とを反応させることで製造することができる。
酸としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸、酢酸等の有機酸が挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば前記製法〔2〕と同様のものが挙げられ、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
反応温度は、通常約0℃から使用する溶媒の沸点の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜24時間で行うことができる。
式(II)の化合物は下記のスキームに示される方法にて製造することができる。
(工程1)
式(V)の化合物は、式(IV)の化合物とトリメチルシリルアセチレンとの薗頭反応(前記製法〔1〕に準ずる)にて製造することができる。
(工程2)
式(II)の化合物は、式(V)の化合物と塩基又はテトラブチルアンモニウムフルオリド(TBAF)とを反応させることにより製造することができる。
塩基としては、例えば炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩;水酸化ナトリウムのようなアルカリ金属水酸化物;などが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばアセトン、アセトニトリルのような非プロトン性極性溶媒;ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタンのような脂肪族ハロゲン化炭化水素;酢酸エチルのようなエステル類;テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;メタノールなどのプロトン性溶媒;などから1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
反応温度は、通常−90℃〜50℃の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜24時間で行うことができる。
式(III−a)の化合物は、式(VI)の化合物と塩基とを反応させて式(VII)で表される4−ハロピリジンを生成した後、4−ハロピリジンとアルキルリチウム又はリチウムジアルキルアミドとを反応させた後に生成する中間体とR3Xとを反応させることにより製造することができる。
塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物;などが挙げられる。
アルキルリチウムとしては、例えばノルマルブチルリチウム、セカンダリーブチルリチウム、ターシャリーブチルリチウムなどが挙げられる。
リチウムジアルキルアミドとしては、例えばリチウムジイソプロピルアミドなどが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4−ジオキサンのようなエーテル類;トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;などから1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
反応温度は通常−90℃〜−50℃の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜24時間で行うことができる。
式(II)中、R1がOR5である式(II−b)の化合物は、式(II−a)の化合物とR5Xとを塩基の存在下反応させることで製造することができる。
塩基としては、例えば、前記製法〔3〕と同様のものなどが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、前記製法〔3〕と同様のものなどが挙げられ、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
反応温度は、通常約20℃から使用する溶媒の沸点の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜48時間で行うことができる。
式(II)中、R1がSR5である式(II−d)の化合物は、式(II−c)の化合物とR5Xとを塩基の存在下反応させることで製造することができる。
塩基としては、例えば、前記製法〔3〕と同様のものなどが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、前記製法〔3〕と同様のものなどが挙げられ、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
反応温度は、通常約20℃から使用する溶媒の沸点の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜48時間で行うことができる。
式(II)中、R1がNHR5である式(II−f)の化合物は、式(II−e)の化合物とR5Xとを塩基の存在下反応させることで製造することができる。
塩基としては、例えば、前記製法〔3〕と同様のものなどが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば、前記製法〔3〕と同様のものなどが挙げられ、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
反応温度は、通常約20℃から使用する溶媒の沸点の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜48時間で行うことができる。
前記一般式(III)中、R2がOR3である式(III−b)の化合物は、WO2005/101989等に記載の方法に従って製造できる式(VIII−a)の化合物から下記のスキームに示される方法にて製造することができる。また、式(III−b)における化合物は酸を用い処理することによって、その酸付加塩として取り出すこともできる。
(工程1)
式(VIII−b)の化合物は式(VIII−a)の化合物にR3OM(MはNa, K, Csである。)又は、塩基存在下R3OHを反応させることにより製造できる。塩基としては、例えば前記製法〔3〕と同様のものが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、2-プロパノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、1,4−ジオキサン等のエーテル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリジノン等の酸アミド類;などから1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
反応温度は、通常約−20℃から使用する溶媒の沸点の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜48時間で行うことができる。
(工程2)
式(III−b)の化合物は(VIII−b)に三ハロゲン化リンを作用させることにより製造できる。また得られた式(III−b)の化合物を酸にて処理することにより、塩として製造することもできる。
三ハロゲン化リンとしては、例えば三塩化リン、三臭化リンなどが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、例えば酢酸エチル等のエステル類、ジクロロメタン、クロロホルム等の脂肪族ハロゲン化炭化水素;などから1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
反応温度は、通常約−5℃から使用する溶媒の沸点の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜48時間で行うことができる。
式(III−b)の化合物における酸付加塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩、酢酸塩などが挙げられ、処理する酸としては、例えば塩化水素、硫酸、酢酸等が挙げられる。
