CN111263916B - 图像曝光装置及图像曝光方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种能够防止画质的降低和波纹且能够对多个波长的光进行曝光的图像曝光装置及图像曝光方法。图像曝光装置(10)具备：图像显示装置(20)，具备发射多个波长的光的像素；感光性记录介质支撑部(70)，支撑记录图像显示装置(20)的图像的感光性记录介质(40)；准直部(50)，配置于图像显示装置(20)与感光性记录介质支撑部(70)之间且将包含从像素辐射的多个波长的光的辐射光(RL)设成在比辐射光(RL)的辐射角窄的第1辐射角(θ1)的范围内辐射的第1透射光(TL1)；及干扰滤光片(60)，配置于准直部(50)与感光性记录介质支撑部(70)之间且将包含多个波长的光的第1透射光(TL1)设成在第1辐射角(θ1)的范围以下的第2辐射角(θ2)的范围内辐射的第2透射光(TL2)。

Description

图像曝光装置及图像曝光方法
技术领域
本发明涉及一种图像曝光装置及图像曝光方法，是涉及一种将图像记录于感光性记录介质上的图像曝光装置及图像曝光方法。
背景技术
近年来，对将发光显示屏等图像显示装置的显示图像曝光于即显胶片等感光性记录介质上的装置进行各种研究。
例如，在专利文献1中公开有在发光显示屏与即显胶片之间配置了准直层的装置。专利文献1中，准直层遮挡来自发光显示屏的不平行光，因此能够设成不使用装置内的透镜等。
并且，在专利文献2中公开有将透射了层叠峰位偏移量不同的2个滤光片而成的滤光片装置的特定波长的光曝光于感光材料上。专利文献2中，防止混色等而能够再现性良好的对感光材料进行曝光。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：美国专利第9126396号说明书
专利文献2：日本特开平7-043528号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
然而，通过准直层的纵横比h/d(h：隧道高度，d：隧道的直径)，具有某一扩散的辐射角的光被照射于即显胶片上，因此存在产生图像模糊等而画质降低的忧患。并且，即使在隧道的直径小于像素间距的情况下，若隧道位于像素间距之间，则也有时无法遮挡引起图像模糊的光，从而存在导致画质降低的忧患。并且，在准直层为将多个光纤捆成一束而成的光纤阵列的情况下，数值孔径为0.43左右，受光角度变大为±25°。
准直层中，在发光显示屏的像素间距与准直层的隧道间距的关系中，也有时产生波纹。
专利文献2的滤光片装置中，由于使超过30°的入射角度的光透射而成为漏光，从而存在产生图像模糊等而画质降低的忧患。并且，该滤光片装置适用于使规定波长的光透射的情况，并未公开有使包含多个波长的光透射的情况。
本发明是鉴于这些情况而完成的，其目的在于，提供一种能够抑制画质的降低及波纹的产生且能够对多个波长的光进行曝光的图像曝光装置及图像曝光方法。
用于解决技术课题的手段
为了实现本发明的目的，第1方式的图像曝光装置具备：图像显示装置，具备发射多个波长的光的像素；感光性记录介质支撑部，以使记录图像显示装置的图像的感光性记录介质的曝光面与图像显示装置对置的方式支撑感光性记录介质；准直部，配置于图像显示装置与感光性记录介质支撑部之间且将包含从像素辐射的多个波长的光的辐射光设成在比辐射光的辐射角窄的第1辐射角的范围内辐射的第1透射光；及干扰滤光片，配置于准直部与感光性记录介质支撑部之间且将包含多个波长的光的第1透射光设成在第1辐射角的范围以下的第2辐射角的范围内辐射的第2透射光。
在第2方式的图像曝光装置中，干扰滤光片由多层膜构成，所述多层膜中交替地层叠有具有n1的折射率的多个高折射率层和具有n2的折射率的多个低折射率层，并且高折射率层的光学膜厚为λ/4的整数倍且低折射率层的光学膜厚为λ/4的整数倍。
在第3方式的图像曝光装置中，多层膜包含具有λ/4的4倍以上的光学膜厚的厚膜高折射率层或具有λ/4的4倍以上的光学膜厚的厚膜低折射率层中的任意2层以上。
在第4方式的图像曝光装置中，厚膜高折射率层或厚膜低折射率层中的任意2层的光学膜厚相对于λ/4之比不同。
在第5方式的图像曝光装置中，准直部包含选自百叶窗、光纤板及毛细管板中的至少1个。
在第6方式的图像曝光装置中，图像显示装置具有排列成二维形状的像素，并对感光性记录介质的曝光面上的二维形状的所有区域同时进行曝光。
在第7方式的图像曝光装置中，图像显示装置具有排列成一维形状的像素，所述图像曝光装置具备扫描部，该扫描部沿相对于图像显示装置的像素的排列方向垂直的方向扫描图像显示装置及被感光性记录介质支撑部支撑的感光性记录介质中的至少任一方。
第8方式的图像曝光装置中，图像显示装置具有在面积小于感光性记录介质的曝光面的区域上排列成二维形状的像素，所述图像曝光装置具备扫描部，该扫描部沿图像显示装置的像素的排列方向和相对于像素的排列方向垂直的方向这两个方向扫描图像显示装置及被感光性记录介质支撑部支撑的感光性记录介质中的至少任一方。
在第9方式的图像曝光装置中，在基于从像素辐射的光的曝光范围内，相邻的曝光范围的一部分重复。
在第10方式的图像曝光装置中，图像显示装置是能够装卸的。能够装卸是指能够安装及拆卸。
在第11方式的图像曝光装置中，感光性记录介质支撑部以能够装卸的方式支撑感光性记录介质。
在第12方式的图像曝光方法中，其包括：准备图像显示装置的步骤，所述图像显示装置具备发射多个波长的光的像素；准备感光性记录介质支撑部的步骤，所述感光性记录介质支撑部以使记录图像显示装置的图像的感光性记录介质的曝光面与图像显示装置对置的方式支撑感光性记录介质；及经由将包含从像素辐射的多个波长的光的辐射光设成在比辐射光的辐射角窄的第1辐射角的范围内辐射的第1透射光的准直部、和将包含多个波长的光的第1透射光设成在第1辐射角的范围以下的第2辐射角的范围内辐射的第2透射光的干扰滤光片，将第2透射光曝光于感光性记录介质的曝光面上的步骤，其中，所述准直部配置于图像显示装置与感光性记录介质支撑部之间，所述干扰滤光片配置于准直部与感光性记录介质支撑部之间。
发明效果
根据本发明，能够抑制画质的降低及波纹的产生，并且能够对多个波长的光进行曝光。
