JP2015045532A - カラムオーブン及び液体クロマトグラフ - Google Patents

カラムオーブン及び液体クロマトグラフ Download PDF

Info

Publication number
JP2015045532A
JP2015045532A JP2013175917A JP2013175917A JP2015045532A JP 2015045532 A JP2015045532 A JP 2015045532A JP 2013175917 A JP2013175917 A JP 2013175917A JP 2013175917 A JP2013175917 A JP 2013175917A JP 2015045532 A JP2015045532 A JP 2015045532A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
region
heating
unit
main unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013175917A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6107538B2 (ja
Inventor
高橋 和也
Kazuya Takahashi
和也 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2013175917A priority Critical patent/JP6107538B2/ja
Priority to US14/455,388 priority patent/US9759695B2/en
Priority to CN201410409207.4A priority patent/CN104422744B/zh
Publication of JP2015045532A publication Critical patent/JP2015045532A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6107538B2 publication Critical patent/JP6107538B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
    • G01N30/02Column chromatography
    • G01N30/26Conditioning of the fluid carrier; Flow patterns
    • G01N30/28Control of physical parameters of the fluid carrier
    • G01N30/30Control of physical parameters of the fluid carrier of temperature
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B1/00Shaft or like vertical or substantially vertical furnaces
    • F27B1/10Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
    • F27B1/26Arrangements of controlling devices
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B17/00Furnaces of a kind not covered by any preceding group
    • F27B17/02Furnaces of a kind not covered by any preceding group specially designed for laboratory use
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27BFURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
    • F27B5/00Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated
    • F27B5/06Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
    • F27B5/18Arrangement of controlling, monitoring, alarm or like devices
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F27FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
    • F27DDETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
    • F27D19/00Arrangements of controlling devices
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
    • G01N30/02Column chromatography
    • G01N30/26Conditioning of the fluid carrier; Flow patterns
    • G01N30/28Control of physical parameters of the fluid carrier
    • G01N30/30Control of physical parameters of the fluid carrier of temperature
    • G01N2030/3007Control of physical parameters of the fluid carrier of temperature same temperature for whole column
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
    • G01N30/02Column chromatography
    • G01N30/26Conditioning of the fluid carrier; Flow patterns
    • G01N30/28Control of physical parameters of the fluid carrier
    • G01N30/30Control of physical parameters of the fluid carrier of temperature
    • G01N2030/3053Control of physical parameters of the fluid carrier of temperature using resistive heating
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
    • G01N30/02Column chromatography
    • G01N30/26Conditioning of the fluid carrier; Flow patterns
    • G01N30/28Control of physical parameters of the fluid carrier
    • G01N30/30Control of physical parameters of the fluid carrier of temperature
    • G01N2030/3084Control of physical parameters of the fluid carrier of temperature ovens

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Control Of Temperature (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials Using Thermal Means (AREA)

Abstract

【課題】周囲の温度が変化してもその影響を受けることなく、内部温度を安定に制御できるカラムオーブンを提供する。
【解決手段】カラムオーブン12は、加熱と冷却を行なうメインユニット20、加熱を行なう補助ユニット22、外気温度を検知する外気センサ26、内部温度を検知する内部センサ24、複数の温度領域を保持する温度領域保持部、外気温度の属する温度領域を特定する温度領域特定手段、メインユニットの出力及び補助ユニットの出力が隣接する温度領域において連続した関係となるように、各温度領域におけるメインユニット及び補助ユニットの制御方法が構成された温度制御プログラムを保持する温度制御プログラム保持部、温度領域特定手段が特定した温度領域と温度制御プログラムに基づいてメインユニット及び補助ユニットの制御方法を設定する制御方法設定手段、及びメインユニットと補助ユニットを制御する温度制御手段を備えている。
【選択図】図1

