JP2015079872A - チップ抵抗器 - Google Patents

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Abstract

【課題】放熱性に優れたチップ抵抗器を提供する。
【解決手段】チップ抵抗器1は、絶縁基板2の表面の長手方向両端部に設けられた一対の表面電極3と、これら表面電極3に接続するように絶縁基板2の表面に設けられた抵抗体4と、抵抗体4を被覆する絶縁性の第1保護膜5と、第1保護膜5と抵抗体4に形成されたトリミング溝6と、トリミング溝6を覆うように設けられた絶縁層7と、絶縁層7の上から第1保護膜5の一部を覆うように設けられた放熱電極8と、放熱電極8と第1保護膜5の残部を被覆する絶縁性の第2保護膜9とを備えており、放熱電極8の端部は一方の表面電極3に接続されている。
【選択図】図2

Description

本発明は、絶縁基板上に設けられた抵抗体にトリミング溝を形成することによって抵抗値が調整されるチップ抵抗器に係り、特に、抵抗体から発生する熱を放熱するための放熱電極が設けられたチップ抵抗器に関するものである。
この種のチップ抵抗器は回路基板上に半田付けされて使用されるが、抵抗体への通電によって発生するジュール熱が過剰になると、所望の抵抗特性を得られなくなる可能性がある。そこで従来より、抵抗体を覆うアンダーコート層(第1保護膜)とともに抵抗体にトリミング溝を形成し、このトリミング溝を避けるようにアンダーコート層の上面に一対の放熱電極を形成すると共に、これら放熱電極を抵抗体の両端部と重なる表面電極に接続し、さらに放熱電極の一部とアンダーコート層およびトリミング溝をオーバーコート層(第2保護膜)で被覆するように構成したチップ抵抗器が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
図7は上記特許文献1に開示された従来例に係るチップ抵抗器30の断面図、図8は該チップ抵抗器30に備えられる第2保護膜を省略して示す平面図であり、このチップ抵抗器30は、セラミック等からなる直方体形状の絶縁基板31と、絶縁基板31の表面の長手方向両端部に設けられた一対の表面電極32と、これら一対の表面電極32に接続するように絶縁基板の表面に設けられた抵抗体33と、この抵抗体33を覆うように設けられた第1保護膜34と、この第1保護膜34とともに抵抗体33に形成されたトリミング溝35と、このトリミング溝35を避けて第1保護膜34の一部を覆うように設けられた一対の放熱電極36と、これら放熱電極36の一部と第1保護膜34の残部を覆うように設けられた第2保護膜37と、絶縁基板の裏面の長手方向両端部に設けられた一対の裏面電極38と、表面電極32と裏面電極38を橋絡している一対の端面電極39とによって主に構成されている。
表面電極32と裏面電極38はAg−Pd等の導電性ペーストをスクリーン印刷して乾燥・焼成させたものであり、抵抗体33は酸化ルテニウム等の抵抗体ペーストをスクリーン印刷して乾燥・焼成させたものである。第1保護膜34はガラスペーストを印刷して焼成させたものであり、この第1保護膜34はトリミング溝35を形成する前の抵抗体33上に形成されている。トリミング溝35は、抵抗体33の長手方向の側辺から内部に向かって短手方向へ延びる第1切り込み部35aと、その終端から抵抗体33の長手方向へ延びる第2切り込み部35bとからなるLカット形状であり、このトリミング溝35によって抵抗体33の抵抗値が調整される。一対の放熱電極36はAg系の導電性ペーストをスクリーン印刷して乾燥・焼成させたものであり、これら放熱電極36の端部は対応する表面電極32に接続されている。一方の放熱電極36は平面視L字状に形成されており、この放熱電極36はトリミング溝35を避けて狭小部Yを覆っている。第2保護膜37はエポキシ系等の樹脂ペーストを印刷して加熱硬化させたものであり、この第2保護膜37はトリミング溝35を形成した後に形成される。また、端面電極39は絶縁基板の端面に導電性ペーストの塗布やスパッタにより形成されたものであり、その露出表面には図示せぬNiメッキ層と半田メッキ層が設けられている。