式(I)中、R2がCH2OR3である式(III−d)の化合物は、Org.Lett.,2008,10,2701等に記載の方法に従って製造できる式(III−c)の化合物とR3Xとを塩基の存在下反応させることで製造することができる。
塩基としては、前記製法〔3〕と同様のものが挙げられる。
該反応は、必要に応じて溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればいずれのものでもよく、例えば前記製法〔3〕と同様のものが挙げられ、これらの1種又は2種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
反応温度は、通常約−20℃から使用する溶媒の沸点の範囲で行うことができる。反応時間は、通常数分〜48時間で行うことができる。
カルバリル(carbaryl)、プロポキスル(propoxur)、アルジカルブ(aldicarb)、カルボフラン(carbofuran)、チオジカルブ(thiodicarb)、メソミル(methomyl)、オキサミル(oxamyl)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、ピリミカルブ(pirimicarb)、フェノブカルブ(fenobucarb)、カルボスルファン(carbosulfan)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)、フラチオカルブ(furathiocarb)、イソプロカルブ(isoprocarb)、メトルカルブ(metolcarb)、キシリルカルブ(xylylcarb)、XMC、フェノチオカルブ(fenothiocarb)のようなカーバメート系化合物;
カルタップ(cartap)、チオシクラム(thiocyclam)、ベンスルタップ(bensultap)、チオスルタップナトリウム(thiosultap-sodium)、チオスルタップジナトリウム(thiosultap-disodium)、モノスルタップ(monosultap)、ビスルタップ(bisultap)、シュウ酸水素チオシクラム(thiocyclam hydrogen oxalate)のようなネライストキシン誘導体;
ジコホル(dicofol)、テトラジホン(tetradifon)、エンドスルファン(endosulfan)、ジエノクロル(dienochlor)、ディルドリン(dieldrin)のような有機塩素系化合物;
酸化フェンブタスズ(fenbutatin oxide)、シヘキサチン(cyhexatin)のような有機金属系化合物;
フェンバレレート(fenvalerate)、ペルメトリン(permethrin)、シペルメトリン(cypermethrin)、デルタメトリン(deltamethrin)、シハロトリン(cyhalothrin)、テフルトリン(tefluthrin)、エトフェンプロックス(ethofenprox)、フルフェンプロックス(flufenprox)、シフルトリン(cyfluthrin)、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルバリネート(fluvalinate)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、ラムダシハロトリン(lambda-cyhalothrin)、ピレスリン(pyrethrins)、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、テトラメスリン(tetramethrin)、レスメスリン(resmethrin)、プロトリフェンブト(protrifenbute)、ビフェントリン(bifenthrin)、ゼータシペルメトリン(zeta-cypermethrin)、アクリナトリン(acrinathrin)、アルファシペルメトリン(alpha-cypermethrin)、アレスリン(allethrin)、ガンマシハロトリン(gamma-cyhalothrin)、シータシペルメトリン(theta-cypermethrin)、タウフルバリネート(tau-fluvalinate)、トラロメスリン(tralomethrin)、プロフルスリン(profluthrin)、ベータシペルメトリン(beta-cypermethrin)、ベータシフルトリン(beta-cyfluthrin)、メトフルトリン(metofluthrin)、フェノトリン(phenothrin)、フルメトリン(flumethrin)、デカメトリン(decamethrin)のようなピレスロイド系化合物;
ジフルベンズロン(diflubenzuron)、クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、トリフルムロン(triflumuron)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ルフェヌロン(lufenuron)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、ビストリフルロン(bistrifluron)、フルアズロン(fluazuron)のようなベンゾイルウレア系化合物;
メトプレン(methoprene)、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)、フェノキシカルブ(fenoxycarb)、ジオフェノラン(diofenolan)のような幼若ホルモン様化合物;
ピリダベン(pyridaben)のようなピリダジノン系化合物;
フェンピロキシメート(fenpyroximate)、フィプロニル(fipronil)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、エチプロール(ethiprole)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)、アセトプロール(acetoprole)、ピラフルプロール(pyrafluprole)、ピリプロール(pyriprole)のようなピラゾール系化合物;
イミダクロプリド(imidacloprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、アセタミプリド(acetamiprid)、チアクロプリド(thiacloprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、クロチアニジン(clothianidin)、ニジノテフラン(nidinotefuran)、ジノテフラン(dinotefuran)、ニチアジン(nithiazine)のようなネオニコチノイド系化合物;
テブフェノジド(tebufenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)のようなヒドラジン系化合物;
ピリダリル(pyridalyl)、フロニカミド(flonicamid)のようなピリジン系化合物;
スピロジクロフェン(spirodiclofen)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スピロテトラマト(spirotetramat)のような環状ケトエノール系化合物;
フルアクリピリム(fluacrypyrim)のようなストロビルリン系化合物;
フルフェネリム(flufenerim)のようなピリジナミン系化合物;
