JP2015075886A - 積層体、およびタッチパネルセンサ - Google Patents

Abstract

【課題】透明導電層の形状を不可視化できる積層体、およびタッチパネルセンサを提供する。【解決手段】中間基材フィルム１１と、中間基材フィルム１１上に積層され、かつパターニングされた第１の透明導電層１２とを備える積層体１０であって、第１の透明導電層１２が第１の低屈折率層１６の一部の表面に形成され、第１の透明導電層１２が存在している領域である透明導電層存在領域１０Ａにおける第１の透明導電層１２側から測定した光の反射率と、第１の透明導電層１２が存在せずに、第１の低屈折率層１６が露出している領域である透明導電層非存在領域１０Ｂにおける第１の低屈折率層１６側から測定した光の反射率との反射率差が１．５％となる波長が３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域に存在する。【選択図】図１

Description

本発明は、積層体、およびタッチパネルセンサに関する。

従来から、指などで触れることにより情報を入力することが可能なタッチパネルが知られている。タッチパネルには、種々の形式のものがあるが、その一つとして、静電容量方式のタッチパネルがある。静電容量方式のタッチパネルは、例えば、指などで接触した位置における静電容量の変化を捉えて、位置を検出するものである。

静電容量方式のタッチパネルに用いられるタッチパネルセンサには、透明基材と、透明基材上に積層された透明層と、透明層上に積層された上部電極層または下部電極層として機能する透明導電層を備えているものがある。

透明導電層は、フォトリソグラフィー法によってパターニングされており、所定の形状を有している。したがって、タッチパネルセンサは、透明導電層が存在している領域である透明導電層存在領域と、透明導電層が存在していない領域である透明導電層非存在領域とを有している。

しかしながら、透明導電層存在領域と透明導電層非存在領域との光の反射率差が大きいと、透明導電層の形状（パターン形状）が視認されてしまうことがある（いわゆる、骨見え現象）。現在、透明導電層の形状を不可視化するために、透明層と透明導電層との間に、低屈折率層および高屈折率層を設けて、透明導電層存在領域と透明導電層非存在領域との波長４５０〜７００ｎｍの光の反射率差を小さくしている（例えば、特許文献１参照）。

特表２０１３−５１３１３６号公報

しかしながら、透明導電層存在領域と透明導電層非存在領域との波長４５０〜７００ｎｍの光の反射率差を小さくしても、透明導電層の形状を不可視化できていないのが現状である。

この点について、本発明者らが鋭意研究を重ねたところ、透明導電層存在領域においては、今まで考慮されていなかった波長４５０ｎｍ未満の可視光短波長領域の反射率が波長４５０〜７００ｎｍの光の反射率に比べて極めて高く、また透明導電層非存在領域においては可視光短波長領域の反射率が波長４５０〜７００ｎｍの光の反射率に比べて極めて低くなっているため、透明導電層存在領域と透明導電層非存在領域での可視光短波長領域の反射率差が大きくなっており、この可視光短波長領域の反射率差によって透明導電層存在領域の青味が際立ち、これにより、透明導電層の形状が視認されてしまうことが見出された。

一方で、現在、タッチパネルの大面積化を図る観点から、透明導電層の低抵抗化が進んでおり、透明導電層の膜厚を厚くする傾向にある。透明導電層の膜厚が厚くなると、透明導電層存在領域での波長４５０〜７００ｎｍの光の反射率のみならず、４５０ｎｍ未満の可視光短波長領域の反射率もさらに上昇する。このため、透明導電層の低抵抗化が進むと、透明導電層存在領域と透明導電層非存在領域との可視光短波長領域の反射率差がさらに大きくなり、上記した問題が顕著になるおそれがある。

本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。すなわち、透明導電層の形状を不可視化できる積層体、およびタッチパネルセンサを提供することを目的とする。

本発明の一の態様によれば、中間基材フィルムと、前記中間基材フィルム上に積層され、かつパターニングされた透明導電層とを備える積層体であって、前記中間基材フィルムが、透明基材と、前記透明基材の一方の面上に設けられた透明層と、前記透明層上に積層され、前記透明層の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層と、前記高屈折率層上に積層され、前記高屈折率層よりも低い屈折率を有する低屈折率層とを備え、前記透明導電層が前記低屈折率層の一部の表面に形成され、前記透明導電層が存在している領域である透明導電層存在領域における透明導電層側から測定した光の反射率と、前記透明導電層が存在せずに、前記低屈折率層が露出している領域である透明導電層非存在領域における低屈折率層側から測定した光の反射率との反射率差が１．５％となる波長が３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域に存在する、積層体が提供される。

本発明の他の態様によれば、上部電極層と、前記上部電極層と所定の間隔を置いて配置された下部電極層とを備えるタッチパネルセンサであって、上記の積層体を備え、前記積層体の前記透明導電層が前記上部電極層または前記下部電極層として機能する、タッチパネルセンサが提供される。

本発明の一の態様の積層体および他の態様のタッチパネルセンサによれば、透明導電層存在領域における透明導電層側から測定した光の反射率と、透明導電層非存在領域における低屈折率層側から測定した光の反射率との反射率差が１．５％となる波長が３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域に存在するので、透明導電層を不可視化することができる。

実施形態に係る積層体の概略構成図である。 実施形態に係る積層体の一部の平面図である。 実施形態に係る他の積層体の概略構成図である。 実施形態に係る他の積層体の一部の平面図である。 実施形態に係るタッチパネルセンサの概略構成図である。 実施形態に係る他のタッチパネルセンサの概略構成図である。 実施例１に係るＩＴＯ層存在領域およびＩＴＯ層非存在領域の反射スペクトルを示すグラフである。 実施例２に係るＩＴＯ層存在領域およびＩＴＯ層非存在領域の反射スペクトルを示すグラフである。 実施例３に係るＩＴＯ層存在領域およびＩＴＯ層非存在領域の反射スペクトルを示すグラフである。 比較例に係るＩＴＯ層存在領域およびＩＴＯ層非存在領域の反射スペクトルを示すグラフである。

以下、本発明の実施形態に係る積層体について、図面を参照しながら説明する。本明細書において、「積層体」には、「積層フィルム」や「積層シート」等と呼ばれる部材も含まれる。また、本明細書において、「重量平均分子量」は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算により得られる値である。図１は本実施形態に係る積層体の概略構成図であり、図２は本実施形態に係る積層体の一部の平面図である。図３は本実施形態に係る他の積層体の概略構成図であり、図４は本実施形態に係る他の積層体の一部の平面図である。

［積層体および中間基材フィルム］
図１に示される積層体１０は、中間基材フィルム１１と、中間基材フィルム１１に積層された第１の透明導電層１２とを備えている。「中間基材フィルム」とは、例えば、タッチパネル等に組み込んで使用される場合には、タッチパネル等の最表面に用いられるものではなく、タッチパネル等の内部に用いられる基材フィルムを意味する。

中間基材フィルム１１は、第１の透明導電層１２を支持するためのものである。中間基材フィルム１１は、透明基材１３と、透明基材１３の一方の面１３Ａ上に積層された第１の透明層１４と、第１の透明層１４上に積層された第１の高屈折率層１５と、第１の高屈折率層１５上に積層された第１の低屈折率層１６と、透明基材１３の他方の面１３Ｂ上に積層された第２の透明層１７とを備えている。

