CN104793826A

CN104793826A - 双面硬化膜与包括该双面硬化膜的电容式触摸屏

Info

Publication number: CN104793826A
Application number: CN201510216940.9A
Authority: CN
Inventors: 徐金龙; 翁畅健; 陈庆松
Original assignee: Zhangjiagang Kangdexin Optronics Material Co Ltd
Current assignee: Zhangjiagang Kangdexin Optronics Material Co Ltd
Priority date: 2015-05-01
Filing date: 2015-05-01
Publication date: 2015-07-22
Anticipated expiration: 2035-05-01
Also published as: CN104793826B

Abstract

本发明提供了一种双面硬化膜与包含该双面硬化膜的电容式触摸屏。该双面硬化膜包括：第一硬涂层、PET基材层与第二硬涂层，PET基材层设置在第一硬涂层的表面上；第二硬涂层设置在PET基材层的远离第一硬涂层的表面上，其中，第二硬涂层的厚度为1.5～2.5μm。该双面硬化膜第二硬涂层的厚度较小，这样能够有效地减小第二硬涂层在高温下的变形，减少刻蚀烘烤后的ITO导电层纹路的变形程度，进而避免蚀刻凹坑与ITO导电层的色差变得明显，有效改善了电容式触摸屏的立体纹，进而满足了客户的需求。

Description

双面硬化膜与包括该双面硬化膜的电容式触摸屏

技术领域

本发明涉及触摸屏领域，具体而言，涉及一种双面硬化膜与包括该双面硬化膜的电容式触摸屏。

背景技术

电容式触摸屏是一块四层复合玻璃屏，一般包括由上至下设置的：基板、感应层、OCA胶层与显示屏，其中，感应层中包含基材与设置在基材表面上的ITO导电层。

目前，上述的基材为双面硬化膜，如图1所示，该膜包括：第一硬涂层10’、PET基材层20’、第二硬涂层30’与保护膜40’，PET基材层20’设置在第二硬涂层30’的表面上，第一硬涂层10’设置在PET基材层20’的远离第二硬涂层30’的表面上，保护膜40’设置在第二硬涂层30’的远离PET基材层20’的表面上。

上述双硬化膜使得ITO导电层的刻蚀一般采用油墨网印和黄光蚀刻，因为双面硬化膜在溅射过程中需要镀一层Nb₂O₅，该镀膜层在经过上述油墨网印和黄光蚀刻后易被镭射，，蚀刻后需高温烘烤1h。在烘烤时，第一硬涂层、PET基材层与第二硬涂层由于具有较大的收缩率而发生收缩，ITO导电层被蚀刻的纹路会因为第一硬涂层、PET基材层或第二硬涂层的收缩而变形，使得蚀刻凹坑与ITO导电层的色差变得明显，立体纹会逐渐显露。目前，常规的第一硬涂层与第二硬涂层的厚度达到4～5μm，有些甚至6～7μm，第一硬涂层与第二硬涂层的厚度增加加剧了第一硬涂层与第二硬涂层的收缩，使得立体纹更加明显；另外，上述双面硬化膜的雾度一般为0.3～0.5％，不能对立体纹进行有效遮掩，并且保护膜的厚度也较小，一般为50μm，也不能对立体纹进行有效遮掩。由此可见，现有技术的电容式触摸屏具有明显的立体纹，无法满足部分客户需求。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种双面硬化膜与包含该双面硬化膜的电容式触摸屏，以解决现有技术中双面硬化膜的立体纹较明显的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种双面硬化膜，该双面硬化膜包括：第一硬涂层、PET基材层与第二硬涂层，上述PET基材层设置在上述第一硬涂层的表面上；上述第二硬涂层设置在上述PET基材层的远离上述第一硬涂层的表面上，其中，上述第二硬涂层的厚度为1.5～2.5μm。

进一步地，上述第二硬涂层的厚度为1.5～2.0μm，优选为1.8μm。

进一步地，上述第一硬涂层的厚度为1.5～2.5μm，优选为1.5～2.0μm，更优选为1.8μm。

进一步地，上述第二硬涂层包括第二涂层主体和分散在上述第二涂层主体中的第二氧化物粒子，优选上述第二涂层主体为丙烯酸酯聚合物层。

进一步地，上述第二氧化物粒子的含量为1～20wt％，优选为1～8wt％。

进一步地，上述第一硬涂层包括第一涂层主体和分散在上述第一涂层主体中的第一氧化物粒子，优选上述第一涂层主体为丙烯酸酯聚合物层。

进一步地，上述第一氧化物粒子的含量为1～20wt％，优选为1～8wt％。

进一步地，上述第二氧化物粒子为二氧化硅粒子或支链改性的PMMA粒子，上述第一氧化物粒子为二氧化硅粒子或支链改性的PMMA粒子。

进一步地，上述PET基材层机械拉伸方向的收缩率为0.0001～0.5％，垂直于机械拉伸方向的收缩率为0.0001～0.2％，优选上述PET基材层机械拉伸方向的收缩率为0.0001～0.4％，优选上述垂直于机械拉伸方向的收缩率为0.0001～0.1％。