ジニトロ系化合物、有機硫黄化合物、尿素系化合物、トリアジン系化合物、ヒドラゾン系化合物、また、その他の化合物として、フロメトキン(flometoquin)、ブプロフェジン(buprofezin)、ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、アミトラズ(amitraz)、クロルジメホルム(chlordimeform)、シラフルオフェン(silafluofen)、トリアザメイト(triazamate)、ピメトロジン(pymetrozine)、ピリミジフェン(pyrimidifen)、クロルフェナピル(chlorfenapyr)、インドキサカルブ(indoxacarb)、アセキノシル(acequinocyl)、エトキサゾール(etoxazole)、シロマジン(cyromazine)、1,3−ジクロロプロペン(1,3-dichloropropene)、ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、ベンクロチアズ(benclothiaz)、ビフェナゼート(bifenazate)、プロパルギット(propargite)、クロフェンテジン(clofentezine)、メタフルミゾン(metaflumizone)、フルベンジアミド(flubendiamide)、シフルメトフェン(cyflumetofen)、クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、シアントラニリプロール(cyantraniliprole)、シクラニリプロール(cyclaniliprole)、シエノピラフェン(cyenopyrafen)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazon)、フェナザキン(fenazaquin)、アミドフルメット(amidoflumet)、スルフルアミド(sulfluramid)、ヒドラメチルノン(hydramethylnon)、メタアルデヒド(metaldehyde)、HGW-86、リアノジン(ryanodine)、ベルブチン(verbutin)、AKD‐1022、クロロベンゾエート(chlorobenzoate)、チアゾリルシナノニトリル(thiazolylcinnanonitrile)、スルホキサフロル(sulfoxaflor)、フルエンスルホン(fluensulfone)、トリフルメゾピリム(triflumezopyrim)、アフィドピロペン(afidopyropen)、フルピラジフロン(flupyradifuron)、3−ブロモ−N−(4−クロロ−2−(1−シクロプロピルエチルカルバモイル)−6−メチルフェニル)−1−(3−クロロピリジン−2−イル)−1H−ピラゾール−5−カルボキサミド、3−ブロモ−N−(2−ブロモ−4−クロロ−6−(シクロプロピルメチルカルバモイル)フェニル)−1−(3−クロロピリジン−2−イル)−1H−ピラゾール−5−カルボキサミド、3−ブロモ−N−(4−クロロ−2−メチル−6−(メチルカルバモイル)フェニル)−1−(3−クロロピリジン−2−イル)−1H−ピラゾール−5−カルボキサミド、3−ブロモ−1−(3−クロロピリジン−2−イル)−N−(4−シアノ−2−メチル−6−(メチルカルバモイル)フェニル)−1H−ピラゾール−5−カルボキサミドのような化合物;等が挙げられる。更に、Bacillus thuringiensis aizawai、Bacillus thuringiensis kurstaki、Bacillus thuringiensis israelensis、Bacillus thuringiensis japonensis、Bacillus thuringiensis tenebrionis等のBacillus thuringiensisが生成する結晶タンパク毒素、昆虫病原ウイルス剤、昆虫病原糸状菌剤、線虫病原糸状菌剤等のような微生物農薬、アベルメクチン(avermectin)、エマメクチンベンゾエート(emamectin Benzoate)、ミルベメクチン(milbemectin)、ミルベマイシン(milbemycin)、スピノサド(spinosad)、イベルメクチン(ivermectin)、レピメクチン(lepimectin)、DE−175、アバメクチン(abamectin)、エマメクチン(emamectin)、スピネトラム(spinetoram)のような抗生物質及び半合成抗生物質;アザディラクチン(azadirachtin)、ロテノン(rotenone)のような天然物;ディート(deet)のような忌避剤;等と、混用、併用することもできる。
5-クロロ-7-(4-メチルピペリジン-1-イル)-6-(2,4,6-トリフルオロフェニル)[1,2,4]トリアゾロ[1,5-a]ピリミジンのようなトリアゾロピリミジン系化合物;
フルアジナム(fluazinam)のようなピリジナミン系化合物;
トリアジメホン(triadimefon)、ビテルタノール(bitertanol)、トリフルミゾール(triflumizole)、エタコナゾール(etaconazole)、プロピコナゾール(propiconazole)、ペンコナゾール(penconazole)、フルシラゾール(flusilazole)、マイクロブタニル(myclobutanil)、シプロコナゾール(cyproconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、ファーコナゾールシス(furconazole‐cis)、プロクロラズ(prochloraz)、メトコナゾール(metconazole)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、テトラコナゾール(tetraconazole)、オキスポコナゾールフマル酸塩(oxpoconazole fumarate)、シプコナゾール(sipconazole)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、トリアジメノール(triadimenol)、フルトリアホール(flutriafol)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)、フェンブコナゾール(fenbuconazole)、ブロムコナゾール(bromuconazole)、ジニコナゾール(diniconazole)、トリシクラゾール(tricyclazole)、プロベナゾール(probenazole)、シメコナゾール(simeconazole)、ペフラゾエート(pefurazoate)、イプコナゾール(ipconazole)、イミベンコナゾール(imibenconazole)のようなアゾール系化合物;
キノメチオネート(quinomethionate)のようなキノキサリン系化合物;
マンネブ(maneb)、ジネブ(zineb)、マンゼブ(mancozeb)、ポリカーバメート(polycarbamate)、メチラム(metiram)、プロピネブ(propineb)、チラム(thiram)のようなジチオカーバメート系化合物;
フサライド(fthalide)、クロロタロニル(chlorothalonil)、キントゼン(quintozene)のような有機塩素系化合物;
ベノミル(benomyl)、シアゾファミド(cyazofamid)、チオファネートメチル(thiophanate‐methyl)、カーベンダジム(carbendazim)、チアベンダゾール(thiabendazole)、フベリアゾール(fuberiazole)のようなイミダゾール系化合物;
シモキサニル(cymoxanil)のようなシアノアセトアミド系化合物;
メタラキシル(metalaxyl)、メタラキシル−M(metalaxyl-M)、メフェノキサム(mefenoxam)、オキサジキシル(oxadixyl)、オフレース(ofurace)、ベナラキシル(benalaxyl)、ベナラキシル−M(benalaxyl-M、別名キララキシル(kiralaxyl、chiralaxyl))、フララキシル(furalaxyl)、シプロフラム(cyprofuram)、カルボキシン(carboxin)、オキシカルボキシン(oxycarboxin)、チフルザミド(thifluzamide)、ボスカリド(boscalid)、ビキサフェン(bixafen)、イソチアニル(isothianil)、チアジニル(tiadinil)、セダキサン(sedaxane)のようなアニリド系化合物;
ジクロフルアニド(dichlofluanid)のようなスルファミド系化合物;
水酸化第二銅(cupric hydroxide)、有機銅(oxine copper)のような銅系化合物;
ヒメキサゾール(hymexazol)のようなイソキサゾール系化合物;
ホセチルアルミニウム(fosetyl‐Al)、トルクロホスメチル(tolclofos‐Methyl)、S−ベンジル O,O−ジイソプロピルホスホロチオエート、O−エチル S,S−ジフェニルホスホロジチオエート、アルミニウムエチルハイドロゲンホスホネート、エジフェンホス(edifenphos)、イプロベンホス(iprobenfos)のような有機リン系化合物;