中間基材フィルムは、第２の透明層を備えていなくともよい。また、中間基材フィルムは、第２の透明層上に第２の高屈折率層や第２の低屈折率層を備えていてもよい。具体的には、中間基材フィルムとしては、図１に示される中間基材フィルム１１の他、透明基材の一方の面上に第１の透明層、第１の高屈折率層、および第１の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層が設けられていない中間基材フィルム、透明基材の一方の面上に第１の透明層、第１の高屈折率層、および第１の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層および第２の高屈折率層がこの順で設けられた中間基材フィルム、および透明基材の一方の面上に第１の透明層、第１の高屈折率層、および第１の低屈折率層がこの順で設けられ、かつ透明基材の他方の面上に第２の透明層、第２の高屈折率層、および第２の低屈折率層がこの順で設けられた中間基材フィルムのいずれであってもよい。

第１の透明導電層１２はパターニングされているので、第１の低屈折率層１６の一部の表面に形成されている。すなわち、積層体１０においては、第１の透明導電層１２が存在している領域である透明導電層存在領域１０Ａと、第１の透明導電層１２が存在しておらず、第１の低屈折率層１６が露出している領域である透明導電層非存在領域１０Ｂとが存在している。なお、第１の透明導電層の形状は特に限定されないが、例えば、正方形状やストライプ状が挙げられる。図２に示されるように第１の透明導電層１２の形状は正方形状となっており、かつ第１の透明導電層１２は横方向に並んでいる。

積層体１０においては、透明導電層存在領域１０Ａにおける第１の透明導電層１２側から測定した光の反射率と、透明導電層非存在領域１０Ｂにおける第１の低屈折率層１６側から測定した光の反射率との差（反射率差）が１．５％となる波長が３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域に存在している。反射率は光源から入射角度が５°の光を照射し、かつ正反射方向の反射光を検出器で受光することによって測定される。本明細書において、「入射角度５°の光」とは、積層体の一方の面の法線方向を０°としたとき、前記法線方向に対して５°傾いた光を意味する。また、「反射率差」は、透明導電層存在領域における光の反射率から透明導電層非存在領域における光の反射率を引いた値の絶対値とする。上記反射率差が１．５％となる波長は、例えば、島津製作所社製のＵＶ３１００ＰＣのような公知の分光光度計を用いて透明導電層存在領域と透明導電層非存在領域のそれぞれの分光反射率を測定し、得られた分光反射率から求めることができる。分光光度計で測定された分光反射率は高周波成分が重畳しているので、微分変換法を用いたスムージング処理によって高周波成分を取り除いた分光反射率から上記反射率差が１．５％となる波長を求めることが好ましい。

透明導電層存在領域における第１の透明導電層側から測定した光の反射率は、パターニングされた第１の透明導電層に光を照射して、この領域における光の反射率を直接測定することによって得ることが可能であるが、第１の透明導電層のパターン形状が小さすぎる場合には、パターニングする前のベタ膜の状態の第１の透明導電層に光を照射し、反射率を測定することによって得てもよい。また、同様に、透明導電層非存在領域における第１の低屈折率層側から測定した光の反射率は、第１の透明導電層が存在せずに露出している第１の低屈折率層に光を照射し、この領域における光の反射率を直接測定することによって得ることが可能であるが、中間フィルム基材上に第１の透明導電層を形成する前において、中間基材フィルムの第１の低屈折率層に光を照射して、反射率を測定することによって得てもよい。

本実施形態によれば、透明導電層存在領域１０Ａにおける第１の透明導電層１２側から測定した光の反射率と、透明導電層非存在領域１０Ｂにおける第１の低屈折率層１６側から測定した光の反射率との差（反射率差）が１．５％となる波長が３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域に存在しているので、可視光短波長領域における反射率差も小さくなっている。これにより、透明導電層存在領域１０Ａの青味が透明導電層非存在領域１０Ｂと比べて際立つことを抑制できるので、第１の透明導電層１２の形状を不可視化できる。

上記反射率差が１．５％となる波長が３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域に存在する積層体は、主に、第１の低屈折率層の屈折率や膜厚および／または第１の高屈折率層の屈折率や膜厚を調整することによって得ることができる。

積層体１０においては、上記反射率差が１．５％となる波長から波長７８０ｎｍまでの領域における上記反射率差が１．５％以下となっていることが好ましい。上記反射率差が１．５％となる波長から波長７８０ｎｍまでの領域において上記反射率差が１．５％以下となっているので、透明導電層存在領域１０Ａにおいて、青味のみならず、幅広く他の色味が際立つことを抑制できる。

第１の透明導電層１２の上記反射率差が１．５％となる波長の光における屈折率をｎ_１（λ_１．５％）とし、第１の低屈折率層１６の上記反射率差が１．５％となる波長の光における屈折率をｎ_２（λ_１．５％）とし、第１の透明導電層１２の波長５８９ｎｍの光における屈折率をｎ_１（５８９）とし、第１の低屈折率層１６の波長５８９ｎｍの光における屈折率をｎ_２（５８９）としたとき、積層体１０は下記式（１）の関係を満たしていることが好ましい。
│ｎ_１（λ_１．５％）／ｎ_１（５８９）−ｎ_２（λ_１．５％）／ｎ_２（５８９）│＜０．１ …（１）

ｎ_１（λ_１．５％）／ｎ_１（５８９）およびｎ_２（λ_１．５％）／ｎ_２（５８９）の値は、それぞれ、１．０以上１．１以下の範囲内にあってよい。ｎ_１（λ_１．５％）／ｎ_１（５８９）およびｎ_２（λ_１．５％）／ｎ_２（５８９）がこの範囲内にある場合、ｎ_１（λ_１．５％）≧ｎ_１（５８９）となっており、またｎ_２（λ_１．５％）≧ｎ_２（５８９）となっているので、第１の透明導電層１２および第１の低屈折率層１６は、正の波長分散性を示している。

ｎ_１（λ_１．５％）、ｎ_２（λ_１．５％）、ｎ_１（５８９）およびｎ_２（５８９）は、例えば、アッベ屈折率計（アタゴ株式社製）や、エリプソメータ（株式会社堀場製作所製のエリプソメータＵＶＩＳＥＬ）などを用いて測定することができる。具体的には、エリプソメータでｎ_１（λ_１．５％）およびｎ_１（５８９）を測定する場合には、まず、第１の透明導電層と同じ材料を用いてガラス板上に透明導電層を形成し、透明導電層付きガラス板の状態で、エリプソメータで波長毎の屈折率を測定する。そして、この波長毎の屈折率からｎ_１（λ_１．５％）およびｎ_１（５８９）を求める。同様に、エリプソメータでｎ_２（λ_１．５％）およびｎ_２（５８９）を測定する場合には、まず、第１の低屈折率層と同じ材料を用いてガラス板上に低屈折率層を形成し、低屈折率層付きガラス板の状態で、エリプソメータで波長毎の屈折率を測定する。そして、この波長毎の屈折率からｎ_２（λ_１．５％）およびｎ_２（５８９）を求める。

第１の低屈折率層は多層構成であってもよく、この場合には、第１の低屈折率層の屈折率ｎ_２（λ_１．５％）およびｎ_２（５８９）とは、第１の低屈折率層全体の上記反射率差が１．５％となる波長の光における屈折率および波長５８９ｎｍの光における屈折率を意味するものとする。

物質の屈折率は波長によって変動するので、積層体を構成する層の屈折率は、通常、波長５８９ｎｍの光の屈折率に基づいて設計されている。第１の透明導電層１２や第１の低屈折率層１６においても、同様に、光の波長によって屈折率が変動しているが、上記式（１）の関係を満たしている場合には、第１の透明導電層１２や第１の低屈折率層１６の波長５８９ｎｍの光の屈折率と、第１の透明導電層１２や第１の低屈折率層１６の波長４５０ｎｍ未満の可視光短波長領域の光の屈折率とのずれが少ない。このため、第１の透明導電層１２の形状を不可視化するための第１の透明導電層１２および第１の低屈折率層１６の光学設計を、波長５８９ｎｍの光の屈折率を用いて行ったとしても、波長３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域で上記反射率差を１．５％以下とすることが可能である。

