JP2015036128A - 酸性ガス吸着脱離デバイス - Google Patents
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- QFVOGUOSZTYALJ-UHFFFAOYSA-N CCC(C)(C)C(OC(CC1(C)C)CC(C)(C)N1O)=O Chemical compound CCC(C)(C)C(OC(CC1(C)C)CC(C)(C)N1O)=O QFVOGUOSZTYALJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Y02C20/40—Capture or disposal of greenhouse gases of CO2
Abstract
Description
[1]酸化および還元を行うことで、酸性ガスの吸着および脱離を行うことができる化合物並びに基材を含む酸性ガス吸着脱離層と、前記酸性ガス吸着脱離層を挟持する一対の電極とを有する酸性ガス吸着脱離デバイス。
[2]前記酸化および還元が、電解酸化および電解還元である[1]に記載の酸性ガス吸着脱離デバイス。
[3]前記酸化および還元を行うことで、酸性ガスの吸着および脱離を行うことができる化合物が、不対電子を有する物質である[1]または[2]に記載の酸性ガス吸着脱離デバイス。
[4]前記不対電子を有する物質が、下記式(1)で表される化合物である[3]に記載の酸性ガス吸着脱離デバイス。
[5]前記不対電子を有する物質が、高分子化合物である[3]に記載の酸性ガス吸着脱離デバイス。
[6]前記不対電子を有する物質が、下記式(1)で表される化合物から水素原子を少なくとも1個取り除いた基を有する高分子化合物である[3]に記載の酸性ガス吸着脱離デバイス。
[7]前記高分子化合物が、下記式(3)で表される構造単位を1種以上含む高分子化合物である[5]または[6]に記載の酸性ガス吸着脱離デバイス。
まず、本明細書において使用する用語について説明する。
「TEMPO」とは、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 1−オキシドを意味する。
「置換されていてもよい」とは、その直後に記載された化合物又は基を構成する水素原子が無置換の場合及び水素原子の一部又は全部が置換基によって置換されている場合の双方を含む。置換基によって置換されている場合の置換基としては、特に説明がない限り、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数1〜30のヒドロカルビル基、炭素原子数1〜30のヒドロカルビルオキシ基、炭素原子数1〜30のヒドロカルビルアミノ基、炭素原子数3〜30のヘテロアリール基、炭素原子数1〜7のスルホニル基、炭素原子数1〜14のアミド基を意味し、これらの中でも、好ましくは、ハロゲン原子、炭素原子数1〜18のヒドロカルビル基、炭素原子数1〜18のヒドロカルビルオキシ基、炭素原子数1〜18のヒドロカルビルアミノ基、炭素原子数3〜16のヘテロアリール基であり、より好ましくは炭素原子数1〜12のヒドロカルビル基、炭素原子数1〜12のヒドロカルビルオキシ基、炭素原子数3〜8のヘテロアリール基であり、更に好ましくは炭素原子数1〜6のヒドロカルビル基、炭素原子数1〜6のヒドロカルビルオキシ基である。ヒドロカルビル基、ヒドロカルビルオキシ基、ヒドロカルビルアミノ基、及びヘテロアリール基等の置換基はそれぞれ、直鎖、分岐鎖又は環状のいずれであってもよい。
Zは、-(CR7R8)n-、-(CR9R10)-O-、-(CR11R12)-NR21-、-(CR13R14)-O-(CR15R16)-または-(CR17R18)-NR22-(CR19R20)-を表す。
nは、2または3を表す。
R3,R4,R5,R6,R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21およびR22は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。複数存在するR7は同一であっても異なっていてもよく、複数存在するR8は同一であっても異なっていてもよい。]
R20およびR21における置換基としては、炭素原子数1〜30のヒドロカルビル基が好ましい。
置換のシリル基の炭素数は通常1〜20である。置換のシリル基の具体例としては、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基、トリストリメチルシリル基があげられる。
置換のアミノ基の炭素数は通常1〜30である。置換のアミノ基としては、<用語>の項に記載の炭素数1〜30のヒドロカルビルアミノ基があげられる。
