JP2015079053A - 基板型光導波路素子 - Google Patents
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Abstract
Description
非特許文献1,2では高次モード変換合波素子としてY分岐素子を用いている。ただし、非特許文献1、2ともY分岐との言及は無いが、論文内の図や導波路サイズから判断している。
前記二つの入力部の前段に、導波路の幅を変更するテーパ状導波路を備えることが好ましい。
前記出力部の後段に、導波路の幅を変更するテーパ状導波路を備えることが好ましい。
前記高次モードスプリッタの後段に、高次TEモードを基本TMモードに変換する高次偏波変換素子を備えることが好ましい。
また、本発明は、前記基板型光導波路素子を備えることを特徴とするDP−QPSK変調器を提供する。
前記高次偏波変換素子の後段に、基本TMモードを抜き出す偏波ビームスプリッタを備えることが好ましい。
また、本発明は、前記基板型光導波路素子を備えることを特徴とするDP−QPSK変調器を提供する。
前記高次モード変換合波素子を構成する導波路において、コアの高さは220nmであり、コアはSiから成り、クラッドはSiO2から成り、前記Wa(nm)および前記gap(nm)がそれぞれ、400≦Wa≦800かつ100≦gap≦500を満たし、Wc(nm)およびWd(nm)を、それぞれ、Wc=(Wb−(Wa×2+gap))/2、Wd=(−0.0000000008350862×gap2−0.000000436986×gap+0.0008631515625)×Wa2+(0.0000016652002737×gap2+0.000208004578×gap−1.2672957688375)×Wa+(−0.00069425946204×gap2+0.670233759496504×gap+462.994458236249)と定義するとき、0<Wc<Wdを満たすことが好ましい。
本発明は、図1に示すように幅の等しい2つの入力部分を成す導波路(以下、それぞれ入力部11,12と呼ぶ)の間が開いた構造の高次モード変換合波素子10(入力部11,12の付け根が平らなY分岐と同様の構造)において、これら2つの入力部11,12が幅方向に対して対称となるように直線導波路である幅広部(以下、モード変換部13と呼ぶ)に接続され、かつ、モード変換部13の幅方向の両側に、幅の等しい突出部13a,13bが設けられた構造とすることで前述の課題を解決する。
すなわち、実施形態1の高次モード変換合波素子10では、2つの入力部11,12の間隔をgap(nm)、2つの入力部11,12の幅をWa(nm)、モード変換部13の導波路幅をWb(nm)とそれぞれ定義するとき、Wb>Wa×2+gapを満たす。また、2つの入力部11,12の幅方向の中心が、図1の中心線16に示すように、モード変換部13の幅方向の中心と一致する。
図4に、各構造を導波するときの電界分布(Ex成分)と、Y=0μmのEx成分を例示する。いずれの例でも、導波路の高さは220nm、クラッド材料はSiO2(屈折率1.44)、コア材料はSi(屈折率3.48)、光の波長は1550nmである。また、Xは幅方向、Yは高さ方向の座標を表す(以降も同じ)。図4(a)〜(c)中の四角はコア形状を示す。
図4(b)は幅方向の両側に幅の等しい突出部を設けたモード変換部における高次TEモードの電界分布(Ex成分)であり、図4(e)は図4(b)におけるY=0μmのEx成分を示す。
図4(c)は幅方向の両側に突出部を設けない構造のモード変換部における高次TEモードの電界分布(Ex成分)であり、図4(f)は図4(c)におけるY=0μmのEx成分を示す。
まず初めに、入力部11,12とモード変換部13の境界における不連続な接続における結合効率の考え方を示す。損失を考えるに当たり、入力部11のみに基本TEモードを入力した状況を考える。本実施形態の高次モード変換合波素子10は幅方向に対称に入力部11,12を配置しているため、入力部12に入力した場合も同様に考えられる。入力部11に基本TEモードを入力すると、図6に示すように、入力した基本TEモードはパワーが同じ割合の(偶モードと奇モードと呼ばれる)2つのモードの重ね合わせとして表される。これらのモードが入力部11,12とモード変換部13の境界において、モード変換部13のモードへ結合する(突合せ結合)。このときの結合効率Tは次式(1)で表される(ただし、基本TEモードはEx成分が主成分であることから、それ以外の成分の寄与を無視している)。
