JP2015029244A - 撮像素子搭載用基板及び撮像装置 - Google Patents
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Abstract
Description
よび撮像装置に関するものである。
2領域とを有し、第1領域及び第2領域は、互いに面積が異なるので、撮像素子搭載用基板から金属平板を介して外部に放出される放熱量をそれぞれ異ならせることができるため、温度分布の偏りを効率的に抑制することが可能となる。そのため、質の高い画像を出力することができる。
なお、撮像素子搭載用基板1は、いずれの方向が上方若しくは下方とされてもよいものであるが、便宜的に、直交座標系xyzを定義するとともに、z方向の正側を上方として、上面若しくは下面の語を用いるものとする。
結体,窒化アルミニウム質焼結体,窒化珪素質焼結体,ガラスセラミックス焼結体等の電気絶縁性セラミックス、またはエポキシ樹脂,ポリイミド樹脂,アクリル樹脂,フェノール樹脂,ポリエステル樹脂または四フッ化エチレン樹脂を始めとするフッ素系樹脂等の樹脂(プラスティックス)から成る略四角形の絶縁層を複数上下に積層して形成されている。
っき層および厚さ0.5〜3μmの金(Au)めっき層を順次被着させてもよい。
意味する。また、同様に、第2領域5bとは、第1の辺2Aおよび第2の辺2Bと隣り合う第3の辺2Cおよび第4の辺2Dを二分する中心線Y-Yから第2の辺2B側に存在す
る金属平板4の領域を意味する。
るので撮像素子搭載用基板1の歪みが小さいので、良好に撮像することができる。
子10は例えば、CCD型撮像素子またはCMOS型撮像素子である。図1に示す例においては、撮像素子10の各電極は、接続部材12(ボンディングワイヤ)によって撮像素子接続用パッド3に電気的に接続されている。接続部材12は、ボンディングワイヤ以外にも金バンプまたはハンダ等が使用される。
板2と金属平板4とを強固に接着させる。
,フェノール誘導体エポキシ樹脂,ビスフェノール骨格型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂にイミダゾール系やアミン系,リン系,ヒドラジン系,イミダゾールアダクト系,アミンアダクト系,カチオン重合系,ジシアンジアミド系等の硬化剤を添加したもの等を使用することができる。
属平板4の表面に接合部材が固着される。この後、金属平板4と絶縁基板2とを重ねた状態でトンネル式の雰囲気炉またはオーブン等に通炉させ約470℃に加熱することで接合部
材を溶融して固着させ、絶縁基板2と金属平板4とを強固に接合して撮像素子搭載用基板1を作製する。
次に、本発明の第2の実施形態による撮像素子搭載用基板1および撮像装置について、図2を参照しつつ説明する。
次に、本発明の第3の実施形態による撮像素子搭載用基板1について、図3を参照しつつ説明する。
つ、全体の温度が高くなることを低減させることができ、受光した画像に不具合が発生することを低減することが可能となる。
次に、本発明の第4の実施形態による撮像素子搭載用基板1および撮像装置について、図4を参照しつつ説明する。
次に、本発明の第5の実施形態による撮像素子搭載用基板1および撮像装置について、図5を参照しつつ説明する。
熱する熱によって金属平板4が変形しレンズ筐体と撮像素子10の光軸とのズレが生じることを低減させることができる。このとき、図5に示すように、金属平板4に設けられる補助貫通孔6aは楕円形状または平行な辺を有する長円形状であることが好ましい。これは、円形状の補助貫通孔6aに比べて、絶縁基体2周辺の金属平板4の熱収縮による変形を補助貫通孔6aよりも外側へ伝搬させにくいからである。
次に、本発明の第6の実施形態による撮像素子搭載用基板1および撮像装置について、図6を参照しつつ説明する。
次に、本発明の第7の実施形態による撮像素子搭載用基板1および撮像装置について、図7を参照しつつ説明する。
次に、本発明の第8の実施形態による撮像素子搭載用基板1および撮像装置について、
図8を参照しつつ説明する。
次に、本発明の第9の実施形態による撮像素子搭載用基板1および撮像装置について、図9を参照しつつ説明する。
2・・・・・絶縁基体
2a・・・・枠部
2b・・・・基部
2A・・・・第1の辺
2B・・・・第2の辺
2C・・・・第3の辺
2D・・・・第4の辺
3・・・・・撮像素子接続用パッド
4・・・・・金属平板
5・・・・・外側領域
5a・・・・第1領域
5b・・・・第2領域
6・・・・・貫通孔
6a・・・・補助貫通孔
7・・・・・切欠き
8・・・・・凹部
9・・・・・外部端子
10・・・・撮像素子
11・・・・蓋体
12・・・・接続部材
13・・・・撮像素子搭載部
t・・・・・発熱箇所
T・・・・・発熱部
Claims (10)
- 撮像素子搭載部を有し、上面視した際に該撮像素子搭載部を挟んで対向する第1の辺および第2の辺を有する絶縁基体と、
該絶縁基体の主面に設けられ、上面視した際に前記絶縁基体の外縁より外側に位置する外側領域を有する金属平板と
を有しており、
前記外側領域は、前記第1の辺側にある第1領域と、前記第2の辺側にある第2領域とを有し、
前記第1領域及び前記第2領域は、互いに面積が異なる
撮像素子搭載用基板。 - 発熱部を有する撮像素子が、前記発熱部が前記第1領域または前記第2領域のいずれか一方側に位置するように、前記撮像素子搭載部に実装される
請求項1に記載の撮像素子搭載用基板。 - 前記発熱部が前記第1領域側に位置し、前記第1領域の面積が、前記第2領域の面積よ
り大きい
請求項2に記載の撮像素子搭載用基板。 - 前記発熱部が前記第1領域側に位置し、前記第1領域の面積が、前記第2領域の面積よ
り小さい
請求項2に記載の撮像素子搭載用基板。 - 前記金属平板は、前記外側領域に貫通孔または切欠きを有する
請求項1乃至請求項4のいずれか1つに記載の撮像素子搭載用基板。 - 前記貫通孔の少なくとも1つは円形状である
請求項5に記載の撮像素子搭載用基板。 - 前記貫通孔の少なくとも1つは、
楕円形状、または、平行な辺を有する長円形状であり、
前記切欠きの少なくとも1つは、
楕円形状、若しくは平行な辺を有する長円形状を切断した形状、またはU字形状である
請求項5に記載の撮像素子搭載用基板。 - 前記金属平板は、中央部に開口部を有しており、前記絶縁基体における前記撮像素子搭載部側の主面に接合されている
請求項1乃至請求項7のいずれか1つに記載の撮像素子搭載用基板。 - 前記金属平板は、前記絶縁基体における前記撮像素子搭載部側の主面とは反対側の主面に接合されている
請求項1乃至請求項7のいずれか1つに記載の撮像素子搭載用基板。 - 請求項1乃至請求項9のいずれか1つに記載の撮像素子搭載用基板と、
前記撮像素子搭載部に搭載された撮像素子と、
平面透視で前記撮像素子と重なる位置に配置された透明な蓋体と、
を有する
撮像装置。
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