好ましくは、N,N−ジイソプロピルニトロキシドラジカル、N,N−ジ-n−ブチルニトロキシドラジカル、N,N−ジ-イソブチルニトロキシドラジカル、N,N−ジ−sec−ブチルニトロキシドラジカル、N,N−ジ−tert−ブチルニトロキシドラジカル、N,N−ジシクロペンチルニトロキシドラジカル、N,N−ジシクロヘキシルニトロキシドラジカル、N,N−ジフェニルニトロキシドラジカル、N,N−ジナフチルニトロキシドラジカル、N,N−ジ−2−tert−ブチルフェニルニトロキシドラジカル、N,N−ジ(3,5−ジ−tert−ブチル)フェニルニトロキシドラジカル、N,N−ジ−2−ピロリルニトロキシドラジカル、N,N−ジ−4−ピリジルニトロキシドラジカル、N,N−ジ−4−ピリダジルニトロキシドラジカル、N,N−ジ−2−ピリミジルニトロキシドラジカル、ポリ(エチレングリコール)−ビス−TEMPO、N,N−ジ−シクロヘキシルオキシニトロキシドラジカル、N,N−ジ−tert−ブトキシカルボニルアミノ−N−オキシラジカル、N,N−ジベンジルオキシカルボニルアミノ−N−オキシラジカル、2,2,5−トリメチル−4−フェニル−3−アザヘキサン−3−ニトロキシラジカル、N−フェニル−N−オキシ−tert−ブチルアミン、N−ナフチル−N−オキシ−tert−ブチルアミン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジニルオキシラジカル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニルオキシラジカル、4−アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニルオキシラジカル、4−カルボキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニルオキシラジカル、4−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニルオキシラジカル、4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニルオキシラジカル、4−アセトアミド−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニルオキシラジカル、2,2,5,5−テトラメチルピロリジン−オキシラジカル、3−シアノ−2,2,5,5−テトラメチルピロリジン−オキシラジカル、3−カルバモイル−2,2,5,5−テトラメチルピロリジン−オキシラジカル、3−カルボキシ−2,2,5,5−テトラメチルピロリジン−オキシラジカル、2−アザアダマンタン−N−オキシル、1−メチル−2−アザアダマンタン−N−オキシル、N、N−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−1−オキシルピペリジン−4−イル)−1’,3’−フェニルジウレアであり、
より好ましくは、2,2,5−トリメチル−4−フェニル−3−アザヘキサン−3−ニトロキシラジカル、N−フェニル−N−オキシ−tert−ブチルアミン、ポリ(エチレングリコール)−ビス−TEMPO、2、2、6、6−テトラメチルピペリジニルオキシラジカル、4−メトキシ−2、2、6、6−テトラメチルピペリジニルオキシラジカル、4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジニルオキシラジカル、2,2,5,5−テトラメチルピロリジン−オキシラジカル、2−アザアダマンタン−N−オキシル、1−メチル−2−アザアダマンタン−N−オキシル、N,N−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−1−オキシルピペリジン−4−イル)−1’,3’−フェニルジウレアである。
装置 :東ソー製HLC−8220GPC
カラム:
1、TSKguardcolumn SuperAW−H(東ソー製)
2、TSKgel SuperAWM−H(東ソー製)
3、TSKgel SuperAW3000(東ソー製)
(1〜3の順に直列)
カラム温度: 50℃
流量: 0.6mL/min
移動相:テトラヒドロフラン
検出器:示差屈折率検出器
好ましくは、テトラメチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラ−n−エチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラ−n−プロピルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラ−n−ブチルアンモニウムテトラフルオロボレート、n−ヘキサデシルトリメチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラ−n−ヘキサデシルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラ−n−オクチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラ−n−エチルアンモニウムパークロレート、テトラ−n−ブチルアンモニウムパークロレート、テトラオクタデシルアンモニウムパークロレート、1−メチル−3−オクチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1、3−ジメトキシイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−メチル−3−オクチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、リチウムパークロレート、ナトリウムパークロレート、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムであり、より好ましくは、テトラ−n−エチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラ−n−プロピルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラ−n−ブチルアンモニウムテトラフルオロボレート、1−メチル−3−オクチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1、3−ジメトキシイミダゾリウムテトラフルオロボレート、1−メチル−3−オクチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスフェート、リチウムパークロレート、ナトリウムパークロレートであり、さらに好ましくは、テトラ−n−ブチルアンモニウムテトラフルオロボレート、1−メチル−3−オクチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート、リチウムパークロレートである。なお、支持電解質は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)、及び重量平均分子量(Mw)はサイズ排除クロマトグラフィー(SEC)により次の条件で求めた。
装置 :東ソー製HLC−8220GPC
カラム:
1、TSKguardcolumn SuperAW−H(東ソー製)
2、TSKgel SuperAWM−H(東ソー製)
3、TSKgel SuperAW3000(東ソー製)
(1〜3の順に直列)
カラム温度: 50℃
流量: 0.6mL/min
移動相:テトラヒドロフラン
検出器:示差屈折率検出器
三口フラスコに4−メタクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル0.33g(1.37mmol)と2−tert−ブチルジメチルシロキシエチルメタアクリレート0.34g(1.37mmol)を加え、窒素置換したのち、無水テトラヒドロフラン(安定剤不含)2.0mlを加え、内温0〜5℃まで冷却し、フェニルマグネシウムブロミド−テトラヒドロフラン1.0M溶液,0.82mlを添加し反応混合液を得た。得られた反応混合液は、常温にて8時間攪拌したのち、水2.0mlを加えクエンチしたのち、酢酸エチル10mlを加え、分液ロートで分液操作したのち、取り出した油層は硫酸ナトリウムで脱水後、ろ過を行い、溶媒留去したのち油分0.53gを得た。得られた油分は、テトラヒドロフラン0.5mlを加え、テトラヒドロフラン溶液としたのち、−60℃まで冷却したヘキサン20mlに滴下し、同温度で1時間攪拌したのち、固体成分をろ過し、得られた固体を減圧乾燥することで、下記に式(1−1)で表される共重合体1のtert−ブチルジメチルシロキシ体0.42gを得た(収率:63%)で得た。
得られた共重合体1のtert−ブチルジメチルシロキシ体をテトラヒドロフラン2mlで溶液とし、常温してテトラブチルアンモニウムフロライド/テトラヒドロフラン1.0M溶液1.5mlを加え、反応混合液を得た。得られた反応混合液は、同温度にて6時間攪拌したのち、水2mlを加えることでクエンチを行った後、酢酸エチル20mlを加え、分液ロートにて分液を行ったのち、取り出した油層は、硫酸マグネシウムで脱水したのち、ろ過、溶媒留去したことで、固体成分を0.3g得た。得られた固体成分は、テトラヒドロフラン、0.5mlで溶液としたのち、−60℃まで冷却したヘキサン20mlに滴下し、同温度で1時間攪拌したのち、固体成分をろ過し、得られた固体を減圧乾燥することで、下記式(1−2)で表される共重合体10.20gを得た(収率:37%、Mw:66,348,Mn:35,319)で得た。