Ex TE0:入力部における基本TEモードの電界(偶モードと奇モードの重ね合わせ)のEx成分
Ex TE1:モード変換部における高次TEモードの電界のEx成分
K:その他定数
1.図5において、直線導波路のモード変換部13は長手方向の長さ(L1とする)は、小さくない方が好ましい。例えばL1=0となると、入力部11,12からモード変換部13に入力後に急に導波路幅が変化するテーパ部14に光が入力されるため、この部分で急激な電界分布の変化が起こる。これにより損失が生じる。そのため、電界分布の変化が急激にならないために、L1は小さくない方が好ましい。
使用例1.入力部11にのみ基本TEモードを入力した場合
このとき、基本TEモードを高次TEモードに変換することが出来る。ただし、原理損として3dBの損失が生じる。これは、通常の基本TEモードに対する合波素子と同様である(例えば、理想的なY分岐やMMI)。また、入力部12にのみ基本TEモードを入力すると、入力部11に入力した場合に対して、位相がπだけシフトする。
このとき、それぞれの入力された基本TEモードは、入力部分で一方の位相がπだけシフトするが、お互いの位相差は±π/2のどちらかであり、干渉せずに独立に入力した場合と同様になる。そのため、使用例2の損失は、使用例1と同様に3dBの原理損を加味した値となる。
入力部11と12に入力した基本TEモードは、それぞれ偶モードと奇モードの重ね合わせになる。入力した基本TEモードが逆位相である(位相がπだけずれている)とき、入力部11の基本TEモードによる奇モードと、入力部12の基本TEモードによる奇モードはモード変換部13の高次TEモードに結合すると同位相になり、強めあうように干渉する。一方で、それぞれの偶モードは逆位相になるため、弱めあうように干渉する。偶モードと奇モードはパワー比が50:50になるように発生するため、干渉の結果、奇モードだけが入力した全エネルギーをになう。そのため、この場合原理損は生じず、図14(あるいは実施例1の図24〜26)に示すような過剰損失はそのまま損失になる。また、このとき、モード変換部において基本TEモードは全く発生しない。
本実施形態は、図16に示すように、入力部11,12の前段に曲げ導波路17a,17bを接続した構造である。入力部11,12に接続する外部光回路の導波路は、必ずしも実施形態1のgap(図5参照)で示される間隔を維持しているとは限らない。そのため、離れた2つの導波路を接続するために、入力部11,12の前段に曲げ導波路17a,17bを接続する構造も考えられる。このときの曲げ半径は、導波する基本TEモードの損失が大きくなりすぎない程度が好ましい。また、曲げ導波路17a,17bは直接高次モード変換合波素子10の本発明のモード変換部13に接続されるのではなく、入力部11,12を成す直線導波路に接続される。このとき入力部11,12の長手方向の長さ(L2)は短すぎない方が良い。曲げ導波路を導波する光は、外周方向にモードが歪んでいるため、この歪んだモードの影響をなくす必要がある。もし、L2が短すぎると、電界分布が歪んだモードがモード変換部13に結合し、想定している効果が低下する可能性がある。これを回避するのに十分なL2は、例えば1波長(真空中の波長とする)程度の長さがあれば十分である。これは、1波長が導波路に入力された光が定常状態(即ちモードの電界分布)に落ち着くのに必要な長さのオーダになっているためである。
図16では、2つの入力部11,12の両方の前段に曲げ導波路17a,17bが接続されているが、特にこれに限定されるものではなく、いずれか一方の入力部11,12の前段のみに曲げ導波路が接続されてもよい。