附图说明
图1是对本发明的原理进行说明的图。
图2是表示本发明的曝光方法的流程图。
图3是表示实施方式的入射角度与透射率的关系的曲线图。
图4是表示实施方式的入射角度与透射率的关系的曲线图。
图5是表示实施方式的入射角度与透射率的关系的曲线图。
图6是表示实施方式的入射角度与透射率的关系的曲线图。
图7是表示实施方式的入射角度与透射率的关系的曲线图。
图8是表示实施方式的入射角度与透射率的关系的曲线图。
图9是表示实施方式的入射角度与透射率的关系的曲线图。
图10是第1实施方式的图像曝光装置的分解立体图。
图11是第1实施方式的图像曝光装置的剖视图。
图12是第2实施方式的图像曝光装置的立体图。
图13是第2实施方式的图像曝光装置的变形例的立体图。
图14是第3实施方式的图像曝光装置的立体图。
图15是第3实施方式的图像曝光装置的变形例的立体图。
具体实施方式
以下，按照附图对本发明的优选实施方式进行说明。本发明通过以下优选实施方式进行说明。能够在不脱离本发明的范围内通过多种方法进行变更，并能够利用除了实施方式以外的其他实施方式。因此，本发明的范围内的所有变更包括在技术方案中。
参考图1，对本发明的原理进行说明。如图1所示，图像曝光装置10具备图像显示装置20及支撑感光性记录介质40的感光性记录介质支撑部70。感光性记录介质支撑部70可以直接支撑感光性记录介质40，也可以间接支撑感光性记录介质40。
图像显示装置20具备像素21。包含来自像素21的多个波长的光的辐射光RL从图像显示装置20的图像显示面23发射。像素21为构成图像显示面23的颜色信息的最小单位。图像显示装置20能够通过具有像素21来显示图像。
图像显示装置20优选具备多个像素21来显示图像。作为具有像素21的图像显示装置20，能够适用液晶显示(LCD：liquid crystal display)装置、有机发光二极管(OLED：Organic Light Emitting Diode)显示装置、等离子体显示装置、发光二极管(LED：LightEmitting Diode)显示装置及CRT(Cathode Ray Tube：阴极射线管)显示装置等。
只要像素21能够显示任一颜色信息且能够显示图像，则图像显示装置20并不限定于上述结构。
在此，在像素21中，例如包括如下情况：如以液晶显示装置为代表，背光单元的光经由像素21辐射的情况；及如以有机发光二极管显示装置为代表，像素21本身辐射光的情况。
图像显示装置20的图像显示面23可以具有排列成二维形状的像素21，也可以具有排列成一维形状的像素21。并且，二维形状的图像显示面23在俯视下可以为矩形，也可以为除了矩形以外的形状。
感光性记录介质支撑部70以使感光性记录介质40配置于与图像显示装置20的图像显示面23对置的位置上的方式支撑感光性记录介质40。感光性记录介质支撑部70只要能够支撑感光性记录介质40，则其结构并无特别限定。
感光性记录介质40能够通过光进行曝光，且只要能够形成图像，则并无特别限定。
关于感光性记录介质40，例如由支撑体和设置于支撑体上的感光材料构成。感光性记录介质40具有通过光进行曝光的曝光面41。作为感光性记录介质40，只要为胶卷、干板、印相纸或蓝色照片、正感光纸、制版用湿板、光致抗蚀剂、即显胶片等具有感光性的产品，则并无特别限定。优选适用即显胶片。
如图1所示，图像曝光装置10具备配置于图像显示装置20与感光性记录介质支撑部70之间的准直部50及配置于准直部50与感光性记录介质支撑部70之间的干扰滤光片60。
准直部50通过使包含从像素21辐射的多个波长的光的辐射光RL透射来将辐射光RL设成在比辐射光RL的辐射角窄的第1辐射角θ1的范围内辐射的第1透射光TL1。在此，辐射角表示光相对于光轴的光扩散的角度。
若来自相邻的像素21的光到达感光性记录介质40的曝光面41上，则引起画质的降低。准直部50仅使与像素21相对应的光到达曝光面41上，并限制来自相邻的像素21的光到达曝光面41上。图像曝光装置10具备准直部50，因此图像曝光装置10无需具备用于将来自图像曝光装置10的光成像于感光性记录介质40上的透镜等光学系统。准直部50优选具有1mm以上且5mm以下的厚度。
作为准直部50，例如能够适用选自百叶窗、光纤板及毛细管板中的至少1个。
百叶窗由多个透光部及配置于多个透光部之间且防止光到达相邻的空间内的光吸收体构成。透光部例如为矩形，且以规定的间距二维地排列。间距表示相邻的部件的距离。
例如，能够通过2个百叶窗形成透光部。通过堆叠2个交替地配置有沿一个方向延伸的透光部和光吸收体的百叶窗且将由上下的透光部所成的角度例如设为90°，能够形成矩形的透光部。由上下的透光部所成的角度并不限定于90°，能够适当确定。
光纤板为以规定的间距二维地排列有多个且包含传送光的多个光纤及吸收从光纤泄漏的光的吸收玻璃的板。
毛细管板为由以规定的间距二维地排列有多个且具有数十μm以下的直径的毛细管(毛细管)的集合体构成的板。
关于实施方式中的准直部50，为了限制来自像素21的光的辐射角，如以百叶窗、光纤板及毛细管板等为代表具备以具有光反射和/或光吸收的功能的遮光部(光吸收体、吸收玻璃及毛细管的外壁等)包围光传输部(透光部、毛细管等)的物理结构。
因此，即使在将辐射光RL限制在窄于第1辐射角θ1的范围内的情况下，也存在通过像素21的间距与准直部50的间距的关系而在第1透射光TL1中产生被称作干涉条纹的波纹的忧患。若产生波纹的第1透射光TL1被直接曝光于感光性记录介质40的曝光面41上，则有时导致画质降低。
通过构成准直部50的光传输部的纵横比h/d(h：传输部高度，d：传输部直径)的关系，有时无法将第1辐射角θ1限制在所期望的角度以下。准直部50的传输部直径d取决于加工精度。传输部高度h(准直部50的厚度)取决于图像曝光装置10的整体的尺寸。也有时无法将传输部直径d及传输部高度h设成所期望的尺寸。
并且，在准直部50为光纤阵列的情况下，数值孔径NA(numerical apert ure)为0.43左右。数值孔径NA和光纤阵列的受光角度θ为NA＝n×sin θ(n：折射率)的关系。若设为空气的折射率n＝1，则成为0.43＝sin θ。成为θ＝asin(0.43)＝±25°。受光角度θ表示1个光纤相对于光轴的角度。即使使辐射光RL透射准直部50而以第1辐射角θ1限制成第1透射光TL1，来自相邻的像素21的光也到达感光性记录介质40上，其结果，有时导致画质降低。
