CN112259580B - 显示面板及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种显示面板及其制备方法，在显示面板中，像素定义层包括第一像素定义层和第二像素定义层，所述第一像素定义层设置在所述曲面区域，所述第二像素定义层设置在所述非曲面区域；第一像素定义层的厚度为第一厚度，所述第二像素定义层的厚度为第二厚度，所述第一厚度小于所述第二厚度。本申请通过降低曲面区域的第一像素定义层的厚度，增加曲面区域的亮度，减少非曲面区域和曲面区域的亮度差异。

Description

显示面板及其制备方法

技术领域

本申请涉及一种显示技术领域，特别涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术

为了在视觉上实现手机无边框的感觉，目前市面上手机大多采用3D曲面屏或者瀑布屏。在OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)面板中，曲面屏或者瀑布屏由于显示区包括曲面区域和非曲面区域，但是两个区域各自进入人眼的亮度会有一定的偏差，一般人眼感觉曲面区域的亮度会低一些，导致人眼观察到面板的亮度不均。

发明内容

本申请实施例提供一种显示面板，以解决现有的显示面板的曲面区域的发光亮度在人眼的视觉中偏低的技术问题。

本申请实施例提供一种显示面板，其包括：

阵列基板，所述阵列基板包括曲面区域和非曲面区域，所述曲面区域设置在所述非曲面区域的至少一侧；以及

OLED器件层，所述OLED器件层在所述阵列基板上；

所述OLED器件层包括：

阳极，所述阳极设置在所述阵列基板上；

像素定义层，所述像素定义层设置在所述阳极上，所述像素定义层上开设有第一开口，所述第一开口裸露出所述阳极，所述像素定义层包括同层设置的第一像素定义层和第二像素定义层，所述第一像素定义层设置在所述曲面区域，所述第二像素定义层设置在所述非曲面区域；

有机发光层，所述有机发光层设置在所述第一开口内；以及

阴极，所述阴极设置在所述有机发光层上；

其中，所述第一像素定义层的厚度为第一厚度，所述第二像素定义层的厚度为第二厚度，所述第一厚度小于所述第二厚度。

在本申请实施例所述的显示面板中，所述第一像素定义层面向所述第一开口的部分具有第一坡度角，所述第二像素定义层面向所述第一开口的部分具有第二坡度角；

所述第一坡度角小于所述第二坡度角。

在本申请实施例所述的显示面板中，所述第二厚度和所述第一厚度的差值大于或等于0.1微米，且小于或等于0.6微米。

在本申请实施例所述的显示面板中，所述第二坡度角和所述第一坡度角的差值大于或等于6度，且小于或等于17度。

在本申请实施例所述的显示面板中，所述第一像素定义层上还开设有第二开口，所述OLED器件层包括反射膜，所述反射膜覆盖在所述第二开口上。

在本申请实施例所述的显示面板中，所述反射膜为金属膜，所述反射膜电性连接于所述阴极。

在本申请实施例所述的显示面板中，所述反射膜的材料为银、锡和金中的一种。

本申请还涉及一种显示面板的制备方法，其包括：

形成阵列基板，所述阵列基板包括曲面区域和非曲面区域，所述曲面区域设置在所述非曲面区域的至少一侧；

在所述阵列基板上形成阳极；

在所述阳极上形成像素定义层，所述像素定义层上开设有第一开口，所述第一开口裸露出所述阳极，所述像素定义层包括同层设置的第一像素定义层和第二像素定义层，所述第一像素定义层设置在所述曲面区域，所述第二像素定义层设置在所述非曲面区域，所述第一像素定义层的厚度为第一厚度，所述第二像素定义层的厚度为第二厚度，所述第一厚度小于所述第二厚度；

在所述像素定义层上形成有机发光层，所述有机发光层设置在所述第一开口内；

在所述有机发光层上形成阴极。

在本申请实施例所述的显示面板的制备方法中，所述第一像素定义层面向所述第一开口的部分具有第一坡度角，所述第二像素定义层面向所述第一开口的部分具有第二坡度角；

所述第一坡度角小于所述第二坡度角。

在本申请实施例所述的显示面板的制备方法中，在所述阳极上形成像素定义层，包括以下步骤：

在所述阳极形成一膜层；

采用半色调掩模板对所述膜层进行曝光处理，所述半色调掩模板包括第一透光部、第二透光部和第三透光部，所述第一透光部对应于形成所述第一开口的区域，所述第二透光部对应于形成所述第一像素定义层的区域，所述第三透光部对应于形成所述第二像素定义层的区域，所述第一透光部的透光率为100％，所述第二透光部的透光率小于所述第一透光部的透光率，所述第三透光部的透光率小于所述第二透光部的透光率；