使用例1や2では高次TEモード以外に、基本TEモードや高次TEモード以上の高次のモード(高次TEモードよりも実効屈折率の高いTEモード)が発生する。また、使用例3においても入力される基本TEモードの位相差がπからずれた場合、同様に基本TEモードなどが発生する。そのため、図17に示すように、高次TEモード(TE1)を抜き出す高次モードスプリッタ40を、実施形態1の高次モード変換合波素子10の後段に接続した実施形態が挙げられる。高次モードスプリッタ40として、方向性結合器型のデバイスがある(特願2012−183305参照)。
図17に示す高次モードスプリッタ40は、方向性結合器を形成する平行な2つの導波路41,42の間隔を適切に選ぶことにより、導波路41で導波可能な2種類以上の伝播モードの間で、結合係数の違いを十分に大きくし、高次TEモード(TE1)のみを導波路42に抜き出す(分離する)ことができる。つまり、導波路41に入力されたモードのうち、高次TEモードは、導波路42から出力され、その他(TE1以外)のモードは、導波路41から出力される。
平行な2つの導波路41,42の前後には、それぞれ曲げ導波路41a,41b,42a,42bが接続されている。高次モードスプリッタ40は、基本TEモードと高次TEモードの消光比を上げるために、多段に接続してもよい。また、高次TEモード(TE1)を導波路41に入力すると同時に、基本TEモード(TE0)を導波路42に入力した場合には、両者が多重化された信号(TE0/TE1)を導波路42から出力することができる。(例えば、実施形態6のDP−QPSK変調器を参照)
非特許文献1や2のように、高次TEモードの発生した後段に高次偏波変換素子を接続することで、入力した基本TEモードを基本TMモードとして出力するような形態が考えられる(図18参照)。図18は、実施形態1の高次モード変換合波素子10の後段に高次偏波変換素子50を接続した構造を示す。高次偏波変換素子50としては、高次TEモード(TE1)を基本TMモード(TM0)に変換する機能を有すればよく、その例として、非特許文献1,2と同様の上下クラッドの材質を変え屈折率分布を上下非対称にしたテーパ導波路が挙げられる。また、特願2013−135490に示したようなコア形状を非対称にした2段構造のテーパ導波路による高次偏波変換素子51も挙げられる(図19参照)。なお、図19(b)は、図19(a)の右向き矢印を添えた破線の位置における断面を示す。この高次偏波変換素子51は、上部コア52aと下部コア52bの幅が異なることにより、コア52の断面形状が上下非対称であり、さらに上部コア52aの幅又は下部コア52bの幅が光導波路の光の導波方向に対して連続的に変化することにより、高次TEモード(TE1)を基本TMモード(TM0)に変換することができる。高次偏波変換素子51の場合、コア52の構造が上下非対称であるため、クラッド53の構造には上下非対称性が不要となる。
前述したように、高次モード変換合波素子10では高次TEモード以外のモードが発生する場合がある。そこで、例えば図20に示すように、高次モード変換合波素子10の後段に高次偏波変換素子50を接続して高次TEモードを基本TMモードに変換した後、基本TMモードを抜き出す偏波ビームスプリッタ60を後段に接続した構造も考えられる。偏波ビームスプリッタとしては、参考文献1(Hiroshi Fukuda,et al.,“Ultrasmall polarization splitter based on silicon wire waveguides,” OPTICS EXPRESS,Vol.14,No.25,12401(2006))で示されているような方向性結合器型のものが挙げられる。
平行な2つの導波路61,62の前後には、それぞれ曲げ導波路61a,61b,62a,62bが接続されている。導波路61,62の前段の曲げ導波路61a,62aを片側だけ設けてもよく、導波路61,62の後段の曲げ導波路61b,62bを片側だけ設けてもよい。
偏波ビームスプリッタ60は、基本TEモードと基本TMモードの消光比を上げるために、多段に接続してもよい。また、基本TMモード(TM0)を導波路61に入力すると同時に、基本TEモード(TE0)を導波路62に入力した場合には、両者が多重化された信号(TE0/TM0)を導波路62から出力することができる。(例えば、実施形態5のDP−QPSK変調器を参照)