为了限制辐射角，期望准直部50与图像显示装置20及感光性记录介质40密合。然而，在图像曝光装置10的结构上，难以使准直部50与图像显示装置20及感光性记录介质40完全密合。
如上述，仅将准直部50配置于图像显示装置20与感光性记录介质支撑部70之间时，存在无法充分地限制来自像素21的辐射光RL的辐射角的忧患。
为了与上述忧患相对应，实施方式的图像曝光装置10在准直部50与支撑感光性记录介质40的感光性记录介质支撑部70之间具备透射多个波长的光的干扰滤光片60。
与准直部50同样地，干扰滤光片60具有限制光的辐射角的功能。如图1所示，干扰滤光片60将第1透射光TL1设成在第1辐射角θ1的范围以下的第2辐射角θ2的范围内辐射的第2透射光TL2。与准直部50不同，实施方式的干扰滤光片60不具备用于限制光的辐射角的如上述光传输部及遮光部的物理结构。
干扰滤光片60将通过准直部50限制的第1透射光TL1设成在进一步限制的第2辐射角θ2的范围内辐射的第2透射光TL2。因此，能够防止在相邻的像素21之间堆叠的第1透射光TL1到达曝光面41上，从而能够防止画质的降低。尤其，在准直部50为光纤板且受光角度θ大于25°的情况下，配置干扰滤光片60有利于防止画质的降低。因此，重要的是，图像曝光装置10依次具备图像显示装置20、准直部50、干扰滤光片60及支撑感光性记录介质40的感光性记录介质支撑部70。受光角度θ表示当光入射到准直部50时准直部50的入射面的法线与光的入射方向所成的角度且对准直部50的内部进行全反射的角度。
并且，与准直部50相比，干扰滤光片60的厚度薄，因此难以受到图像曝光装置10的结构上的限制。
另外，干扰滤光片60不具备物理结构且设成在第1辐射角θ1的范围以下、优选在狭窄的第2辐射角θ2的范围内辐射的第2透射光TL2，因此能够消除波纹。另外，通过使准直部50的间距大于像素21的间距，能够消除波纹。即使在加大了准直部50的间距的情况下，通过干扰滤光片60，也能够防止在相邻的像素21之间堆叠的第1透射光TL1到达曝光面41上。
关于辐射角，根据入射光束之后的透射光的角度分布进行测定。角度轮廓中，将达到峰值光的一半的角度设为辐射角。在长波侧和短波侧这两侧均进行测定，并将其宽度设为辐射角。例如，使用分光式变角色差计·光度计GC5000(NIPPON DENSHOKU INDUSTRIESCO.，LTD.制造)就能够进行测定。
接着，对干扰滤光片60的优选方式进行说明。作为干扰滤光片60的一例，可以举出由多个介电层构成的多层膜的干扰滤光片。
干扰滤光片60由多层膜构成，所述多层膜交替地层叠由具有n1的折射率的介电材料构成的多个高折射率层及由具有n2的折射率的介电材料构成的多个低折射率层。
作为适用于高折射率层及低折射率层的介电材料，可以举出以下。折射率根据波长而不同，因此优选按照设为对象的光的波长而选择适当材料。
在可见光区域中，作为通常具有1.6以上的折射率n1的高折射率层用的材料，可以举出TiO2、CeO2、Ta2O5、ZrO2、Sb2O3、HfO2、La2O3、NdO3、Y2O3、ZnO、Nb2O5、MgO、Al2O3、CeF3、LaF3及NdF3。
并且，在可见光区域中，作为通常具有1.5以下的折射率n2的低折射率层用的材料，可以举出SiO2、AlF3、MgF2、Na3AlF6、NaF、LiF、CaF2及BaF2。
干扰滤光片60中，已知在特定波长中，入射角度大的光的光谱的峰值比入射角度小的光位移到更靠短波长侧。
通过利用该特性，能够使干扰滤光片60具备如下2个窄频带干扰滤光片，即，在特定波长中，以特定角度入射并透射的光谱的峰值波长相等且以与特定角度不同的角度入射并透射的光谱的峰位偏移量不同。
该峰位偏移量能够通过干扰滤光片60的层结构进行确定。即，能够确定干扰滤光片60的高折射率层及低折射率层的层数和膜厚，以使从第1透射光TL1不透射超过第2辐射角θ2的范围的光而透射在第2辐射角θ2的范围以内的光并成为第2透射光TL2。
关于高折射率层及低折射率层的层数和膜厚，例如能够通过公知的方法(参考H.A.Macleod著“光学薄膜”、日刊工业新闻社、1989年、第47页～51页)进行计算。
为了实施该计算，能够使用计算机程序，例如能够使用Software Spectra，Inc.(USA)制造的TFCalc软件(Thin Film Calculations：薄膜的计算)。在利用计算机程序的情况下，设定成为透射光谱的峰值波长的目标的波长λ。接着，根据该目标波长λ，设计产生基于折射的干涉的多个高折射率层及多个低折射率层的多层膜。
如此设计的高折射率层的物理膜厚成为目标波长的(λ/4)×n1的整数倍的值，其光学膜厚成为目标波长的λ/4的整数倍的值。同样地，低折射率层的物理膜厚成为目标波长的(λ/4)×n2的整数倍的值，其光学膜厚成为目标波长的λ/4的整数倍的值。另外，光学膜厚成为各层的物理膜厚乘以层的折射率的值。在本说明书中，整数倍除了完整的整数倍的情况以外还包含大致整数倍。大致整数倍表示在基于计算的容许范围内包含相对于整数倍的差分，并容许±10％作为整数倍。
另外，上述多层膜的设计适合用作透射特定波长及其附近的光的窄频带干扰滤光片。然而，从图像显示装置20的像素21辐射的辐射光RL包含多个波长的光。因此，在干扰滤光片60中，要求不仅透射特定波长的光，而且透射多个波长的光，并且限制辐射角。实施方式的干扰滤光片60被设计成能够透射多个波长的光的多层膜。
表1至表3表示能够透射多个波长的光的干扰滤光片60的代表性的多层膜的结构。所述多层膜均为24层。种类一栏中所显示的n1表示高折射率层，且n2表示低折射率层。光学膜厚/(λ/4)表示光学膜厚相对于λ/4之比。即，表示各层的光学膜厚为(λ/4)的几倍。
表1所示的多层膜具有12层的高折射率层及12层的低折射率层。除了第7层以外，高折射率层的光学膜厚相对于(λ/4)为1倍。第7层的光学膜厚相对于(λ/4)为6倍。除了第18层以外，低折射率层的光学膜厚相对于(λ/4)为1倍。第18层的光学膜厚相对于(λ/4)为8倍。
