JP2015045821A - 波長選択光学フィルタ - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 77
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims abstract description 97
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 48
- 239000010408 film Substances 0.000 description 25
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 13
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 12
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 7
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 4
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000005094 computer simulation Methods 0.000 description 3
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(iv) oxide Chemical compound O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- Optical Filters (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
(1)第1の積層構造が、低屈折率層と低屈折率層の光学膜厚の2倍以上の光学膜厚を有する高屈折率層とを交互に合計で6層以上積層した構成にある。
(2)第2の積層構造が、高屈折率層と高屈折率層の光学膜厚の2倍以上の光学膜厚を有する低屈折率層とを交互に合計で4層以上積層した構成にある。
(4)透明基板の側から第2の積層構造と第1の積層構造とがこの順に配置されている。
(6)第2の積層構造の低屈折率層が高屈折率層の光学膜厚の100倍以下の光学膜厚を有する。
(8)透明基板の両表面の各々に、上記積層体が配置されている。
(9)露光装置用である。
実施例1では、本発明の波長選択光学フィルタに相当するショートパスフィルタについて、その光学特性を確認するため電子計算機によるシミュレーションを実施した。このショートパスフィルタは、図1及び図2に示す波長選択光学フィルタと同様に、透明基板の一方の表面に積層体を配置した構成を有している。
aH1)第3層目及び第4層目の積層構造(tH/tL=4.4)
aH2)第7層目及び第8層目の積層構造(tH/tL=9.8)
aH3)第11層目〜第40層目の積層構造(tH/tL=2.5〜9.2)
aH4)第49層目及び第50層目の積層構造(tH/tL=5.3)
aH5)第53層目〜第58層目の積層構造(tH/tL=3.6〜4.8)
aH6)第67層目及び第68層目の積層構造(tH/tL=4.0)
aH7)第71層目〜第74層目の積層構造(tH/tL=4.0〜7.7)
aL1)第5層目及び第6層目の積層構造(tL/tH=4.8)
aL2)第9層目及び第10層目の積層構造(tL/tH=2.8)
aL3)第45層目〜第48層目の積層構造(tL/tH=4.3〜4.7)
aL4)第51層目及び第52層目の積層構造(tL/tH=3.1)
aL5)第61層目〜第66層目の積層構造(tL/tH=4.2〜7.5)
aL6)第69層目及び第70層目の積層構造(tL/tH=2.0)
実施例2では、本発明の波長選択光学フィルタに相当するバンドパスフィルタについて、その光学特性を確認するため電子計算機によるシミュレーションを実施した。このバンドパスフィルタは、図3に示す波長選択光学フィルタと同様に、透明基板の各々の表面に積層体を配置した構成を有している。
bH1)第1層目及び第2層目の積層構造(tH/tL=4.0)
bH2)第7層目〜第10層目の積層構造(tH/tL=2.5〜4.8)
bH3)第19層目〜第24層目の積層構造(tH/tL=2.1〜4.1)
bH4)第29層目〜第34層目の積層構造(tH/tL=2.3〜11.1)
bH5)第45層目〜第56層目の積層構造(tH/tL=2.4〜5.8)
bH6)第59層目及び60層目の積層構造(tH/tL=2.5)
bL1)第3層目及び第4層目の積層構造(tL/tH=4.0)
bL2)第11層目〜第16層目の積層構造(tL/tH=2.0〜2.5)
bL3)第25層目〜第28層目の積層構造(tL/tH=4.1〜4.9)
bL4)第37層目〜第42層目の積層構造(tL/tH=3.4〜16.2)
cH1)第1層目及び第2層目の積層構造(tH/tL=4.0)
cH2)第5層目〜第48層目の積層構造(tH/tL=2.1〜9.4)