Description

本発明は、液体クロマトグラフの分析カラムの温度を調節するためのカラムオーブンとそのカラムオーブンを用いた液体クロマトグラフに関し、特にカラムオーブンの温度制御方法の改良に関するものである。
液体クロマトグラフには試料を成分ごとに分離する分析カラムがあり、この分析カラムの分離性能が分析結果に大きな影響を与える。分析カラムの分離性能は温度依存性が高く、分析中に分析カラムの温度が変化すると、分析結果の再現性が損なわれるという問題がある。そのため、分析カラムをカラムオーブン内に収容し、カラムオーブン内の温度を一定温度で制御することがなされている(例えば、特許文献1参照。)。
特許第3539093号公報
カラムオーブンには内部の温度を検知する温度センサが設けられており、その温度センサの検知する温度が分析者の設定した温度になるように、カラムオーブン内に設けられた加熱素子や冷却素子が制御される。加熱素子や冷却素子の制御は、カラムオーブンの内部温度に基づいて行なわれるが、カラムオーブンの周辺温度(室温)に基づいても行なわれる。
分析者によって設定された設定温度が室温よりも十分に高い場合には、加熱素子の高い出力によってカラムオーブン内の温度制御が行なわれ、設定温度が室温よりも十分に低い場合には、冷却素子の高い出力によってカラムオーブン内の温度制御が行なわれる。また、設定温度が室温付近である場合には、加熱素子又は冷却素子のオン・オフによってカラムオーブン内の温度制御が行なわれる。このように、設定温度と室温との関係に応じて加熱素子及び冷却素子のオン・オフの制御やその出力の大きさの制御が行なわれる。
しかし、分析中にカラムオーブンの周囲温度が変化すると、設定温度とカラムオーブンの周囲温度との関係性が変化し、急に加熱素子と冷却素子のオン・オフが切り換わったり出力が変更されたりすることによって、カラムオーブン内の温度が変動して安定性が損なわれることがある。
そこで、本発明は、分析中にカラムオーブンの周囲の温度が変化しても、その影響を受けることなくカラムオーブン内の温度を安定して制御することができるようにすることを目的とするものである。
本発明にかかるカラムオーブンは、分析カラムを収容する温調空間を内部に備えた筐体と、温調空間内において分析カラムの加熱と冷却を行なうメインユニットと、メインユニットとは別途設けられ、温調空間内において分析カラムの加熱を行なう補助ユニットと、筐体の外側の温度である外気温度を検知する外気センサと、温調空間内の温度である内部温度を検知する内部センサと、分析カラムの温度の目標値である設定温度を設定するための温度設定手段と、外気温度が変化しうる温度範囲において連続する複数の温度領域を保持する温度領域保持部と、温度領域保持部の温度領域から外気センサの検知した外気温度の属する温度領域を特定する温度領域特定手段と、メインユニットの出力及び補助ユニットの出力が隣接する温度領域において連続した関係となるように、各温度領域におけるメインユニット及び補助ユニットの制御方法が構成された温度制御プログラムを保持する温度制御プログラム保持部と、温度領域特定手段が特定した温度領域と温度制御プログラムに基づいて、メインユニット及び補助ユニットの制御方法を設定する制御方法設定手段と、内部温度が設定温度になるように、制御方法設定手段により設定された制御方法を用いてメインユニット及び補助ユニットを制御する温度制御手段と、を備えたものである。
ここで、「温調空間内において分析カラムの加熱と冷却を行なうメインユニット」とは、温調空間内において分析カラムに接して分析カラムを直接的に加熱し又は冷却するユニットのほか、メインユニットが温調空間内の空気を加熱し又は冷却することによって分析カラムの加熱と冷却を行なうユニットも含む。
同様に、「温調空間内において分析カラムの加熱を行なう補助ユニット」とは、温調空間内において分析カラムに接して分析カラムを直接的に加熱するユニットのほか、温調空間内の空気を加熱することによって分析カラムの加熱を行なうユニットも含む。
本発明にかかる液体クロマトグラフは、分析流路と、分析流路において移動相を送液する送液部と、分析流路中に試料を注入する試料注入部と、分析流路上で試料注入部の下流側に設けられ、試料注入部により注入された試料を成分ごとに分離する分析カラムと、分析流路上で分析カラムの下流側に設けられ、分析カラムにより分離された試料成分の検出を行なう検出器と、を備え、分析カラムが本発明のカラムオーブンの温調空間内に収容されていることを特徴とするものである。
本発明のカラムオーブンでは、温度制御プログラムにおいて、メインユニットの出力及び補助ユニットの出力が、隣接する温度領域において連続した関係となるように構成されており、その温度制御プログラムに基づいてメインユニット及び補助ユニットの出力の制御がなされるようになっているので、外気温度が変化することによって外気温度の属する温度領域が変化し、それに伴なってメインユニット及び補助ユニットの制御方法が変更されても、メインユニット及び補助ユニットの出力が急激に切り換えられることがなく、温調空間内の温度制御を安定して行なうことができる。
本発明の液体クロマトグラフでは、分析カラムが本発明のカラムオーブンに収容されているので、装置の周囲の温度が変化しても分析カラムの温度を安定的に制御することができ、分析結果の再現性の向上を図ることができる。
液体クロマトグラフの一実施例を概略的に示すブロック図である。 同実施例の制御系統を示すブロック図である。 カラムオーブンの一例を示す概略構成図である。 カラムオーブンの他の例を示す概略構成図である。 カラムオーブンの温度制御の一例を説明するためのフローチャートである。 温度制御プログラムの一実施例を示すグラフである。 温度制御プログラムの他の実施例を示すグラフである。 温度制御プログラムの比較例を示すグラフである。 一実施例の温度制御プログラムを用いた場合の外気温度とカラムオーブン内の温度との関係を示すグラフである。 比較例の温度制御プログラムを用いた場合の室温とカラムオーブン内の温度との関係を示すグラフである。