透明導電層存在領域１０Ａにおける第１の透明導電層１２側での反射光のＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、および色座標ｂ^*をそれぞれ、明度Ｌ^* _１、色座標ａ^* _１、および色座標ｂ^* _１とし、透明導電層非存在領域１０Ｂにおける第１の低屈折率層１６側での反射光の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、および色座標ｂ^*をそれぞれ、明度Ｌ^* _２、色座標ａ^* _２、および色座標ｂ^* _２としたとき、積層体１０は下記式（２）〜（４）を満たすことが好ましい。「Ｌ^*ａ^*ｂ^*表色系」、「Ｌ^*」、「ａ^*」、および「ｂ^*」は、ＪＩＳ Ｚ８７２９に準拠するものである。
０≦│Ｌ^* _１−Ｌ^* _２│≦１．５ …（２）
０≦│ａ^* _１−ａ^* _２│≦２．５ …（３）
０≦│ｂ^* _１−ｂ^* _２│≦６．０ …（４）

積層体１０が上記式（２）〜（４）を満たすことにより、特に上記式（４）を満たすことにより、第１の透明導電層１２の形状をより不可視化することができる。

上記反射光の上記Ｌ^* _１、Ｌ^* _２、ａ^* _１、ａ^* _２、ｂ^* _１、およびｂ^* _２から求めた透明導電層存在領域１０Ａにおける第１の透明導電層１２側での反射光と透明導電層非存在領域１０Ｂにおける第１の低屈折率層１６側での反射光の色差ΔＥ^*ａｂは、５．０以下であることが好ましい。「ΔＥ^*ａｂ」は、ＪＩＳ Ｚ８７３０に準拠するものである。透明導電層存在領域１０Ａの反射光と透明導電層非存在領域１０Ｂの反射光の色差ΔＥ^*ａｂを５．０以下とすることにより、第１の透明導電層１２の形状をより不可視化することができる。

透明導電層存在領域１０Ａに向けて透明基材１３側（第２の透明層１７側）から入射角度０°の光を照射したときの透明導電層存在領域１０Ａを透過した光（透過光）のＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、および色座標ｂ^*をそれぞれ、明度Ｌ^* _３、色座標ａ^* _３、および色座標ｂ^* _３とし、透明導電層非存在領域１０Ｂに向けて透明基材１３側（第２の透明層１７側）から入射角度０°の光を照射したときの透明導電層存在領域１０Ａを透過した光（透過光）の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、および色座標ｂ^*をそれぞれ、明度Ｌ^* _４、色座標ａ^* _４、および色座標ｂ^* _４としたとき、積層体１０は下記式（５）〜（７）を満たすことが好ましい。
０≦│Ｌ^* _３−Ｌ^* _４│≦０．５ …（５）
０≦│ａ^* _３−ａ^* _４│≦０．５ …（６）
０≦│ｂ^* _３−ｂ^* _４│≦１．０ …（７）

上記透過光の上記Ｌ^* _３、Ｌ^* _４、ａ^* _３、ａ^* _４、ｂ^* _３、およびｂ^* _４から求めた透明導電層存在領域１０Ａの透過光と透明導電層非存在領域１０Ｂの透過光の色差ΔＥ^*ａｂは、１．０以下であることが好ましい。透明導電層存在領域１０Ａの透過光と透明導電層非存在領域１０Ｂの透過光の色差ΔＥ^*ａｂを１．０以下とすることにより、タッチパネルの使用時において、第１の透明導電層１２の形状を不可視化することができる。

上記においては、第１の透明導電層１２が横方向に並んでいる積層体１０を用いて説明しているが、積層体としては、例えば、第１の透明導電層１８が縦方向に並んでいる、図３および図４に示される積層体３０であってもよい。

積層体１０と積層体３０は、第１の透明導電層１２と第１の透明導電層１８の配置が異なるだけである。したがって、積層体３０においても、積層体１０と同様に、第１の透明導電層１８が存在している領域である透明導電層存在領域３０Ａと、第１の透明導電層１８が存在しておらず、第１の低屈折率層１６が露出している領域である透明導電層非存在領域３０Ｂとが存在している。

積層体３０においては、積層体１０と同様に、透明導電層存在領域３０Ａにおける第１の透明層１２側から測定した光の反射率と、透明導電層非存在領域３０Ｂにおける第１の低屈折率層１６側から測定した光の反射率との反射率差が１．５％となる波長が３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域に存在している。したがって、積層体３０においても、第１の透明層１８の形状を不可視化できる。なお、その他の点も、積層体１０と同様であるので、ここでは説明を省略する。

＜透明基材＞
透明基材１３としては、光透過性を有すれば特に限定されないが、例えば、ポリオレフィン基材、ポリカーボネート基材、ポリアクリレート基材、ポリエステル基材、芳香族ポリエーテルケトン基材、ポリエーテルサルフォン基材、ポリアミド基材、またはガラス基材が挙げられる。

ポリオレフィン基材としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ポリオレフィン基材等の少なくとも１種を構成成分とする基材が挙げられる。環状ポリオレフィン基材としては、例えばノルボルネン骨格を有するものが挙げられる。

ポリカーボネート基材としては、例えば、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ等）をベースとする芳香族ポリカーボネート基材、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート基材等が挙げられる。

ポリアクリレート基材としては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル基材、ポリ（メタ）アクリル酸エチル基材、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体基材等が挙げられる。

ポリエステル基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）の少なくとも１種を構成成分とする基材が挙げられる。

芳香族ポリエーテルケトン基材としては、例えば、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）基材等が挙げられる。

透明基材１３の厚みは、特に限定されないが、５μｍ以上３００μｍ以下とすることが可能であり、透明基材１３の厚みの下限はハンドリング性等の観点から１０μｍ以上が好ましく、５０μｍ以上がより好ましい。透明基材１３の厚みの上限は薄膜化の観点から２００ｍ以下であることが好ましい。

透明基材１３の表面には、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理の他、アンカー剤やプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。アンカー剤やプライマー剤としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、エチレンと酢酸ビニルまたはアクリル酸などとの共重合体、エチレンとスチレンおよび／またはブタジエンなどとの共重合体、オレフィン樹脂などの熱可塑性樹脂および／またはその変性樹脂、光重合性化合物の重合体、およびエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂等の少なくともいずれかを用いることが可能である。

＜第１の透明層＞
第１の透明層１４は、透明性を有していればよいが、ハードコート性を有することが好ましい。第１の透明層１４がハードコート性を有する場合、第１の透明層１４の表面はＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で「Ｈ」以上の硬度を有する。鉛筆硬度を「Ｈ」以上とすることにより、第１の透明層１４の硬さを第１の低屈折率層１６の表面に十分に反映させることができ、耐久性を向上させることができる。なお、第１の透明層１４上に形成する第１の高屈折率層１５との密着性、靱性およびカールの防止の観点から、第１の透明層１４の表面の鉛筆硬度の上限は４Ｈ程度程とすることが好ましい。タッチパネルセンサは、繰り返し押圧され高度な密着性および靱性が要求されることから、第１の透明層１４の鉛筆硬度の上限を４Ｈとすることにより、中間基材フィルム１１をタッチパネルセンサに組み込んで使用する場合に顕著な効果を発揮できる。