キャプタン(captan)、キャプタホル(captafol)、フォルペット(folpet)のようなフタルイミド系化合物;
プロシミドン(procymidone)、イプロジオン(iprodione)、ビンクロゾリン(vinclozolin)のようなジカルボキシイミド系化合物;
フルトラニル(flutolanil)、メプロニル(mepronil)のようなベンズアニリド系化合物;
ペンチオピラド(penthiopyrad)、3-(ジフロロメチル)-1-メチル-N-[(1RS,4SR,9RS)-1,2,3,4-テトラヒドロ-9-イソプロピル-1,4-メタノナフタレン-5-イル]ピラゾール-4-カルボキサミドと3-(ジフロロメチル)-1-メチル-N-[(1RS,4SR,9SR)-1,2,3,4-テトラヒドロ-9-イソプロピル-1,4-メタノナフタレン-5-イル]ピラゾール-4-カルボキサミドの混合物(イソピラザム(isopyrazam))、シルチオファム(silthiopham)、フェノキサニル(fenoxanil)、フラメトピル(furametpyr)のようなアミド系化合物;
フルオピラム(fluopyram)、ゾキサミド(zoxamide)のようなベンズアミド系化合物;
トリホリン(triforine)のようなピペラジン系化合物;
ピリフェノックス(pyrifenox)のようなピリジン系化合物;
フェナリモル(fenarimol)のようなカルビノール系化合物;
フェンプロピディン(fenpropidin)のようなピペリジン系化合物;
フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、トリデモルフ(tridemorph)のようなモルフォリン系化合物;
フェンチンヒドロキシド(fentin hydroxide)、フェンチンアセテート(fentin acetate)のような有機スズ系化合物;
ペンシキュロン(pencycuron)のような尿素系化合物;
ジメトモルフ(dimethomorph)、フルモルフ(flumorph)のようなシンナミック酸系化合物;
ジエトフェンカルブ(diethofencarb)のようなフェニルカーバメート系化合物;
フルジオキソニル(fludioxonil)、フェンピクロニル(fenpiclonil)のようなシアノピロール系化合物;
アゾキシストロビン(azoxystrobin)、クレソキシムメチル(kresoxim‐methyl)、メトミノストロビン(metominostrobin)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)、オリザストロビン(oryzastrobin)、ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、フルオキサストロビン(fluoxastrobin)のようなストロビルリン系化合物;
ファモキサドン(famoxadone)のようなオキサゾリジノン系化合物;
エタボキサム(ethaboxam)のようなチアゾールカルボキサミド系化合物;
イプロバリカルブ(iprovalicarb)、ベンチアバリカルブ−イソプロピル(benthiavalicarb-isopropyl)のようなバリンアミド系化合物;
メチル N-(イソプロポキシカルボニル)-L-バリル-(3RS)-3-(4-クロロフェニル)-β-アラニナート(valiphenalate)のようなアシルアミノアシッド系化合物;
フェナミドン(fenamidone)のようなイミダゾリノン系化合物;
フェンヘキサミド(fenhexamid)のようなハイドロキシアニリド系化合物;
フルスルファミド(flusulfamide)のようなベンゼンスルホンアミド系化合物;
シフルフェナミド(cyflufenamid)のようなオキシムエーテル系化合物;
アトラキノン系化合物;
クロトン酸系化合物;
バリダマイシン(validamycin)、カスガマイシン(kasugamycin)、ポリオキシン(polyoxins)のような抗生物質;
イミノクタジン(iminoctadine)、ドディン(dodine)のようなグアニジン系化合物;
6-ターシャリーブチル-8-フルオロ-2,3-ジメチルキノリン-4-イル アセテート(テブフロキン(tebufloquin))のようなキノリン系化合物;
(Z)-2-(2-フルオロ-5-(トリフルオロメチル)フェニルチオ)-2-(3-(2-メトキシフェニル)チアゾリジン-2-イリデン)アセトニトリル(フルチアニル(flutianil))のようなチアゾリジン系化合物;
その他の化合物として、ピリベンカルブ(pyribencarb)、イソプロチオラン(isoprothiolane)、ピロキロン(pyroquilon)、ジクロメジン(diclomezine)、キノキシフェン(quinoxyfen)、プロパモカルブ塩酸塩(propamocarb hydrochloride)クロルピクリン(chloropicrin)、ダゾメット(dazomet)、メタムナトリウム塩(metam‐sodium)、ニコビフェン(nicobifen)、メトラフェノン(metrafenone)、UBF-307、ジクロシメット(diclocymet)、プロキンアジド(proquinazid)、アミスルブロム(amisulbrom;別名アミブロドール(amibromdole))、3-(2,3,4-トリメトキシ-6-メチルベンゾイル)-5-クロロ-2-メトキシ-4-メチルピリジン、4-(2,3,4-トリメトキシ-6-メチルベンゾイル)-2,5-ジクロロ-3-トリフルオロメチルピリジン、ピリオフェノン(pyriofenone)、イソフェタミド(isofetamid)マンジプロパミド(mandipropamid)、フルオピコリド(fluopicolide)、カルプロパミド(carpropamid)、メプチルジノキャップ(meptyldinocap)、N-[(3', 4'-ジクロロ-1,1-ジメチル)フェナシル]-3-トリフルオロメチル-2-ピリジンカルボキサミド、N-[(3', 4'-ジクロロ-1,1-ジメチル)フェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[(3', 4'-ジクロロ-1,1-ジメチル)フェナシル]−1-メチル-3-トリフルオロメチル-4-ピラゾールカルボキサミド、N-[[2'-メチル-4'-(2-プロピルオキシ)-1,1-ジメチル]フェナシル]-3-トリフルオロメチル-2-ピリジンカルボキサミド、N-[[2'-メチル-4'-(2-プロピルオキシ)-1,1-ジメチル]フェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[[2'-メチル-4'-(2-プロピルオキシ)-1,1-ジメチル]フェナシル]-1-メチル-3-トリフルオロメチル-4-ピラゾールカルボキサミド、N-[[4'-(2-プロピルオキシ)-1,1-ジメチル]フェナシル]-3-トリフルオロメチル-2-ピリジンカルボキサミド、N-[[4'-(2-プロピルオキシ)-1,1-ジメチル]フェナシル]-3-メチル-2-チオフェンカルボキサミド、N-[[4'-(2-プロピルオキシ)-1,1-ジメチル]フェナシル]−1-メチル-3-トリフルオロメチル-4-ピラゾールカルボキサミド、N-[[2'-メチル−4'-(2-ペンチルオキシ)-1,1-ジメチル]フェナシル]-3-トリフルオロメチル-2-ピリジンカルボキサミド、N-[[4'-(2-ペンチルオキシ)-1,1-ジメチル]フェナシル]-3-トリフルオロメチル-2-ピリジンカルボキサミド、スピロキサミン(spiroxamine)、S-2188(fenpyrazamine)、S-2200、ZF-9646、BCF-051、BCM-061、BCM-062等が挙げられる。
4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)−3−ニトロピリジン(化合物No.13)の合成