本発明のカラムオーブンの好ましい実施態様では、温度領域保持部は、設定温度から一定の温度差の温度領域である設定温度近傍領域、設定温度近傍領域と連続する温度領域であって設定温度よりも低い温度領域である第1加熱領域、第1加熱領域と連続する温度領域であって第1加熱領域よりも低い温度領域である第2加熱領域、設定温度近傍領域と連続する温度領域であって設定温度よりも高い温度領域である冷却領域を温度領域として含み、温度制御プログラムは、外気温度の属する温度領域が設定温度近傍領域であるときは、メインユニットで冷却しながら補助ユニットで加熱する微細制御方法を、外気温度の属する温度領域が第1加熱領域であるときは、メインユニットの加熱及び冷却の出力を停止して補助ユニットの加熱出力のみを調節する第1加熱制御方法を、外気温度の属する温度領域が第2加熱領域であるときは、メインユニットによる加熱出力と補助ユニットの加熱出力を同時に調節する第2加熱制御方法を、外気温度の属する温度領域が冷却領域であるときは、補助ユニットの加熱出力を停止してメインユニットの冷却出力のみを調節する冷却制御方法を、メインユニット及び補助ユニットの制御方法として設定するように構成されている。
上記態様では、第1加熱領域においてメインユニットが停止するように構成されているので、外気温度が変化してメインユニット及び補助用ニットの制御方法が微細制御方法と第2加熱制御方法との間で変更されても、メインユニットが加熱出力の状態から冷却出力の状態又は冷却出力の状態から加熱出力の状態へ急に切り換えられることがなく、メインユニットの加熱と冷却の切換えによって温調空間の温度が不安定となることを防止できる。また、外気温度が第1加熱領域内にあるときにはメインユニットが使用されずに温存されるため、メインユニットの長寿命化が図れる。微細制御方法は、メインユニットで冷却しながら補助ユニットで加熱するものであるため、外気温度が設定温度近傍領域内にあるときにメインユニットと補助ユニットのオン・オフが切り換えられることがなく、温調空間の温度制御を安定して行なうことができる。
さらに、上記実施態様において、第2加熱制御方法は、外気温度が第2加熱領域と第1加熱領域との境界の温度となったときにメインユニットの加熱出力がゼロとなるように、第2加熱領域において外気温度が高くなるほど、メインユニットの加熱出力を小さくし、補助ユニットの加熱出力を大きくするものであることが好ましい。そうすれば、分析中に外気温度が変化し、制御方法が第1加熱制御方法と第2加熱制御方法との間で切り換えられても、メインユニットや補助ユニットが高出力の状態から急にオフに切り換えられたり、オフの状態から急に高出力の状態に切り換えられたりすることがなく、メインユニットや補助ユニットの急な切換えによる筐体内の温度変動を防止できる。したがって、外気温度が変化しても温調空間の温度制御を安定して行なうことができる。
さらに、微細制御方法は、外気温度が設定温度近傍領域と冷却領域との境界の温度であるときに補助ユニットの加熱出力がゼロとなるように、設定温度近傍領域において外気温度が高くなるほど、メインユニットの冷却出力を大きくし、補助ユニットの加熱出力を小さくするようにメインユニット及び補助ユニットを制御するものであることが好ましい。そうすれば、外気温度が設定温度近傍領域から冷却領域に変化し、制御方法が微細制御方法から冷却制御方法に切り換わった場合にも、補助ユニットが急にオフに切り換えられることがなくなり、温調空間の温度制御を安定して行なうことができる。
温度領域保持部は、第2加熱領域と連続する温度領域であって第2加熱領域よりも低い温度領域である第3加熱領域を温度領域として含み、温度制御プログラムは、外気温度の属する温度領域が第3加熱領域であるときは、補助ユニットの加熱出力を停止しながらメインユニットの加熱出力のみを調節する第3加熱制御方法をメインユニット及び補助ユニットの制御方法として設定するように構成されていてもよい。そうすれば、大きな加熱出力を要する第3加熱領域でメインユニットのみが使用されるため、補助ユニットが温存されて補助ユニットの長寿命化が図れる。
温度領域保持部は、設定温度近傍領域を、設定温度よりも低い第1設定温度近傍領域と設定温度よりも高い第2設定温度近傍領域に分けて保持しており、温度制御プログラムは外気温度の属する温度領域が第1設定温度近傍領域であるときは、補助ユニットの加熱出力を一定に維持しながらメインユニットの冷却出力を調節する第1微細制御方法を、外気温度の属する温度領域が第2設定温度近傍領域であるときは、メインユニットの冷却出力を一定に維持しながら補助ユニットの加熱出力を調節する第2微細制御方法を、メインユニット及び補助ユニットの制御方法として設定するように構成されていてもよい。温調空間の温度制御をメインユニット又は補助ユニットのいずれか一方のみの出力調整によって行なうため、外気温度が第1設定温度近傍領域又は第2設定温度近傍領域にあるときのメインユニットと補助ユニットの制御が容易になる。
以下、図面を用いて液体クロマトグラフ及びカラムオーブンの一実施例について説明する。
液体クロマトグラフは、分析流路2において移動相を送液する送液部4、分析流路2中に試料を注入するオートサンプラからなる試料注入部6、試料注入部6により分析流路2中に注入された試料を成分ごとに分離する分析カラム8及び分析カラム8で分離された試料成分を検出する検出器10を備えている。分析カラム8はカラムオーブン12の内部(温調空間)に収容されている。
