CN111834419A - 显示屏及其制备方法、显示终端 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种显示屏及其制备方法、显示终端，解决了现有技术中的显示屏因电极层开孔所导致的像素单元损伤问题。显示屏包括：阵列基板；位于阵列基板上、设置有多个开口的像素界定层；发光层，位于开口内的阵列基板上；激光防护层，位于像素界定层上；以及第一电极层，覆盖发光层、像素界定层和激光防护层；第一电极层包括至少一个通孔，至少一个通孔在阵列基板所在方向上的正投影落在激光防护层上。

Description

显示屏及其制备方法、显示终端

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示屏及其制备方法、显示终端。

背景技术

在显示产品领域，为了实现全面屏，常用的手段是将摄像头上方的显示屏区域设计成光线透过率较高的显示屏。为了提高摄像头上方显示屏区域的透过率，可以采用激光打孔技术对阴极层开孔，激光打孔过程通常会对显示面板造成损伤，降低产品可靠性，影响产品良率。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供一种显示屏及其制备方法、显示终端，以解决现有技术中的显示屏因电极层开孔所导致的损伤问题，以提高显示屏良率和显示效果。

本发明第一方面提供了一种显示屏，包括：阵列基板；像素界定层，位于所述阵列基板上，所述像素界定层设置有多个开口；发光层，位于开口内的阵列基板上；激光防护层，位于像素界定层上；以及第一电极层，覆盖发光层、像素界定层和激光防护层。第一电极层包括至少一个通孔，至少一个通孔在阵列基板所在方向上的正投影落在激光防护层上。根据本实施例，通过在电极层下方设置激光防护层，利用激光防护层对激光的吸收或反射作用，可以将激光阻挡在激光防护层以上，从而避免激光进一步向下损伤发光单元或电路走线等，确保显示屏良好的可靠性。

在一个实施例中，像素界定层的远离阵列基板的表面包括凹槽，激光防护层覆盖凹槽的槽底。根据本实施例，通过在像素界定层上表面设置用于容纳激光防护层的凹槽，可以避免在制备激光防护层的过程中，激光防护材料溢出，防止损伤发光单元，从而进一步提高可靠性。

在一个实施例中，像素界定层包括依次叠置在阵列基板上的第一膜层和第二膜层，第一膜层形成开口，第二膜层形成凹槽。根据本实施例，采用不同材料形成像素界定层，这种情况下，可以采用比第一膜层的透过率更高的材料制备第二膜层，从而提升显示屏的显示效果。与此同时，用于形成凹槽的第二膜层可以起到支撑作用，即在后续蒸镀发光层时，可以支撑掩膜板，防止损伤阵列基板，并且确保掩膜板与阵列基板紧密贴合，以保证蒸镀精度。

在一个实施例中，激光防护层进一步覆盖凹槽的侧壁和/或至少部分远离阵列基板的表面。根据本实施例，可以进一步从凹槽的侧面阻挡激光照射，从而提升防护强度。

在一个实施例中，第二膜层和激光防护层的材料相同；优选地，激光防护层的材料包括阴丹士林类化合物、C60类化合物、金属酞菁类有机材料、硒化锌、铝、银、SiO2、TiO2、Al2O3、Ta2O5、MgF2、LaF3、AlF3中的任一项。根据本实施例，当第二膜层的材料和激光防护层的材料相同时，可以进一步从凹槽的侧面阻挡激光照射，从而提升防护强度。

在一个实施例中，第二膜层的材料为透明光刻胶。当第二膜层的材料为透明光刻胶时，可以提升光线透过率，增强拍摄效果。

在一个实施例中，凹槽的深度大于等于0.2微米并且小于等于1微米。根据本实施例，利用凹槽的侧壁形成双层隔离柱，相比于现有技术中的单层像素界定层而言，可以采用更小的高度提供相当的支撑力，从而有利于产品薄型化。