图案化所述膜层，形成所述第一像素定义层、所述第二像素定义层和所述第一开口。

本申请的显示面板及其制备方法通过降低曲面区域的第一像素定义层的厚度，进而减少有机发光层发出的光线被第一像素定义层吸收，从而增加曲面区域的亮度，减少非曲面区域和曲面区域的亮度差异。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍。下面描述中的附图仅为本申请的部分实施例，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。

图1为本申请实施例的显示面板的俯视结构示意图；

图2为沿图1中BB线的剖面图；

图3为本申请实施例的显示面板的另一剖视结构示意图；

图4为本申请实施例的显示面板的制备方法的流程示意图；

图5-图8为本申请实施例的显示面板的制备方法中步骤S1的制程示意图；

图9为本申请实施例的显示面板的制备方法中步骤S2的制程示意图；

图10为本申请实施例的显示面板的制备方法中步骤S3的制程示意图；

图11为本申请实施例的显示面板的制备方法中步骤S4的制程示意图；

图12为本申请实施例的显示面板的制备方法中步骤S5的制程示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

请参照图1和图2，图1为本申请实施例的显示面板的俯视结构示意图；图2为沿图1中BB线的剖面图。

本申请实施例提供一种显示面板100，其包括阵列基板11和OLED器件层12。

所述阵列基板11包括曲面区域AA1和非曲面区域AA2。所述曲面区域AA1设置在所述非曲面区域AA2的至少一侧。曲面区域AA1和非曲面区域AA2均是显示区AA的一部分。

所述OLED器件层12在所述阵列基板11上。

所述OLED器件层12包括阳极121、像素定义层122、有机发光层123和阴极124。

所述阳极121设置在所述阵列基板11上。

所述像素定义层122设置在所述阳极121上。所述像素定义层122上开设有第一开口12a，所述第一开口12a裸露出所述阳极。所述像素定义层122包括同层设置的第一像素定义层12b和第二像素定义层12c。所述第一像素定义层12b设置在所述曲面区域AA1。所述第二像素定义层12c设置在所述非曲面区域AA2。

所述有机发光层123设置在所述第一开口12a内。

所述阴极124设置在所述有机发光层123上。

其中，所述第一像素定义层12b的厚度为第一厚度。所述第二像素定义层12c的厚度为第二厚度。所述第一厚度小于所述第二厚度。

本实施例的显示面板100通过降低曲面区域的第一像素定义层12b的厚度，进而减少有机发光层123发出的光线被第一像素定义层12b吸收和阻挡的概率，从而增加曲面区域AA1的亮度，减少非曲面区域AA2和曲面区域AA1的亮度差异。

可选的，所述第二厚度和所述第一厚度的差值大于或等于0.1微米，且小于或等于0.6微米。比如，所述第二厚度和所述第一厚度的差值可以为0.2微米、0.3微米、0.4微米或0.5微米等。

具体的，阵列基板11包括依次设置的基板、阻挡层、缓冲层、有源层、第一栅极绝缘层、第一栅极层、第二栅极绝缘层、第二栅极层、层间介电层、源漏极层和平坦层。另外，本实施例显示面板100的阵列基板11的制备方法，请参照下文显示面板100的制备方法阐述的内容。需要说明的是，阵列基板11的结构并不限于此。由于阵列基板是现有技术，此处不再赘述。

OLED器件层12还可以包括空穴注入层(HIL)、电子注入层(EIL)、空穴传输层(HTL)和电子传输层(ETL)，由于OLED器件层的常规结构是现有技术，此处不再赘述。

在本实施例所述的显示面板100中，所述第一像素定义层12b面向所述第一开口12a的部分具有第一坡度角α1，所述第二像素定义层12c面向所述第一开口12a的部分具有第二坡度角α2。所述第一坡度角α1小于所述第二坡度角α2。