第１の透明層１４の膜厚は１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。第１の透明層１４の膜厚がこの範囲であれば、所望の硬度を得ることができるとともに、第１の透明層の薄膜化を図ることができる。また、第１の透明導電層１２を形成する際に透明基材１３を加熱すると、この加熱によって透明基材１３からオリゴマーが析出して白く濁って見えることがあるが、この範囲の膜厚を有する第１の透明層１４を形成することによって、このオリゴマーの析出を抑制することができる。第１の透明層１４の膜厚は、断面顕微鏡観察により測定することができる。

第１の透明層１４の膜厚の下限は、第１の透明層の割れを抑制する観点から、５μｍ以下であることがより好ましい。また、第１の透明層の薄膜化を図る一方で、カールの発生を抑制する観点から、第１の透明層１４の膜厚は０．５μｍ以上５．０μｍ以下であることがさらに好ましい。ただし、中間基材フィルム１１のように、透明基材１３の一方の面１３Ａに第１の透明層１４を形成し、かつ他方の面１３Ｂに第２の透明層１７を形成している場合には、第１の透明層１４と第２の透明層１７でカールの発生を抑制できることから、第１の透明層１４の膜厚は５μｍを超えていてもよい。

第１の透明層１４の屈折率は、１．４５以上１．６０以下であってもよい。第１の透明層１４の屈折率の下限は、１．５０以上であってもよく、第１の透明層１４の屈折率の上限は、１．５８以下であってもよい。透明基材１３と第１の透明層１４との屈折率差は、干渉縞が視認されることを抑制する観点から、０．１０以内とすることが好ましく、０．０６以内とすることがより好ましい。ここで、透明基材１３の表面にアンカー剤やプライマー剤が塗布されている場合には、透明基材１３と第１の透明層１４との屈折率差は、アンカー剤やプライマー剤と第１の透明層との屈折率差である。

第１の透明層１４の屈折率は、単独の層を形成した後、アッベ屈折率計（アタゴ社製 ＮＡＲ−４Ｔ）やエリプソメータによって測定できる。また、中間基材フィルム１１となった後に屈折率を測定する方法としては、第１の透明層１４をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、ＪＩＳ Ｋ７１４２（２００８）Ｂ法（粉体または粒状の透明材料用）に従ったベッケ法（屈折率が既知のカーギル試薬を用い、前記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線；ベッケ線が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法）を用いることができる。

第１の透明層１４は、少なくとも樹脂から構成することが可能である。なお、樹脂の他に、微粒子を含んでいてもよい。

〈樹脂〉
樹脂は、光重合性化合物の重合物（架橋物）を含むものである。樹脂は、光重合性化合物の重合物（架橋物）の他、溶剤乾燥型樹脂や熱硬化性樹脂を含んでいてもよい。光重合性化合物は、光重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。本明細書における、「光重合性官能基」とは、光照射により重合反応し得る官能基である。光重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性二重結合が挙げられる。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。また、光重合性化合物を重合する際に照射される光としては、可視光線、並びに紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、およびγ線のような電離放射線が挙げられる。

光重合性化合物としては、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、または光重合性ポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して、用いることができる。光重合性化合物としては、光重合性モノマーと、光重合性オリゴマーまたは光重合性ポリマーとの組み合わせが好ましい。

（光重合性モノマー）
光重合性モノマーは、重量平均分子量が１０００未満のものである。光重合性モノマーとしては、光重合性官能基を２つ（すなわち、２官能）以上有する多官能モノマーが好ましい。

２官能以上のモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ等で変性したものが挙げられる。

これらの中でも硬度が高い第１の透明層を得る観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート(ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）等が好ましい。

（光重合性オリゴマー）
光重合性オリゴマーは、重量平均分子量が１０００以上１００００未満のものである。光重合性オリゴマーとしては、２官能以上の多官能オリゴマーが好ましい。多官能オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、 ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル−ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

（光重合性ポリマー）
光重合性ポリマーは、重量平均分子量が１００００以上のものであり、重量平均分子量としては１００００以上８００００以下が好ましく、１００００以上４００００以下がより好ましい。重量平均分子量が８００００を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる光学積層体の外観が悪化するおそれがある。上記多官能ポリマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、ポリエステル−ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

溶剤乾燥型樹脂は、熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂である。溶剤乾燥型樹脂を添加した場合、第１の透明層１４を形成する際に、塗液の塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。

熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。

熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

熱硬化性樹脂としては、特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。

〈微粒子〉
微粒子は、無機微粒子または有機微粒子のいずれであってもよいが、これらの中でも、例えば、シリカ（ＳｉＯ_２）微粒子、アルミナ微粒子、チタニア微粒子、酸化スズ微粒子、アンチモンドープ酸化スズ（略称；ＡＴＯ）微粒子、酸化亜鉛微粒子等の無機酸化物微粒子が好ましい。

有機微粒子としては、例えば、プラスチックビーズを挙げることができる。プラスチックビーズとしては、具体例としては、ポリスチレンビーズ、メラミン樹脂ビーズ、アクリルビーズ、アクリル−スチレンビーズ、シリコーンビーズ、ベンゾグアナミンビーズ、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。

第１の透明層１４を形成するためには、まず、透明基材１３の表面に、少なくとも光重合性化合物を含む第１の透明層用組成物を塗布する。次いで、塗膜状の第１の透明層用組成物を乾燥させるために加熱されたゾーンに搬送し、各種の公知の方法で第１の透明層用組成物を乾燥させ溶剤を蒸発させる。その後、塗膜状の第１の透明層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合（架橋）させることにより第１の透明層用組成物を硬化させて、第１の透明層１４を形成する。

第１の透明層用組成物を塗布する方法としては、スピンコート、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。

第１の透明層用組成物を硬化させる際の光として、紫外線を用いる場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等から発せられる紫外線等が利用できる。また、紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。

第１の透明層用組成物には、必要に応じて、上記微粒子、上記熱可塑性樹脂、上記熱硬化性樹脂、溶剤、重合開始剤を添加してもよい。さらに、第１の透明層用組成物には、第１の透明層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する等の目的に応じて、従来公知の分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤等を添加していてもよい。

〈溶剤〉
溶剤としては、例えば、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、シクロヘプタノン、ジエチルケトン等）、エーテル類（１，４−ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテルジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。

〈重合開始剤〉
重合開始剤は、光照射により分解されて、ラジカルを発生して光重合性化合物の重合（架橋）を開始または進行させる成分である。

重合開始剤は、光照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。

上記重合開始剤としては、上記バインダ樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。

第１の透明層用組成物における重合開始剤の含有量は、光重合性化合物１００質量部に対して、０．５質量部以上１０．０質量部以下であることが好ましい。重合開始剤の含有量をこの範囲内にすることにより、ハードコート性能が充分に保つことができ、かつ硬化阻害を抑制できる。

第１の透明層用組成物中における原料の含有割合（固形分）としては特に限定されないが、通常は５質量％以上７０質量％以下が好ましく、２５質量％以上６０質量％以下とすることがより好ましい。

＜第１の高屈折率層＞
第１の高屈折率層１５は、第１の透明層１４の屈折率よりも高い屈折率を有する層である。具体的には、第１の高屈折率層１５の屈折率は、１．５０以上２．００以下であってもよい。第１の高屈折率層１５の屈折率の下限は、１．６０以上であってもよく、第１の高屈折率層１５の屈折率の上限は、１．７５以下であってもよい。第１の高屈折率層１５の屈折率は、上記第１の透明層１４の屈折率と同様の方法によって測定することができる。第１の透明層１４と第１の高屈折率層１５との屈折率差は、０．０５以上０．２５以下であってもよい。

