CN102789826A

CN102789826A - 导电薄膜

Info

Publication number: CN102789826A
Application number: CN2011101339353A
Authority: CN
Inventors: 朱兆杰
Original assignee: Innovation and Infinity Global Corp
Current assignee: Innovation and Infinity Global Corp
Priority date: 2011-05-19
Filing date: 2011-05-19
Publication date: 2012-11-21

Abstract

本发明为一种导电薄膜，导电薄膜包括基板、第一硬涂层、第二硬涂层、第一折射层、第二折射层以及透明导电层。所述第一、第二硬涂层依序设置于基板之上，且第二硬涂层的组成材料包括硅。所述第一折射层、第二折射层以及透明导电层依序设置于第二硬涂层之上，且透明导电层覆盖部分的第二折射层。当透明导电层受一光线以一入射角射入时，透明导电层以一第一反射率反射所述光线，当第二折射层受所述光线以所述入射角射入时，第二折射层以一第二反射率反射所述光线，第一反射率与第二反射率的差值小于一第一阈值。由此，本发明的导电薄膜可消除受蚀刻与未受蚀刻区域之间的显色差异。

Description

导电薄膜

技术领域

本发明有关于一种导电薄膜，特别有关于一种可消除受蚀刻与未受蚀刻的区域之间的显色差异的导电薄膜。

背景技术

随着制作技术的进步与其在各种应用面的不断扩展，电子产品也逐渐提供越来越多样化的功能以及更高整合性的使用性，以方便使用者的操作。例如，为了提供可以使使用者更方便、更直接地控制的电子用品，目前电子信息产品已越来越广泛的装设有触控式的显示面板，以取代传统的按键形式的控制按钮。

目前，触控面板大致上可分为电阻式、电容式、红外线式及超音波式等等形式的触控面板，其中以电阻式触控面板与电容式触控面板为最常见的产品。以目前的应用而言，电容式触控面板可应用在具有多点触控的特性的触控面板，以提供更为人性化的操作模式，从而使得电容式触控面板逐渐受到市场与使用者的青睐。不过，电容式触控面板的缺点在于其必须以导体材质，例如手指触碰触控面板以进行电子产品的操作。而对于电阻式触控面板而言，无论使用者以何种材质触碰触控面板，都可以进行电子产品的操作与控制，因而提高了触控面板的使用便利性。另外，电阻式触控面板所需成本较低，且电阻式触控面板的技术发展较为成熟，因而目前的主流产品大多使用电阻式触控面板。

传统的触控面板直接在玻璃基板表面上积层有一导电薄膜，通过触碰所述导电薄膜，以达成输入信号或感测触控位置等的功能。

然而，所述导电薄膜必须经过黄光显影、蚀刻的制作过程，从而在其上得到线路图案，从而成型相关的驱动电路，但在实际的制作过程中，蚀刻制作过程会在面板上留下蚀刻的痕迹，例如在透明导电层上形成具有高度差的结构；而在光学的分析中，因蚀刻部分所裸露的玻璃基板与未被蚀刻的透明导电层之间具有很大的反射率差异，会在光谱上出现显著的落差，因此在使用者的视觉上会造成不明的影像或区块，或是出现明显的界线等等，因此造成电子产品质量的下降。

有鉴于此，本发明人针对上述的问题，提出一种设计合理且可以有效改善上述缺点的本发明。

发明内容

本发明实施例在于提供一种导电薄膜，利用调整改变其中的第一、第二硬涂层的组成材料与厚度，使得受蚀刻与未受蚀刻的导电薄膜具有相近的反射率，进而使肉眼无法察觉到制作过程中所残留下的痕迹，提高光学上的显示效果。

本发明实施例提供一种导电薄膜，导电薄膜包括基板、第一硬涂层、第二硬涂层、第一折射层、第二折射层以及透明导电层。所述第一、第二硬涂层设置于基板之上，且第二硬涂层的组成材料包括硅。所述第一折射层、第二折射层以及透明导电层依序设置于第二硬涂层之上，且透明导电层覆盖部分的第二折射层。当透明导电层受一光线以一入射角射入时，透明导电层以一第一反射率反射所述光线，当第二折射层受所述光线以所述入射角射入时，第二折射层以一第二反射率反射所述光线，第一反射率与第二反射率的差值小于一第一阈值

在本发明一示范实施例中，所述第二硬涂层的组成材料中，硅所占的重量比例在60％至90％的范围内，且第一硬涂层的厚度在6至10微米的范围内，第二硬涂层的厚度在1至2微米的范围内。第一折射层的厚度在100至300埃的范围内，且第一折射层的折射率在1.6至2.0的范围内，而第二折射层的厚度在500至700埃的范围内，且第二折射层的折射率在1.42至1.46的范围内。另外，基板为由选自玻璃以及PET的群组中的材料所组成，且基板的折射率为1.52。

