JP2015011356A - フォトレジスト用剥離液 - Google Patents
フォトレジスト用剥離液 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015011356A JP2015011356A JP2014147298A JP2014147298A JP2015011356A JP 2015011356 A JP2015011356 A JP 2015011356A JP 2014147298 A JP2014147298 A JP 2014147298A JP 2014147298 A JP2014147298 A JP 2014147298A JP 2015011356 A JP2015011356 A JP 2015011356A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- resist
- stripping solution
- mass
- photoresist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
40〜60質量%の水と、
1〜15質量%の三級アルカノールアミンと、
25〜59質量%の極性溶媒を有することを特徴とする。
60質量%より多く80質量%以下の水と、
1〜8質量%の三級アルカノールアミンと、
12〜39質量%の極性溶媒を有していてもよい。さらに、いずれの場合でも、レジスト成分が微量(δ)含まれていてもよい。
前記極性溶媒はプロピレングリコール(PG)とジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG)からなり、前記極性溶媒に対する前記ジエチレングリコールモノブチルエーテルの比率が8分の5以上であることを特徴とする。
前記三級アルカノールアミンは、N−メチルジエタノールアミン(MDEA)であることを特徴とする。
本発明のフォトレジスト剥離液の効果を示すために、以下の手順で評価基板を作製した。まず、10mm×50mmの大きさのガラス基板(厚さ1mm)にITO(Indium Tin Oxide:透明電極)をスパッタ法により成膜した。厚みは0.2nm(2,000オングストローム)とした。
レジスト剥離液中の水分がレジスト膜の剥離性に与える影響について、水分の含有比率の異なるレジスト剥離液サンプルを作製し、評価基板Bを用いて調べた。
Cu膜の防食性を「Cu防食性」とよび、以下のような手順で評価を実施した。評価基板Aについて、浸漬させる前のCu膜の浸漬前膜厚(t1nm)を測定した。所定の組成比で調製したレジスト剥離液50mlをバイアル瓶に分注した。
60質量%より多く80質量%以下の水と、
1〜8質量%の三級アルカノールアミンと、
12〜39質量%の極性溶媒を有し、
1〜3000ppmのレジスト成分を含むことを特徴とする。
Claims (5)
- 60質量%より多く80質量%以下の水と、
1〜8質量%の三級アルカノールアミンと、
12〜39質量%の極性溶媒を有することを特徴とするフォトレジスト用剥離液。 - さらに1〜3000ppmのレジスト成分を含むことを特徴とする請求項1に記載されたフォトレジスト用剥離液。
- 前記極性溶媒は、プロピレングリコールとジエチレングリコールモノブチルエーテルからなり、前記極性溶媒に対する前記ジエチレングリコールモノブチルエーテルの比率が8分の5以上であることを特徴とする請求項1または2に記載されたフォトレジスト用剥離液。
- 前記三級アルカノールアミンは、N−メチルジエタノールアミンであることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1の請求項に記載されたフォトレジスト用剥離液。
- 前記レジスト成分は、露光されたポジ型フォトレジストからの成分であることを特徴とする請求項2乃至4の何れか1の請求項に記載されたフォトレジスト用剥離液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014147298A JP2015011356A (ja) | 2014-07-18 | 2014-07-18 | フォトレジスト用剥離液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014147298A JP2015011356A (ja) | 2014-07-18 | 2014-07-18 | フォトレジスト用剥離液 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013134708A Division JP2015011096A (ja) | 2013-06-27 | 2013-06-27 | フォトレジスト用剥離液 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015011356A true JP2015011356A (ja) | 2015-01-19 |
Family
ID=52304503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014147298A Pending JP2015011356A (ja) | 2014-07-18 | 2014-07-18 | フォトレジスト用剥離液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2015011356A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2021049208A1 (ja) * | 2019-09-09 | 2021-03-18 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09152721A (ja) * | 1995-11-30 | 1997-06-10 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | レジスト用剥離液組成物 |
JP2001350276A (ja) * | 2000-06-05 | 2001-12-21 | Nagase Kasei Kogyo Kk | フォトレジスト剥離剤組成物及びその使用方法 |
JP2003076037A (ja) * | 2001-08-31 | 2003-03-14 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ホトレジスト用剥離液 |
JP2005031682A (ja) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Dongjin Semichem Co Ltd | レジスト除去用剥離液組成物 |
JP2006119341A (ja) * | 2004-10-21 | 2006-05-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ホトレジスト用剥離液 |
JP2006171357A (ja) * | 2004-12-15 | 2006-06-29 | Asahi Glass Co Ltd | フォトレジスト剥離液 |
WO2010073887A1 (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-01 | ナガセケムテックス株式会社 | フォトレジスト剥離剤組成物、積層金属配線基板のフォトレジスト剥離方法及び製造方法 |