三口フラスコに4−メタクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル0.50g(2.08mmol)と2−tert−ブチルジメチルシロキシエチルメタアクリレート1.04g(4.16mmol)を加え、窒素置換したのち、無水テトラヒドロフラン(安定剤不含)2.0mlを加え、内温0〜5℃まで冷却し、フェニルマグネシウムブロミド−テトラヒドロフラン1.0M溶液,1.24mlを添加し反応混合液を得た。得られた反応混合液は、常温にて8時間攪拌したのち、水2.0mlを加えクエンチしたのち、酢酸エチル10mlを加え、分液ロートで分液操作したのち、取り出した油層は硫酸ナトリウムで脱水後、ろ過を行い、溶媒留去したのち油分0.53gを得た。得られた油分は、テトラヒドロフラン0.5mlを加え、テトラヒドロフラン溶液としたのち、−60℃まで冷却したヘキサン20mlに滴下し、同温度で1時間攪拌したのち、固体成分をろ過し、得られた固体を減圧乾燥することで、下記(2−1)で表される共重合体2のtert−ブチルジメチルシロキシ体0.58gを得た(収率:38%)で得た。
調製例1において、2−tert−ブチルジメチルシロキシエチルメタアクリレートの代わりに、2−tert−ブチルジメチルシロキシプロピルメタアクリレートを用いて反応を行い、下記式(3−1)で表される共重合体3を得た(収率:43%、Mw:11,963,Mn:10,891)。
調製例2において、2−tert−ブチルジメチルシロキシエチルメタアクリレートの代わりに、2−tert−ブチルジメチルシロキシプロピルメタアクリレートを用いて反応を行い、下記式(4−1)で表される共重合体4を得た(収率:28%、Mw:16,540,Mn:15,780)
調製例2において、2−tert−ブチルジメチルシロキシエチルメタアクリレートの代わりに、N,N−ジメチルアミノエチルメタアクリレートを用いて反応を行い、下記式(5−1)で表される共重合体5を得た(収率:14%、Mw:12,046,Mn:7,260)。
三口フラスコに4−メタクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル0.50g(2.08mmol)と2−tert−ブチルジメチルシロキシエチルメタアクリレート0.26g(1.04mmol)を加え、窒素置換したのち、無水テトラヒドロフラン(安定剤不含)2.0mlを加え、内温0〜5℃まで冷却し、フェニルマグネシウムブロミド−テトラヒドロフラン1.0M溶液,0.82mlを添加し反応混合液を得た。得られた反応混合液は、常温にて8時間攪拌したのち、水2.0mlを加えクエンチしたのち、酢酸エチル10mlを加え、分液ロートで分液操作したのち、取り出した油層は硫酸ナトリウムで脱水後、ろ過を行い、溶媒留去したのち油分0.53gを得た。得られた油分は、テトラヒドロフラン0.5mlを加え、テトラヒドロフラン溶液としたのち、−60℃まで冷却したヘキサン20mlに滴下し、同温度で1時間攪拌したのち、固体成分をろ過し、得られた固体を減圧乾燥することで、下記式(6−1)で表される共重合体6のtert−ブチルジメチルシロキシ体0.51gを得た(収率:66%)で得た。
得られた共重合体6のtert−ブチルジメチルシロキシ体をテトラヒドロフラン2mlで溶液とし、常温してテトラブチルアンモニウムフロライド/テトラヒドロフラン1.0M溶液1.5mlを加え、反応混合液を得た。得られた反応混合液は、同温度にて6時間攪拌したのち、水2mlを加えることでクエンチを行った後、酢酸エチル20mlを加え、分液ロートにて分液を行ったのち、取り出した油層は、硫酸マグネシウムで脱水したのち、ろ過、溶媒留去したことで、固体成分を0.48g得た。得られた固体成分は、テトラヒドロフラン、0.5mlで溶液としたのち、−60℃まで冷却したヘキサン20mlに滴下し、同温度で1時間攪拌したのち、固体成分をろ過し、得られた固体を減圧乾燥することで、下記式(6−2)で表される共重合体6を0.32g得た(収率:49%、Mw:2,567,Mn:1,586)で得た。
調製例6において、2−tert−ブチルジメチルシロキシエチルメタアクリレートの代わりに、2−tert−ブチルジメチルシロキシプロピルメタアクリレートを用いて反応を行い、下記式(7−1)で表される共重合体7を0.31g得た(収率:47%、Mw:2,929,Mn:1,683)。
50mg(0.13mmol)の共重合体1をテトラヒドロフラン0.5mlで溶解し、共重合体1/テトラヒドロフラン溶液を調製した。
1,200mm2のカーボンクロスに共重合体1/テトラヒドロフラン溶液をカーボンクロス全面に滴下したのち、窒素気流下にて、14時間乾燥することで、複合膜1を形成した。
50mg(0.10mmol)の共重合体2をテトラヒドロフラン0.5mlで溶解し、共重合体2/テトラヒドロフラン溶液を調製した。
1,200mm2のカーボンクロスに共重合体2/テトラヒドロフラン溶液をカーボンクロス全面に滴下したのち、窒素気流下にて、14時間乾燥することで、複合膜2を形成した。