cH3)第59層目〜第68層目の積層構造(tH/tL=3.9〜7.9)
cH4)第77層目及び第78層目の積層構造(tH/tL=4.1)
cL1)第51層目〜第58層目の積層構造(tL/tH=4.4〜8.9)
cL2)第71層目〜第76層目の積層構造(tL/tH=5.2〜6.4)
cL3)第79層目及び第80層目の積層構造(tL/tH=3.6)
実施例3では、本発明の波長選択光学フィルタに相当するロングパスフィルタについて、その光学特性を確認するため電子計算機によるシミュレーションを実施した。このロングパスフィルタは、図1及び図2に示す波長選択光学フィルタと同様に、透明基板の一方の表面に積層体を配置した構成を有している。
dH1)第9層目〜第34層目の積層構造(tH/tL=2.8〜7.3)
dH2)第45層目〜第52層目の積層構造(tH/tL=3.8〜7.4)
dH3)第57層目〜第60層目の積層構造(tH/tL=2.0〜4.5)
dH4)第65層目〜第70層目の積層構造(tH/tL=2.5〜3.5)
dL1)第1層目及び第2層目の積層構造(tL/tH=2.5)
dL2)第37層目〜第42層目の積層構造(tL/tH=6.5〜77.4)
dL3)第53層目及び第54層目の積層構造(tL/tH=3.0)
dL4)第61層目〜第64層目の積層構造(tL/tH=5.3〜10.0)
11 透明基板
12a、12b 積層体
21 第1の積層構造
22 第2の積層構造
Claims (11)
- 透明基板の少なくとも一方の表面に、相対的に低い屈折率を示す複数の低屈折率層と相対的に高い屈折率を示す複数の高屈折率層とを交互に積層した構成の積層体を配置してなる光学フィルタであって、
上記の積層体が、低屈折率層と該低屈折率層の光学膜厚の2倍以上の光学膜厚を有する高屈折率層とを交互に積層した第1の積層構造、および高屈折率層と該高屈折率層の光学膜厚の2倍以上の光学膜厚を有する低屈折率層とを交互に積層した第2の積層構造を含むことを特徴とする波長選択光学フィルタ。 - 第1の積層構造が、低屈折率層と該低屈折率層の光学膜厚の2倍以上の光学膜厚を有する高屈折率層とを交互に合計で6層以上積層した構成にある請求項1に記載の波長選択光学フィルタ。
- 第2の積層構造が、高屈折率層と該高屈折率層の光学膜厚の2倍以上の光学膜厚を有する低屈折率層とを交互に合計で4層以上積層した構成にある請求項1もしくは2に記載の波長選択光学フィルタ。
- 透明基板の側から第1の積層構造と第2の積層構造とがこの順に配置されている請求項1乃至3のうちのいずれかの項に記載の波長選択光学フィルタ。
- 透明基板の側から第2の積層構造と第1の積層構造とがこの順に配置されている請求項1乃至3のうちのいずれかの項に記載の波長選択光学フィルタ。
- 第1の積層構造の高屈折率層が低屈折率層の光学膜厚の50倍以下の光学膜厚を有する1乃至5のうちのいずれかの項に記載の波長選択光学フィルタ。
- 第2の積層構造の低屈折率層が高屈折率層の光学膜厚の100倍以下の光学膜厚を有する請求項1乃至6のうちのいずれかの項に記載の波長選択光学フィルタ。
- 近赤外線カットフィルタを除く請求項1乃至7のうちのいずれかの項に記載の波長選択光学フィルタ。
- 透明基板の両表面の各々に、上記積層体が配置されている請求項1乃至8のうちのいずれかの項に記載の波長選択光学フィルタ。
- 露光装置用である請求項1乃至9のうちのいずれかの項に記載の波長選択光学フィルタ。
- 光源とマスク保持手段との間に請求項1乃至10のうちのいずれかの項に記載の波長選択光学フィルタを配置してなる露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013178250A JP6260051B2 (ja) | 2013-08-29 | 2013-08-29 | 波長選択光学フィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013178250A JP6260051B2 (ja) | 2013-08-29 | 2013-08-29 | 波長選択光学フィルタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015045821A true JP2015045821A (ja) | 2015-03-12 |
JP6260051B2 JP6260051B2 (ja) | 2018-01-17 |
Family
ID=52671360
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013178250A Active JP6260051B2 (ja) | 2013-08-29 | 2013-08-29 | 波長選択光学フィルタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6260051B2 (ja) |
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