本实施例的显示面板100通过降低曲面区域的第一像素定义层12b的第一坡度角α1；一方面增大第一开口12a的开口面积，以容置更多的有机发光材料，提高光量；另一方面削减第一像素定义层12b面向第一开口12a一侧的材料，从而扩大了有机发光层123发出的光线的出射角度，且减少了光线被第一像素定义层12b吸收和阻挡的概率，从而增加曲面区域AA1的亮度，减少非曲面区域AA2和曲面区域AA1的亮度差异，提高用户体验。

可选的，所述第二坡度角α2和所述第一坡度角α1的差值大于或等于6度，且小于或等于17度。进一步的，所述第二坡度角α2和所述第一坡度角α1的差值大于或等于8度，且小于或等于15度。比如，所述第二坡度角α2和所述第一坡度角α1的差值为9度、10度、11度、12度、13度或14度等。

在一些实施例所述的显示面板100中。请参照图3，所述第一像素定义层12b上还开设有第二开口12d。所述OLED器件层12包括反射膜125，所述反射膜125覆盖在所述第二开口12d上。

由于有机发光层123向四周发出光线，且第一像素定义层12b为透光的材料制成，因此有机发光层123发出光线会穿透四周的像素定义层122。故在第二开口12d处覆盖反射膜125；第一，可见穿透入第一像素定义层12b的光线进行反射，减小光线被第一像素定义层12b吸收的概率；第二，避免不同颜色的有机发光层123之间混光。

在一些实施例所述的显示面板100中，所述反射膜125为金属膜。所述反射膜125电性连接于所述阴极124。

将反射膜125电连接于阴极124，也就是说，将反射膜125作为辅助阴极，以达到降低阴极124阻抗的效果。

可选的，所述反射膜125的材料包括但不限于银、锡和金中的一种。

本实施例的显示面板100的制备过程请参照下文实施例。

请参照图4，图4为本申请实施例的显示面板的制备方法的流程示意图。本申请还涉及一种显示面板100的制备方法，其包括：

步骤S1：形成阵列基板，所述阵列基板包括曲面区域和非曲面区域，所述曲面区域设置在所述非曲面区域的至少一侧；

步骤S2：在所述阵列基板上形成阳极；

步骤S3：在所述阳极上形成像素定义层，所述像素定义层上开设有第一开口，所述第一开口裸露出所述阳极，所述像素定义层包括同层设置的第一像素定义层和第二像素定义层，所述第一像素定义层设置在所述曲面区域，所述第二像素定义层设置在所述非曲面区域，所述第一像素定义层的厚度为第一厚度，所述第二像素定义层的厚度为第二厚度，所述第一厚度小于所述第二厚度；

步骤S4：在所述像素定义层上形成有机发光层，所述有机发光层设置在所述第一开口内；

步骤S5：在所述有机发光层上形成阴极。

本实施例的显示面板100的制备方法通过降低曲面区域的第一像素定义层12b的厚度，进而减少有机发光层123发出的光线被第一像素定义层12b吸收和阻挡的概率，从而增加曲面区域AA1的亮度，减少非曲面区域AA2和曲面区域AA1的亮度差异。

下文对本实施例的显示面板100的制备方法进行具体的阐述。

步骤S1，形成阵列基板11。所述阵列基板11包括曲面区域AA1和非曲面区域AA2，所述曲面区域AA1设置在所述非曲面区域AA1的至少一侧。

具体的，形成阵列基板11的过程是：

首先，在基板111上先后沉积阻挡层112和缓冲层113，阻挡层112和缓冲层113为无机层，起到缓冲和保护后续膜层的作用；接着在缓冲层113上沉积有源层114，并利用准分子激光晶化技术实现有源层114的多晶硅化，并使用光罩(Mask)进行有源层114图案化，如图5所示；

接着，在有源层114上先后沉积第一栅极绝缘层115及第一栅极层116，并通过光罩实现图案化，如图6所示；

其次，在第一栅极层116上先后沉积第二栅极绝缘层117及第二栅极层118，并通过光罩实现图案化，如图7所示；

最后，在第二栅极层118上沉积层间介电层119；在显示区中的层间介电层119上进行曝光、蚀刻工艺制程形成连接有源层114及源漏极层110的接触孔，并在层间介电层119上沉积源漏极层110并通过光罩实现图案化；之后在源漏极层110上沉积平坦层1101，并实现连接源漏极与阳极121的接触孔，如图8所示。