换句话说，本发明为一种导电薄膜，其中，包括：

一基板；

一第一硬涂层，设置于所述基板之上；

一第二硬涂层，设置于所述第一硬涂层之上，所述硬涂层的组成材料包括硅；

一第一折射层，设置于所述第二硬涂层之上；

一第二折射层，设置于所述第一折射层之上；以及

一透明导电层，设置于所述第二折射层之上，且所述透明导电层覆盖部分的所述第二折射层；

其中当所述透明导电层受一光线以一入射角射入时，所述透明导电层以一第一反射率反射所述光线，当所述第二折射层受所述光线以所述入射角射入时，所述第二折射层以一第二反射率反射所述光线，所述第一反射率与所述第二反射率的差值小于一第一阈值。

本发明所述的导电薄膜，其中，所述第二硬涂层的组成材料中，硅所占的重量比例在60％至90％的范围内。

本发明所述的导电薄膜，其中，所述第一硬涂层的厚度在6至10微米的范围内，所述第二硬涂层的厚度在1至2微米的范围内。

本发明所述的导电薄膜，其中，所述第一折射层的厚度在100至300埃的范围内，且所述第一折射层的折射率在1.6至2.0的范围内。

本发明所述的导电薄膜，其中，所述第二折射层的厚度在500至700埃的范围内，且所述第二折射层的折射率在1.42至1.46的范围内。

本发明所述的导电薄膜，其中，所述第一阈值为0.5。

本发明所述的导电薄膜，其中，当所述透明导电层受所述光线以所述入射角射入时，所述透明导电层中的所述光线具有一第一穿透率，当所述第二折射层受所述光线以所述入射角射入时，所述第二折射层中的所述光线具有一第二穿透率，所述第一穿透率与所述第二穿透率的差值小于一第二阈值。

本发明所述的导电薄膜，其中，所述第二阈值为0.5。

本发明所述的导电薄膜，其中，所述基板为由选自玻璃以及PET的群组中的材料所组成，且所述基板的折射率为1.52。

综上所述，本发明实施例所提供的导电薄膜，利用调整改变其中的第一、第二硬涂层的组成材料与厚度，当导电薄膜经过蚀刻的制作过程而使最上层的透明导电层的部分区域受到蚀刻时，本发明可使受蚀刻与未受蚀刻的导电薄膜具有相近的反射率。在此，当透明导电层的部分区域受蚀刻时，光线透过透明导电层与第二折射层射入导电薄膜的反射率，相近于光线仅透过第二折射层射入导电薄膜的反射率。由此，本发明的导电薄膜可消除受蚀刻与未受蚀刻区域之间的显色差异，使肉眼无法察觉到制作过程中所残留下的痕迹，进而提高光学上的显示效果。

为使能更进一步了解本发明的特征及技术内容，请参照以下有关本发明的详细说明及附图，然而所附图式仅是为了提供参考与说明之用，并非用来对本发明加以限制。

附图说明

图1示出了根据本发明一示范实施例的导电薄膜的示意图。

图2示出了根据本发明一示范实施例的导电薄膜的立体图。

附图标记的说明

1：导电薄膜 10：基板

12：第一硬涂层 14：第二硬涂层

16：第一折射层 18：第二折射层

20：透明导电层 22：粘结剂层

R1、R2：反射率 T1、T2：折射率

具体实施方式

〔导电薄膜实施例〕

请一并参照图1与图2，图1示出了根据本发明一示范实施例的导电薄膜的示意图。图2示出了根据本发明一示范实施例的导电薄膜的立体图。如图所示，本发明的导电薄膜1具有基板10、第一硬涂层12、第二硬涂层14、第一折射层16、第二折射层18以及透明导电层20，基板10之上依序设置有第一硬涂层12、第二硬涂层14、第一折射层16、第二折射层18以及透明导电层20。以下分别描述本发明的导电薄膜1的各部分组件。