[表1]
Figure GDA0002462118480000101
表2所示的多层膜具有12层的高折射率层及12层的低折射率层。所有的高折射率层的光学膜厚相对于(λ/4)为1倍。除了第6层和第18层以外，低折射率层的光学膜厚相对于(λ/4)为1倍。第6层的光学膜厚相对于(λ/4)为6倍，且第18层的光学膜厚相对于(λ/4)为8倍。
[表2]
Figure GDA0002462118480000102
Figure GDA0002462118480000111
表3所示的多层膜具有12层的高折射率层及12层的低折射率层。除了第7层和第19层以外，高折射率层的光学膜厚相对于(λ/4)为1倍。第7层的光学膜厚相对于(λ/4)为6倍，且第19层的光学膜厚相对于(λ/4)为8倍。所有的低折射率层的光学膜厚相对于(λ/4)为1倍。
[表3]
Figure GDA0002462118480000121
表1至表3所示的光学膜厚的值相对于(λ/4)为完整的整数倍。不仅可以为完整的整数倍，而且也可以为大致整数倍。
表1至表3所示的多层膜包含具有(λ/4)的4倍以上的光学膜厚的厚膜高折射率层或具有(λ/4)的4倍以上的光学膜厚的厚膜低折射率层中的任意2层以上。
表1的多层膜中，第7层为厚膜高折射率层(6倍)，且第18层为厚膜低折射率层(8倍)。包含1层的厚膜高折射率层和1层的厚膜低折射率层共2层。
表2的多层膜中，第6层为厚膜低折射率层(6倍)，且第18层为厚膜低折射率层(8倍)。包含2层的厚膜低折射率层。
表3的多层膜中，第7层为厚膜高折射率层(6倍)，且第19层为厚膜高折射率层(8倍)。包含2层的厚膜高折射率层。
并且，在表1至表3的多层膜中，2层的光学膜厚相对于(λ/4)之比不同。在表1至表3的结构中，2层的厚膜层(厚膜高折射率层和/或厚膜低折射率层)之比为6∶8而不同。
2层的厚膜层配置于以多层膜的第一层为基准计1/4左右的位置和3/4左右的位置上。表1的多层膜中，厚膜层分别配置于7/24和18/24的位置上。表2的多层膜中，厚膜层分别配置于6/24和18/24的位置上。表3的多层膜中，厚膜层分别配置于7/24和18/24的位置上。
通过将多层膜设为上述结构，能够透射多个波长的光且能够限制光的辐射角。
对利用了上述TFCalc的多层膜的结构和透射率相对于波长的曲线图进行说明。表4表示54层的多层膜的结构。将波长设为550nm，适用Nb5O2作为高折射率层，并适用SiO2作为低折射率层。在此的膜厚表示物理膜厚。如表4所示，第L4层相当于厚膜低折射率层，且第41层相当于厚膜高折射率层。
[表4]
No 材质 膜厚(nm) No 材质 膜厚(nm) No 材质 膜厚(nm)
1 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 244.44 19 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 47 37 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 64.3
2 SiO<sub>2</sub> 321.53 20 SiO<sub>2</sub> 123.59 38 SiO<sub>2</sub> 90.42
3 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 195.16 21 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 42.6 39 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 62.48
4 SiO<sub>2</sub> 114.93 22 SiO<sub>2</sub> 183.73 40 SiO<sub>2</sub> 87.11
5 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 50.47 23 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 46.06 41 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 606.73
6 SiO<sub>2</sub> 142.68 24 SiO<sub>2</sub> 112.51 42 SiO<sub>2</sub> 25.43
7 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 110.63 25 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 51.69 43 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 82.92
8 SiO<sub>2</sub> 116.12 26 SiO<sub>2</sub> 99.64 44 SiO<sub>2</sub> 85.78
9 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 46.54 27 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 53.91 45 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 65.72
10 SiO<sub>2</sub> 115.72 28 SiO<sub>2</sub> 92.32 46 SiO<sub>2</sub> 97.45
11 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 45.8 29 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 57.52 47 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 61.6