このように構成されたチップ抵抗器30は、図示せぬ回路基板上に裏面電極38を下向きにした状態で搭載され、この状態で端面電極39をランドに半田付けすることによって回路基板上に面実装される。そして、このチップ抵抗器30の動作状態において、抵抗体33を流れる電流はトリミング溝35の部分に流れず、トリミング溝35によって狭くなった狭小部Yに流れるため、この狭小部Yが最も発熱する領域となる。その際、表面電極32に接続する放熱電極36が狭小部Yの一部に掛かっており、この放熱電極36がトリミング溝35の部分を覆わずに第1保護膜34と第2保護膜37との間に形成されているため、抵抗体33において最も発熱する狭小部Yの放熱効果を高めることが可能となる。
特開2012−190965号公報
ところで、抵抗体33において最も発熱する領域はトリミング溝35によって狭くなった狭小部Yであるが、その中でもトリミング溝35に隣接する箇所(第2切り込み部25bの上方)の発熱が最大となる。しかしながら、特許文献1に開示された従来のチップ抵抗器30では、トリミング溝35に隣接する箇所を避けた位置で狭小部Yに形成する必要があるため、放熱効果が不十分になってしまうという問題がある。
本発明は、このような従来技術の実情に鑑みてなされたもので、その目的は、放熱性に優れたチップ抵抗器を提供することにある。
上記の目的を達成するために、本発明のチップ抵抗器は、直方体形状の絶縁基板と、この絶縁基板の表面の長手方向両端部に設けられた一対の表面電極と、これら一対の表面電極に接続するように前記絶縁基板の表面に設けられた抵抗体と、この抵抗体を被覆する絶縁性の第1保護膜と、この第1保護膜とともに前記抵抗体に形成されたトリミング溝と、前記トリミング溝を覆うように設けられた絶縁層と、この絶縁層の上から前記第1保護膜の一部を覆うように設けられた放熱電極と、この放熱電極と前記第1保護膜の残部を被覆する絶縁性の第2保護膜とを備え、前記放熱電極が少なくとも一方の前記表面電極に接続されている構成とした。
このように構成されたチップ抵抗器では、抵抗体と第1保護膜に形成されたトリミング溝を絶縁層で覆うと共に、この絶縁層を含み第1保護膜上に形成した放熱電極が表面電極に接続されているため、抵抗体において最も発熱するトリミング溝周辺の熱が放熱電極に効率良く伝わり、放熱の効果を著しく高めることができる。
上記の構成において、第1保護膜と抵抗体に複数本のトリミング溝が形成されていると共に、放熱電極が、いずれか一方の表面電極に接続された第1の放熱電極と、いずれか他方の表面電極に接続された第2の放熱電極とからなり、これら第1および第2の放熱電極によって複数本のトリミング溝が個別に覆われていると、第1および第2の放熱電極の存在によって平面的な対称性が確保しやすくなり、高さ寸法のバランスが良いチップ抵抗器を実現することができる。
本発明のチップ抵抗器は、第1保護膜とともに抵抗体に形成されたトリミング溝が絶縁層で覆われており、この絶縁層を含んで第1保護膜上に形成した放熱電極が表面電極に接続されているため、抵抗体において最も発熱するトリミング溝周辺の熱が放熱電極に効率良く伝わり、放熱の効果を著しく高めることができる。
本発明の第1実施形態例に係るチップ抵抗器の平面図である。 図1のII−II線に沿う断面図である。 該チップ抵抗器の製造工程を示す説明図である。 本発明の第2実施形態例に係るチップ抵抗器の平面図である。 図4のV−V線に沿う断面図である。 該チップ抵抗器の製造工程を示す説明図である。 従来例に係るチップ抵抗器の断面図である。 該チップ抵抗器の要部を示す平面図である。
発明の実施の形態について図面を参照して説明すると、図1と図2に示すように、本発明の第1実施形態例に係るチップ抵抗器1は、直方体形状の絶縁基板2と、この絶縁基板2の表面の長手方向両端部に設けられた一対の表面電極3と、これら一対の表面電極3に接続するように絶縁基板2の表面に設けられた抵抗体4と、この抵抗体4を覆うように設けられた第1保護膜5と、この第1保護膜5とともに抵抗体4に形成されたLカット形状のトリミング溝6と、このトリミング溝6を覆うように設けられた絶縁層7と、この絶縁層7の上から第1保護膜5の一部を覆うように設けられた放熱電極8と、この放熱電極8と第1保護膜5の残部を覆うように設けられた第2保護膜9と、絶縁基板2の裏面の長手方向両端部に設けられた一対の裏面電極10と、絶縁基板2の長手方向両端面に設けられた一対の端面電極11と、これら端面電極11を覆う断面コ字状の外部電極12とによって主に構成されている。