进一步地，上述PET基材层的折射率为1.63～1.65，优选上述PET基材层的厚度为100～150μm。

进一步地，上述双面硬化膜还包括保护膜，上述保护膜设置在上述第二硬涂层的远离上述PET基材层的表面上，上述保护膜的厚度为30～80μm，优选为50μm。

根据本发明的另一方面，提供了一种电容式触摸屏，该电容式触摸屏包括ITO导电膜与双面硬化膜，上述ITO导电膜设置在上述双面硬化膜的表面上，其中，双面硬化膜为上述的双面硬化膜。

应用本发明的技术方案，双面硬化膜的第二硬涂层的厚度较小，这样能够有效地减小第二硬涂层在高温下的变形，减少刻蚀烘烤后的ITO导电层纹路的变形程度，进而避免蚀刻凹坑与ITO导电层的色差变得明显，有效改善了电容式触摸屏的立体纹，进而满足了客户的需求。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1示出了现有技术中一种双面硬化膜的结构剖面示意图；

图2示出了本申请一种典型实施例中的双面硬化膜的结构剖面示意图；以及

图3示出了本申请一种优选实施例的双面硬化膜的结构剖面示意图。

具体实施方式

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

根据本发明的一方面，本申请提供了一种双面硬化膜，如图2所示，该双面硬化膜包括：第一硬涂层10、PET基材层20与第二硬涂层30，上述PET基材层20设置在上述第一硬涂层10的表面上；上述第二硬涂层30设置在上述PET基材层20的远离上述第一硬涂层10的表面上，上述第二硬涂层30的厚度为1.5～2.5μm。

该双面硬化膜的第二硬涂层30的厚度较小，这样能够有效地减小第二硬涂层30在高温下的变形，减少刻蚀烘烤后的ITO导电层纹路的变形程度，进而避免蚀刻凹坑与ITO导电层的色差变得明显，有效改善了电容式触摸屏的立体纹，进而满足了客户的需求。

为了进一步减小刻蚀烘烤后的ITO导电层纹路的变形程度，进而更加有效地减少电容式触摸屏的立体纹数量，优选上述第二硬涂层30的厚度为1.5～2.0μm；更优选上述第二硬涂层30的厚度为1.8μm。

本申请技术人员在对影响立体纹的因素进行研究时，意外发现不仅上述第二硬涂层的厚度对立体纹数量多少产生重要影响，而且第一硬涂层10的厚度也会对立体纹的数量产生影响，因此为了利用第一硬涂层10进一步减小刻蚀烘烤后的ITO导电层纹路的变形程度，进而更加有效地减少电容式触摸屏的立体纹数量，本申请优选上述第一硬涂层10的厚度为1.5～2.5μm，优选上述第一硬涂层10的厚度为1.5～2.0μm；更优选上述第一硬涂层10的厚度为1.8μm。

本申请的另一种优选实施例中，上述第二硬涂层30包括第二涂层主体和分散在上述第二涂层主体中的第二氧化物粒子，上述第二涂层主体为丙烯酸酯聚合物层，丙烯酸酯聚合物层使得该层具有较低的收缩率。第二涂层主体中的第二氧化物粒子可以增加光的散射，从而提高第二硬涂层30的雾度，进而能够对立体纹路进行有效地遮掩，使得电容式触摸屏更加美观，满足客户的需求。

为了进一步提高提高第二硬涂层30的雾度，并且不影响第二硬涂层30的光学性能，本申请优选上述第二硬涂层30中上述第二氧化物粒子的含量为1～20wt％，进一步优选上述第二硬涂层30中上述第二氧化物粒子的含量为1～8wt％。

本申请的又一种优选的实施例中，上述第一硬涂层10包括第一涂层主体和分散在上述第一涂层主体中的第一氧化物粒子，上述第一涂层主体为丙烯酸酯聚合物层，丙烯酸酯聚合物使得该层具有较低的收缩率。这样第一涂层主体中的第一氧化物粒子可以增加光的散射，从而提高第一硬涂层10的雾度，进而能够对立体纹路进行有效地遮掩，使得电容式触摸屏更加美观，满足客户的需求。

为了进一步提高第一硬涂层10的雾度，并且不影响第一硬涂层10的光学性能，上述第一硬涂层10中第一氧化物粒子的含量为1～20wt％，进一步为了提高第一硬涂层10的雾度，同时保证第一硬涂层的光学性能，进一步优选上述第一硬涂层10中第一氧化物粒子的含量为1～8wt％。