12 SiO<sub>2</sub> 126.1 30 SiO<sub>2</sub> 78.09 48 SiO<sub>2</sub> 99.51
13 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 40.72 31 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 333.94 49 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 239.03
14 SiO<sub>2</sub> 1148.48 32 SiO<sub>2</sub> 80.43 50 SiO<sub>2</sub> 108.99
15 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 37.97 33 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 228.46 51 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 66.67
16 SiO<sub>2</sub> 129.16 34 SiO<sub>2</sub> 82.84 52 SiO<sub>2</sub> 57.68
17 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 44.66 35 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 332.2 53 Nb<sub>5</sub>O<sub>2</sub> 315.28
18 SiO<sub>2</sub> 117.68 36 SiO<sub>2</sub> 70.74 54 SiO<sub>2</sub> 356.38
图3至图9是表示表4所示的多层膜的入射角度与透射率的关系的曲线图。纵轴表示透射率(％)，横轴表示波长(nm)。
图3是入射角度为0°的曲线图。入射角度表示当光入射到干扰滤光片时干扰滤光片的入射面的法线与光的入射方向所成的角度。图3表示光垂直入射到干扰滤光片上的情况。
如图3所示，曲线图示出透射了干扰滤光片的光谱。透射了干扰滤光片的光在约490nm、约550nm及约630nm上具有峰值，且各波长具有20％以上的透射率。能够理解，在入射角度为0°时，干扰滤光片透射多个波长的光。
图4是入射角度为10°的曲线图。如图4所示，在约490nm、约550nm及约630nm上具有峰值的光的透射率为5％以下的透射率。
图5是入射角度为20°的曲线图，图6是入射角度为30°的曲线图，图7是入射角度为40°的曲线图，图8是入射角度为50°的曲线图，图9是入射角度为60°的曲线图。
从图5及图6能够明确的理解，干扰滤光片不透射入射角度超过10°且30°以下的在约490nm、约550nm及约630nm上具有峰值的光。能够理解，透射了具有实施方式的多层膜的干扰滤光片且在约490nm、约550nm及约630nm上具有峰值的光的辐射角被限制在10°以下。
另一方面，根据图7至图9，单独的干扰滤光片中，在入射角度为40°以上的情况下，与在约490nm、约550nm及约630nm上具有峰值的光不同的光的光谱示于曲线图中。表示这些光透射干扰滤光片。这些光为无意中透射了干扰滤光片的光，成为所谓的漏光。若漏光到达曝光面上，则存在导致画质降低的忧患。
实施方式中，准直部50限制成为30°以上的入射角度的辐射角的光，因此能够抑制来自干扰滤光片60的漏光。能够防止漏光到达曝光面41。
另外，在图3的入射角度为0°的曲线图中，示出在短波长的一侧具有峰值的光谱。在曝光感光性记录介质40时，担忧会造成影响。因此，优选配置光学滤光片，以使在短波长的一侧具有峰值的光谱不透射干扰滤光片60。例如，能够使用光学干涉膜或利用了光吸收材料的光学滤光片。作为前者的一例，可以举出EdmundOptics Japan Ltd.制造的二向色长波通滤光片。作为后者的一例，可以举出Edmund Optics Japan Ltd.制造的(UV)紫外吸收滤光片。
接着，对使用了图像曝光装置10的图像曝光方法进行说明。图2是表示本发明的曝光方法的流程图。首先，准备图像显示装置20(步骤S11)。接着，准备感光性记录介质支撑部70，所述感光性记录介质支撑部以使感光性记录介质40的曝光面41与图像显示装置20对置的方式支撑记录图像显示装置20的图像的感光性记录介质40(步骤S12)。关于步骤S11的图像显示装置20的准备和步骤S12的感光性记录介质支撑部70的准备的顺序，哪个在先均可以。
接着，将来自图像显示装置20的光曝光于感光性记录介质40的曝光面41上(步骤S13)。在步骤S13中，经由准直部50和干扰滤光片60将第2透射光TL2曝光于感光性记录介质40的曝光面41上，所述准直部50配置于图像显示装置20与感光性记录介质支撑部70之间且将包含来自像素21的多个波长的光的辐射光RL设成在比辐射光RL的辐射角窄的第1辐射角θ1的范围内辐射的第1透射光TL1，所述干扰滤光片60配置于准直部50与感光性记录介质支撑部70之间且将包含多个波长的光的第1透射光TL1设成在第1辐射角θ1的范围以下的第2辐射角θ2的范围内辐射的第2透射光TL2。
接着，对本发明的优选实施方式进行说明。以下实施方式中，对代表性的图像曝光装置的结构进行说明。这些实施方式仅用于说明例示目的，并不表示限定本说明书中所记载的图像曝光装置。
<第1实施方式>
图10是第1实施方式所涉及的图像曝光装置100的分解立体图，图11是第1实施方式所涉及的图像曝光装置100的剖视图。
如图10及图11所示，第1实施方式的图像曝光装置100具备图像显示装置110。如图10所示，图像显示装置110为二维形状。二维形状表示沿X-Y方向延伸的状态。第1实施方式中，图像显示装置110沿X-Y方向延伸。并且，图像显示装置110的多个像素(未图示)也排列成二维形状。