第１の高屈折率層１５の膜厚は、２００ｎｍ以下となっていることが好ましい。第１の高屈折率層１５の膜厚の下限は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、３０ｎｍ以上であることがより好ましい。第１の高屈折率層１５の膜厚の上限は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、７０ｎｍ以下であることがより好ましい。

第１の高屈折率層１５としては、第１の透明層１４の屈折率よりも高い屈折率を有する層であれば、特に限定されないが、第１の高屈折率層１５は、例えば、高屈折率微粒子と、バインダ樹脂とから構成することができる。

第１の高屈折率層１５を構成する高屈折率微粒子としては、金属酸化物微粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ_２、屈折率：２．３〜２．７）、酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５、屈折率：２．３３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２、屈折率：２．１０）、酸化アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_５、屈折率：２．０４）、酸化スズ（ＳｎＯ_２、屈折率：２．００）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、酸化セリウム（ＣｅＯ_２、屈折率：１．９５）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、アンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ_２Ｏ_６、屈折率：１．９０〜２．００）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率：１．９０）、酸化イットリウム（Ｙ_２Ｏ_３、屈折率：１．８７）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）等が挙げられる。これらの中でも、屈折率の観点から、酸化ジルコニウムが好ましい。

第１の高屈折率層１５を構成するバインダ樹脂は特に制限されることがなく、熱可塑性樹脂を用いることもできるが、表面硬度を高くする観点から、熱硬化性樹脂又は光重合性化合物等の重合物（架橋物）であるものが好ましく、中でも光重合性化合物の重合物であるものがより好ましい。

熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等の樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を硬化させる際には、硬化剤を用いてもよい。

光重合性化合物としては、特に限定されないが、光重合性モノマー、オリゴマー、ポリマーを用いることができる。１官能の光重合性モノマーとしては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等が挙げられる。また、２官能以上の光重合性モノマーとしては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、これらの化合物をエチレンオキサイド、ポリエチレンオキサイド等で変性した化合物等が挙げられる。

また、これらの化合物は、芳香族環、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄、窒素、リン原子等を導入して、屈折率を高く調整したものであってもよい。さらに、上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も使用することができる。光重合性化合物を重合（架橋）させる際には、第１の透明層の欄で説明した重合開始剤を用いてもよい。

第１の高屈折率層１５は、例えば、第１の透明層１４の形成方法と同様の方法によって形成することが可能である。具体的には、まず、第１の透明層１４の表面に、少なくとも高屈折率微粒子と光重合性化合物を含む第１の高屈折率層用組成物を塗布する。次いで、塗膜状の第１の高屈折率層用組成物を乾燥させるために加熱されたゾーンに搬送し、各種の公知の方法で第１の高屈折率層用組成物を乾燥させ溶剤を蒸発させる。その後、塗膜状の第１の高屈折率層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合（架橋）させることにより第１の高屈折層用組成物を硬化させて、第１の高屈折率層１５を形成することができる。

＜第１の低屈折率層＞
第１の低屈折率層１６は、第１の高屈折率層１５の屈折率よりも低い屈折率を有する層である。具体的には、第１の低屈折率層１６の屈折率は、１．３５以上１．５５以下であってもよい。第１の低屈折率層１６の屈折率の下限は、１．４０以上であってもよく、第１の低屈折率層１６の屈折率の上限は、１．５０以下であってもよい。第１の低屈折率層１６の屈折率は、上記第１の透明層１４の屈折率と同様の方法によって測定することができる。第１の高屈折率層１５と第１の低屈折率層１６との屈折率差は、０．１０以上０．２５以下であってもよい。

第１の低屈折率層１６の膜厚は、２００ｎｍ以下となっていることが好ましい。第１の低屈折率層１６の膜厚の下限は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、１５ｎｍ以上であることがより好ましい。第１の低屈折率層１６の膜厚の上限は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましい。

第１の低屈折率層１６としては、第１の高屈折率層１５の屈折率よりも低い屈折率を有する層であれば、特に限定されないが、第１の低屈折率層１６は、例えば、低屈折率微粒子と、バインダ樹脂とから、または低屈折率樹脂から構成することができる。

低屈折率微粒子としては、例えば、シリカ、またはフッ化マグネシウムからなる中実または中空粒子等が挙げられる。これらの中でも、中空シリカ粒子が好ましく、このような中空シリカ粒子は、例えば、特開２００５−０９９７７８号公報の実施例に記載の製造方法にて作製できる。

低屈折率微粒子としては、シリカ表面に反応性官能基を有する反応性シリカ微粒子を用いることが好ましい。反応性官能基としては、光重合性官能基が好ましい。このような反応性シリカ微粒子は、シランカップリング剤等によってシリカ微粒子を表面処理することによって作成することができる。シリカ微粒子の表面をシランカップリング剤で処理する方法としては、シリカ微粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、シリカ微粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。

第１の低屈折率層１６を構成するバインダ樹脂としては、第１の高屈折率層１５を構成するバインダ樹脂と同様のものが挙げられる。ただし、バインダ樹脂に、フッ素原子を導入した樹脂や、オルガノポリシロキサン等の屈折率の低い材料を混合してもよい。

低屈折率樹脂としては、フッ素原子を導入した樹脂や、オルガノポリシロキサン等の屈折率の低い樹脂が挙げられる。

第１の低屈折率層１６は、例えば、第１の透明層１４の形成方法と同様の方法によって形成することが可能である。具体的には、まず、第１の高屈折率層１５の表面に、少なくとも低屈折率微粒子と光重合性化合物を含む第１の低屈折率層用組成物を塗布する。次いで、塗膜状の第１の低屈折率層用組成物を乾燥させるために加熱されたゾーンに搬送し、各種の公知の方法で第１の低屈折率層用組成物を乾燥させ溶剤を蒸発させる。その後、塗膜状の第１の高屈折率層用組成物に紫外線等の光を照射して、光重合性化合物を重合（架橋）させることにより第１の低屈折層用組成物を硬化させて、第１の低屈折率層１６を形成することができる。

第１の高屈折率層１５と第１の低屈折率層１６との間には、第１の高屈折率層１５の屈折率よりも低く、かつ第１の低屈折率層１６の屈折率よりも高い屈折率を有する中屈折率層（図示せず）を設けられていてもよい。

＜第２の透明層＞
第２の透明層１７は、ハードコート性を有することが好ましい。第２の透明層１７がハードコート性を有する場合、第２の透明層１７の表面はＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で「Ｈ」以上の硬度を有する。なお、第１の透明層１４に記載した理由と同様の理由から、第２の透明層１７の表面の鉛筆硬度の上限は４Ｈ程度程とすることが好ましい。

第２の透明層１７の膜厚は、５μｍ以下であってもよいが、透明基材１３の他方の面１３Ｂに第２の透明層１７が設けられている場合には、透明基材１３の一方の面１３Ａには第１の透明層１４が必ず設けられているので、上記した理由から５μｍを超えていてもよい。第１の透明層１３の膜厚が０．５μｍ以上５．０μｍ以下である場合、第２の透明層１７の膜厚は、０．５μｍ以上５．０μｍ以下であることが好ましい。

第２の透明層１７の屈折率は、第１の透明層１４の欄で説明した理由と同様の理由から、１．４５以上１．６０以下であってもよい。第２の透明層１７の屈折率の下限は、１．５０以上であってもよく、第２の透明層１７の屈折率の上限は、１．５８以下であってもよい。透明基材１３と第２の透明層１７との屈折率差は、干渉縞が視認されることを抑制する観点から、０．１０以内とすることが好ましく、０．０６以内とすることがより好ましい。第２の透明層１７の屈折率は、上記第１の透明層１４の屈折率と同様の方法によって測定することができる。