高次モード変換合波素子は、参考文献2(P.Dong,C.Xie,L.Chen,L.L.Buhl,and Y.−K. Chen,“112−Gb/s Monolithic PDM−QPSK Modulator in Silicon,” in European Conference and Exhibition on Optical Communication (2012),Vol.1,p. Th.3.B.1)で開示されているような偏波多重4値位相変調(Dual Polarization−Quadrature Phase Shift Keying(DP−QPSK))で使用することが可能である。
実施形態2を用いたDP−QPSK変調器も作製可能である。図22のDP−QPSK変調器80において、それぞれのQPSK変調器81,82が二つのMZ干渉計81a,81b,82a,82bと位相調整部83,83を有し、QPSK変調器82の合波部に高次モード変換合波素子10を備える点は、実施形態5と同様である。本実施形態では、偏波ビームスプリッタ60の代わりに高次モードスプリッタ40が設けられ、高次偏波変換素子51が偏波ビームスプリッタ60の前段ではなく、高次モードスプリッタ40の後段に設けられている点が、実施形態5と異なる。
実施形態3の組み合わせと偏波ビームスプリッタを用いたDP−QPSK変調器も作製可能である。図23に示すように、本実施形態のDP−QPSK変調器90は、一つのQPSK変調器92において、MZ干渉計92a,92bの合波部に高次モード変換合波素子10を用いる。また、I信号とQ信号との合波部には、基本TMモード用の合波部93を用いる。それぞれのQPSK変調器91,92が、I信号とQ信号の位相差がπ/2となるように調整する位相調整部94を有する点は、実施形態5,6と同様である。
曲げ導波路は、高次モード変換合波素子の入力部の前段に限られない。出力部の後段に曲げ導波路を接続してもよく、その他任意の場所に曲げ導波路を設けてもよい。
高次モード変換合波素子の出力部の後段に、導波路の幅を変更するテーパ状導波路を備えてもよい。このテーパ状導波路は、出力部から幅が徐々に狭くなる導波路でもよく、出力部から幅が徐々に広くなる導波路でもよい。
<実施例1>高次モード変換合波素子
基本的な実施例として、図14に基づき過剰損失が小さくなるように設計パラメータを選択したものが挙げられる。本実施例の高次モード変換合波素子は、Si−SiO2−SiからなるSOI(Silicon on insulator)基板をもとに形成する。SOI基板は、その中間のSiO2層を下部クラッドとして、上部のSi層をコアとして用いる。コア形成後、上部クラッドとしてSiO2層を設ける。図15にこのときの導波路断面図を示す。この断面は、光の進行方向に対して垂直な面を指す。
本実施例の高次モード変換合波素子は、前述したようにコア30にSi、上部クラッド31と下部クラッド32にSiO2を使用した高屈折率差の導波路により構成される。そのため、光のコアへの閉じ込めが強く、小型に作製することが可能である。
なお、入力部の幅をWa(nm)、幅広部の導波路幅をWb(nm)、突出部の幅をWc(nm)と定義するとき、これらを図5のパラメータと対応させると、次のとおりである。
Wb=W2+W3×2=gap+(W1+W3)×2、
Wc=W3=(Wb−(Wa×2+gap))/2
Claims (14)
- 基板型光導波路素子であって、
一定間隔を持つとともに同じ幅を持ち、互いに平行で、断面が矩形状の導波路である、二つの入力部と、
前記二つの入力部に接続された、直線導波路である幅広部と、
前記幅広部の後段に接続され、徐々に幅が狭くなるテーパ状の、少なくとも高次TEモードが伝搬するマルチモード導波路であるテーパ部と、
前記テーパ部の後段に接続された、断面が矩形状の、少なくとも高次TEモードが伝搬するマルチモード導波路である出力部とから成り、
前記二つの入力部に入力した基本TEモードを前記出力部から高次TEモードとして出力することが可能な高次モード変換合波素子を備え、