作为二维形状的图像显示装置110，例如能够适用以智能手机及平板电脑为代表的移动终端。图像显示装置110只要能够显示图像，则并不限定于图像显示方式，能够适用LCD方式及OLED方式等结构。图像显示装置优选去除表面玻璃。
在LCD方式的情况下，图像显示装置110例如具备作为光源而发挥功能的背光单元及具有用于显示图像的滤色器的多个像素。为了保护多个像素，图像显示装置110优选具备框体及表面玻璃等。
如图10及图11所示，图像曝光装置100具备光纤板120作为准直部。光纤板120对入射到光纤的光进行全反射并进行传输。光纤板120的光纤的间距优选为图像显示装置110的像素间距以下。作为光纤板120，例如能够适用Hamamatsu Photonics K.K.制造的光纤板J12221(NA＝0.43，受光角度±25.5°)。因此，第1透射光能够限制在25.5°以下的范围内。
并且，能够适用百叶窗来代替光纤板120。作为百叶窗，能够适用ELECOM C0.，LTD制造的百叶窗薄膜200-LCD024。200-LCD024的视角为60°。若以入射角进行换算，则成为30°。因此，第1透射光能够限制在30°以下的范围内。
光纤板120优选覆盖图像显示装置110的图像显示面的整个区域。
如图10及图11所示，图像曝光装置100具备干扰滤光片130。干扰滤光片130配置于相对于光纤板120与图像显示装置110相反的一侧。关于干扰滤光片130，通过利用上述TFCalc，能够设计高折射率层及低折射率层的层数及膜厚。干扰滤光片130例如优选为5μm以上且50μm以下。干扰滤光片130例如优选层叠于光纤板120的与图像显示装置110相反的一侧的表面上。光纤板120能够作为支撑高折射率层和低折射率层的基板较为适用。
如图10及图11所示，图像曝光装置100具备胶片盒140，所述胶片盒140由构成感光性记录介质的即显胶片142和收纳即显胶片142的壳体144构成。并具备用于支撑胶片盒140的感光性记录介质支撑部即框体148。框体148能够以能够装卸的方式支撑胶片盒140。
壳体144能够收纳多个即显胶片142。如图11所示，在壳体144及框体148中，在与图像显示装置110对置的一侧形成有开口部146。
即显胶片142具有矩形的卡形状。即显胶片142构成为背面侧为曝光面142A且正面侧为观察面142B。曝光面142A为通过基于平行光的曝光而记录图像的面，观察面142B为观察所记录的图像的面。
在即显胶片142的曝光面142A上具有曝光部和隔着曝光部的囊部(Pod)和收集部(未图示)。在囊部中内置有内含显影处理液的显影处理液囊部。在收集部中内置有吸收剂。
即显胶片142在曝光之后，通过使囊部的显影处理液向曝光部扩展来进行显影处理。根据使即显胶片142在对辊(未图示)之间通过，囊部的显影处理液从囊部被挤出并向曝光部扩展。由收集部捕获进行扩展处理时剩余的显影处理液。
第1实施方式中，图像显示装置110具有沿X-Y方向延伸的排列成二维形状的像素。图像显示装置110的图像显示面的尺寸及形状与光纤板120、干扰滤光片130及即显胶片142的二维形状的曝光面的尺寸及形状大致相同。因此，能够将从图像显示装置110辐射的图像同时曝光于即显胶片142的曝光面上的二维形状的所有区域。
使欲曝光的图像显示于图像显示装置110。从图像显示装置110的像素辐射的辐射光通过透射光纤板120来设成在比辐射光的辐射角窄的第1辐射角的范围内辐射的第1透射光，通过透射干扰滤光片130来成为在第1辐射角的范围以下的第2辐射角的范围内辐射且例如接近平行光的第2透射光。第2透射光到达即显胶片142的曝光面142A上，并能够对即显胶片142同时进行曝光。作为对曝光面142A上的二维形状的所有区域同时进行曝光的方式，例如，可以将像素排列成一维形状的图像显示装置并列多个而设为二维形状，并同时进行曝光。
在曝光后，对即显胶片142进行显影处理。在即显胶片142中，形成几乎没有图像模糊的图像。根据上述原理能够容易理解画质的降低得到抑制的情况。
另外，通过控制图像显示装置110显示图像的时间，图像显示装置110能够具有快门机构。并且，也能够在图像显示装置110与即显胶片142之间设置快门机构。
在图像显示装置110为移动终端的情况下，图像显示装置110优选相对于图像曝光装置100能够装卸。例如，图像显示装置110的使用者通过图像显示装置110获取图像。使用者安装图像显示装置110作为图像曝光装置100的一部分的结构。通过图像显示装置110的图像曝光即显胶片142。曝光之后，从图像曝光装置100取出图像显示装置110，并能够通过图像显示装置110而获取新的图像。
<第2实施方式>
参考图12对第2实施方式进行说明。另外，通过对发挥与上述第1实施方式相同作用的部分标注相同的符号，省略该部分的详细说明，并主要对与其他实施方式不同的方面进行说明。
如图12所示，图像曝光装置100具备图像显示装置110、光纤板120、干扰滤光片130及由收纳多个即显胶片(未图示)的壳体144构成的胶片盒140。
与第1实施方式不同，第2实施方式的图像显示装置110为一维形状。一维表示沿X-Y方向的一个方向延伸的状态。如图12所示，图像显示装置110沿X方向延伸。图像显示装置110具有排列成一维形状的像素。
图像显示装置110的长度与即显胶片的X方向的长度大致相同。另一方面，图像显示装置110为一维，因此图像显示装置110的Y方向的长度短于即显胶片的Y方向的长度。图像显示装置110小于即显胶片的曝光面。
第2实施方式中，为了曝光即显胶片，图像显示装置110沿相对于像素的排列方向即X方向垂直的方向即Y方向被扫描。
如图12所示，图像曝光装置100具备用于扫描图像显示装置110的扫描部200。扫描部200具备支撑图像显示装置110的两端的支撑部210、支撑胶片盒140的支撑台220及内置于支撑台220中的驱动部(未图示)。支撑台220具备轨道250，且驱动部能够沿轨道250在Y方向上扫描支撑部210。
在扫描部200沿垂直方向扫描图像显示装置110的同时，图像显示装置110能够依次曝光即显胶片。为了使图像显示装置110的图像显示和扫描部200的驱动同步，优选具备未图示的控制部。