这样便完成了阵列基板11的制备过程。

步骤S2，在所述阵列基板11上形成阳极121。

具体的，在平坦层1101上沉积阳极121，并通过光罩实现图案化，如图9所示。

步骤S3：在所述阳极121上形成像素定义层122及间隔层126，如图10所示。

具体的，步骤S3包括以下步骤：

首先，在所述阳极121形成一膜层；

其次，采用半色调掩模板21对所述膜层进行曝光处理。所述半色调掩模板21包括第一透光部211、第二透光部212、第三透光部213和第四透光部214。所述第一透光部211对应于形成所述第一开口12a的区域。所述第二透光部212对应于形成所述第一像素定义层12b的区域。所述第三透光部213对应于形成所述第二像素定义层12c的区域。第四透光部214对应于形成所述间隔层126的区域。

所述第一透光部的透光率为100％，所述第二透光部的透光率小于所述第一透光部的透光率，所述第三透光部的透光率小于所述第二透光部的透光率，第四透光部214不透光。

最后，图案化所述膜层，形成所述第一像素定义层12b、所述第二像素定义层12c、所述第一开口12a和所述间隔层126。

所述第一像素定义层12b、所述第二像素定义层12c形成所述像素定义层122。

也就是说，所述像素定义层122上开设有第一开口12a，所述第一开口12a裸露出所述阳极121。所述像素定义层122包括同层设置的第一像素定义层12b和第二像素定义层12c。所述第一像素定义层12b设置在所述曲面区域AA1，所述第二像素定义层12c设置在所述非曲面区域AA2。

另外，所述第一像素定义层12b的厚度为第一厚度，所述第二像素定义层12c的厚度为第二厚度，所述第一厚度小于所述第二厚度。

本实施例的显示面板100通过降低曲面区域AA1的第一像素定义层12b的厚度，进而减少后续的有机发光层123发出的光线被第一像素定义层12b吸收和阻挡的概率，从而增加曲面区域AA1的亮度，减少非曲面区域AA2和曲面区域AA1的亮度差异。

可选的，所述第二厚度和所述第一厚度的差值大于或等于0.1微米，且小于或等于0.6微米。比如，所述第二厚度和所述第一厚度的差值可以为0.2微米、0.3微米、0.4微米或0.5微米等。

所述第一像素定义层12b面向所述第一开口12a的部分具有第一坡度角α1，所述第二像素定义层12c面向所述第一开口12a的部分具有第二坡度角α2。所述第一坡度角α1小于所述第二坡度角α2。

本实施例的显示面板100通过降低曲面区域AA1的第一像素定义层12b的第一坡度角α1；一方面增大第一开口12a的开口面积，以容置更多的有机发光材料，提高光量；另一方面削减第一像素定义层12b面向第一开口12a一侧的材料，从而扩大了后续的有机发光层123发出的光线的出射角度，且减少了光线被第一像素定义层12b吸收和阻挡的概率，从而增加曲面区域AA1的亮度，减少非曲面区域AA2和曲面区域AA1的亮度差异，提高用户体验。

可选的，所述第二坡度角α2和所述第一坡度角α1的差值大于或等于6度，且小于或等于17度。进一步的，所述第二坡度角α2和所述第一坡度角α1的差值大于或等于8度，且小于或等于15度。比如，所述第二坡度角α2和所述第一坡度角α1的差值为9度、10度、11度、12度、13度或14度等。

步骤S4：在所述像素定义层122上形成有机发光层123，所述有机发光层123设置在所述第一开口12a内，如图11所示

步骤S5：在所述有机发光层123上形成阴极124，如图12所示。

这样便完成了本实施例的显示面板100的制备方法的过程。其中步骤S2至步骤S5为制备OLED器件层12的步骤。

另外，在一些实施例中，请参照图3，所述第一像素定义层12b上还开设有第二开口12d。所述OLED器件层12包括反射膜125，所述反射膜125覆盖在所述第二开口12d上。

由于有机发光层123向四周发出光线，且第一像素定义层12b为透光的材料制成，因此有机发光层123发出光线会穿透四周的像素定义层122。故在第二开口12d处覆盖反射膜125；第一，可见穿透入第一像素定义层12b的光线进行反射，减小光线被第一像素定义层12b吸收的概率；第二，避免不同颜色的有机发光层123之间混光。