絶縁基板2はセラミック等からなり、この絶縁基板2は後述する大判基板を縦横の分割溝に沿って分割して多数個取りされたものである。表面電極3はAg−Pd等のAgを主成分とするAg系ペーストをスクリーン印刷して乾燥・焼成させたものであり、同じく裏面電極10もAg−Pd等のAgを主成分とするAg系ペーストをスクリーン印刷して乾燥・焼成させたものである。
抵抗体4は酸化ルテニウム等の抵抗体ペーストをスクリーン印刷して乾燥・焼成させたものであり、この抵抗体4にトリミング溝6を形成することによってチップ抵抗器1の抵抗値が調整される。第1保護膜5はガラスペーストをスクリーン印刷して焼成させたものであり、この第1保護膜5の表面にレーザを照射することによってトリミング溝6が形成される。なお、トリミング溝6の形状はLカットに限定されるものではなく、例えば直線状に延びるプランジカットやダブルプランジカット、あるいはプランジカットを互い違いにしたサーペンタインカットなどでも良い。絶縁層7はガラスペーストをスクリーン印刷して焼成させたり、シリコンやエポキシ系の樹脂ペーストをスクリーン印刷して加熱硬化させたものであり、この絶縁層7によってトリミング溝6の形成部位だけでなく、トリミング溝6を形成することで狭くなった狭小部も被覆される。
放熱電極8はAg粉を混入した樹脂ペーストをスクリーン印刷して加熱硬化させた樹脂銀からなり、この放熱電極8の一端側(図示右端)は一方の表面電極3に重なって接続されている。ただし、放熱電極8の他端側(図示左端)は他方の表面電極3と接続しておらず、両者間に露出する第1保護膜5と放熱電極8の大部分とが第2保護膜9によって覆われている。この第2保護膜9はエポキシ系の樹脂ペーストをスクリーン印刷して加熱硬化させたものであり、第2保護膜9はチップ抵抗器1の最外層に位置して抵抗体4を外部環境から保護する機能を有する。
端面電極11は絶縁基板2の端面にスパッタリングにより形成されたものであり、この端面電極11は絶縁基板2に対する密着性が良いニクロム(Ni/Cr)からなる。外部電極12は電解メッキによって形成されたものであり、バリヤー層となるニッケル(Ni)と、錫(Sn)−鉛(Pb)や鉛フリーのSn等からなる。
次に、このように構成されたチップ抵抗器1の製造工程について、図3を参照しながら説明する。
まず、絶縁基板2が多数個取りされる大判基板を準備する。この大判基板には予め1次分割溝と2次分割溝が格子状に設けられており、両分割溝によって区切られたマス目の1つ1つが1個分のチップ領域となる。図3には1個分のチップ領域に相当する大判基板2Aが代表して示されているが、実際は多数個分のチップ領域に相当する大判基板に対して以下に説明する各工程が一括して行われる。
すなわち、図3(a)に示すように、この大判基板2Aの表面にAg−Pdペーストをスクリーン印刷した後、これを乾燥・焼成して表面電極3を形成する。また、大判基板2Aの裏面にAg−Pdペーストをスクリーン印刷した後、これを乾燥・焼成して裏面電極10を形成する。なお、表面電極3と裏面電極10はどちらを先に形成しても良いが、表面電極3と裏面電極10とを同時に焼成すると、焼成工程を減らしてコストダウンを図ることが可能となる。
次に、大判基板2Aの表面に酸化ルテニウム等の抵抗体ペーストをスクリーン印刷して乾燥・焼成することにより、図3(b)に示すように、長手方向の両端部が表面電極3に重なる抵抗体4を形成する。この後、抵抗体4を覆う領域にガラスペーストをスクリーン印刷して乾燥・焼成することにより、アンダーコート層に相当する第1保護膜5を形成する。第1保護膜5は次工程で照射されるレーザの熱で抵抗体4のトリミング溝6近傍が損傷しないようにするためのものである。
次に、第1保護膜5の表面にレーザを照射することにより、図3(c)に示すように、第1保護膜5と抵抗体4にトリミング溝6を形成する。このトリミング溝6によって抵抗体4の抵抗値が調整され、第1保護膜5と抵抗体4にはトリミング溝6によって狭くなった狭小部Yができる。
次に、第1保護膜5の中央領域を短手方向に横切るようにガラスペーストをスクリーン印刷して乾燥・焼成することにより、図3(d)に示すように、トリミング溝6を完全に覆う絶縁層7を形成する。その際、ガラスペーストの代わりにシリコンやエポキシ系の樹脂ペーストをスクリーン印刷し、これを加熱硬化して絶縁層7を形成するようにしても良い。