在一个实施例中，激光防护层包括激光吸收膜层、激光反射膜层、激光吸收和反射复合型膜层中的任一种。

本发明第二方面提供了一种显示屏的制备方法，包括：在阵列基板上制备像素界定层，阵列基板包括彼此间隔的多个第二电极层，像素界定层包括与多个第二电极层一一对应的多个开口；在开口内的第二电极层上制备发光层；在像素界定层上制备激光防护层；在发光层、像素界定层和激光防护层上制备第一电极层；在第一电极层上正对激光防护层的区域制备至少一个通孔。根据本实施例，通过在电极层下方设置激光防护层，利用激光防护层对激光的吸收或反射作用，可以将激光阻挡在激光防护层以上，从而避免激光进一步向下损伤发光单元或电路走线等，确保显示屏良好的可靠性。

本发明第三方面提供了一种显示终端，包括：上述任一实施例提供的显示屏；和摄像头模组，位于显示屏的靠近阵列基板的一侧，与至少一个通孔正对。根据本实施例，通过在摄像头模组正上方的显示屏区域的第一电极层中开设至少一个通孔，可以提高该显示屏区域的光透过率。这种情况下，通过控制该显示屏区域在摄像头模组拍照时用于透过光线，在摄像头模组不拍照时正常显示，可以实现全面屏。

根据本发明提供的显示屏及其制备方法、显示终端，通过在电极层下方设置激光防护层，利用激光防护层对激光的吸收或反射作用，可以将激光阻挡在激光防护层以上，从而避免激光辐射损伤发光单元或电路走线等，提高显示屏良率和显示效果。

附图说明

图1为本发明一实施例提供的显示屏的截面结构示意图。

图2为本发明另一实施例提供的显示屏的截面结构示意图。

图3为本发明一实施例提供的显示屏的制备方法流程图。

图4为本发明一实施例提供的显示终端的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

图1为本发明一实施例提供的显示屏的截面结构示意图。如图1所示，显示屏10包括阵列基板11；位于阵列基板11上、设置有多个开口的像素界定层14；发光层122，位于开口内的阵列基板11上；激光防护层13，位于像素界定层14上；以及第一电极层121，覆盖发光层122、像素界定层14和激光防护层13。第一电极层121包括至少一个通孔120，至少一个通孔120在阵列基板11所在方向上的正投影落在激光防护层13上。

具体而言，如图1所示，显示屏10包括阵列基板11。阵列基板11上设置有多个彼此间隔的第二电极单元123，多个第二电极单元123组成第二电极层，以及位于相邻两个第二电极单元123之间的像素界定层14。像素界定层14为平面网状，以形成覆盖第二电极单元123的间隔区域和部分第二电极单元123的隔离墙，从而使第二电极单元123的大部分暴露于像素界定层14的网孔。未被像素界定层14覆盖的第二电极单元123上设置有发光层122，发光层122可以是整层结构，也可以实施为多个彼此间隔的发光层单元。在像素界定层14上设置有激光防护层13，激光防护层13覆盖像素界定层14的至少部分上表面。第一电极层121为一整层结构，整面覆盖其下方的各膜层，包括像素界定层14、发光层122和激光防护层13。在像素界定层14的每一个网孔中，依次叠置的第二电极单元123、发光层122和第一电极层121共同组成一个发光二极管结构，即一个发光单元12。

应当理解，如图1所示的第一电极层121可以是阴极层，也可以是阳极层。以第一电极层121是阴极层为例，第一电极层材料包括镁、银及其合金；则第二电极层为阳极，包括多个第二电极单元123，第二电极单元123的材料包括银、氧化铟锡、氧化铟锌等。在像素界定层上的第一电极层上设置通孔120的数量和形状可以根据实际需要合理选择。

阵列基板11包括基板111、叠置在基板111上的缓冲层112，以及位于缓冲层112上的薄膜晶体管阵列。薄膜晶体管阵列被划分为多个组，每个组包括至少一个薄膜晶体管113。每个组中的至少一个薄膜晶体管113配合其它辅助元件，例如电容，组成像素驱动电路。像素驱动电路与像素单元12一一对应连接，以驱动像素单元12实现显示功能。

激光防护层13可以为像素膜层提供保护的原理包括吸收激光或者反射激光。相应地，激光防护层13包括激光吸收膜层、激光反射膜层、激光吸收和反射复合型膜层中的至少一种。其中，激光吸收膜层是指在激光照射时，对激光具有较强的吸收能力的膜层，其形成材料例如为阴丹士林类化合物、C60类化合物、金属酞菁类有机材料等。激光反射膜层是指在激光照射时，对激光具有较强的反射能力的膜层，其形成材料例如硒化锌、铝、银等，还可以是电介质涂层材料，包括SiO2、TiO2、Al2O3和Ta2O5等氧化物，以及MgF2、LaF3和AlF3等氟化物。由于电介质涂层材料的透过率相对较高，因此激光反射膜层的材料优选电介质涂层材料。激光吸收和反射复合型膜层是指在激光照射时，对激光既具有较强的吸收能力又具有较强的反射能力的膜层，其可以是激光吸收膜层和激光反射膜层叠置形成的复合膜层。

根据本实施例提供的显示屏，通过在第一电极层121下方设置激光防护层13，利用激光防护层13对激光的吸收或反射作用，可以将激光阻挡在激光防护层13以上，从而避免激光进一步向下损伤显示屏的发光单元或电路走线等，确保了显示屏良好的可靠性，提高了显示屏的良率。

图2为本发明另一实施例提供的显示屏的截面结构示意图。如图2所示，显示屏20和图1所示显示屏10的区别仅在于，显示屏20中的像素界定层24的远离阵列基板21的表面包括凹槽，激光防护层23覆盖凹槽的槽底。

凹槽的形状、深度、宽度均可以根据具体情况合理设置，本发明对此不作限定。

根据本实施例提供的显示屏，通过在像素界定层24上表面设置用于容纳激光防护层23的凹槽，可以避免在制备激光防护层23的过程中，激光防护材料溢出，进而损伤发光单元，从而进一步提高可靠性。

在一个实施例中，如图2所示的像素界定层24包括依次叠置在阵列基板21上的第一膜层241和第二膜层242，第一膜层241形成开口，第二膜层242形成凹槽。例如，如图2所示，第一膜层241的顶面作为凹槽的槽底，第二膜层242形成凹槽的侧壁。这样，可以利用第二膜层242形成支撑柱结构，用于在制备发光层的过程中，支撑掩膜板，防止损伤阵列基板，并且确保掩膜板与阵列基板紧密贴合，以确保蒸镀精度。

在一个实施例中，第二膜层242的透过率高于第一膜层241，从而提升显示屏20的显示效果。通常而言，第二膜层242的材料为聚酰亚胺，这种情况下，第一膜层241的材料为透过率高于聚酰亚胺的材料。

在一个实施例中，第二膜层242的材料和激光防护层的材料相同。在利用激光打孔的过程中，由于设备精度或激光向四周扩散作用等因素的影响，激光可能从激光防护层23的边缘穿过，进而损伤发光单元。通过采用与激光防护层23相同的材料制备第二膜层242，相当于在激光防护层23的周边进一步设置了激光隔离柱，从而进一步提高防护强度。

在一个实施例中，像素界定层24中第二膜层242的材料为透明光刻胶，例如透明聚酰亚胺。这样，可以避免第二膜层242影响出光效果。

对于图2所示的显示屏而言，激光防护层23可以进一步覆盖凹槽的侧壁和/或至少部分远离阵列基板21的表面。即通过在凹槽的侧壁和/或至少部分远离阵列基板21的表面设置激光防护层23，来进一步提高激光防护层23的防护强度。