从图像显示装置110的像素辐射的辐射光通过透射光纤板120及干扰滤光片130来成为接近平行光的第2透射光。第2透射光到达即显胶片142的曝光面142A，并能够依次曝光即显胶片142。
在曝光后，对即显胶片142进行显影处理。在即显胶片142中，形成几乎没有图像模糊的图像。根据上述原理能够容易理解画质的降低得到抑制的情况。
图13表示第2实施方式的图像曝光装置100的变形例。变形例的图像曝光装置100具备图像显示装置110、光纤板120、干扰滤光片130及框体148，所述框体148以能够装卸的方式支撑由收纳即显胶片142的壳体144构成的胶片盒140。
变形例的图像曝光装置100中，光纤板120和干扰滤光片130构成为与图像显示装置110的像素的排列方向同样地沿X方向延伸的一维形状。
扫描部200沿相对于图像显示装置110的像素的排列方向垂直的方向扫描图像显示装置110、光纤板120及干扰滤光片130。图像显示装置110在进行扫描的同时，能够依次曝光即显胶片142。
与第1实施方式同样地，从图像显示装置110的像素辐射的辐射光通过透射光纤板120及干扰滤光片130来成为接近平行光的第2透射光。第2透射光到达即显胶片142的曝光面142A，并能够依次曝光即显胶片142。
在曝光后，对即显胶片142进行显影处理。在即显胶片142中，形成几乎没有图像模糊的图像。根据上述原理能够容易理解画质的降低得到抑制的情况。
对在扫描图像显示装置110的同时进行曝光的情况进行了说明，但是只要图像显示装置110和即显胶片142能够相对进行扫描，则可以在扫描即显胶片的同时进行曝光。即，只要扫描图像显示装置110及即显胶片142中的至少一方即可。
<第3实施方式>
参考图14对第3实施方式进行说明。另外，通过对发挥与上述第1实施方式及第2实施方式相同作用的部分标注相同的符号，省略该部分的详细说明，并主要对与其他实施方式不同的方面进行说明。
如图14所示，图像曝光装置100具备图像显示装置110、光纤板120、干扰滤光片130、框体148及扫描部200，所述框体148以能够装卸的方式支撑由收纳多个即显胶片(未图示)的壳体144构成的胶片盒140。
与第2实施方式不同，第3实施方式的图像显示装置110为二维形状。并且，图像显示装置110具有像素，所述像素在面积小于作为感光性记录介质的即显胶片的曝光面的区域上排列成二维形状。多个像素例如优选以矩阵状排列成二维形状。
为了曝光即显胶片，与第2实施方式同样地，第3实施方式具备扫描部200。另一方面，与第2实施方式不同，第3实施方式的扫描部200不仅沿Y方向扫描图像显示装置110，而且也能够沿X方向进行扫描。
例如以矩阵状排列成二维形状的像素中，在将行方向设为X方向的情况下，优选使扫描部沿行方向(X方向)和相对于行方向(X方向)垂直的方向(Y方向)这两个方向进行扫描。
因此，扫描部200具备滚珠丝杠230及移动部240，所述移动部240具备与滚珠丝杠230卡合的螺母。通过滚珠丝杠230的旋转运动，移动部240能够沿X方向移动。移动部240优选具有用于保持图像显示装置110的保持部(未图示)。
在扫描部200沿X方向和Y方向扫描图像显示装置110的同时，图像显示装置110能够依次曝光即显胶片。为了使图像显示装置110的图像显示和扫描部200的驱动同步，优选具备未图示的控制部。
第3实施方式中，在对具有比图像显示装置110大的曝光面的感光性记录介质进行曝光的情况下，能够有效地进行适用。
与第1实施方式同样地，从图像显示装置110的像素辐射的辐射光通过透射光纤板120及干扰滤光片130来成为接近平行光的第2透射光。第2透射光到达即显胶片142的曝光面142A，并能够依次曝光即显胶片142。
在曝光后，对即显胶片142进行显影处理。在即显胶片142中，形成几乎没有图像模糊的图像。根据上述原理能够容易理解画质的降低得到抑制的情况。
图15表示第3实施方式的图像曝光装置100的变形例。变形例的图像曝光装置100具备图像显示装置110、光纤板120、干扰滤光片130、框体148及扫描部200，所述框体148以能够装卸的方式支撑由收纳即显胶片142的壳体144构成的胶片盒140。
变形例的图像曝光装置100中，与图像显示装置110同样地，光纤板120和干扰滤光片130为小于作为感光性记录介质的即显胶片142的二维形状。
在扫描部200沿X方向和Y方向扫描图像显示装置110、光纤板120及干扰滤光片130的同时，图像显示装置110能够依次曝光即显胶片142。为了使图像显示装置110的图像显示和扫描部200的驱动同步，优选具备未图示的控制部。
从图像显示装置110的像素辐射的辐射光通过透射光纤板120及干扰滤光片130来成为接近平行光的第2透射光。第2透射光到达即显胶片142的曝光面142A，并能够依次曝光即显胶片142。
在曝光后，对即显胶片142进行显影处理。在即显胶片142中，形成几乎没有图像模糊的图像。根据上述原理能够容易理解画质的降低得到抑制的情况。
对在沿X方向和Y方向扫描图像显示装置110的同时进行曝光的情况进行了说明，但是只要图像显示装置110和即显胶片142能够相对进行扫描，则可以在沿X方向和Y方向扫描即显胶片的同时进行曝光。即，只要沿X方向和Y方向这两个方向扫描图像显示装置110及即显胶片142中的至少一方即可。
第2实施方式和第3实施方式中，图像显示装置小于感光性记录介质。在基于从图像显示装置的像素辐射的辐射光的曝光范围内，相邻的曝光范围的一部分可以重复。在防止曝光范围内的一部分重复的情况下，存在在感光性记录介质上产生未曝光区域的忧患。优选避免由未曝光区域引起的在感光性记录介质上未形成图像的状态。
符号说明
10-图像曝光装置，20-图像显示装置，21-像素，23-图像显示面，40-感光性记录介质，41-曝光面，50-准直部，60-干扰滤光片，70-感光性记录介质支撑部，100-图像曝光装置，110-图像显示装置，120-光纤板，130-干扰滤光片，140-胶片盒，142-即显胶片，142A-曝光面，142B-观察面，144-壳体，146-开口部，148-框体，200-扫描部，210-支撑部，220-支撑台，230-滚珠丝杠，240-移动部，250-轨道RL-辐射光，TL1-第1透射光，TL2-第2透射光，01-第1辐射角，θ2-第2辐射角。

