JP2015065161A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 基板と、
   前記基板上に形成された複数の画素電極と、
   前記画素電極の間に形成された補助電極と、
   前記画素電極のエッジ部分を覆うように隣接する前記画素電極の間に形成されており、前記補助電極が露出するように開口部を有する絶縁層と、
   前記画素電極上に形成され、複数の有機層から構成されており、少なくとも発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス層と、
   前記絶縁層の開口部より露出した前記補助電極上に形成された少なくとも１層の前記有機層と、
   前記絶縁層の開口部より露出した前記補助電極上に形成された前記有機層の開口部である接触部と、
   前記有機エレクトロルミネッセンス層および前記接触部上に形成された透明電極層と
   を有し、
   前記接触部および前記接触部に隣接する前記画素電極の間の前記絶縁層の幅が６μｍ以上であり、
   前記透明電極層は、前記補助電極と前記接触部で電気的に接続されていることを特徴とするトップエミッション型有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
2. 前記接触部および前記接触部に隣接する前記画素電極の間の前記絶縁層の高さをｘとし、前記接触部および前記接触部に隣接する前記画素電極の間以外の前記絶縁層の高さのうち、最も高い高さをｙとしたとき、ｙ−ｘ≦０．０５μｍであることを特徴とする請求項１に記載のトップエミッション型有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
3. 少なくとも前記接触部および前記接触部に隣接する前記画素電極の間の前記絶縁層上に突起構造物が形成されており、
   前記突起構造物の幅が６μｍ以上であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のトップエミッション型有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
4. 少なくとも二つの前記絶縁層の間の領域であり、かつ前記接触部が形成された領域に、前記有機層の粉塵が存在することを特徴とする請求項１〜請求項３までのいずれかの請求項に記載のトップエミッション型有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
5. 基板、前記基板上に形成された複数の画素電極、前記画素電極の間に形成された補助電極、前記画素電極のエッジ部分を覆うように隣接する前記画素電極の間に形成されており、前記補助電極が露出するように開口部を有する絶縁層、前記画素電極上に形成され、複数の有機層から構成されており、少なくとも発光層を有する有機エレクトロルミネッセンス層、前記絶縁層の開口部より露出した前記補助電極上に形成された少なくとも１層の前記有機層、前記絶縁層の開口部より露出した前記補助電極上に形成された前記有機層の開口部である接触部、ならびに前記有機エレクトロルミネッセンス層および前記接触部上に形成された透明電極層を有し、前記接触部および前記接触部に隣接する前記画素電極の間の前記絶縁層の幅が６μｍ以上であり、前記透明電極層は、前記補助電極と前記接触部で電気的に接続されているトップエミッション型有機エレクトロルミネッセンス表示装置を製造するトップエミッション型有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、
   前記基板、前記画素電極、前記補助電極、前記絶縁層、および前記有機エレクトロルミネッセンス層を有し、前記補助電極上の全面に少なくとも１層の前記有機層が形成された有機エレクトロルミネッセンス層側基板を準備する有機エレクトロルミネッセンス層側基板準備工程と、
   第１圧力下で、前記有機エレクトロルミネッセンス層側基板準備工程で得られた前記有機エレクトロルミネッセンス層側基板に蓋材を対向させ、前記絶縁層の頂部に前記蓋材が前記有機層を介して接触するように配置する配置工程と、
   前記蓋材の前記有機エレクトロルミネッセンス層側基板とは反対側の空間を前記第１圧力よりも高い第２圧力に調整して前記有機エレクトロルミネッセンス層側基板および前記蓋材を密着させる密着工程と、
   前記蓋材を介してレーザー光を照射して、前記絶縁層の開口部より露出した前記補助電極を覆う前記有機層を除去して前記接触部を形成する接触部形成工程と、
   を有することを特徴とするトップエミッション型有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。