4−クロロ−3−ニトロピリジン(5.0 g, 31.6 mmol)、4−tert−ブチルフェニルアセチレン(5.0 g, 31.6 mmol)、トリエチルアミン(1.3 mL, 93.3 mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(1.1 g, 1.6 mmol)、ヨウ化銅(I)(0.3 g, 1.6 mmol)、N,N−ジメチルホルムアミド(60 mL)を窒素雰囲気下、室温で15時間撹拌した。反応溶液に水、酢酸エチルを加えた後、混合溶液をセライトろ過し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘプタン/酢酸エチル=95/5から80/20・容量比)で精製し、目的物(7.6 g, 収率85%)を得た。
3−アリル−4−((4−tert−ブチルフェニル)エチニル)ピリジン(化合物No.17)の合成
(1)3−アリル−4−ブロモピリジンの合成
氷冷下、4−ブロモピリジン塩酸塩(5.0 g, 25.7 mmol)に、トルエン(25 mL)、3M水酸化ナトリウム水溶液(15 mL)を加え30分間攪拌した。反応混合物を分液し、有機層に無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した後、無水硫酸ナトリウムをろ過で取り除いた。得られた4−ブロモピリジンのトルエン溶液にテトラヒドロフラン(50 mL)を加え、窒素雰囲気下、−78℃に冷却し、1Mリチウムジイソプロピルアミドのヘキサン・テトラヒドロフラン溶液(25 mL)を滴下した後、同温度で1時間攪拌した。−78℃にてヨウ化アリル(2.5 mL, 27.4 mmol)を滴下し、3時間かけて室温まで昇温した。反応混合物に飽和食塩水を加え分液し、有機層に無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘプタン/酢酸エチル=90/10・容量比)で精製し、3−アリル−4−ブロモピリジン(0.95 g, 収率19%)を得た。
(2)目的物の合成
3−アリル−4−ブロモピリジン(500 mg, 2.5 mmol)、4−tert−ブチルフェニルアセチレン(400 mg, 2.5 mmol)、ヨウ化銅(I)(30 mg, 0.16 mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(90 mg, 0.13 mmol)、トリエチルアミン(1 mL, 7.2 mmol)、N,N−ジメチルホルムアミド(5 mL)を窒素雰囲気下、90℃で5時間反応した。室温まで放冷した後、反応溶液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘプタン/酢酸エチル=90/10・容量比)で精製し、目的物(500 mg, 収率72%)を得た。
4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)ピリジン−3−アミン(化合物No.30)の合成
4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)−3−ニトロピリジン(7.6 g, 27.0 mmol)と鉄(4.5 g, 81.0 mmol)を酢酸エチル(30 mL)、酢酸(15 mL)、水(15 mL)、の混合溶液に加え、還流下、1時間反応した。反応溶液をセライトろ過した後、溶媒を減圧下留去し、残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘプタン/酢酸エチル=30/70・容量比)で精製し、目的物(7.2 g, 収率100%)を得た。
4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)−3−(メチルチオ)ピリジン(化合物No.26)の合成
4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)ピリジン−3−アミン(400 mg, 1.6 mmol)、ジメチルジスルフィド(301 mg, 3.2 mmol)をクロロホルム(3 mL)に溶解し、氷冷した。その溶液にクロロホルム(2 mL)に溶解した亜硝酸tert−ブチル(214 mg, 2.1 mmol)を滴下した。その後氷冷下10分間撹拌し、80℃まで昇温し1時間撹拌した。室温まで放冷した後、溶媒を減圧下留去し、残渣をフラッシュクロマトグラフィーで精製し、目的物(184 mg, 収率41%)を得た。
4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)−N−プロピルピリジン−3−アミン(化合物No.32)の合成
4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)ピリジン−3−アミン(300 mg, 1.2 mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(5 mL)に溶解し、氷冷した。その溶液に60%水素化ナトリウム(60 mg, 1.5 mmol)を加え、氷冷下20分間撹拌した。その後、1−ヨウ化プロピル(300 mg, 1.8 mmol)を加え、80℃で5時間撹拌した。室温まで放冷した後、反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘプタン/酢酸エチル=70/30・容量比)で精製して、目的物(45 mg, 収率13%)を得た。
4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)−3−(メチルスルフィニル)ピリジン(化合物No.37)及び4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)−3−(メチルスルホニル)ピリジン(化合物No.41)の合成
4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)−3−(メチルチオ)ピリジン(83 mg, 0.3 mmol)をクロロホルム(2 mL)に溶解し、氷冷した。3−クロロ過安息香酸(100 mg, 0.6 mmol)を加え、氷冷下2時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、溶媒を減圧下留去し、残渣をフラッシュクロマトグラフィーで精製し、化合物37No.(26 mg, 収率30%)、化合物No.41(31 mg, 収率33%)を得た。
N−(4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)ピリジン−3−イル)プロピオンアミド(化合物No.59)及びN−(4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)ピリジン−3−イル)−N−プロピオニルプロピオンアミド(化合物No.60)の合成
4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)ピリジン−3−アミン(300 mg, 1.2 mmol)、トリエチルアミン(1.0 mL, 7.2 mmol)をN,N−ジメチルホルムアミド(10 mL)に溶解し、氷冷した。その溶液に塩化プロピオニル(550 mg, 6.0 mmol)を滴下し、その後室温で16時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘプタン/酢酸エチル=80/20から60/40・容量比)で精製し、化合物No.59(73 mg, 収率20%)、化合物No.60(91 mg, 収率20%)を得た。
1−(4−((3−アリルピリジン−4−イル)エチニル)フェニル)エタノン(化合物No.92)の合成
(1)1−(4−((トリメチルシリル)エチニル)フェニル)エタノンの合成
4−ヨードアセトフェノン(1.2g, 4.9 mmol)、トリメチルシリルアセチレン(1.0g, 10 mmol)、ヨウ化銅(I)(50 mg, 0.26 mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(170 mg, 0.24 mmol)、トリエチルアミン(2.0 mL, 14 mmol)、N,N−ジメチルホルムアミド(10 mL)を窒素雰囲気下、80℃で16時間反応した。室温まで放冷した後、反応溶液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、溶媒を減圧下留去し、残渣をフラッシュクロマトグラフィーで精製し、1−(4−((トリメチルシリル)エチニル)フェニル)エタノン(0.91 g, 収率84%)を得た。