在一个实施例中，如图2所示的显示屏20中凹槽的深度大于等于0.2微米并且小于等于1微米。通常显示屏中的像素界定层上方设置有隔离柱，用于蒸镀发光单元的功能膜层时，支撑掩膜板。这种情况下，隔离柱相当于单层隔离墙，其高度一般为1.5微米，以提供足够的支撑强度。根据本实施例提供的显示屏，凹槽的侧壁相当于隔离柱，以提供支撑作用。这种情况下，相当于相互平行的双层隔离墙，这种情况下，凹槽的侧壁的高度在[0.2,1]微米之间，便可以满足支撑强度需要，有利于产品薄型化。

本发明还提供了一种显示屏的制备方法，可以用于制备上述任一实施例提供的显示屏。图3为本发明一实施例提供的显示屏的制备方法流程图。如图3所示，显示屏的制备方法300包括：

步骤S310，在阵列基板上制备像素界定层。阵列基板包括彼此间隔的多个第二电极单元，像素界定层包括与多个第二电极单元一一对应的多个开口。

步骤S320，在开口内的第二电极单元上制备发光层。

步骤S330，在像素界定层上制备激光防护层。

在一个实施例中，步骤S330具体执行为：在像素界定层上制备凹槽，在凹槽内制备激光防护层。激光防护层覆盖凹槽的槽底，还可以覆盖凹槽的侧壁和/或至少部分侧壁的上表面。

激光防护层包括激光吸收膜层、激光反射膜层、激光吸收和反射复合型膜层中的任一种。凹槽的深度大于等于0.2微米并且小于等于1微米。

例如，在像素界定层上制备第二膜层；对第二膜层进行曝光显影，以形成凹槽，其中第二膜层作为凹槽的侧壁，像素界定层作为凹槽的槽底；利用掩膜板在凹槽内蒸镀激光防护层。这种情况下，像素界定层和第二膜层一起形成发光单元之间的隔离墙，即隔离墙包括依次叠置在基板上的第一膜层(即像素界定层)和第二膜层。第二膜层的材料可以是光刻胶，也可以是和激光防护层相同的材料。

又例如，在像素界定层的上表面刻蚀凹槽；在凹槽内制备激光防护层。

步骤S340，在发光层、像素界定层和激光防护层上制备第一电极层。

步骤S350，在第一电极层上正对激光防护层的区域制备至少一个通孔，即至少一个通孔在阵列基板所在方向上的正投影落在激光防护层上。在真空环境中，利用激光设备在第一电极层的选定区域制备至少一个通孔，该选定区域和激光防护层上下对应，以确保至少一个通孔的正投影落在激光防护层上。

在一个实施例中，在步骤S350之后还包括制备封装层的步骤，以最终形成显示屏。封装层用于阻隔水氧，例如可以是薄膜封装层，包括叠置的有机层和无机层。

在一个实施例中，在步骤S350之前或之后还包括在第一电极层上制备光学耦合层的步骤。此处采用现有工艺即可，不予赘述。

根据本实施例提供的显示屏的制备方法，可以用于制备上述任一实施例提供的显示屏，并能够取得相应的技术效果。未在本实施例中详尽描述的技术细节，可参见本发明实施例提供的显示屏的制备方法，此处不再加以赘述。

本发明还提供了一种显示终端。图4为本发明一实施例提供的显示终端的结构示意图。如图4所示，显示终端40包括上述任一实施例提供的显示屏41和摄像头模组42，摄像头模组42位于显示屏41的靠近阵列基板的一侧，并与至少一个通孔正对。

具体而言，如图4所示，显示屏41包括透明显示区域Q和除了透明显示区域Q之外的非透明显示区域，电极层411中的至少一个通孔410位于透明显示区域Q。摄像头模组42在显示屏41上的正投影落入透明显示区域Q。

根据本实施例提供的显示终端，具备与显示屏相应的技术效果。与此同时，通过控制透明显示区域Q在摄像头模组42拍照时透明不显示，在摄像头模组42不拍照时正常显示，从而实现全面屏。