第２の透明層は、第１の透明層の欄で記載した材料および方法によって形成することができる。

＜第１の透明導電層＞
第１の透明導電層１２、１８は、取出パターン（図示せず）を介して端子部（図示せず）に接続されている。

第１の透明導電層１２、１８は、透明導電材料から構成されている。透明導電材料としては、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸化スズ、酸化亜鉛−酸化スズ系、酸化インジウム−酸化スズ系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの金属酸化物等が挙げられる。

第１の透明導電層１２、１８の膜厚は、電気抵抗の仕様などに応じて適宜設定されるが、例えば１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましい。

第１の透明導電層１２、１８の形成方法は、特には限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、塗工法、印刷法などを用いることができる。第１の透明導電層１２、１８をパターニングする方法としては、例えばフォトリソグラフィー法が挙げられる。

なお、第２の透明層１７上に第２の高屈折率層および第２の低屈折率層が備えられている場合、第２の低屈折率層上にパターニングされた第２の透明導電層を設けられていてもよい。第２の透明導電層は、第１の透明導電層１２と同様の構成（膜厚、配置等）となっていることが好ましい。また、第２の透明導電層５１は第１の透明導電層１２と同様の材料から構成することが可能である。

〔タッチパネルセンサ〕
積層体１０、３０は、例えば、タッチパネルセンサに組み込んで使用することができる。図５は本実施形態に係る積層体を組み込んだタッチパネルセンサの概略構成図であり、図６は本実施形態に係る積層体を組み込んだ他のタッチパネルセンサの概略構成図である。

図５に示されるタッチパネルセンサ４０は、積層体１０と積層体３０を積層した構造を有している。積層体１０と積層体３０との間には透明粘着層４１が設けられており、また積層体１０上には透明粘着層４２が設けられている。すなわち、積層体１０と積層体３０とは透明粘着層４１によって貼り付けられており、またタッチパネルセンサ４０は透明粘着層４２によって他の部材と貼り付け可能となっている。

積層体１０の第１の透明導電層１２は、タッチパネルセンサ４０における上部電極層として機能するものであり、積層体３０の第１の透明導電層１８は、タッチパネルセンサ４０における下部電極層として機能するものである。

積層体３０は、他の態様のタッチパネルセンサに組み込まれてもよい。図６に示されるタッチパネルセンサ５０は、積層体３０と、積層体３０の第１の透明導電層１８上に設けられ、パターニングされた第２の透明導電層５１と、第１の透明導電層１８と第２の透明導電層５１とを貼り付けるための透明粘着層５２とを備えている。第２の透明導電層５１は、ガラス板５３の一方の面に形成されたものであり、第２の透明導電層５１とガラス板５３とは一体化している。

第１の透明導電層１８は、タッチパネルセンサ５０における下部電極層として機能するものであり、第２の透明導電層５１は、タッチパネルセンサ５０における上部電極層として機能するものである。

＜第２の透明導電層＞
第２の透明導電層５１は、第１の透明導電層１２と同様の構成（膜厚、配置等）となっていることが好ましい。また、第２の透明導電層５１は第１の透明導電層１２と同様の材料から構成することが可能である。

＜透明粘着層＞
透明粘着層４１、４２、５２としては、公知の感圧接着層や粘着シートが挙げられる。

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。

＜透明層用組成物の調製＞
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、透明層用組成物を得た。
（透明層用組成物）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（日本化薬社製、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０」）：５０質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、製品名「イルガキュア１８４」）：２質量部
・シリコーン系レベリング剤（大日精化工業社製、製品名「セイカビーム１０−２８」、固形分１０％）：０．１質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：６０質量部
・シクロヘキサノン：１５質量部

＜高屈折率層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、高屈折率層用組成物を得た。
（高屈折率層用組成物１）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（日本化薬社製、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０」）：１３質量部
・酸化ジルコニウム粒子（高屈折率粒子、住友大阪セメント社製、製品名「ＭＺ−２３０Ｘ」、固形分３２．５％、平均粒子径２５ｎｍ）：７０質量部
・シリカ粒子（易滑剤、ＣＩＫナノテック社製、製品名「ＳＩＲＭＩＢＫ−Ｈ８４」、固形分３０％）：０．５質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、製品名「イルガキュア１２７」）：１質量部
・シリコーン系レベリング剤（大日精化工業社製、製品名「セイカビーム１０−２８」、固形分１０％）：０．４質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：４５０質量部
・シクロヘキサノン：２５０質量部
・メチルエチルケトン：（ＭＥＫ）：４５０質量部

（高屈折率層用組成物２）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（日本化薬社製、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０」）：１６質量部
・酸化ジルコニウム粒子（高屈折率粒子、住友大阪セメント社製、製品名「ＭＺ−２３０Ｘ」、固形分３２．５％、平均粒子径２５ｎｍ）：６２質量部
・シリカ粒子（易滑剤、ＣＩＫナノテック社製、製品名「ＳＩＲＭＩＢＫ−Ｈ８４」、固形分３０％）：０．５質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、製品名「イルガキュア１２７」）：１質量部
・シリコーン系レベリング剤（大日精化工業社製、製品名「セイカビーム１０−２８」、固形分１０％）：０．４質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：４５０質量部
・シクロヘキサノン：２５０質量部
・メチルエチルケトン：（ＭＥＫ）：４５０質量部

（高屈折率層用組成物３）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（日本化薬社製、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０」）：１１質量部
・酸化ジルコニウム粒子（高屈折率粒子、住友大阪セメント社製、製品名「ＭＺ−２３０Ｘ」、固形分３２．５％、平均粒子径２５ｎｍ）：７８質量部
・シリカ粒子（易滑剤、ＣＩＫナノテック社製、製品名「ＳＩＲＭＩＢＫ−Ｈ８４」、固形分３０％）：０．５質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、製品名「イルガキュア１２７」）：０．８質量部
・シリコーン系レベリング剤（大日精化工業社製、製品名「セイカビーム１０−２８」、固形分１０％）：０．４質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：４５０質量部
・シクロヘキサノン：２５０質量部
・メチルエチルケトン：（ＭＥＫ）：４５０質量部

＜低屈折率層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、低屈折率層用組成物を得た。
（低屈折率層用組成物）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（日本化薬社製、製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０」）：５質量部
・シリカゾル粒子（低屈折率粒子、日産化学工業社製、ＭＩＢＫ−ＳＴ、固形分３０％、平均粒子径１０〜１５ｎｍ）：１５質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、製品名「イルガキュア１２７」）：０．７質量部
・シリコーン系レベリング剤（大日精化工業社製、製品名「セイカビーム１０−２８」、固形分１０％）：０．２質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１０００質量部
・シクロヘキサノン：２５０質量部

＜実施例１＞
透明基材としての厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート基材（製品名「Ａ４３００」、東洋紡績社製）を準備し、ポリエチレンテレフタレート基材の片面に、透明層用組成物を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．２ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が３００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚が４μｍの第２の透明層を形成した。次いで、ポリエチレンテレフタレート基材を反転させ、ポリエチレンテレフタレート基材の他方の面に、上記と同様の透明層用組成物を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．２ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ^２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚が４μｍの第１の透明層を形成して、ポリエチレンテレフタレート基材の両面に透明層を形成した。次いで、ポリエチレンテレフタレート基材の他方の面に形成された第１の透明層上に、高屈折率層用組成物を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜を、４０℃で１分間乾燥させた後、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射を行って硬化させて、膜厚が４５ｎｍの高屈折率層を形成した。次いで、高屈折率層上に、低屈折率層用組成物を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜を、４０℃で１分間乾燥させた後、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射を行って硬化させて、膜厚が２０ｎｍの低屈折率層を形成した。これにより、中間基材フィルムを作製した。