送液部4、試料注入部6、検出器10及びカラムオーブン12はシステムコントローラ14により制御されている。システムコントローラ14には例えばパーソナルコンピュータ(PC)によって実現される演算制御装置16が接続されている。分析者は演算制御装置16に移動相の流量や試料に関する情報、カラムオーブン12の設定温度などの分析条件を入力すると、それらの情報がシステムコントローラ14に与えられ、システムコントローラ14がそれらの情報に基づいて送液部4、試料注入部6、検出器10及びカラムオーブン12の動作を制御する。
分析者の設定した分析カラム8の温度(設定温度)はシステムコントローラ14からカラムオーブン12の温度制御部18に与えられる。カラムオーブン12の内部に、分析カラム8を加熱し又は冷却する温調素子としてメインユニット20及び補助ユニット22が設けられているとともに、カラムオーブン12内部の温調空間の温度(内部温度)を検知する内部センサ24が設けられている。メインユニット20は加熱と冷却の両方を行なうことができるペルチェ素子などの素子である。補助ユニット22は加熱を行なう発熱素子である。
温度制御部18は、内部センサ24の信号及びカラムオーブン12の外側の温度(外気温度)を検知する外気センサ26の信号に基づいて、メインユニット20及び補助ユニット22の出力の制御を行なうものである。図1では、外気センサ26がカラムオーブン12の筐体の外側に取り付けられているように図示されているが、外気センサ26は送液部4、試料注入部6又は検出器10などカラムオーブン12とは別の装置に設けられていてもよい。その場合、外気センサ26の検知信号はシステムコントローラ14を介して温度制御部18に取り込まれる。
演算制御装置16には、システムコントローラ14を介して検出器10で得られた検出信号が取り込まれるようになっている。演算制御装置16は取り込んだ検出信号に基づいて試料成分の同定や定量を行なうための演算を実行するようになっている。
ここで、カラムオーブン12について図3及び図4を用いて説明する。
図3は空気温調方式のカラムオーブンの一実施例を示す図であり、図4はブロックヒーティング方式のカラムオーブンの一実施例を示す図である。本発明はこれらのいずれの方式のカラムオーブンに対しても適用することができる。
図3に示した空気温調方式のカラムオーブン12は、筐体内部に設けられた温調空間12a内に分析カラム8が配置され、同じ温調空間12a内に内部センサ24、放熱フィン44及びファン46が配置されている。分析カラム8は配管48によって筐体の外側パネルに設けられた入口ポート50a及び出口ポート50bに接続されている。入口ポート50aには試料注入部6からの配管が接続され、出口ポート50bには検出器10へ通じる配管が接続されている。内部センサ24は分析カラム8の近傍に配置されている。
カラムオーブン12の筐体内部の温調空間12aとは別の空間12bにペルチェ素子からなるメインユニット20及び発熱素子からなる補助ユニット22が配置されている。温調空間12aと空間12bは断熱性の仕切り42によって熱的に分離されており、放熱フィン44は仕切り42の温調空間12a側、メインユニット20及び補助ユニット22は仕切り42の空間12b側に取り付けられている。
メインユニット20及び補助ユニット22は放熱フィン44と密接しており、メインユニット20は放熱フィン44を直接的に加熱又は冷却することができ、補助ユニット22は放熱フィン44を直接的に加熱することができる。放熱フィン44は複数の金属板が互いに隙間をもって配列されたものである。ファン46は放熱フィン44に向かって風を送り、放熱フィン44の各金属板間の隙間を通ることによって加熱され又は冷却された空気を温調空間12a内において循環させるようになっている。すなわち、この空気温調方式のカラムオーブン12は、温調空間12a内の空気全体を加熱し又は冷却することによって分析カラム8の温度を設定温度に制御するものである。
メインユニット20は、放熱フィン44を加熱する際には放熱フィン44と接している面とは反対側の面の温度が低下し、放熱フィン44を冷却する際には放熱フィン44から奪った熱を放熱フィン44と接している面とは反対側の面から放熱するようになっているが、メインユニット20の配置されている空間12bが温調空間12aとは熱的に分離されているため、温調空間12a内の温度がその影響を受けることはない。
図4に示したブロックヒーティング方式のカラムオーブン12は、仕切り42の温調空間12a側に取り付けられた熱伝導性のカラムホルダー45を、仕切り42の空間12b側に取り付けられたメインユニット20及び補助ユニット22で加熱し又は冷却するようになっている。カラムホルダー45は分析カラム8に密接して分析カラム8を保持している。内部センサ24はカラムホルダー45の温度を検知するようになっている。すなわち、このブロックヒーティング方式のカラムオーブン12は、分析カラム8を保持する熱伝導性のカラムホルダー45を加熱し又は冷却することで、分析カラム8の温度を設定温度に制御するものである。
カラムオーブン12の温度制御部18によるメインユニット20及び補助ユニット22の制御について図2を用いて説明する。
温度制御部18は、温度制御手段28、設定温度保持部30、温度領域設定手段32、温度領域保持部34、温度領域特定手段36、制御方法設定手段38及び温度制御プログラム保持部40を備えている。
分析者により設定された設定温度はシステムコントローラ14を介して温度制御部18に与えられ、設定温度保持部30に記憶される。温度制御手段28は設定温度保持部30に記憶された設定温度、内部センサ24で得られた内部温度、外気センサ26で得られた外気温度、後述する制御方法設定手段38により設定された制御方法に基づいて、内部温度が設定温度になるようにメインユニット20と補助ユニット22の出力を制御する。