本申请的又一种优选的实施例中，上述第一氧化物粒子为二氧化硅粒子或支链改性的PMMA粒子(即PMMA-i粒子)，上述第二氧化物粒子为二氧化硅粒子或支链改性的PMMA粒子(即PMMA-i粒子)，当第一氧化物离子与第二氧化物离子采用上述这两种离子中的一种时，可以进一步提高第二硬涂层30与第一硬涂层10的雾度，保证第一硬涂层10与第一硬涂层10能够对立体纹进行有效地遮掩，进而满足客户的需求。第一氧化物离子和第二氧化物离子可以采用同一种材料，也可以采用不同的材料。

为了减小PET基材层的收缩率，进一步有效地减小刻蚀烘烤后的ITO导电层纹路的变形程度，进而有效地改善了立体纹，进而满足了客户的需求。本申请优选上述PET基材层20机械拉伸方向的收缩率为0.0001～0.5％，垂直于机械拉伸方向的收缩率为0.0001～0.2％。优选上述PET基材层20机械拉伸方向的收缩率为0.0001～0.4％，上述垂直于机械拉伸方向的收缩率为0.0001～0.1％。

本申请的又一种优选的实施例中，上述PET基材层20的折射率为1.63～1.65，这样可以保证电容式触摸屏具有良好的显示效果。

为了提高第二硬涂层附着力和抗彩虹纹性能，从而达到更好的显示效果，优选在第一硬涂层10与PET基材层20之间具有第一预涂层，在第二硬涂层30与基材层20之间具有第二预涂层，第一预涂层与第二第二硬涂层的折射率在1.575-1.580之间。

为了保证PET基材层20对ITO导电层的保护作用，同时避免PET基材层20太厚导致PET基材层20具有较大的收缩率，优选上述PET基材层20的厚度为100～150μm。

本申请的又一种实施例中，优选上述双面硬化膜还包括保护膜40，如图3所示，上述保护膜40设置在上述第二硬涂层30的远离上述PET基材层20的表面上，上述保护膜40的厚度为30～80μm，进一步优选上述保护膜40的厚度为50μm，这样的保护膜40能够有效保护双面硬化膜的其它结构层，提高双面硬化膜的使用寿命，同时该保护膜40的厚度较小，不会导致双面硬化膜的收缩率增大，进而使得电容式触摸屏的立体纹较明显。

本申请又一种实施方式中，提供了一种电容式触摸屏，包括ITO导电膜与双面硬化膜，上述ITO导电膜设置在双面硬化膜的表面上，双面硬化膜为上述的双面硬化膜。

上述电容式触摸屏中的双面硬化膜中的第二硬涂层的收缩率较小，使得ITO导电层纹路的变形程度较小，蚀刻凹坑与ITO导电层的色差不明显，进而使得电容式触摸屏的立体纹数量较少，能够满足客户的需求。

为了使得本领域技术人员能够更加清楚地了解本申请的技术方案，以下将结合实施例与对比例进行说明。

实施例1

首先，设置PET基材层，该PET基材层机械方向的收缩率为0.5％，垂直于拉伸方向的收缩率为0.05％。

然后进行第二硬涂层的制备，将硬化液(日本荒川：FZ001)加入到甲基异丁酮溶剂中搅拌1小时，控制硬化液的固含量(有效成分含量)为30％，通过涂布工艺，在PET基材层的一表面上形成厚度2.0μm的第二硬涂层。

接着，在PET基材层的远离第二硬涂层的表面上设置第一硬涂层。

将粒径为50nm的二氧化硅粒子与硬化液(日本荒川：FZ001)混合，并将混合液加入到甲基异丁酮溶剂中搅拌1小时，控制混合液的固含量为30％，通过涂布工艺，在PET基材层形成厚度4.0μm的第一硬涂层，形成双面硬化膜，具体结构参数见表1。

最后，下游客户在第一硬涂层的表面上镀高折层、低折层及ITO导电层后，通过油墨网印蚀刻ITO导电层，然后经过130℃，60min烘烤，形成实施例1的电容式触摸屏。

实施例2

采用与实施例1相同的流程形成实施例2的双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表1，立体纹效果与雾度见表2。

实施例3

采用与实施例1相同的流程形成双面硬化膜，该双面硬化膜的具体结构参数见表1，立体纹效果与雾度见表2。

实施例4

实施例5

实施例6

实施例7

实施例8

实施例9

实施例10

实施例11

实施例12

实施例13

实施例14

实施例15

实施例16

实施例17

实施例18

实施例19

对比例1

对比例2

对比例3

采用150℃，60min方法测定第二硬涂层的收缩率与第一硬涂层的收缩率，采用NDH200N测定双面硬化膜的雾度，采用肉眼观察测定立体纹的程度。测量的结果见表2，表2中的A-、A、B、与C表示不同的立体纹明显程度，立体纹的明显程度按照A-、A、B、C的顺序逐渐增强。