(2)1−(4−エチニルフェニル)エタノンの合成
1−(4−((トリメチルシリル)エチニル)フェニル)エタノン(0.86 g, 4.0 mmol)、炭酸カリウム(1.1 g, 8.0 mmol)、メタノール(8 mL)を室温で1時間反応した。溶媒を減圧下留去した後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、溶媒を減圧下留去し、残渣をフラッシュクロマトグラフィーで精製し、1−(4−エチニルフェニル)エタノン(0.53 g, 収率91%)を得た。
(3)目的物の合成
3−アリル−4−ブロモピリジン(200 mg, 1 mmol)、1−(4−エチニルフェニル)エタノン(160 mg, 1.1 mmol)、ヨウ化銅(I)(10 mg, 0.05 mmol)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(60 mg, 0.05 mmol)、トリエチルアミン(4 mL)、N,N−ジメチルホルムアミド(4 mL)を窒素雰囲気下、50℃で24時間反応した。室温まで放冷した後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、溶媒を減圧下留去し、残渣をフラッシュクロマトグラフィーで精製し、目的物(90 mg, 収率34%)を得た。
3−ブロモ−4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)ピリジン(化合物No.10)の合成
氷冷下、4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)ピリジン−3−アミン(1.0 g, 3.99 mmol)とアセトニトリル(25 mL)の混合溶液に、亜硝酸ターシャリーブチル(0.61 g, 5.92 mmol)とアセトニトリル (5 mL)の混合溶液を滴下し、滴下後同温下30分間撹拌した。臭化銅(II)(1.12 g, 5.01 mmol)を加えた後、室温まで昇温し、同温下15時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル(50 mL)及び水(50 mL)を加え、不溶解物をセライトろ過にて除去した。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、溶媒を減圧下留去した。残渣をフラッシュクロマトグラフィーで精製し、目的物(0.36 g, 収率29%)を得た。
4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)−3−メトキシピリジン(化合物No.21)の合成
(1)3−メトキシ−4−ニトロピリジン 1−オキシドの合成
氷冷下、3−フルオロ−4−ニトロピリジン 1−オキシド(9.75 g, 61.7 mmol)とメタノール(145 mL)の混合懸濁液に、28%ナトリウムメトキシドメタノール溶液(11.9 g, 61.7 mmol)を加えた。室温まで昇温し、同温下1時間撹拌した。メタノールを減圧下留去し、残渣に水(50 mL)を加えクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、溶媒を減圧下留去し、3−メトキシ−4−ニトロピリジン 1−オキシド(9.54 g, 収率91%)を得た。
(2)4−ブロモ−3−メトキシピリジン塩酸塩の合成
室温下、3−メトキシ−4−ニトロピリジン 1−オキシド(9.54 g, 56.1 mmol)と酢酸エチル (100 mL)の混合懸濁液に、三臭化リン(45 mL, 477 mmol)を反応系内の温度が40℃を超えない速度で滴下した。滴下後、同温下10分間撹拌した後、溶媒が還流する温度まで昇温し、同温下17時間撹拌した。室温まで放冷した後、反応混合物を氷水(500 mL)に注ぎ入れた。分液し、得られた水層を氷冷した。氷冷下、反応系内の温度が20℃を超えない速度で水酸化ナトリウムを加え、反応系内をpH10以上に調製した。反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で取り除いた後、溶媒を減圧下留去した。残渣をフラッシュクロマトグラフィーで精製し、4−ブロモ−3−メトキシピリジンを得た。得られた4−ブロモ−3−メトキシピリジンを酢酸エチル100 mLに溶かした溶液に、1.0M塩化水素エーテル溶液(60 mL, 60 mmol)を加えた。溶媒を減圧により留去し、4−ブロモ−3−メトキシピリジン塩酸塩(7.80 g, 収率62%)を得た。(3)目的物の合成
4−ブロモ−3−メトキシピリジン塩酸塩(4.8 g, 21.4 mmol)、4‐tert‐ブチルフェニルアセチレン(5.1 g, 32.1 mmol)、ヨウ化銅(I)(0.68 g, 3.2 mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(0.75 g, 1.1 mmol)、トリエチルアミン(12 mL, 85.5 mmol)N,N−ジメチルホルムアミド(100 mL)を窒素雰囲気下、60℃で15時間反応した。室温まで放冷した後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘプタン/酢酸エチル=67/33・容量比)で精製し、固体の目的物(3.2 g, 収率56%)を得た。
4−((4−(tert−ブチル)フェニル)エチニル)−3−(メトキシメチル)ピリジン(化合物No.46)の合成
(1)4−ブロモ−3−(メトキシメチル)ピリジンの合成
氷冷下、(4−ブロモピリジン−3−イル)メタノール(304 mg, 1.62 mmol)とテトラヒドロフラン(10 mL)の混合溶液に、60%水素化ナトリウム(434 mg, 10.9 mmol)を加えた。氷冷下、10分間撹拌した後、室温まで昇温し、同温下7時間撹拌した。氷冷した後、ヨウ化メチル(0.11 mL, 1.78 mmol)を加えた。室温まで昇温し、同温下7時間撹拌した。氷冷した後、水(20 mL)を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、溶媒を減圧下留去し、残渣をフラッシュクロマトグラフィーで精製し、4−ブロモ−3−(メトキシメチル)ピリジン(275 mg, 収率84%)を得た。
(2)目的物の合成
4−ブロモ−3−(メトキシメチル)ピリジン(275 mg, 1.36 mmol)、4−tert−ブチルフェニルアセチレン(247 mg, 1.56 mmol)、トリエチルアミン(0.6 mL, 4.3 mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド(48 mg, 0.07 mmol)、ヨウ化銅(I)(20 mg, 0.11 mmol)、N,N−ジメチルホルムアミド(4 mL)を窒素雰囲気下、80℃で11時間反応した。室温まで放冷した後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加え乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘプタン/酢酸エチル=85/15・容量比)で精製し、目的物(219 mg, 収率58%)を得た。
4−((4−tert−ブチルフェニル)エチニル)−N−エチルピリジン−3−アミンの合成(化合物No.112)
(1)tert−ブチル(4−((4−tert−ブチルフェニル)エチニル)ピリジン−3−イル)カーバメートの合成
氷冷下、4−((4−tert−ブチルフェニル)エチニル)ピリジン−3−アミン(2.5 g, 10 mmol)に、テトラヒドロフラン(50 mL)、1.0Mのナトリウムビス(トリメチルシリル)アミドのテトラヒドロフラン溶液(24 mL)を加え10分間撹拌した。反応液を室温まで昇温した後、同温度で1時間撹拌した。反応液を再度氷冷し、二炭酸ジターシャリーブチル(2.6 g, 11.9 mmol)を加え15分間撹拌した。反応液を室温まで昇温した後、同温度で4時間撹拌した。反応混合物を塩化アンモニウム水に加えて、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘプタン/酢酸エチル=90/10・容量比)で精製し、アモルファス状のtert−ブチル(4−((4−tert−ブチルフェニル)エチニル)ピリジン−3−イル)カーバメート(0.87 g, 収率25%)を得た。