温度領域設定手段32は、メインユニット20及び補助ユニット22の制御方法の基準となる「温度領域」を、設定温度に基づいて設定するものである。
ここで、図6を用いて「温度領域」について説明する。
「温度領域」とは設定温度に対する外気温度の関係性を示すものである。図6の例では、設定温度を基準として(1)〜(6)の温度領域が設定されている。
(1)及び(2)の領域は設定温度近傍の温度領域である設定温度近傍領域である。(1)の領域は第1設定温度近傍領域であり、設定温度近傍領域のうち設定温度よりも低い温度領域である。(2)の領域は第2設定温度近傍領域であり、設定温度近傍領域のうち設定温度よりも高い温度領域である。
(3)の領域は第1加熱領域であり、第1設定温度近傍領域(1)と連続する第1設定温度近傍領域(1)よりも低い温度領域である。
(4)の領域は第2加熱領域であり、第1加熱領域(3)と連続する第1加熱領域(3)よりもさらに低い温度領域である。
(5)の領域は第3加熱領域であり、第3加熱領域(4)と連続する第2加熱領域(4)よりもさらに低い温度領域である。
(6)の領域は冷却領域であり、第2設定温度近傍領域(2)と連続する第2設定温度近傍領域(2)よりも高い温度領域である。
図2に戻って説明を続けると、温度領域設定手段32は、取得した設定温度を基準として温度領域(1)〜(6)を設定するように構成されている。例えば、設定温度〜設定温度−5℃の温度領域を第1設定温度近傍領域(1)、設定温度〜設定温度+5℃の温度領域を第2設定温度近傍領域(1)、設定温度−5℃〜設定温度−10℃の温度領域を第1加熱領域(3)、設定温度−10℃〜設定温度−16℃の温度領域を第2加熱領域(4)、設定温度−16℃よりの低い温度領域を第3加熱領域(5)、設定温度+5℃よりも高い温度領域を冷却領域(6)として設定する。温度領域設定手段32により設定された温度領域は設定温度領域保持部34に記憶される。
温度領域特定手段36は、外気センサ26から外気温度を取得し、その外気温度の属する温度領域を特定するものである。
制御方法設定手段38は温度領域特定手段36が特定した温度領域に応じた制御方法を設定するものである。温度制御プログラム保持部40には、外気温度の属する温度領域に対して適用すべき制御方法が温度制御プログラムとして記憶されている。制御方法設定手段38は、その温度制御プログラムに基づいて、外気温度の属する温度領域に応じたメインユニット20及び補助ユニット22の制御方法を設定する。温度制御手段28は制御方法設定手段38の設定した制御方法に従ってメインユニット20及び補助ユニット22の制御を行なうように構成されている。
図5を用いて、温度制御部18による分析カラム8の温度制御の流れについて説明する。
まず、温度制御部18は分析者が設定したカラムオーブン12の設定温度をシステムコントローラ14を介して取得する。設定温度を取得すると、温度領域設定手段32がその設定温度に基づいて温度領域を設定し、その温度領域を温度領域保持部34が記憶する。
次に、内部センサ24から内部温度を取得し、外気センサ26から外気温度を取得する。温度領域特定手段36は、取得した外気温度の属する温度領域を、例えば外気温度と設定温度との差分に基づいて特定する。制御方法設定手段38は、温度制御プログラム保持部40に保持されている温度制御プログラムを用いて、外気温度の属する温度領域に応じた制御方法を取得し、メインユニット20及び補助ユニット22の制御方法として設定する。
温度制御手段28は、設定された制御方法に従い、内部温度が設定温度になるようにメインユニット20と補助ユニット22の出力値を算出し、算出した出力値となるようにメインユニット20及び補助ユニット22の出力を調節する。
以後、内部センサ24と外気センサ26からの内部温度及び外気温度の取得を一定時間ごとに行ない、その都度、温度領域の特定、制御方法の設定、メインユニット20及び補助ユニット22の出力の調節を行なう。
好ましい温度制御プログラムの一例を図6を用いて説明する。
この温度制御プログラムは、隣接する温度領域間において、メインユニット20の出力と補助ユニット22の出力のそれぞれが連続した関係となるように構成されている。すなわち、外気温度が変化し、それによって外気温度の属する温度領域が変わっても、メインユニット20や補助ユニット22が高出力の状態からオフの状態に急に切り換えられたり、オフの状態から急に高出力の状態になったり、メインユニット20の出力が加熱から冷却に又は冷却から加熱に急に切り換えられたりすることがないように構成されている。以下に、温度領域ごとに適用される制御方法について具体的に説明する。
第1設定温度近傍領域(1)では、補助ユニット22の出力を実験などにより求めた一定の値に維持しながら、メインユニット20の冷却出力を内部センサ24で検出される内部温度に基づいてフィードバック制御する第1微細制御方法が適用される。この第1微細制御方法では、外気温度が高くなるほどメインユニット20の冷却出力が大きくなる。
第2設定温度近傍領域(2)では、メインユニット20の冷却出力を実験などにより求めた一定の値に維持しながら、補助ユニット22の出力を内部センサ24で検出される内部温度に基づいてフィードバック制御する第2微細制御方法が適用される。この第2微細制御方法では、外気温度が高くなるほど補助ユニット22の出力が小さくなる。メインユニット20の冷却出力は、外気温度が冷却領域(6)との境界の温度になったときに補助ユニット22の出力がゼロになるような出力である。
第1加熱領域(3)では、メインユニット20を停止させ、補助ユニット22の出力を内部センサ24で検出される内部温度に基づいてフィードバック制御する第1加熱制御方法が適用される。この第1加熱制御方法では、外気温度が高くなるほど補助ユニット22の出力が小さくなる。