基板10由玻璃或PET(聚对苯二甲酸乙二酯)的材料制成薄膜形状，但本发明并不仅限于上述材料。例如，可以使用二乙酰纤维素薄膜、三乙酰纤维素薄膜、乙酰纤维素丁酸酯薄膜等的乙酰纤维素系薄膜；聚碳酸酯系薄膜；环状聚烯烃系薄膜；丙烯酸树脂系薄膜；聚对苯二甲酸乙二酯薄膜、聚对苯二甲酸丁二酯薄膜、聚萘二甲酸乙二酯薄膜等的聚酯系薄膜；聚砜系薄膜；聚醚砜系薄膜；聚醚醚酮系薄膜；聚酰亚胺系薄膜；聚醚酰亚胺系薄膜等的透明塑料薄膜。上述的基板材料中，从光线透射率等的光学特性、加工性、机械物性、吸水率、耐热性、耐候性等的方面考虑，优选为乙酰纤维素系薄膜、聚碳酸酯系薄膜、环状聚烯烃系薄膜、丙烯酸树脂系薄膜及聚酯系薄膜，其中更优选为三乙酰纤维素薄膜、聚碳酸酯系薄膜、环状聚烯烃系薄膜、丙烯酸树脂系薄膜及聚对苯二甲酸乙二酯薄膜。

在实际应用中，当基板10选用由玻璃或PET的材料制成时，基板10所具有的折射率约为1.52。当然，除了上述材料之外，本技术领域具有通常知识人员也可将基板10选用由折射率近似于1.52的其它化合物的材料制成。在此，本发明并不限制基板10的厚度，一般来说，基板10的厚度约在300μm以下。另外，除了基板10的一表面可设置第一硬涂层12、第二硬涂层14、第一折射层16以及第二折射层18之外，在基板10的相反侧的表面上，更可形成用来粘贴其它装置的粘结剂层22。所述粘结剂层22应选用具有良好光学特性的材料，例如丙烯酸系粘结剂、胺甲酸酯系粘结剂、硅系粘结剂等。

第一硬涂层12接触基板10，第二硬涂层14叠置在第一硬涂层12上，第一折射层16位于第二硬涂层14以及第二折射层18之间，而第二折射层18接触透明导电层20。举例来说，第一折射层16可为一种金属氧化物层，其材料可选用由氧化钛、ITO、氧化钽或氧化锡制成的材料，当然也可组合上述材料中的两种或两种以上制成。第二折射层18可为一种硅氧烷聚合物层，其材料可选用无机二氧化硅系化合物或者聚有机硅氧烷系化合物，当然也可组合上述材料制成。

值得注意的是，本发明的第一硬涂层12的厚度在6至10微米的范围内，第一硬涂层12所选用的成分中，硅占所有组成材料的重量比例为0％，也就是说第一硬涂层12并不包括硅这一材料，而其它的组成材料可以包括碳与氢。本发明的第二硬涂层14的厚度在1至2微米的范围内，第二硬涂层14所选用的成分中，硅占所有组成材料的重量比例在60％至90％的范围内，而其它的组成材料可以包括碳、氢、二氧化硅(SiO₂)以及二氧化钛(TiO₂)。

在此，在第一硬涂层12与第二硬涂层14所选用的成分中，本发明并不限制所述碳、氢、二氧化硅(SiO₂)以及二氧化钛(TiO₂)分别占所有组成材料的重量比例，只要导电薄膜1能够通过耐久性测试，且在不脱离本发明所要达成的目的的前提下，本技术领域具有通常知识人员可适当调配第一硬涂层12与第二硬涂层14中的碳、氢、二氧化硅(SiO₂)以及二氧化钛(TiO₂)材料的重量比例。从功能的改进来看，根据本发明所述的规格制造的双层硬涂层可以进一步改良导电薄膜的光学特性，使得光线不论是从导电薄膜反射出去，或是穿透导电薄膜，都可以有更好的光学均匀性。

在实际应用中，本发明通过调整第一硬涂层12、第二硬涂层14、第一折射层16以及第二折射层18中各层的厚度与折射率，可由此使得导电薄膜1消除经蚀刻的制作过程后的显色差异，并使肉眼无法察觉到制作过程中在导电薄膜1所残留下的痕迹。在一例子中，本发明的第一折射层16的厚度在100至300埃的范围内且折射率在1.6至2.0的范围内。第二折射层18的厚度在500至700埃的范围内且折射率在1.42至1.46的范围内。

透明导电层20形成在第二折射层18之上并位于导电薄膜1的最外层。经过蚀刻的制作过程后，透明导电层20会因为仅有部分区域受到蚀刻而形成特定图案，受到蚀刻的区域就不存在透明导电层20，而未受到蚀刻的透明导电层20继续覆盖部分的第二折射层18。举例来说，透明导电层20可以为由SnO₂、ZnO₂、In₂O₃或ITO等材料所制成，且透明导电层20的厚度在150至250埃的范围内。一般来说，当透明导电层20的材质为ITO时，透明导电层20的厚度可以是180埃。