(2)tert−ブチル(4−((4−tert−ブチルフェニル)エチニル)ピリジン−3−イル)(エチル)カーバメートの合成
tert−ブチル(4−((4−tert−ブチルフェニル)エチニル)ピリジン−3−イル)カーバメート(200 mg, 0.57 mmol)に、N,N−ジメチルホルムアミド(10 mL)、ヨウ化エチル(180 mg, 1.15 mmol)、60%水素化ナトリウム(48 mg, 1.2 mmol)を加え、室温で2時間30分撹拌した。反応混合物を水に加えて、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘプタン/酢酸エチル=95/5・容量比)で精製し、アモルファス状のtert−ブチル(4−((4−tert−ブチルフェニル)エチニル)ピリジン−3−イル)(エチル)カーバメート(190 mg, 収率88%)を得た。
(3)目的物の合成
tert−ブチル(4−((4−tert−ブチルフェニル)エチニル)ピリジン−3−イル)(エチル)カーバメート(130 mg, 0.34 mmol)に、酢酸エチル(5 mL)、10%塩酸(5 mL)を加え、60℃で1時間撹拌した。反応液を室温まで放冷した後、水酸化ナトリウム水溶液を加え中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過で除いた後、減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘプタン/酢酸エチル=85/15・容量比)で精製して固体の目的物(73 mg, 収率77%)を得た。
本発明化合物の濃度が200ppmとなるよう調製した薬液に、イネ幼苗を浸漬処理した。薬液が風乾した後に、湿った脱脂綿で根部を包んで試験管に入れた。この中にトビイロウンカ2〜3齢幼虫を約10頭放ち、管口をガーゼでふたをして25℃の照明付恒温室内に放置した。放虫5日後にトビイロウンカの生死を判定し、下記の計算式により死虫率(%)を求めた。その結果、前記化合物No.1、7、8、9、10、14、15、17、19、21、22、26、27、28、30、31、32、33、35、36、39、46、53、63、65、67、68、69,70,71、75、79、98、99、100、101、105、107、111、112、113、116、117、118、119、120、121、122、123、124、125、126、127、128、129、130、131、132、133、134、136、138、139、140、141、142、143、144、145、146、147、148、149、150、151、152、153、154、155、156、157、159、160、162、163、165、167、171、173、174、175、176、177、178、179、180、184、185、186、187、188、189、190、191、192、193、197、198、199、200、201、209、211、212、224、225、226、240、241、253、285、286、287及び305が90%以上の死虫率を示した。
死虫率(%)=(死虫数/放虫数)×100
タバココナジラミ1〜2齢幼虫が寄生したポット植えのキュウリ苗に、本発明化合物の濃度が200ppmとなるよう調製した薬液を、ハンドスプレーを用いて散布処理した。薬液が風乾した後に、25℃の照明付恒温室内に放置した。処理10日後に老齢幼虫数を調査し、下記計算式により防除価を求めた。その結果、前記化合物No.1、7、9、10、12、15、17、19、20、21、22、26、27、28、31、32、33、35、36、39、46、47、49、51、52、53、56、58、61、63、65、67、68、69、70、71、75、79、88、100、101、105,107、109、111、112、113、116、117、118、119、120、121、122、124、126、127、128、129、130、131、132、133、135、136、138、139、140、141、143、144、149、150、151、152、153、154、155、156、157、160、162、163、165、166、173、174、175、176、177、178、179、180、185、186、187、188、189、190、191、192、193、197、199、200、201、203、204、206、207、209、211、212、224、225、226、240、241、253、255、285、286、287及び305が90以上の防除価を示した。
防除価=(1−(Ta×Cb)/(Tb×Ca))×100
Ta: 処理キュウリ苗における処理後の老齢幼虫数
Tb:処理キュウリ苗における処理前の1〜2齢幼虫数
Ca: 無処理キュウリ苗における処理後の老齢幼虫数
Cb:無処理キュウリ苗における処理前の1〜2齢幼虫数
本発明化合物の濃度が100ppmになるように調製した溶液をプラスチックバイアル瓶に処理した。薬液が風乾した後に20頭の幼ダニを入れ、25℃、相対湿度80〜100%の恒暗条件下に静置した。薬剤接触24時間後に死亡したダニ数を記録し、下記計算式により死虫率(%)を求めた。その結果、前記化合物No.7、15、17、65、67、68、69、75、79、99、100、109、140、159、160、179、191、196、203、204、206、207が90%以上の死虫率を示した。
死虫率(%)=死亡したマダニ数 / 総マダニ数×100
製剤例1
(1)本発明化合物 20重量部
(2)クレー 70重量部
(3)ホワイトカーボン 5重量部
(4)ポリカルボン酸ナトリウム 3重量部
(5)アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム 2重量部
以上のものを均一に混合して水和剤とする。
(1)本発明化合物 5重量部
(2)タルク 60重量部
(3)炭酸カルシウム 34.5重量部
(4)流動パラフィン 0.5重量部
以上のものを均一に混合して粉剤とする。
(1)本発明化合物 20重量部
(2)N,N−ジメチルアセトアミド 20重量部
(3)ポリオキシエチレントリスチリルフェニルエーテル 10重量部
(4)ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム 2重量部
(5)キシレン 48重量部
以上のものを均一に混合、溶解して乳剤とする。
(1)クレー 68重量部
(2)リグニンスルホン酸ナトリウム 2重量部
(3)ポリオキシエチレンアルキルアリールサルフェート 5重量部
(4)ホワイトカーボン 25重量部
以上の各成分の混合物と、本発明化合物とを4:1の重量割合で混合し、水和剤とする。
(1)本発明化合物 50重量部
(2)アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウムホルムアルデヒド縮合物 2重量部
(3)シリコーンオイル 0.2重量部
(4)水 47.8重量部
以上のものを均一に混合、粉砕した原液に更に
(5)ポリカルボン酸ナトリウム 5重量部
(6)無水硫酸ナトリウム 42.8重量部
を加え均一に混合、造粒、乾燥して顆粒水和剤とする。
(1)本発明化合物 5重量部
(2)ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル 1重量部
(3)ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル 0.1重量部
(4)粒状炭酸カルシウム 93.9重量部
(1)〜(3)を予め均一に混合し、適量のアセトンで希釈した後、(4)に吹付け、アセトンを除去して粒剤とする。
(1)本発明化合物 2.5重量部
(2)N,N−ジメチルアセトアミド 2.5重量部
(3)大豆油 95.0重量部
以上のものを均一に混合、溶解して微量散布剤(ultra low volume formulation)とする。
(1)本発明化合物 10重量部
(2)ジエチレングリコールモノエチルエーテル 80重量部
