JP2015035498A - 基板製造方法及び基板製造装置 - Google Patents
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Abstract
Description
第1の線状パターン、及び前記第1の線状パターンより太い第2の線状パターンを形成すべき支持基板を準備する工程と、
前記支持基板の、前記第1の線状パターン及び前記第2の線状パターンを形成すべき領域に、薄膜材料を液滴化して着弾させ、着弾した前記薄膜材料を硬化させる手順を複数回繰り返す工程と
を有し、
前記第1の線状パターンを形成するための前記手順の繰り返し回数が、前記第2の線状パターンを形成するための前記手順の繰り返し回数より多い基板製造方法が提供される。
前記ステージに保持された支持基板に向けて、光硬化性の液状の薄膜材料を吐出する複数のノズル孔を有するノズルヘッドと、
前記支持基板と前記ノズルヘッドとの一方を他方に対して移動させる移動機構と、
前記ステージに保持された支持基板に付着した液状の前記薄膜材料に硬化用の光を照射する光源と、
前記ノズルヘッド、前記光源、及び前記移動機構を制御する制御装置と
を有し、
前記第1の線状パターンの高さの目標値と、前記第2の線状パターンの高さの目標値と
が等しく、
前記制御装置は、前記ノズルヘッド、前記光源、及び前記移動機構を制御して、
前記ノズルヘッド及び前記基板の一方を他方に対して移動させながら、前記ノズルヘッドから液状の薄膜材料を吐出して、前記基板の表面のうち、第1の線状パターン及び第2の線状パターンを形成すべき領域に、液状の薄膜材料を付着させるとともに、前記基板に付着した液状の前記薄膜材料に前記光源から硬化用の光を照射して、前記薄膜材料を硬化させる第1の手順を複数回繰り返し、
さらに、
前記ノズルヘッド及び前記基板の一方を他方に対して移動させながら、前記ノズルヘッドから液状の薄膜材料を吐出して、前記基板の表面のうち、前記第1の線状パターンを形成すべき領域に、液状の薄膜材料を付着させるとともに、前記基板に付着した液状の前記薄膜材料に前記光源から硬化用の光を照射して、前記薄膜材料を硬化させ、前記第2の線状パターンを形成すべき領域には液状の薄膜材料を付着させない第2の手順を少なくとも1回実行する基板製造装置が提供される。
第3の線状パターンを形成すべき領域13(以下、第3の領域という。)を含む。第1の領域11の幅が最も細く、第3の領域13の幅が最も太い。第1の線状パターン、第2の線状パターン、及び第3の線状パターンの高さの目標値は、すべて等しい。
には、薄膜材料20を塗布しない。これにより、第1の線状パターン41及び第2の線状パターン42の高さが増加する。第2の線状パターン42の高さが第3の線状パターン43の高さとほぼ等しくなった時点で、第2の線状パターン42の上面への薄膜材料20の塗布を終了させる。この時点で、第1の線状パターン41は、第2の線状パターン42及び第3の線状パターン43より低い。
を照射する。例えば、支持基板10(図5)をy方向に移動させながら、ノズルヘッド71から薄膜材料を吐出すると、支持基板10に塗布された薄膜材料は、薄膜材料を吐出したノズルヘッド71よりも下流側に配置された硬化用光源72からの光によって硬化される。
る。
11 第1の線状パターンを形成すべき領域
12 第2の線状パターンを形成すべき領域
13 第3の線状パターンを形成すべき領域
15 マスクパターンを形成すべき領域
20 薄膜材料
31 第1の層
32 第2の層
33 第3の層
41 第1の線状パターン
42 第2の線状パターン
43 第3の線状パターン
45 金属パターン
50 定盤
51 移動機構
52 ステージ
53 ノズルユニット
54 カメラ
60 制御装置
70 支持板
71 ノズルヘッド
72 硬化用光源
73 ノズル孔
80 搬入ステーション
81 仮位置決めステーション
82 塗布ステーション
83 硬化ステーション
84 搬送装置
85 第1の搬送ローラ
86 第2の搬送ローラ
87 ストッパ
88 硬化用光源
90 ガイド
91、92 リフタ
Claims (5)
- 第1の線状パターン、及び前記第1の線状パターンより太い第2の線状パターンを形成すべき支持基板を準備する工程と、
前記支持基板の、前記第1の線状パターン及び前記第2の線状パターンを形成すべき領域に、薄膜材料を液滴化して着弾させ、着弾した前記薄膜材料を硬化させる手順を複数回繰り返す工程と
を有し、
前記第1の線状パターンを形成するための前記手順の繰り返し回数が、前記第2の線状パターンを形成するための前記手順の繰り返し回数より多い基板製造方法。 - 前記第1の線状パターンを形成するための前記手順の繰り返し回数をnで表したとき、前記手順の繰り返し回数をn−1回として形成された前記第1の線状パターンが、前記第2の線状パターンよりも低く、前記手順の繰り返し回数をn+1回として形成される前記第1の線状パターンが、前記第2の線状パターンよりも高くなるように、前記繰り返し回数nが設定されている請求項1に記載の基板製造方法。
- 前記第1の線状パターン及び前記第2の線状パターンを形成した後、前記支持基板の表面のうち、前記第1の線状パターン及び前記第2の線状パターンが形成されていない領域に、金属を堆積させる工程を、さらに有する請求項1または2に記載の基板製造方法。
- 第1の線状パターン、及び前記第1の線状パターンより太い第2の線状パターンを形成すべき支持基板を保持するステージと、
前記ステージに保持された支持基板に向けて、光硬化性の液状の薄膜材料を吐出する複数のノズル孔を有するノズルヘッドと、
前記支持基板と前記ノズルヘッドとの一方を他方に対して移動させる移動機構と、
前記ステージに保持された支持基板に付着した液状の前記薄膜材料に硬化用の光を照射する光源と、
前記ノズルヘッド、前記光源、及び前記移動機構を制御する制御装置と
を有し、
前記第1の線状パターンの高さの目標値と、前記第2の線状パターンの高さの目標値とが等しく、
前記制御装置は、前記ノズルヘッド、前記光源、及び前記移動機構を制御して、
前記ノズルヘッド及び前記基板の一方を他方に対して移動させながら、前記ノズルヘッドから液状の薄膜材料を吐出して、前記基板の表面のうち、第1の線状パターン及び第2の線状パターンを形成すべき領域に、液状の薄膜材料を塗布するとともに、前記基板に付着した液状の前記薄膜材料に前記光源から硬化用の光を照射して、前記薄膜材料を硬化させる第1の手順を複数回繰り返し、
さらに、
前記ノズルヘッド及び前記基板の一方を他方に対して移動させながら、前記ノズルヘッドから液状の薄膜材料を吐出して、前記基板の表面のうち、前記第1の線状パターンを形成すべき領域に、液状の薄膜材料を塗布するとともに、前記基板に付着した液状の前記薄膜材料に前記光源から硬化用の光を照射して、前記薄膜材料を硬化させ、前記第2の線状パターンを形成すべき領域には液状の薄膜材料を塗布しない第2の手順を実行する基板製造装置。 - 前記制御装置は、
線状パターンの幅と高さから手順の繰り返し回数を求めるための対応関係情報を記憶しており
前記第1の線状パターンの高さの目標値、前記第1の線状パターンの幅の目標値、前記
第2の線状パターンの幅の目標値、及び前記対応関係情報に基づいて、前記第1の手順の繰り返し回数及び前記第2の手順の繰り返し回数を求める請求項4に記載の基板製造装置。
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