另一方面，透明导电层20的折射率在1.9至2.1的范围内。由于上述的透明导电层20具有导电性，在应用时可以简化接地过程并且提高制作过程的合格率，且由于透明导电层20为导电层，电极可以很容易地形成于透明导电层20之上，因此本发明尤其有利于触控式显示单元的应用，但不仅限于此。在实际应用中，在选择透明导电层20的厚度与折射率时，应配合第一硬涂层12、第二硬涂层14、第一折射层16以及第二折射层18的厚度与折射率一并进行调整，使得使用者不论是从透明导电层20或是第二折射层18注视导电薄膜1，都不会察觉到制作过程中在导电薄膜1所残留下的痕迹。

从光线反射的角度来说，当一光线以一入射角透过透明导电层20与第二折射层18射入导电薄膜1时，所述光线具有一第一反射率R1，当所述光线以同样的入射角仅透过第二折射层18(不透过透明导电层20)射入导电薄膜1时，所述光线具有一第二反射率R2，第一反射率R1与第二反射率R2的差值小于一第一阈值。在实际应用中，以本发明所述的规格制造的导电薄膜1来看，如果所述第一阈值小于0.5，也就是说如果第一反射率R1与第二反射率R2差异很小就能达到肉眼无法察觉的效果。

另一方面，从光线穿透的角度来说，当一光线以一入射角透过透明导电层20与第二折射层18射入基板10时，所述光线具有一第一穿透率T1，当所述光线以同样的入射角仅透过第二折射层18(不透过透明导电层20)射入基板10时，所述光线具有一第二穿透率T2，第一穿透率T1与第二穿透率T2的差值小于一第二阈值。在实际应用中，以本发明所述的规格制造的导电薄膜1来看，如果所述第二阈值同样小于0.5，也就是说如果第一穿透率T1与第二穿透率T2差异很小，同理可知，由于光线是直线前进的，当光线是从基板10射入时，使用者在透明导电层20外侧观察时，肉眼仍不会观察到制作过程中所残留下的痕迹。

举例来说，导电薄膜1通过粘结剂层22粘贴在可发光的显示设备的表面，例如LCD、CRT及触控面板等显示器或其它相关显示设备的表面，或是具有上述显示设备的电子产品的表面，使得使用者通过导电薄膜1观看显示设备显示的画面时，不会受到制作过程中所残留的痕迹的干扰。

综上所述，本发明实施例所提供的导电薄膜，通过选择一特定范围内的折射率与厚度的反射率调整结构与透明导电层，使得受蚀刻与未受蚀刻的导电薄膜具有相近的反射率以及穿透率。特别是，不论光线是从透明导电层射入导电薄膜，或是从基板射入导电薄膜，本发明所述的规格制造的导电薄膜都可以达到肉眼无法察觉到制作过程中的痕迹的效果。由此，本发明的导电薄膜可消除受蚀刻与未受蚀刻区域之间的显色差异，使肉眼无法察觉到制作过程中所残留下的痕迹，进而提高光学上的显示效果。

虽然本发明公开的实施例如上所述，这些实施例仅为例示说明之用，而不应被解释为对本发明实施的限制。在不脱离本发明的实质范围内，其他的改动或者变化，均属本发明的保护范围。

Claims

1.一种导电薄膜，其特征在于，包括：

一基板；

一第一硬涂层，设置于所述基板之上；

一第一折射层，设置于所述第二硬涂层之上；

一第二折射层，设置于所述第一折射层之上；以及

2.根据权利要求1所述的导电薄膜，其特征在于，所述第二硬涂层的组成材料中，硅所占的重量比例在60％至90％的范围内。

3.根据权利要求2所述的导电薄膜，其特征在于，所述第一硬涂层的厚度在6至10微米的范围内，所述第二硬涂层的厚度在1至2微米的范围内。

4.根据权利要求2所述的导电薄膜，其特征在于，所述第一折射层的厚度在100至300埃的范围内，且所述第一折射层的折射率在1.6至2.0的范围内。

5.根据权利要求2所述的导电薄膜，其特征在于，所述第二折射层的厚度在500至700埃的范围内，且所述第二折射层的折射率在1.42至1.46的范围内。

6.根据权利要求2所述的导电薄膜，其特征在于，所述第一阈值为0.5。

7.根据权利要求2所述的导电薄膜，其特征在于，当所述透明导电层受所述光线以所述入射角射入时，所述透明导电层中的所述光线具有一第一穿透率，当所述第二折射层受所述光线以所述入射角射入时，所述第二折射层中的所述光线具有一第二穿透率，所述第一穿透率与所述第二穿透率的差值小于一第二阈值。

8.根据权利要求7所述的导电薄膜，其特征在于，所述第二阈值为0.5。

9.根据权利要求2所述的导电薄膜，其特征在于，所述基板为由选自玻璃以及PET的群组中的材料所组成，且所述基板的折射率为1.52。