表1

表2

根据表2可知：当第二硬涂层的厚度在1.5～2.5μm，第二硬涂层中的第二氧化物离子含量在1～20wt％，第一硬涂层的厚度在1.5～2.5μm，第一硬涂层中的第一氧化物离子含量在1～20wt％，PET基材层的厚度在100～150μm，PET基材层机械拉伸方向的收缩率在0.001～0.05，PET基材层垂直于机械拉伸方向的收缩率在0.001～0.2，保护层的厚度在0～125μm之间时，双面硬化膜中的第二硬涂层的收缩率在0.007～0.016％之间，第一硬涂层的收缩率在0.005～0.075％之间，双面硬化膜的雾度较大，在0.58％～0.80％之间，立体纹不明显。

从以上的描述中，可以看出，本发明上述的实施例实现了如下技术效果：

(1)本申请的双面硬化膜的第二硬涂层的厚度较小，这样能够有效地减小第二硬涂层的收缩率，减少刻蚀烘烤后的ITO导电层纹路的变形程度，进而避免蚀刻凹坑与ITO导电层的色差变得明显，有效减少了电容式触摸屏的立体纹数量，进而满足了客户的需求。

(2)本申请的电容式触摸屏中的双面硬化膜中的第二硬涂层的收缩率较小，使得ITO导电层纹路的变形程度较小，蚀刻凹坑与ITO导电层的色差不明显，进而使得电容式触摸屏的立体纹数量较少，能够满足客户的需求。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims

1.一种双面硬化膜，包括：

第一硬涂层(10)；

PET基材层(20)，所述PET基材层(20)设置在所述第一硬涂层(10)的表面上；

第二硬涂层(30)，所述第二硬涂层(30)设置在所述PET基材层(20)的远离所述第一硬涂层(10)的表面上，其特征在于，所述第二硬涂层(30)的厚度为1.5～2.5μm。

2.根据权利要求1所述的双面硬化膜，其特征在于，所述第二硬涂层(30)的厚度为1.5～2.0μm，优选为1.8μm。

3.根据权利要求1所述的双面硬化膜，其特征在于，所述第一硬涂层(10)的厚度为1.5～2.5μm，优选为1.5～2.0μm，更优选为1.8μm。

4.根据权利要求1所述的双面硬化膜，其特征在于，所述第二硬涂层(30)包括第二涂层主体和分散在所述第二涂层主体中的第二氧化物粒子，优选所述第二涂层主体为丙烯酸酯聚合物层。

5.根据权利要求4所述的双面硬化膜，其特征在于，所述第二氧化物粒子的含量为1～20wt％，优选为1～8wt％。

6.根据权利要求4所述的双面硬化膜，其特征在于，所述第一硬涂层(10)包括第一涂层主体和分散在所述第一涂层主体中的第一氧化物粒子，优选所述第一涂层主体为丙烯酸酯聚合物层。

7.根据权利要求6所述的双面硬化膜，其特征在于，所述第一氧化物粒子的含量为1～20wt％，优选为1～8wt％。

8.根据权利要求6所述的双面硬化膜，其特征在于，所述第二氧化物粒子为二氧化硅粒子或支链改性的PMMA粒子，所述第一氧化物粒子为二氧化硅粒子或支链改性的PMMA粒子。

9.根据权利要求1所述的双面硬化膜，其特征在于，所述PET基材层(20)机械拉伸方向的收缩率为0.0001～0.5％，垂直于机械拉伸方向的收缩率为0.0001～0.2％，优选所述PET基材层(20)机械拉伸方向的收缩率为0.0001～0.4％，优选所述垂直于机械拉伸方向的收缩率为0.0001～0.1％。

10.根据权利要求1所述的双面硬化膜，其特征在于，所述PET基材层(20)的折射率为1.63～1.65，优选所述PET基材层(20)的厚度为100～150μm。

11.根据权利要求1所述的双面硬化膜，其特征在于，所述双面硬化膜还包括保护膜(40)，所述保护膜(40)设置在所述第二硬涂层(30)的远离所述PET基材层(20)的表面上，所述保护膜(40)的厚度为30～80μm，优选为50μm。

12.一种电容式触摸屏，包括ITO导电膜与双面硬化膜，所述ITO导电膜设置在所述双面硬化膜的表面上，其特征在于，所述双面硬化膜为权利要求1～11中任一项所述的双面硬化膜。