WO2010119753A1 (ja) * | 2009-04-17 | 2010-10-21 | ナガセケムテックス株式会社 | フォトレジスト剥離剤組成物及びフォトレジスト剥離方法 |
JP2012500421A (ja) * | 2009-08-25 | 2012-01-05 | エルティーシー カンパニー リミテッド | Lcdを製造するためのフォトレジスト剥離組成物 |
JP2012242697A (ja) * | 2011-05-20 | 2012-12-10 | Panasonic Corp | 剥離液リサイクルシステムと運転方法および剥離液のリサイクル方法 |
-
2014
- 2014-07-18 JP JP2014147298A patent/JP2015011356A/ja active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09152721A (ja) * | 1995-11-30 | 1997-06-10 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | レジスト用剥離液組成物 |
JP2001350276A (ja) * | 2000-06-05 | 2001-12-21 | Nagase Kasei Kogyo Kk | フォトレジスト剥離剤組成物及びその使用方法 |
JP2003076037A (ja) * | 2001-08-31 | 2003-03-14 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ホトレジスト用剥離液 |
JP2005031682A (ja) * | 2003-07-10 | 2005-02-03 | Dongjin Semichem Co Ltd | レジスト除去用剥離液組成物 |
JP2006119341A (ja) * | 2004-10-21 | 2006-05-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ホトレジスト用剥離液 |
JP2006171357A (ja) * | 2004-12-15 | 2006-06-29 | Asahi Glass Co Ltd | フォトレジスト剥離液 |
WO2010073887A1 (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-01 | ナガセケムテックス株式会社 | フォトレジスト剥離剤組成物、積層金属配線基板のフォトレジスト剥離方法及び製造方法 |
WO2010119753A1 (ja) * | 2009-04-17 | 2010-10-21 | ナガセケムテックス株式会社 | フォトレジスト剥離剤組成物及びフォトレジスト剥離方法 |
JP2012500421A (ja) * | 2009-08-25 | 2012-01-05 | エルティーシー カンパニー リミテッド | Lcdを製造するためのフォトレジスト剥離組成物 |
JP2012242697A (ja) * | 2011-05-20 | 2012-12-10 | Panasonic Corp | 剥離液リサイクルシステムと運転方法および剥離液のリサイクル方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2021049208A1 (ja) * | 2019-09-09 | 2021-03-18 | ||
WO2021049208A1 (ja) * | 2019-09-09 | 2021-03-18 | 富士フイルム株式会社 | 処理液、キット、処理液の製造方法、基板の洗浄方法、基板の処理方法 |
CN114364780A (zh) * | 2019-09-09 | 2022-04-15 | 富士胶片株式会社 | 处理液、试剂盒、处理液的制造方法、基板的清洗方法、基板的处理方法 |
JP7324290B2 (ja) | 2019-09-09 | 2023-08-09 | 富士フイルム株式会社 | 処理液、キット、処理液の製造方法、基板の洗浄方法、基板の処理方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6277511B2 (ja) | レジスト剥離液 | |
WO2012160721A1 (ja) | フォトレジスト用剥離液、剥離液リサイクルシステムと運転方法および剥離液のリサイクル方法 | |
TW575783B (en) | Sulfoxide pyrolid(in)one alkanolamine cleaner composition | |
TWI494713B (zh) | Photoresist stripping solution | |
TWI617901B (zh) | 光阻剝離劑組成物及光阻剝離方法 | |
WO2003091376A1 (en) | Oxalic acid as a cleaning product for aluminium, copper and dielectric surfaces | |
JP6112446B2 (ja) | フォトレジスト剥離液組成物 | |
KR101691850B1 (ko) | 포토레지스트 스트리퍼 조성물 | |
JP4358935B2 (ja) | フォトレジスト用ストリッパー組成物 | |
WO2016151645A1 (ja) | レジスト剥離液 | |
JP7045190B2 (ja) | 低pka駆動ポリマーストリップ中の電荷錯体銅保護を促進する組成物および方法 | |
JP5809444B2 (ja) | フォトレジスト用剥離液 | |
JP5712051B2 (ja) | 剥離液リサイクルシステムと運転方法および剥離液のリサイクル方法 | |
CN103676504B (zh) | 一种水性光刻胶剥离液 | |
JP2007200944A (ja) | 基板洗浄液 | |
TWI795433B (zh) | 用於移除乾膜光阻的剝離組成物及使用所述組成物的剝離方法 | |
JP2015011356A (ja) | フォトレジスト用剥離液 | |
JP5885043B1 (ja) | レジスト剥離液とその製造方法 | |
WO2014208088A1 (ja) | フォトレジスト用剥離液 | |
JP5195063B2 (ja) | レジスト剥離液 | |
JP2016031384A (ja) | フォトレジスト用剥離液 | |
TW201814035A (zh) | 阻劑剝離液 | |
JP5717519B2 (ja) | フォトレジスト用剥離液 | |
JP2016138951A (ja) | レジスト剥離液とその製造方法 | |
KR20050087357A (ko) | 포토레지스트 박리액 조성물 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20141009 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20141016 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150410 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150421 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150608 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151117 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160405 |