50mg(0.13mmol)の共重合体3をテトラヒドロフラン0.5mlで溶解し、共重合体3/テトラヒドロフラン溶液を調製した。
1,200mm2のカーボンクロスに共重合体3/テトラヒドロフラン溶液をカーボンクロス全面に滴下したのち、窒素気流下にて、14時間乾燥することで、複合膜3を形成した。
50mg(0.10mmol)の共重合体4をテトラヒドロフラン0.5mlで溶解し、共重合体4/テトラヒドロフラン溶液を調製した。
1,200mm2のカーボンクロスに共重合体4/テトラヒドロフラン溶液をカーボンクロス全面に滴下したのち、窒素気流下にて、14時間乾燥することで、複合膜4を形成した。
25mg(0.05mmol)の共重合体4をテトラヒドロフラン0.3mlで溶解し、共重合体4/テトラヒドロフラン溶液を調製した。
1,200mm2のカーボンクロスに共重合体4/テトラヒドロフラン溶液をカーボンクロス全面に滴下したのち、窒素気流下にて、14時間乾燥することで、複合膜4−1を形成した。
10mg(0.03mmol)の共重合体4をテトラヒドロフラン0.3mlで溶解し、共重合体4/テトラヒドロフラン溶液を調製した。
1,200mm2のカーボンクロスに共重合体4/テトラヒドロフラン溶液をカーボンクロス全面に滴下したのち、窒素気流下にて、14時間乾燥することで、複合膜4−2を形成した。
50mg(0.09mmol)の共重合体5をテトラヒドロフラン0.5mlで溶解し、共重合体5/テトラヒドロフラン溶液を調製した。
1,200mm2のカーボンクロスに共重合体5/テトラヒドロフラン溶液をカーボンクロス全面に滴下したのち、窒素気流下にて、14時間乾燥することで、複合膜5を形成した。
50mg(0.08mmol)の共重合体6をテトラヒドロフラン0.5mlで溶解し、共重合体6/テトラヒドロフラン溶液を調製した。
1,200mm2のカーボンクロスに共重合体6/テトラヒドロフラン溶液をカーボンクロス全面に滴下したのち、窒素気流下にて、14時間乾燥することで、複合膜6を形成した。
50mg(0.08mmol)の共重合体7をテトラヒドロフラン0.5mlで溶解し、共重合体7/テトラヒドロフラン溶液を調製した。
1,200mm2のカーボンクロスに共重合体7/テトラヒドロフラン溶液をカーボンクロス全面に滴下したのち、窒素気流下にて、14時間乾燥することで、複合膜7を形成した。
共重合体1を50mg(0.13mmol)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタアクリレート)トルエン溶液50mg、N,N,N’,N’−テトラ(トリフルオロメタンスルホニル)ドデカン1,12−ジアミン10mg、テトラ−n−ブチルアンモニウムテトラフルオロボレート10mgをアセトニトリル1.0mlで溶解し、混合溶液を調製した。
1,200mm2のカーボンクロスに混合溶液をカーボンクロス全面に滴下したのち、窒素気流下にて、14時間乾燥することで、ゲル複合膜2を形成した。
共重合体2を50mg(0.10mmol)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタアクリレート)トルエン溶液50mg、N,N,N’,N’−テトラ(トリフルオロメタンスルホニル)ドデカン1,12−ジアミン10mg、テトラ−n−ブチルアンモニウムテトラフルオロボレート10mgをアセトニトリル1.0mlで溶解し、混合溶液を調製した。
1,200mm2のカーボンクロスに混合溶液をカーボンクロス全面に滴下したのち、窒素気流下にて、14時間乾燥することで、ゲル複合膜3を形成した。
共重合体3を50mg(0.13mmol)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタアクリレート)トルエン溶液50mg、N,N,N’,N’−テトラ(トリフルオロメタンスルホニル)ドデカン1,12−ジアミン10mg、テトラ−n−ブチルアンモニウムテトラフルオロボレート10mgをアセトニトリル1.0mlで溶解し、混合溶液を調製した。
1,200mm2のカーボンクロスに混合溶液をカーボンクロス全面に滴下したのち、窒素気流下にて、14時間乾燥することで、ゲル複合膜4を形成した。
共重合体4を50mg(0.10mmol)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタアクリレート)トルエン溶液50mg、N,N,N’,N’−テトラ(トリフルオロメタンスルホニル)ドデカン1,12−ジアミン10mg、テトラ−n−ブチルアンモニウムテトラフルオロボレート10mgをアセトニトリル1.0mlで溶解し、混合溶液を調製した。
1,200mm2のカーボンクロスに混合溶液をカーボンクロス全面に滴下したのち、窒素気流下にて、14時間乾燥することで、ゲル複合膜5を形成した。