第2加熱領域(4)では、メインユニット20の加熱出力を内部センサ24で検出される内部温度に基づいてフィードバック制御し、補助ユニット22の出力を外気温度に応じた所定の値に制御する第2加熱制御方法が適用される。補助ユニット22の出力は、外気温度が第3加熱領域(5)との境界温度であるときにゼロ、外気温度が第1加熱領域(3)との境界温度であるときに内部温度を単独で(メインユニット20がオフの状態で)制御することができる値(例えば、補助ユニット22の最大出力の50%)となるように、外気温度が高くなるほど線形的に大きくなるように予め設定されている。すなわち、補助ユニット22の出力は内部温度に関係なく、外気温度によって線形計算により求められるものである。メインユニット20の加熱出力は、外気温度が高くなるほど小さくなり、外気温度が第1加熱領域との境界の温度になったときにゼロになるように構成されている。
第3加熱領域(5)では、補助ユニット22を停止させ、メインユニット20の加熱出力を内部センサ24で検出される内部温度に基づいてフィードバック制御する第3加熱制御方法が適用される。この第3加熱制御方法では、メインユニット20の加熱出力は外気温度が高くなるほど小さくなる。
冷却領域(6)では、補助ユニット22を停止させ、メインユニット20の冷却出力を内部センサ24で検出される内部温度に基づいてフィードバック制御する冷却制御方法が適用される。この冷却制御方法では、メインユニット20の冷却出力は外気温度が高くなるほど大きくなる。
なお、図7に示されているように、設定温度近傍領域(1)及び(2)において、メインユニット20の冷却出力と補助ユニット22の出力の両方を内部センサ24で検出される内部温度に基づいてフィードバック制御するようにしてもよい。この場合、外気温度が高くなるほどメインユニット20の冷却出力が大きくなり、補助ユニット22の出力が小さくなる。かかる構成にしても、隣接する温度領域間においてメインユニット20及び補助ユニット22の出力が連続した関係となる。
図8に温度制御プログラムの比較例を示す。
この温度制御プログラムでは、3つの温度領域(1)〜(3)が設定されている。設定温度近傍の温度領域である設定温度近傍領域(1)では、補助ユニット22の出力を一定に保ち、メインユニット20の冷却出力を内部センサ24で検出される内部温度に基づいてフィードバック制御するという制御方法が適用される。設定温度近傍領域(1)よりも低い加熱領域(2)では、補助ユニット22を停止させ、メインユニット20の加熱出力を内部センサ24で検出される内部温度に基づいてフィードバック制御するという制御方法が適用される。設定温度近傍領域(1)よりも高い冷却領域(3)では、補助ユニットを停止させ、メインユニット20の冷却出力を内部センサ24で検出される内部温度に基づいてフィードバック制御するという制御方法が適用される。
図8の温度制御プログラムでは、例えば加熱領域(2)に属していた外気温度が変化して設定温度近傍領域(1)に属することとなった場合に、加熱出力を行なっていたメインユニット20が冷却出力を行なうように切り換えられ、停止していた補助ユニット22が一定の大きさの出力状態になるため、その切換えのタイミングでカラムオーブン12内の温度制御が不安定になる。これは、外気温度の属する温度領域が設定温度近傍領域(1)と冷却領域(3)との間で変化した場合も同様である。このように、メインユニット20と補助ユニット22の出力が隣接する温度領域間で連続した関係となっていない場合には、外気温度が温度領域の境界温度を超えて変化したときに、カラムオーブン12内の温度制御が不安定になり、分析に影響を与えてしまう。
図9及び図10は温度制御プログラムによるカラムオーブン12内の温度制御の安定性を比較するための実験結果を示すデータである。図9は図6の温度制御プログラムを用いて行なった実験の結果データ、図10は図8の温度制御プログラムを用いて行なった実験の結果データである。これらの実験は、カラムオーブン12の設定温度を30℃に設定し、実験開始当初の外気温度(室温)を15℃にし、そこから39℃まで上昇させてカラムオーブン12内の温度(内部温度)を測定することにより行なった。
図6の温度制御プログラムを用いたときは、外気温度を15℃から徐々に上昇させていくことで、外気温度の属する温度領域が第3加熱領域(5)から順に第2加熱領域(4)、第1加熱領域(3)、第1設定温度近傍領域(1)、第2設定温度近傍領域(2)、冷却領域(6)へと変化していき、それに伴なってメインユニット20及び補助ユニット22の制御方法が変更される。しかし、図9に示されているように、カラムオーブン12内の温度は設定温度である30℃で略一定に維持されており、制御方法の変更による影響を受けていない。
それに対し、図8の温度制御プログラムを用いたときは、外気温度の属する温度領域が加熱領域(2)から設定温度近傍領域(1)に変化する時間、設定温度近傍領域(1)から冷却領域(3)に変化する時間でカラムオーブン12内の温度に変動が生じており、メインユニット20及び補助ユニット22の制御方法が変更されることによってカラムオーブン12内の温度制御が不安定になっていることがわかる。
2 分析流路
4 送液部
6 試料注入部
8 分析カラム
10 検出器
12 カラムオーブン
14 システムコントローラ
16 演算制御装置
18 温度制御部
20 メインユニット
22 補助ユニット
24 内部センサ
26 外気センサ
28 温度制御手段
30 設定温度保持部
32 温度領域設定手段
34 温度領域保持部
36 温度領域特定手段
38 制御方法設定手段
40 温度制御プログラム保持部
42 仕切り
44 放熱フィン
45 カラムホルダー
46 ファン
48 配管
50a 入口ポート
50b 出口ポート