中間基材フィルムを作製した後、低屈折率層の表面にスパッタリング法により膜厚が２６ｎｍのＩＴＯ層を形成した。スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）層を形成した後、フォトリソグラフィー技術を利用して、ＩＴＯ層をパターニングした。これにより、ＩＴＯ層が存在しているＩＴＯ層存在領域と、ＩＴＯ層が存在しておらず、低屈折率層が露出したＩＴＯ層非存在領域とを有する実施例１に係る積層体を作製した。実施例１の第１の透明層、第２の透明層、高屈折率層、低屈折率層、ＩＴＯ層の波長５８９ｎｍでの屈折率をエリプソメータ（エリプソメータＵＶＩＳＥＬ 株式会社堀場製作所製）でそれぞれ測定したところ、第１の透明層および第２の透明層の屈折率は１．５２であり、高屈折率層の屈折率は１．６７であり、低屈折率層の屈折率は１．４９であり、ＩＴＯ層の屈折率は２．０であった。

＜実施例２＞
実施例２においては、高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物２を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、中間基材フィルムを作製した。実施例２の高屈折率層の波長５８９ｎｍでの屈折率をエリプソメータ（エリプソメータＵＶＩＳＥＬ 株式会社堀場製作所製）で測定したところ、屈折率は１．６３であった。

＜実施例３＞
実施例３においては、高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物３を用い、かつ高屈折率層の膜厚を３０ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、中間基材フィルムを作製した。実施例３の高屈折率層の波長５８９ｎｍでの屈折率をエリプソメータ（エリプソメータＵＶＩＳＥＬ 株式会社堀場製作所製）で測定したところ、屈折率は１．７０であった。

＜比較例＞
比較例においては、高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物２を用い、かつ高屈折率層の膜厚を５０ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、中間基材フィルムを作製した。比較例の高屈折率層の波長５８９ｎｍでの屈折率をエリプソメータ（エリプソメータＵＶＩＳＥＬ 株式会社堀場製作所製）で測定したところ、屈折率は１．６３であった。

＜積層体におけるＩＴＯ層存在領域光とＩＴＯ層非存在領域との分光反射率＞
実施例及び比較例で得られた積層体において、以下のようにして、ＩＴＯ層存在領域の分光反射率と、ＩＴＯ層非存在領域の分光反射率とを測定した。まず、第２の透明層におけるポリエチレンテレフタレート基材側の面とは反対側の面に、黒ビニールテープ（ヤマトビニールテープＮｏ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼った後、入射角度を５°としてＩＴＯ層側から各積層体のＩＴＯ層存在領域およびＩＴＯ層非存在領域のそれぞれに光を照射し、それぞれの正反射方向の反射光から、ＩＴＯ層存在領域およびＩＴＯ層非存在領域のそれぞれの分光反射率を測定した。具体的には、分光反射率は、分光光度計（ＵＶ３１００ＰＣ 島津製作所社製）を用いて測定された。得られた分光反射率は、ＵＶＰｒｏｂｅソフトを用いて、デ−タ演算からデータ変換し、微分変換方法で、平滑化のデルタラムダ４０．０００を２回処理することによりスムージングされた。このスムージングされた分光反射率からＩＴＯ層存在領域光とＩＴＯ層非存在領域との光の反射率差が１．５％となる波長を算出した。

＜ＩＴＯ層の視認性評価＞
実施例および比較例で得られた積層体をＩＴＯ層側が上側となるように３波長蛍光ランプ下に置き、ＩＴＯ層側から目視によりＩＴＯ層の視認性評価を行った。評価基準は以下の通りとした。
○：ＩＴＯ層の形状が視認されなかった、またはほぼ視認されなかった。
×：ＩＴＯ層の形状が視認された。

＜反射光の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*、および色差ΔＥ^*ａｂ＞
実施例および比較例で得られた積層体において、以下のようにして、ＩＴＯ層存在領域の反射光およびＩＴＯ層非存在領域の反射光からＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*をそれぞれ求めるとともに、ＩＴＯ層存在領域の反射光とＩＴＯ層非存在領域の反射光との色差ΔＥ^*ａｂを求めた。まず、第２の透明層におけるポリエチレンテレフタレート基材側の面とは反対側の面に、黒ビニールテープ（ヤマトビニールテープＮｏ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼った後、入射角度を５°としてＩＴＯ層側から各積層体のＩＴＯ層存在領域および低屈折率層側から各積層体のＩＴＯ層非存在領域のそれぞれに光を照射し、それぞれの正反射方向の反射光からＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*をそれぞれ求めた。また、求められた明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*からΔＥ^*ａｂを求めた。明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*、および色差ΔＥ^*ａｂは、分光光度計（ＵＶ３１００ＰＣ 島津製作所社製）を用いて算出された。

＜透過光の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*、および色差ΔＥ^*ａｂ＞
実施例および比較例で得られた積層体において、以下のようにして、ＩＴＯ層存在領域の透過光およびＩＴＯ層非存在領域の透過光からＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*をそれぞれ求めるとともにＩＴＯ層存在領域の透過光とＩＴＯ層非存在領域の透過光との色差ΔＥ^*ａｂを求めた。入射角度を０°として第２の透明層側から各積層体のＩＴＯ層存在領域およびＩＴＯ層非存在領域のそれぞれに光を照射し、それぞれの透過光からＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*をそれぞれ求めた。また、求められた明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*からΔＥ^*ａｂを求めた。明度Ｌ^*、色座標ａ^*、色座標ｂ^*、および色差ΔＥ^*ａｂは、分光光度計（ＵＶ３１００ＰＣ 島津製作所社製）を用いて算出された。

＜波長分散特性＞
実施例１〜３に係るＩＴＯ層および低屈折率層が、上記式（１）の関係を満たすか否か調べた。まず、ガラス板上に実施例１と同様のＩＴＯを用い、かつ実施例１と同様の方法によって膜厚５０ｎｍのＩＴＯ層を形成して、サンプルＡを得た。また、他のガラス板上に実施例１と同様の低屈折率層用組成物を用い、かつ実施例１と同様の方法によって膜厚５０ｎｍの低屈折率層を形成して、サンプルＢを用意した。なお、実施例２および３のＩＴＯ層および低屈折率層は、実施例１のＩＴＯ層および低屈折率層と同じものであるので、実施例２および３のＩＴＯ層および低屈折率層もサンプルＡおよびサンプルＢで評価することができる。そして、サンプルＡを用いて、エリプソメータ（エリプソメータＵＶＩＳＥＬ 株式会社堀場製作所製）によりＩＴＯ層の波長３００〜８００ｎｍにおける波長毎の屈折率を測定し、この波長毎の屈折率から上記で求めたＩＴＯ層存在領域光とＩＴＯ層非存在領域との光の反射率差が１．５％となる波長での屈折率ｎ_１（λ_１．５％）および波長５８９ｎｍでの屈折率ｎ_１（５８９）を求めた。同様に、サンプルＢを用いて、エリプソメータ（エリプソメータＵＶＩＳＥＬ 株式会社堀場製作所製）により低屈折率層の波長３００〜８００ｎｍにおける波長毎の屈折率を測定し、この波長毎の屈折率から上記で求めたＩＴＯ層存在領域光とＩＴＯ層非存在領域との光の反射率差が１．５％となる波長での屈折率ｎ_２（λ_１．５％）および波長５８９ｎｍでの屈折率ｎ_２（５８９）を求めた。そして、これらの値からｎ_１（λ_１．５％）／ｎ_１（５８９）およびｎ_２（λ_１．５％）／ｎ_２（５８９）を求め、この差を算出した。