以上结合具体实施例描述了本申请的基本原理，但是，需要指出的是，在本申请中提及的优点、优势、效果等仅是示例而非限制，不能认为这些优点、优势、效果等是本申请的各个实施例必须具备的。另外，上述公开的具体细节仅是为了示例的作用和便于理解的作用，而非限制，上述细节并不限制本申请为必须采用上述具体的细节来实现。

本申请中诸如“包括”、“包含”、“具有”等等的词语是开放性词汇，指“包括但不限于”，且可与其互换使用。这里所使用的词汇“或”和“和”指词汇“和/或”，且可与其互换使用，除非上下文明确指示不是如此。这里所使用的词汇“例如”指词组“例如但不限于”，且可与其互换使用。

还需要指出的是，在本申请的产品和方法中，各部件或各步骤是可以分解和/或重新组合的。这些分解和/或重新组合应视为本申请的等效方案。

应当理解，本发明实施例描述中所用到的限定词“第一”和“第二”等仅用于更清楚的阐述技术方案，并不能用于限制本发明的保护范围。本发明实施例描述中所用到的空间关系术语，例如“上”和“下”的表述方式是为了和附图取向相适应，以便于描述。当附图的取向改变时，空间关系术语也应当被相应地解释，例如，如果附图中的器件或元件翻转，则“上”应当被理解为“下”。

为了例示和描述的目的已经给出了以上描述。此外，此描述不意图将本申请的实施例限制到在此公开的形式。尽管以上已经讨论了多个示例方面和实施例，但是本领域技术人员将认识到其某些变型、修改、改变、添加和子组合。

Claims (10)

1.一种显示屏，其特征在于，包括：

阵列基板；

像素界定层，位于所述阵列基板上，所述像素界定层设置有多个开口；

发光层，位于所述开口内的阵列基板上；

激光防护层，位于所述像素界定层上；以及

第一电极层，覆盖所述发光层、所述像素界定层和所述激光防护层；所述第一电极层包括至少一个通孔，所述至少一个通孔在所述阵列基板所在方向上的正投影落在所述激光防护层上。

2.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述像素界定层的远离所述阵列基板的表面包括凹槽，所述激光防护层覆盖所述凹槽的槽底。

3.根据权利要求2所述的显示屏，其特征在于，所述像素界定层包括依次叠置在所述阵列基板上的第一膜层和第二膜层，所述第一膜层上设置有所述开口，所述第二膜层上设置有所述凹槽。

4.根据权利要求3所述的显示屏，其特征在于，所述激光防护层进一步覆盖所述凹槽的侧壁和/或至少部分远离所述阵列基板的表面。

5.根据权利要求3所述的显示屏，其特征在于，所述第二膜层和所述激光防护层的材料相同；

优选地，所述激光防护层的材料包括阴丹士林类化合物、C60类化合物、金属酞菁类有机材料、硒化锌、铝、银、SiO2、TiO2、Al2O3、Ta2O5、MgF2、LaF3、AlF3中的至少一种。

6.根据权利要求3所述的显示屏，其特征在于，所述第二膜层的材料为透明光刻胶。

7.根据权利要求3所述的显示屏，其特征在于，所述凹槽的深度大于等于0.2微米并且小于等于1微米。

8.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述激光防护层包括激光吸收膜层、激光反射膜层、激光吸收和反射复合型膜层中的至少一种。

9.一种显示屏的制备方法，其特征在于，包括：

在阵列基板上制备像素界定层，所述阵列基板包括彼此间隔的多个第二电极单元，所述像素界定层包括与所述多个第二电极单元一一对应的多个开口；

在所述开口内的所述第二电极单元上制备发光层；

在所述像素界定层上制备激光防护层；

在所述发光层、所述像素界定层和所述激光防护层上制备第一电极层；

在所述第一电极层上正对所述激光防护层的区域制备至少一个通孔。

10.一种显示终端，包括：

权利要求1-8中任一所述的显示屏；和

摄像头模组，位于所述显示屏的靠近所述阵列基板的一侧，与所述至少一个通孔正对。

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