Claims (15)

1.一种图像曝光装置，其具备：
图像显示装置，具备发射多个波长的光且排列成一维形状的像素；
感光性记录介质支撑部，以使记录所述图像显示装置的图像的感光性记录介质的曝光面与所述图像显示装置对置的方式支撑所述感光性记录介质；
准直部，配置于所述图像显示装置与所述感光性记录介质支撑部之间且将包含来自所述像素的所述多个波长的光的辐射光设成在比所述辐射光的辐射角窄的第1辐射角的范围内辐射的第1透射光；
干扰滤光片，配置于所述准直部与所述感光性记录介质支撑部之间且将包含所述多个波长的光的第1透射光设成在所述第1辐射角的范围以下的第2辐射角的范围内辐射的第2透射光；及
扫描部，该扫描部沿相对于所述图像显示装置的所述像素的排列方向垂直的方向扫描所述图像显示装置及被所述感光性记录介质支撑部支撑的所述感光性记录介质中的至少任一方。
2.根据权利要求1所述的图像曝光装置，其中，
所述干扰滤光片由多层膜构成，所述多层膜中交替地层叠有具有n1的折射率的多个高折射率层和具有n2的折射率的多个低折射率层，并且所述高折射率层的光学膜厚为λ/4的整数倍且所述低折射率层的光学膜厚为λ/4的整数倍。
3.根据权利要求2所述的图像曝光装置，其中，
所述多层膜包含具有λ/4的4倍以上的光学膜厚的厚膜高折射率层或具有λ/4的4倍以上的光学膜厚的厚膜低折射率层中的任意2层以上。
4.根据权利要求3所述的图像曝光装置，其中，
所述2层的光学膜厚相对于λ/4之比不同。
5.根据权利要求1所述的图像曝光装置，其中，
在基于来自所述像素的光的曝光范围内，相邻的所述曝光范围的一部分重复。
6.一种图像曝光装置，其具备：
图像显示装置，具备发射多个波长的光且排列成二维形状的像素；
感光性记录介质支撑部，以使记录所述图像显示装置的图像的感光性记录介质的曝光面与所述图像显示装置对置的方式支撑所述感光性记录介质；
准直部，配置于所述图像显示装置与所述感光性记录介质支撑部之间且将包含来自所述像素的所述多个波长的光的辐射光设成在比所述辐射光的辐射角窄的第1辐射角的范围内辐射的第1透射光；
干扰滤光片，配置于所述准直部与所述感光性记录介质支撑部之间且将包含所述多个波长的光的第1透射光设成在所述第1辐射角的范围以下的第2辐射角的范围内辐射的第2透射光；及
扫描部，该扫描部沿所述图像显示装置的所述像素的排列方向和相对于所述像素的排列方向垂直的方向这两个方向扫描所述图像显示装置及被所述感光性记录介质支撑部支撑的所述感光性记录介质中的至少任一方，
所述图像显示装置所具有的所述像素在面积小于所述感光性记录介质的所述曝光面的区域上排列成二维形状。
7.根据权利要求6所述的图像曝光装置，其中，
所述干扰滤光片由多层膜构成，所述多层膜中交替地层叠有具有n1的折射率的多个高折射率层和具有n2的折射率的多个低折射率层，并且所述高折射率层的光学膜厚为λ/4的整数倍且所述低折射率层的光学膜厚为λ/4的整数倍。
8.根据权利要求7所述的图像曝光装置，其中，
所述多层膜包含具有λ/4的4倍以上的光学膜厚的厚膜高折射率层或具有λ/4的4倍以上的光学膜厚的厚膜低折射率层中的任意2层以上。
9.根据权利要求8所述的图像曝光装置，其中，
所述2层的光学膜厚相对于λ/4之比不同。
10.根据权利要求1至4、6至9中任一项所述的图像曝光装置，其中，
所述准直部包含选自百叶窗、光纤板及毛细管板中的至少1个。
11.根据权利要求1至4、6至9中任一项所述的图像曝光装置，其中，
所述图像显示装置具有排列成二维形状的像素，
并对所述感光性记录介质的所述曝光面上的二维形状的所有区域同时进行曝光。
12.根据权利要求1至4、6至9中任一项所述的图像曝光装置，其中，
所述图像显示装置是能够装卸的。
13.根据权利要求1至4、6至9中任一项所述的图像曝光装置，其中，
所述感光性记录介质支撑部以能够装卸的方式支撑所述感光性记录介质。
14.一种图像曝光方法，其包括：
准备图像显示装置的步骤，所述图像显示装置具备发射多个波长的光且排列成一维形状的像素；
准备感光性记录介质支撑部的步骤，所述感光性记录介质支撑部以使记录所述图像显示装置的图像的感光性记录介质的曝光面与所述图像显示装置对置的方式支撑所述感光性记录介质；
经由将包含来自所述像素的所述多个波长的光的辐射光设成在比所述辐射光的辐射角窄的第1辐射角的范围内辐射的第1透射光的准直部、和将包含所述多个波长的光的第1透射光设成在所述第1辐射角的范围以下的第2辐射角的范围内辐射的第2透射光的干扰滤光片，将所述第2透射光曝光于所述感光性记录介质的所述曝光面上的步骤，其中，所述准直部配置于所述图像显示装置与所述感光性记录介质支撑部之间，所述干扰滤光片配置于所述准直部与所述感光性记录介质支撑部之间；及
扫描部沿相对于所述图像显示装置的所述像素的排列方向垂直的方向扫描所述图像显示装置及被所述感光性记录介质支撑部支撑的所述感光性记录介质中的至少任一方的步骤。
15.一种图像曝光方法，其包括：
准备图像显示装置的步骤，所述图像显示装置具备发射多个波长的光且排列成二维形状的像素；
准备感光性记录介质支撑部的步骤，所述感光性记录介质支撑部以使记录所述图像显示装置的图像的感光性记录介质的曝光面与所述图像显示装置对置的方式支撑所述感光性记录介质；
经由将包含来自所述像素的所述多个波长的光的辐射光设成在比所述辐射光的辐射角窄的第1辐射角的范围内辐射的第1透射光的准直部、和将包含所述多个波长的光的第1透射光设成在所述第1辐射角的范围以下的第2辐射角的范围内辐射的第2透射光的干扰滤光片，将所述第2透射光曝光于所述感光性记录介质的所述曝光面上的步骤，其中，所述准直部配置于所述图像显示装置与所述感光性记录介质支撑部之间，所述干扰滤光片配置于所述准直部与所述感光性记录介质支撑部之间；及
扫描部沿所述图像显示装置的所述像素的排列方向和相对于所述像素的排列方向垂直的方向这两个方向扫描所述图像显示装置及被所述感光性记录介质支撑部支撑的所述感光性记录介质中的至少任一方的步骤，
所述图像显示装置所具有的所述像素在面积小于所述感光性记录介质的所述曝光面的区域上排列成二维形状。
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