以下、結果を表１〜表３に示す。

図７〜９は、実施例１〜３に係る積層体におけるＩＴＯ層存在領域およびＩＴＯ非存在領域のそれぞれの反射スペクトルを示すグラフであり、図１０は、比較例係る積層体におけるＩＴＯ層存在領域およびＩＴＯ非存在領域の反射スペクトルを示すグラフである。表１および図１０に示されるように、比較例においては、ＩＴＯ層存在領域およびＩＴＯ層非存在領域における光の反射率差が１．５％となる波長が４５０ｎｍ以上に存在していたので、ＩＴＯ層の形状が視認された。これに対し、表１および図７〜９に示されるように、実施例１〜３においては、ＩＴＯ層存在領域およびＩＴＯ層非存在領域における光の反射率差が１．５％となる波長が３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域内に存在していたので、ＩＴＯ層の形状がほぼ視認されなかった。

実施例１のＩＴＯ層においてはＩＴＯ層存在領域およびＩＴＯ層非存在領域における光の反射率差が１．５％となる波長４３９ｎｍのときの屈折率ｎ_１（λ_１．５％）は2.08549であり、波長５８９ｎｍのときの屈折率ｎ_１（５８９）は2.00451であったので、ｎ_１（λ_１．５％）／ｎ_１（５８９）は1.040399であった。一方、実施例１の低屈折率層においては波長４３９ｎｍのときの屈折率ｎ_２（λ_１．５％）は1.503236であり、波長５８９ｎｍのときの屈折率ｎ_２（５８９）は1.490336であったので、ｎ_２（λ_１．５％）／ｎ_２（５８９）は1.00865585であった。したがって、ｎ_１（λ_１．５％）／ｎ_１（５８９）とｎ_２（λ_１．５％）／ｎ_２（５８９）の差は0.031743であり、実施例１のＩＴＯ層と低屈折率層は、上記式（１）の関係を満たしていることが確認された。

実施例２のＩＴＯ層においてはＩＴＯ層存在領域およびＩＴＯ層非存在領域における光の反射率差が１．５％となる波長４４６ｎｍのときの屈折率ｎ_１（λ_１．５％）は2.084547であったので、ｎ_１（λ_１．５％）／ｎ_１（５８９）は1.039928であった。一方、実施例２の低屈折率層においては波長４４６ｎｍのときの屈折率ｎ_２（λ_１．５％）は1.503101であったので、ｎ_２（λ_１．５％）／ｎ_２（５８９）は1.00856514であった。したがって、ｎ_１（λ_１．５％）／ｎ_１（５８９）とｎ_２（λ_１．５％）／ｎ_２（５８９）の差は0.031363であり、実施例２のＩＴＯ層と低屈折率層は、上記式（１）の関係を満たしていることが確認された。なお、実施例２のＩＴＯ層および低屈折率層における波長５８９ｎｍのときの屈折率ｎ_１（５８９）およびｎ_２（５８９）は実施例１のＩＴＯ層および低屈折率層における波長５８９ｎｍのときの屈折率ｎ_１（５８９）およびｎ_２（５８９）と同じ値である。

実施例３のＩＴＯ層においてはＩＴＯ層存在領域およびＩＴＯ層非存在領域における光の反射率差が１．５％となる波長４４２ｎｍのときの屈折率ｎ_１（λ_１．５％）は2.083618であったので、ｎ_１（λ_１．５％）／ｎ_１（５８９）は1.039465であった。一方、実施例３の低屈折率層においては波長４４２ｎｍのときの屈折率ｎ_２（λ_１．５％）は1.502966であったので、ｎ_２（λ_１．５％）／ｎ_２（５８９）は1.00847499であった。したがって、ｎ_１（λ_１．５％）／ｎ_１（５８９）とｎ_２（λ_１．５％）／ｎ_２（５８９）の差は0.03099であり、実施例３のＩＴＯ層と低屈折率層は、上記式（１）の関係を満たしていることが確認された。なお、実施例３のＩＴＯ層および低屈折率層における波長５８９ｎｍのときの屈折率ｎ_１（５８９）およびｎ_２（５８９）は実施例１のＩＴＯ層および低屈折率層における波長５８９ｎｍのときの屈折率ｎ_１（５８９）およびｎ_２（５８９）と同じ値である。

１０、３０…積層体
１１…中間基材フィルム
１２、１８…第１の透明導電層
１３…透明基材
１４…第１の透明層
１５…第１の高屈折率層
１６…第１の低屈折率層
１７…第２の透明層
４０、５０…タッチパネルセンサ

Claims (6)

1. 中間基材フィルムと、前記中間基材フィルム上に積層され、かつパターニングされた透明導電層とを備える積層体であって、
   前記中間基材フィルムが、透明基材と、前記透明基材の一方の面上に設けられた透明層と、前記透明層上に積層され、前記透明層の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層と、前記高屈折率層上に積層され、前記高屈折率層よりも低い屈折率を有する低屈折率層とを備え、
   前記透明導電層が前記低屈折率層の一部の表面に形成され、
   前記透明導電層が存在している領域である透明導電層存在領域における透明導電層側から測定した光の反射率と、前記透明導電層が存在せずに、前記低屈折率層が露出している領域である透明導電層非存在領域における低屈折率層側から測定した光の反射率との反射率差が１．５％となる波長が３００ｎｍ以上４５０ｎｍ未満の領域に存在する、積層体。
2. 前記透明導電層における前記反射率差が１．５％となる波長の光の屈折率をｎ_１（λ_１．５％）とし、前記低屈折率層における前記反射率差が１．５％となる波長の光の屈折率をｎ_２（λ_１．５％）とし、前記透明導電層における波長５８９ｎｍの光の屈折率をｎ_１（５８９）とし、前記低屈折率層における波長５８９ｎｍの光の屈折率をｎ_２（５８９）としたとき、下記式の関係を満たす、積層体。
   │ｎ_１（λ_１．５％）／ｎ_１（５８９）−ｎ_２（λ_１．５％）／ｎ_２（５８９）│＜０．１
3. 前記反射率差が１．５％となる波長から波長７８０ｎｍまでの領域における前記反射率差が１．５％以下となっている、請求項１または２に記載の積層体。
4. 前記透明導電層存在領域における透明導電層側での反射光と前記透明導電層非存在領域における低屈折率層側での反射光におけるＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の色差ΔＥ^*ａｂが５．０以下である、請求項１ないし３のいずれか一項に記載の積層体。
5. 前記透明導電層存在領域に向けて透明基材側から光を照射したときの前記透明導電層存在領域を透過した透過光と、前記透明導電層非存在領域に向けて透明基材側から光を照射したときの前記透明導電層存在領域を透過した透過光におけるＬ^*ａ^*ｂ^*表色系の色差ΔＥ^*ａｂが１．０以下である、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の積層体。
6. 上部電極層と、前記上部電極層と所定の間隔を置いて配置された下部電極層とを備えるタッチパネルセンサであって、
   請求項１ないし５のいずれか一項に記載の積層体を備え、前記積層体の前記透明導電層が前記上部電極層または前記下部電極層として機能する、タッチパネルセンサ。

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