(3)ポリオキシエチレンアルキルエーテル 10重量部
以上の成分を均一に混合し、液剤とする。
Claims (8)
- 一般式(I):
R1はハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、(C1-C6)アルキル基、(C2-C6)アルケニル基、(C2-C6)アルキニル基、(C3-C6)シクロアルキル基、(C1-C6)ハロアルキル基、(C1-C6)アルコキシ基、(C2-C6)アルケニルオキシ基、(C2-C6)アルキニルオキシ基、(C3-C6)シクロアルコキシ基、(C1-C6)ハロアルコキシ基、(C1-C6)アルキルチオ基、(C2-C6)アルケニルチオ基、(C2-C6)アルキニルチオ基、(C3-C6)シクロアルキルチオ基、(C1-C6)ハロアルキルチオ基、(C1-C6)アルキルアミノ基、(C2-C6)アルケニルアミノ基、(C2-C6)アルキニルアミノ基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C2-C6)アルケニルアミノ基、ジ(C2-C6)アルキニルアミノ基、(C1-C6)アルキルスルフィニル基、(C2-C6)アルケニルスルフィニル基、(C2-C6)アルキニルスルフィニル基、(C3-C6)シクロアルキルスルフィニル基、(C1-C6)ハロアルキルスルフィニル基、(C1-C6)アルキルスルホニル基、(C2-C6)アルケニルスルホニル基、(C2-C6)アルキニルスルホニル基、カルボキシル基、(C1-C6)アルキルカルボニル基、(C1-C6)アルコキシカルボニル基、(C1-C6)アルキルアミノカルボニル基、ジ(C1-C6)アルキルアミノカルボニル基、(C1-C6)アルキルカルボニルオキシ基、(C1-C6)アルキルカルボニルアミノ基又は(C1-C6)アルキルカルボニル(C1-C6)アルキルアミノ基であり;
R2はハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、(C1-C6)アルキル基、(C2-C6)アルケニル基、(C2-C6)アルキニル基、(C1-C6)ハロアルキル基、(C1-C6)アルコキシ基、(C2-C6)アルケニルオキシ基、(C2-C6)アルキニルオキシ基、(C1-C6)アルキルチオ基、(C2-C6)アルケニルチオ基、(C2-C6)アルキニルチオ基、(C1-C6)アルキルアミノ基、(C2-C6)アルケニルアミノ基、(C2-C6)アルキニルアミノ基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C2-C6)アルケニルアミノ基、ジ(C2-C6)アルキニルアミノ基、(C1-C6)アルキルスルフィニル基、(C2-C6)アルケニルスルフィニル基、(C2-C6)アルキニルスルフィニル基、(C1-C6)アルキルスルホニル基、(C2-C6)アルケニルスルホニル基、(C2-C6)アルキニルスルホニル基、(C1-C6)アルキルオキシ(C1-C6)アルキル基、(C1-C6)アルキルチオ(C1-C6)アルキル基、(C1-C6)アルキルアミノ(C1-C6)アルキル基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ(C1-C6)アルキル基、ヒドロキシル(C1-C6)アルキル基、ホルミル基、カルボキシル基、(C1-C6)アルキルカルボニル基、(C1-C6)アルコキシカルボニル基、(C1-C6)アルキルアミノカルボニル基、ジ(C1-C6)アルキルアミノカルボニル基、(C1-C6)アルキルカルボニルオキシ基、(C1-C6)アルキルカルボニルチオ基、(C1-C6)アルキルカルボニルアミノ基又はジ(C1-C6)アルキルカルボニルアミノ基であり;WはCH又は窒素原子であり;nは1〜4の整数であり;nが2以上のとき、複数のR1は同一又は異なっていてもよい〕で表される化合物又はその塩。 - 一般式(I):
R1はハロゲン原子、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、(C1-C6)アルキル基、(C2-C6)アルケニル基、(C2-C6)アルキニル基、(C3-C6)シクロアルキル基、(C1-C6)ハロアルキル基、(C1-C6)アルコキシ基、(C2-C6)アルケニルオキシ基、(C2-C6)アルキニルオキシ基、(C3-C6)シクロアルコキシ基、(C1-C6)ハロアルコキシ基、(C1-C6)アルキルチオ基、(C2-C6)アルケニルチオ基、(C2-C6)アルキニルチオ基、(C3-C6)シクロアルキルチオ基、(C1-C6)ハロアルキルチオ基、(C1-C6)アルキルアミノ基、(C2-C6)アルケニルアミノ基、(C2-C6)アルキニルアミノ基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C2-C6)アルケニルアミノ基、ジ(C2-C6)アルキニルアミノ基、(C1-C6)アルキルスルフィニル基、(C2-C6)アルケニルスルフィニル基、(C2-C6)アルキニルスルフィニル基、(C3-C6)シクロアルキルスルフィニル基、(C1-C6)ハロアルキルスルフィニル基、(C1-C6)アルキルスルホニル基、(C2-C6)アルケニルスルホニル基、(C2-C6)アルキニルスルホニル基、カルボキシル基、(C1-C6)アルキルカルボニル基、(C1-C6)アルコキシカルボニル基、(C1-C6)アルキルアミノカルボニル基、ジ(C1-C6)アルキルアミノカルボニル基、(C1-C6)アルキルカルボニルオキシ基、(C1-C6)アルキルカルボニルアミノ基又は(C1-C6)アルキルカルボニル(C1-C6)アルキルアミノ基であり;
R2はハロゲン原子、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基、(C1-C6)アルキル基、(C2-C6)アルケニル基、(C2-C6)アルキニル基、(C1-C6)ハロアルキル基、(C1-C6)アルコキシ基、(C2-C6)アルケニルオキシ基、(C2-C6)アルキニルオキシ基、(C1-C6)アルキルチオ基、(C2-C6)アルケニルチオ基、(C2-C6)アルキニルチオ基、(C1-C6)アルキルアミノ基、(C2-C6)アルケニルアミノ基、(C2-C6)アルキニルアミノ基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ基、ジ(C2-C6)アルケニルアミノ基、ジ(C2-C6)アルキニルアミノ基、(C1-C6)アルキルスルフィニル基、(C2-C6)アルケニルスルフィニル基、(C2-C6)アルキニルスルフィニル基、(C1-C6)アルキルスルホニル基、(C2-C6)アルケニルスルホニル基、(C2-C6)アルキニルスルホニル基、(C1-C6)アルキルオキシ(C1-C6)アルキル基、(C1-C6)アルキルチオ(C1-C6)アルキル基、(C1-C6)アルキルアミノ(C1-C6)アルキル基、ジ(C1-C6)アルキルアミノ(C1-C6)アルキル基、ヒドロキシル(C1-C6)アルキル基、ホルミル基、カルボキシル基、(C1-C6)アルキルカルボニル基、(C1-C6)アルキルアミノカルボニル基、ジ(C1-C6)アルキルアミノカルボニル基、(C1-C6)アルキルカルボニルオキシ基、(C1-C6)アルキルカルボニルチオ基、(C1-C6)アルキルカルボニルアミノ基又はジ(C1-C6)アルキルカルボニルアミノ基であり;WはCH又は窒素原子であり;nは1〜4の整数であり;nが2以上のとき、複数のR1は同一又は異なっていてもよく;R2が(C1-C6)アルキル基のとき、R1の置換位置はオルト位ではない〕で表される請求項1の化合物又はその塩。 - 請求項1の化合物又はその塩を有効成分として含有する有害生物防除剤。
- 請求項1の化合物又はその塩を有効成分として含有する農園芸用有害生物防除剤。
- 請求項1の化合物又はその塩を有効成分として含有する殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤又は殺土壌害虫剤。
- 請求項1の化合物又はその塩を有効成分として含有する殺虫剤又は殺ダニ剤。
- 請求項1の化合物又はその塩を有効成分として含有する殺動物寄生生物剤。
- 請求項1の化合物又はその塩の有効量を施用して有害生物を防除する方法。
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