Claims (7)

  1. 分析カラムを収容する温調空間を内部に備えた筐体と、
    前記温調空間内において前記分析カラムの加熱と冷却を行なうメインユニットと、
    前記メインユニットとは別途設けられ、前記温調空間内において前記分析カラムの加熱を行なう補助ユニットと、
    前記筐体の外側の温度である外気温度を検知する外気センサと、
    前記温調空間内の温度である内部温度を検知する内部センサと、
    前記分析カラムの温度の目標値である設定温度を設定するための温度設定手段と、
    前記外気温度が変化しうる温度範囲において連続する複数の温度領域を保持する温度領域保持部と、
    前記温度領域保持部の温度領域から前記外気センサの検知した外気温度の属する前記温度領域を特定する温度領域特定手段と、
    前記メインユニットの出力及び前記補助ユニットの出力が、隣接する前記温度領域において連続した関係となるように、前記各温度領域における前記メインユニット及び前記補助ユニットの制御方法が構成されている温度制御プログラムを保持する温度制御プログラム保持部と、
    前記温度領域特定手段が特定した温度領域と前記温度制御プログラムに基づいて、前記メインユニット及び前記補助ユニットの制御方法を設定する制御方法設定手段と、
    前記内部温度が前記設定温度になるように、前記制御方法設定手段により設定された制御方法を用いて前記メインユニット及び前記補助ユニットを制御する温度制御手段と、を備えたカラムオーブン。
  2. 前記温度領域保持部は、前記設定温度から一定の温度差の温度領域である設定温度近傍領域、前記設定温度近傍領域と連続する温度領域であって前記設定温度よりも低い温度領域である第1加熱領域、前記第1加熱領域と連続する温度領域であって前記第1加熱領域よりも低い温度領域である第2加熱領域、前記設定温度近傍領域と連続する温度領域であって前記設定温度よりも高い温度領域である冷却領域を前記温度領域として含み、
    前記温度制御プログラムは、前記外気温度の属する温度領域が前記設定温度近傍領域であるときは、前記メインユニットで冷却しながら前記補助ユニットで加熱する微細制御方法を、前記外気温度の属する温度領域が前記第1加熱領域であるときは、前記メインユニットの加熱及び冷却の出力を停止して前記補助ユニットの加熱出力のみを調節する第1加熱制御方法を、前記外気温度の属する温度領域が前記第2加熱領域であるときは、前記メインユニットによる加熱出力と前記補助ユニットの加熱出力を同時に調節する第2加熱制御方法を、前記外気温度の属する温度領域が前記冷却領域であるときは、前記補助ユニットの加熱出力を停止して前記メインユニットの冷却出力のみを調節する冷却制御方法を、前記メインユニット及び前記補助ユニットの制御方法として設定するように構成されている請求項1に記載のカラムオーブン。
  3. 前記第2加熱制御方法は、前記外気温度が前記第2加熱領域と前記第1加熱領域との境界の温度となったときに前記メインユニットの加熱出力がゼロとなるように、前記第2加熱領域において前記外気温度が高くなるほど、前記メインユニットの加熱出力を小さくし、前記補助ユニットの加熱出力を大きくするものである請求項2に記載のカラムオーブン。
  4. 前記微細制御方法は、前記外気温度が前記設定温度近傍領域と前記冷却領域との境界の温度であるときに前記補助ユニットの加熱出力がゼロとなるように、前記設定温度近傍領域において前記外気温度が高くなるほど、前記メインユニットの冷却出力を大きくし、前記補助ユニットの加熱出力を小さくするものである請求項1から3のいずれか一項に記載のカラムオーブン。
  5. 前記温度領域保持部は、前記第2加熱領域と連続する温度領域であって前記第2加熱領域よりも低い温度領域である第3加熱領域を前記温度領域として含み、
    前記温度制御プログラムは、前記外気温度の属する温度領域が前記第3加熱領域であるときは、前記補助ユニットの加熱出力を停止しながら前記メインユニットの加熱出力のみを調節する第3加熱制御方法を前記メインユニット及び前記補助ユニットの制御方法として設定するように構成されている請求項1から4のいずれか一項に記載のカラムオーブン。
  6. 前記温度領域保持部は、前記設定温度近傍領域を、前記設定温度よりも低い温度領域である第1設定温度近傍領域と前記設定温度よりも高い温度領域である第2設定温度近傍領域に分けて保持しており、
    前記温度制御プログラムは、前記外気温度の属する温度領域が前記第1設定温度近傍領域であるときは、前記補助ユニットの加熱出力を一定に維持しながら前記メインユニットの冷却出力を調節する第1微細制御方法を、前記外気温度の属する温度領域が前記第2設定温度近傍領域であるときは、前記メインユニットの冷却出力を一定に維持しながら前記補助ユニットの加熱出力を調節する第2微細制御方法を、前記メインユニット及び前記補助ユニットの制御方法として設定するように構成されている請求項2から5のいずれか一項に記載のカラムオーブン。
  7. 分析流路と、
    前記分析流路において移動相を送液する送液部と、
    前記分析流路中に試料を注入する試料注入部と、
    前記分析流路上で前記試料注入部の下流側に設けられ、前記試料注入部により注入された試料を成分ごとに分離する分析カラムと、
    前記分析流路上で前記分析カラムの下流側に設けられ、前記分析カラムにより分離された試料成分の検出を行なう検出器と、を備えた液体クロマトグラフであって、
    前記分析カラムが請求項1から6のいずれか一項に記載のカラムオーブンの温調空間内に収容されていることを特徴とする液体クロマトグラフ。
JP2013175917A 2013-08-27 2013-08-27 カラムオーブン及び液体クロマトグラフ Active JP6107538B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013175917A JP6107538B2 (ja) 2013-08-27 2013-08-27 カラムオーブン及び液体クロマトグラフ
US14/455,388 US9759695B2 (en) 2013-08-27 2014-08-08 Column oven and liquid chromatograph
CN201410409207.4A CN104422744B (zh) 2013-08-27 2014-08-19 柱温箱以及液相色谱仪