次に、一方の表面電極3(図示右側)から絶縁層7に至る領域にAg樹脂ペーストをスクリーン印刷して加熱硬化することにより、図3(e)に示すように、一端部が表面電極3に接続された放熱電極8を形成する。この放熱電極8によってトリミング溝6の形成部位だけでなく狭小部Yも被覆される。その際、他方の表面電極3(図示左側)の上面にも放熱電極8と接触しないようにAg樹脂ペーストをスクリーン印刷し、これを加熱硬化して高さ調整用電極とすることにより、左右の電極部の高さを揃えるようにしても良い。
しかる後、他方の表面電極3(図示左側)と一方の表面電極3に重なる放熱電極8とを除いた領域にエポキシ系の樹脂ペーストをスクリーン印刷して加熱硬化することにより、図3(f)に示すように、オーバーコート層に相当する第2保護膜9を形成する。第2保護膜9は抵抗体4を外部環境から保護するためのものであり、放熱電極8の大部分と第1保護膜5は第2保護膜9によって被覆される。
ここまでの各工程は多数個取り用の大判基板2Aに対する一括処理であるが、次なる工程では、大判基板2Aを1次分割溝に沿って短冊状に分割するという1次ブレーク加工を行うことより、複数個分のチップ領域が設けられた図示せぬ短冊状基板を得る。
そして、次なる工程で、短冊状基板の分割面にNi/Crをスパッタリングすることにより、裏面電極4と表面電極3とを橋絡する端面電極11を形成した後、短冊状基板を2次分割溝に沿って分割するという2次ブレーク加工を行うことにより、チップ抵抗器1と同等の大きさの個片(チップ単体)を得る。
最後に、個片化された各チップ単体の絶縁基板2の長手方向両端部にバリヤー層となるNiと、Sn−PbやSn等の電解メッキを施すことにより、第2保護膜9から露出する表面電極3や放熱電極8を覆う断面コ字状の外部電極12を形成することにより、図1と図2に示すようなチップ抵抗器1が得られる。
以上説明したように、第1実施形態例に係るチップ抵抗器1は、抵抗体4と第1保護膜5に形成されたトリミング溝6を絶縁層7で覆うと共に、この絶縁層7を含んで第1保護膜5上に形成した放熱電極8が一方の表面電極3に接続されているため、抵抗体4において最も発熱するトリミング溝6周辺の熱が放熱電極8に効率良く伝わり、放熱の効果を著しく高めることができる。また、このチップ抵抗器1は、絶縁基板2の長手方向両端部に外部電極12を配置すると共に、これら外部電極12間に第2保護膜9(オーバーコート層)を配置した構造であるため、通常のチップ抵抗器と外観や電極サイズが変わることはなく、汎用品のチップ抵抗器として取り扱うことが可能となる。
次に、図4〜図6に基づいて本発明の第2実施形態例に係るチップ抵抗器20について説明する。なお、これらの図において、図1〜図3と対応する部分に同一符号を付すことにより、重複する説明を適宜省略することがある。
図4と図5に示すように、第2実施形態例に係るチップ抵抗器20が前述した第1実施形態例と相違する点は、抵抗体4と第1保護膜5に2本のトリミング溝13,14が形成されていると共に、これらトリミング溝13,14が第1および第2の放熱電極15,16によって個別に覆われていることにあり、それ以外の構成は基本的に同じである。
2本のトリミング溝13,14は切り込み方向を互い違いにしたサーペンタインカットされているが、切り込み方向を同じくするダブルプランジカットでも良い。絶縁層7は両方のトリミング溝13,14の形成部位だけでなく、各トリミング溝13,14を形成することで狭くなった狭小部も被覆している。
第1の放熱電極15は絶縁層7の上から一方のトリミング溝13を覆うように設けられており、この第1の放熱電極15は第1保護膜5の一部を覆って図示左側の表面電極3に重なっている。また、第2の放熱電極16は絶縁層7の上から他方のトリミング溝14を覆うように設けられており、この第2の放熱電極16は第1保護膜5の一部を覆って図示右側の表面電極3に重なっている。第1および第2の放熱電極15,16は平面的に見ると対称形状をしており、これら両放熱電極15,16間に露出する絶縁層7と各表面電極3に重なる部分の放熱電極15,16とが第2保護膜9によって覆われている。
次に、このように構成されたチップ抵抗器20の製造工程について、図6を参照しながら説明する。