其中，第二开口12d可以一光罩实现。第二开口12d位于相邻的两个第一开口12a之间。所述反射膜125可采用光罩实现图案化，并覆盖在第二开口12d上。随后依次进行第一开口12a的图案化处理。

在一些实施例所述的显示面板100中，所述反射膜125为金属膜。所述反射膜125电性连接于所述阴极124。

将反射膜125电连接于阴极124，也就是说，将反射膜125作为辅助阴极，以达到降低阴极124阻抗的效果。

可选的，所述反射膜125的材料包括但不限于银、锡和金中的一种。

以上对本申请实施例所提供的一种显示面板及其制备方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (8)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

阵列基板，所述阵列基板包括曲面区域和非曲面区域，所述曲面区域设置在所述非曲面区域的至少一侧；以及

OLED器件层，所述OLED器件层在所述阵列基板上；

所述OLED器件层包括：

阳极，所述阳极设置在所述阵列基板上；

像素定义层，所述像素定义层设置在所述阳极上，所述像素定义层上开设有第一开口，所述第一开口裸露出所述阳极，所述像素定义层包括同层设置的第一像素定义层和第二像素定义层，所述第一像素定义层设置在所述曲面区域，所述第二像素定义层设置在所述非曲面区域；

有机发光层，所述有机发光层设置在所述第一开口内；以及

阴极，所述阴极设置在所述有机发光层上；

其中，所述第一像素定义层的厚度为第一厚度，所述第二像素定义层的厚度为第二厚度，所述第一厚度小于所述第二厚度；

所述第一像素定义层上还开设有对应于所述曲面区域的第二开口，所述第二开口贯穿所述第一像素定义层，所述第二开口设置在相邻的两个第一开口之间；所述OLED器件层包括反射膜，所述反射膜覆盖在所述第二开口的侧壁和底部形成凹槽；所述反射膜为金属膜，所述阴极覆盖所述凹槽且连接于所述反射膜。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素定义层面向所述第一开口的部分具有第一坡度角，所述第二像素定义层面向所述第一开口的部分具有第二坡度角；

所述第一坡度角小于所述第二坡度角。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二厚度和所述第一厚度的差值大于或等于0.1微米，且小于或等于0.6微米。

4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第二坡度角和所述第一坡度角的差值大于或等于6度，且小于或等于17度。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述反射膜的材料为银、锡和金中的一种。

6.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

形成阵列基板，所述阵列基板包括曲面区域和非曲面区域，所述曲面区域设置在所述非曲面区域的至少一侧；

在所述阵列基板上形成阳极；

在所述阳极上形成像素定义层，所述像素定义层上开设有第一开口和对应于所述曲面区域的第二开口，所述第二开口位于相邻的两个所述第一开口之间，所述第一开口裸露出所述阳极，所述像素定义层包括同层设置的第一像素定义层和第二像素定义层，所述第一像素定义层设置在所述曲面区域，所述第二开口贯穿所述第一像素定义层，所述第二像素定义层设置在所述非曲面区域，所述第一像素定义层的厚度为第一厚度，所述第二像素定义层的厚度为第二厚度，所述第一厚度小于所述第二厚度；

在所述像素定义层上形成有机发光层，所述有机发光层设置在所述第一开口内；

在所述第二开口内形成反射膜，所述反射膜为金属膜，所述反射膜覆盖在所述第二开口的侧壁和底部形成凹槽；

在所述有机发光层上形成阴极，所述阴极覆盖所述凹槽且连接于所述反射膜。

7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一像素定义层面向所述第一开口的部分具有第一坡度角，所述第二像素定义层面向所述第一开口的部分具有第二坡度角；

所述第一坡度角小于所述第二坡度角。

8.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在所述阳极上形成像素定义层，包括以下步骤：

在所述阳极形成一膜层；

采用半色调掩模板对所述膜层进行曝光处理，所述半色调掩模板包括第一透光部、第二透光部和第三透光部，所述第一透光部对应于形成所述第一开口的区域，所述第二透光部对应于形成所述第一像素定义层的区域，所述第三透光部对应于形成所述第二像素定义层的区域，所述第一透光部的透光率为100%，所述第二透光部的透光率小于所述第一透光部的透光率，所述第三透光部的透光率小于所述第二透光部的透光率；

图案化所述膜层，形成所述第一像素定义层、所述第二像素定义层和所述第一开口。

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