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013175917A JP6107538B2 (ja) 2013-08-27 2013-08-27 カラムオーブン及び液体クロマトグラフ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015045532A true JP2015045532A (ja) 2015-03-12
JP6107538B2 JP6107538B2 (ja) 2017-04-05

Family

ID=52581284

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013175917A Active JP6107538B2 (ja) 2013-08-27 2013-08-27 カラムオーブン及び液体クロマトグラフ

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9759695B2 (ja)
JP (1) JP6107538B2 (ja)
CN (1) CN104422744B (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020049790A1 (ja) * 2018-09-03 2020-03-12 株式会社島津製作所 ガスクロマトグラフ
US10775352B2 (en) 2018-12-05 2020-09-15 Shimadzu Corporation Column oven
JP2020186979A (ja) * 2019-05-13 2020-11-19 株式会社島津製作所 クロマトグラフィー分析システム
WO2024070027A1 (ja) * 2022-09-26 2024-04-04 株式会社島津製作所 分析システム

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5644187B2 (ja) * 2010-05-31 2014-12-24 株式会社島津製作所 カラムオーブン
DE102015115449A1 (de) * 2015-09-14 2017-03-16 Fogtec Brandschutz Gmbh & Co. Kg Brandbekämpfungssystem mit zweistufiger Heizung
CN105467044B (zh) * 2015-12-31 2019-04-26 华测检测认证集团股份有限公司 离子色谱的柱前衍生仪器
JP6852607B2 (ja) * 2017-07-21 2021-03-31 株式会社島津製作所 冷媒導入装置及びガスクロマトグラフ
US11041660B2 (en) * 2018-09-21 2021-06-22 Rosemount Inc. Forced convection heater
US11204340B2 (en) * 2018-09-21 2021-12-21 Rosemount Inc. Forced convection heater
CN114280183B (zh) * 2021-12-23 2024-02-23 华谱科仪(北京)科技有限公司 液相色谱仪柱温箱的温度控制装置和方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04355364A (ja) * 1991-05-31 1992-12-09 Shimadzu Corp 液体クロマトグラフのカラム恒温槽
JP2001013126A (ja) * 1999-06-30 2001-01-19 Shimadzu Corp カラム恒温槽

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3539093B2 (ja) 1996-09-30 2004-06-14 株式会社島津製作所 計測装置の温調装置
JP4188206B2 (ja) * 2003-11-04 2008-11-26 株式会社日立ハイテクノロジーズ 液体クロマトグラフ用カラムオーブン
US7060946B1 (en) * 2004-11-23 2006-06-13 Shimadzu Corporation Analytical device with temperature control system
WO2008102872A1 (ja) 2007-02-23 2008-08-28 Tosoh Corporation カラムオーブン二重温調
JP2010048554A (ja) * 2008-08-19 2010-03-04 Shimadzu Corp カラム温度監視装置及びクロマトグラフ装置
JP5644187B2 (ja) * 2010-05-31 2014-12-24 株式会社島津製作所 カラムオーブン
JP5471900B2 (ja) * 2010-07-01 2014-04-16 株式会社島津製作所 液体クロマトグラフ装置
US20140331744A1 (en) * 2011-08-11 2014-11-13 Dsm Ip Assets B.V. Sample introduction device and method
JP5790583B2 (ja) * 2012-04-18 2015-10-07 株式会社島津製作所 液体クロマトグラフ用カラムオーブン
JP6269146B2 (ja) * 2014-02-19 2018-01-31 株式会社島津製作所 クロマトグラフ稼働状態監視装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04355364A (ja) * 1991-05-31 1992-12-09 Shimadzu Corp 液体クロマトグラフのカラム恒温槽
JP2001013126A (ja) * 1999-06-30 2001-01-19 Shimadzu Corp カラム恒温槽

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020049790A1 (ja) * 2018-09-03 2020-03-12 株式会社島津製作所 ガスクロマトグラフ
US10775352B2 (en) 2018-12-05 2020-09-15 Shimadzu Corporation Column oven
JP2020186979A (ja) * 2019-05-13 2020-11-19 株式会社島津製作所 クロマトグラフィー分析システム
JP7226077B2 (ja) 2019-05-13 2023-02-21 株式会社島津製作所 クロマトグラフィー分析システム
WO2024070027A1 (ja) * 2022-09-26 2024-04-04 株式会社島津製作所 分析システム

Also Published As

Publication number Publication date
JP6107538B2 (ja) 2017-04-05
CN104422744B (zh) 2016-08-24
CN104422744A (zh) 2015-03-18
US20150059450A1 (en) 2015-03-05
US9759695B2 (en) 2017-09-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6107538B2 (ja) カラムオーブン及び液体クロマトグラフ
US10126276B2 (en) Gas chromatograph-mass spectrometer
US11099160B2 (en) Multidimensional gas chromatograph
JP6428793B2 (ja) ガスクロマトグラフ
US9435774B2 (en) Gas chromatograph apparatus
US20140063496A1 (en) Spectrophotometer
JP2014048176A5 (ja)
WO2013140917A1 (ja) 液体クロマトグラフ分析装置及びその温度制御方法
JP6750561B2 (ja) 液体クロマトグラフ用カラムオーブン及び液体クロマトグラフ
US10458961B2 (en) Gas chromatograph
JP6079612B2 (ja) ガスクロマトグラフ
EP3367091A1 (en) Gas chromatograph
JP6394426B2 (ja) ガスクロマトグラフ
JP4840015B2 (ja) 液体クロマトグラフシステム
JP2014157139A (ja) 液体クロマトグラフ
JP2014235035A (ja) 液体クロマトグラフ分析装置、並びにそれを用いた分析システム及び分析方法
US20180111058A1 (en) Expansion regulation in carbon dioxide based chromatographic systems
JP2016008908A (ja) 超臨界流体を用いた成分抽出分離装置及び成分抽出分離方法
JP2014211385A (ja) クロマトグラフ用恒温槽
EP3591493B1 (en) Temperature control device, temperature control method, computer program, and storage medium
JP7342946B2 (ja) 液化二酸化炭素供給装置および超臨界流体装置
JP7294417B2 (ja) 超臨界流体装置用移動相温調装置および超臨界流体装置
JP2005300189A (ja) 液体クロマトグラフィー装置
JPH0555057U (ja) 電気化学検出器
JP2014163731A (ja) クロマトグラフ用恒温槽

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20151109

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20160809

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160825

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160906

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161018

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170207

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170220

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6107538

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151