まず、図6(a)に示すように、大判基板2Aの表面にAg−Pdペーストをスクリーン印刷した後、これを乾燥・焼成して表面電極3を形成する。また、大判基板2Aの裏面にAg−Pdペーストをスクリーン印刷した後、これを乾燥・焼成して裏面電極10を形成する。
次に、大判基板2Aの表面に酸化ルテニウム等の抵抗体ペーストをスクリーン印刷して焼成することにより、図6(b)に示すように、長手方向の両端部が表面電極3に重なる抵抗体4を形成する。この後、抵抗体4を覆う領域にガラスペーストをスクリーン印刷して焼成することにより、アンダーコート層に相当する第1保護膜5を形成する。
次に、第1保護膜5の表面にレーザを照射することにより、図6(c)に示すように、第1保護膜5と抵抗体4に2本のトリミング溝13,14を形成する。これらトリミング溝13,14によって抵抗体4の抵抗値が調整され、第1保護膜5と抵抗体4の2箇所にはトリミング溝13,14によって狭くなった狭小部Yができる。
次に、第1保護膜5の中央領域を短手方向に横切るようにガラスペーストをスクリーン印刷して焼成することにより、図6(d)に示すように、両トリミング溝13,14を完全に覆う絶縁層7を形成する。その際、ガラスペーストの代わりにシリコンやエポキシ系の樹脂ペーストをスクリーン印刷し、これを加熱硬化して絶縁層7を形成するようにしても良い。
次に、両表面電極3から絶縁層7の中央部に至る領域にそれぞれAg樹脂ペーストをスクリーン印刷して加熱硬化することにより、図6(e)に示すように、一端部が表面電極3に接続された第1の放熱電極15と第2の放熱電極16とを形成する。これら第1および第2の放熱電極15,16によってトリミング溝13,14の形成部位だけでなく2箇所の狭小部Yも被覆される。
しかる後、表面電極3に重なる部分の第1および第2の放熱電極15,16を除いて、両放熱電極15,16の大部分とその間に露出する絶縁層7上にエポキシ系の樹脂ペーストをスクリーン印刷して加熱硬化することにより、図6(f)に示すように、オーバーコート層に相当する第2保護膜9を形成する。
ここまでの各工程が多数個取り用の大判基板2Aに対する一括処理であり、以下、第1実施形態例と同様の工程によって端面電極11と外部電極12を形成することにより、図4と図5に示すようなチップ抵抗器1が得られる。
以上説明したように、第2実施形態例に係るチップ抵抗器20は、第1保護膜5と抵抗体4に2本のトリミング溝13,14が形成されていると共に、これらトリミング溝13,14が第1および第2の放熱電極15,16によって個別に覆われているため、電極構造を含めて平面的な対称性が確保しやすくなり、高さ寸法のバランスが良いチップ抵抗器20を実現することができる。
なお、第1保護膜5と抵抗体4に3本以上のトリミング溝を形成することも可能であり、例えば5本のトリミング溝を形成した場合は、そのうち2本のトリミング溝を第1放熱電極15で被覆し、残り3本のトリミング溝を第2の放熱電極16で被覆すれば良い。
1,20 チップ抵抗器
2 絶縁基板
2A 大判基板
3 表面電極
4 抵抗体
5 第1保護膜
6,13,14 トリミング溝
7 絶縁層
8 放熱電極
9 第2保護膜
10 裏面電極
11 端面電極
12 外部電極
15 第1の放熱電極
16 第2の放熱電極
Y 狭小部

Claims (2)

  1. 直方体形状の絶縁基板と、この絶縁基板の表面の長手方向両端部に設けられた一対の表面電極と、これら一対の表面電極に接続するように前記絶縁基板の表面に設けられた抵抗体と、この抵抗体を被覆する絶縁性の第1保護膜と、この第1保護膜とともに前記抵抗体に形成されたトリミング溝と、前記トリミング溝を覆うように設けられた絶縁層と、この絶縁層の上から前記第1保護膜の一部を覆うように設けられた放熱電極と、この放熱電極と前記第1保護膜の残部を被覆する絶縁性の第2保護膜とを備え、前記放熱電極が少なくとも一方の前記表面電極に接続されていることを特徴とするチップ抵抗器。
  2. 請求項1の記載において、前記第1保護膜と前記抵抗体に複数本の前記トリミング溝が形成されていると共に、前記放熱電極が、いずれか一方の前記表面電極に接続された第1の放熱電極と、いずれか他方の前記表面電極に接続された第2の放熱電極とからなり、これら第1および第2の放熱電極によって複数本の前記トリミング溝が個別に覆われていることを特徴とするチップ抵抗器。
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