負極の上に、複合膜1、セパレーター(Nafion(登録商標)117)、正極を順番に載せたのち、外装を取り付け、吹き込んだ空気の流れが一方通行となるよう空気出入口を取り付け二酸化炭素吸着脱離デバイスとした。
本デバイスに−2.5Vの電圧を流しながら500ppmの二酸化炭素/窒素標準ガス
50ml/minを2時間、ガス入り口から通気させ、ガス出口にはガス捕集パック(1L)を備え20分毎にガス捕集パックを入れ替え、ガス捕集パック内の二酸化炭素濃度を測定したところ、二酸化炭素吸着率(吹き込んだ二酸化炭素総量に対する、二酸化炭素吸着量)は、2.7%(N−オキシルラジカルに対するモル当りの二酸化炭素吸着率:5.3%)であった。
二酸化炭素吸着後、窒素を50ml/minで通気させながら2時間、1.5Vの電圧をかけて二酸化炭素の脱離を行った結果、二酸化炭素脱離率(二酸化炭素吸着量に対する、二酸化炭素放出量)は、50.0%であった。
実施例1の複合膜1を複合膜2に変更し、同様な評価を行ったところ、二酸化炭素吸着率は、6.7%(N−オキシルラジカルに対するモル当りの二酸化炭素吸着率:26.3%)、二酸化炭素脱離率は、35.0%であった。
実施例1の複合膜1を複合膜3に変更し、同様な評価を行ったところ、二酸化炭素吸着率は、5.0%(N−オキシルラジカルに対するモル当りの二酸化炭素吸着率:9.7%)、二酸化炭素脱離率は、35.7%であった。
実施例1の複合膜1を複合膜4に変更し、同様な評価を行ったところ、二酸化炭素吸着率は、7.7%(N−オキシルラジカルに対するモル当りの二酸化炭素吸着率:32.0%)、二酸化炭素脱離率は、30.4%であった。
実施例1の複合膜1を複合膜4−1に変更し、同様な評価を行ったところ、二酸化炭素吸着率は、9.3%(N−オキシルラジカルに対するモル当りの二酸化炭素吸着率:77.8%)、二酸化炭素脱離率は、28.6%であった。
実施例1の複合膜1を複合膜4−2に変更し、同様な評価を行ったところ、二酸化炭素吸着率は、4.0%(N−オキシルラジカルに対するモル当りの二酸化炭素吸着率:83.4%)、二酸化炭素脱離率は、58.3%であった。
実施例1の複合膜1を複合膜5に変更し、同様な評価を行ったところ、二酸化炭素吸着率は、6.3%(N−オキシルラジカルに対するモル当りの二酸化炭素吸着率:12.3%)、二酸化炭素脱離率は、10.5%であった。
実施例1の複合膜1を複合膜6に変更し、同様な評価を行ったところ、二酸化炭素吸着率は、5.3%(N−オキシルラジカルに対するモル当りの二酸化炭素吸着率:13.5%)、二酸化炭素脱離率は、43.8%であった。
実施例1の複合膜1を複合膜7に変更し、同様な評価を行ったところ、二酸化炭素吸着率は、4.3%(N−オキシルラジカルに対するモル当りの二酸化炭素吸着率:11.2%)、二酸化炭素脱離率は、23.1%であった。
実施例1の複合膜1をゲル複合膜1に変更し、同様な評価を行ったところ、二酸化炭素吸着率は、8.0%(N−オキシルラジカルに対するモル当りの二酸化炭素吸着率:16.0%)、二酸化炭素脱離率は、20.8%であった。
実施例1の複合膜1をゲル複合膜2に変更し、同様な評価を行ったところ、二酸化炭素吸着率は、8.3%(N−オキシルラジカルに対するモル当りの二酸化炭素吸着率:32.9%)、二酸化炭素脱離率は、32.0%であった。
実施例1の複合膜1をゲル複合膜3に変更し、同様な評価を行ったところ、二酸化炭素吸着率は、9.3%(N−オキシルラジカルに対するモル当りの二酸化炭素吸着率:19.4%)、二酸化炭素脱離率は、32.1%であった。
実施例1の複合膜1をゲル複合膜4に変更し、同様な評価を行ったところ、二酸化炭素吸着率は、7.0%(N−オキシルラジカルに対するモル当りの二酸化炭素吸着率:29.2%)、二酸化炭素脱離率は、33.3%であった。
Claims (9)
- 酸化および還元を行うことで、酸性ガスの吸着および脱離を行うことができる化合物並びに基材を含む酸性ガス吸着脱離層と、前記酸性ガス吸着脱離層を挟持する一対の電極とを有する酸性ガス吸着脱離デバイス。
- 前記酸化および還元が、電解酸化および電解還元である請求項1に記載の酸性ガス吸着脱離デバイス。
- 前記酸化および還元を行うことで、酸性ガスの吸着および脱離を行うことができる化合物が、不対電子を有する物質である請求項1または2に記載の酸性ガス吸着脱離デバイス。
- 前記不対電子を有する物質が、高分子化合物である請求項3に記載の酸性ガス吸着脱離デバイス。
- 前記不対電子を有する物質が、下記式(1)で表される化合物から水素原子を少なくとも1個取り除いた基を有する高分子化合物である請求項3に記載の酸性ガス吸着脱離デバイス。
- 前記基材が、カーボンクロスである請求項1〜7のいずれかに記載の酸性ガス吸着脱離デバイス。
- 前記酸性ガスが、二酸化炭素である請求項1〜8のいずれかに記載の酸性ガス吸着脱離デバイス。
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