前記二つの入力部の前記一定間隔をgap(nm)、前記二つの入力部の前記同じ幅をWa(nm)、前記幅広部の導波路幅をWb(nm)とそれぞれ定義するとき、Wb>Wa×2+gapを満たし、前記二つの入力部の幅方向の中心が前記幅広部の幅方向の中心と一致することを特徴とする、基板型光導波路素子。 - 前記二つの入力部の一方または両方の前段に曲げ導波路が接続されることで、徐々に二つの入力部を近づける構造を持つことを特徴とする請求項1に記載の基板型光導波路素子。
- 前記二つの入力部の前段に、導波路の幅を変更するテーパ状導波路を備えることを特徴とする請求項1または2に記載の基板型光導波路素子。
- 前記出力部の後段に、導波路の幅を変更するテーパ状導波路を備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の基板型光導波路素子。
- 前記出力部の後段に、高次TEモードを抜き出す高次モードスプリッタを備えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の基板型光導波路素子。
- 前記高次モードスプリッタの後段に、高次TEモードを基本TMモードに変換する高次偏波変換素子を備えることを特徴とする請求項5に記載の基板型光導波路素子。
- 請求項6に記載の基板型光導波路素子を備えることを特徴とするDP−QPSK変調器。
- 前記出力部の後段に、高次TEモードを基本TMモードに変換する高次偏波変換素子を備えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の基板型光導波路素子。
- 前記高次偏波変換素子の後段に、基本TMモードを抜き出す偏波ビームスプリッタを備えることを特徴とする請求項8に記載の基板型光導波路素子。
- 請求項9に記載の基板型光導波路素子を備えることを特徴とするDP−QPSK変調器。
- 前記高次モード変換合波素子を構成する導波路は、コアを囲むクラッドが同一の材料から成ることを特徴とする請求項1〜6、8、9のいずれか1項に記載の基板型光導波路素子。
- 前記高次モード変換合波素子を構成する導波路は、コアを囲むクラッドが同一の材料から成ることを特徴とする請求項7または10に記載のDP−QPSK変調器。
- 前記高次モード変換合波素子を構成する導波路において、コアの高さは220nmであり、コアはSiから成り、クラッドはSiO2から成り、前記Wa(nm)および前記gap(nm)がそれぞれ、400≦Wa≦800かつ100≦gap≦500を満たし、
Wc(nm)およびWd(nm)を、それぞれ、Wc=(Wb−(Wa×2+gap))/2、Wd=(−0.0000000008350862×gap2−0.000000436986×gap+0.0008631515625)×Wa2+(0.0000016652002737×gap2+0.000208004578×gap−1.2672957688375)×Wa+(−0.00069425946204×gap2+0.670233759496504×gap+462.994458236249)と定義するとき、0<Wc<Wdを満たすことを特徴とする請求項11の基板型光導波路素子。 - 前記高次モード変換合波素子を構成する導波路において、コアの高さは220nmであり、コアはSiから成り、クラッドはSiO2から成り、前記Wa(nm)および前記gap(nm)がそれぞれ、400≦Wa≦800かつ100≦gap≦500を満たし、
Wc(nm)およびWd(nm)を、それぞれ、Wc=(Wb−(Wa×2+gap))/2、Wd=(−0.0000000008350862×gap2−0.000000436986×gap+0.0008631515625)×Wa2+(0.0000016652002737×gap2+0.000208004578×gap−1.2672957688375)×Wa+(−0.00069425946204×gap2+0.670233759496504×gap+462.994458236249)と定義するとき、0<Wc<Wdを満たすことを特徴とする請求項12に記載のDP−QPSK変調器。
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