JP2016138951A - レジスト剥離液とその製造方法 - Google Patents
レジスト剥離液とその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016138951A JP2016138951A JP2015012926A JP2015012926A JP2016138951A JP 2016138951 A JP2016138951 A JP 2016138951A JP 2015012926 A JP2015012926 A JP 2015012926A JP 2015012926 A JP2015012926 A JP 2015012926A JP 2016138951 A JP2016138951 A JP 2016138951A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mass
- resist
- film
- stripping solution
- resist stripping
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
環状アミンと、極性溶媒と、水と、防食剤を含み、各成分を調合後24時間以上経過させたことを特徴とする。
シリコン基板上に、シリコン熱酸化膜を100nm成膜し、シリコン熱酸化膜上にスパッタ法で銅膜を300nmの厚みに形成した。その銅膜上にポジ型レジスト液をスピンコートで塗布しレジスト膜を作製した。レジスト膜が乾燥した後、配線パターンのマスクを用いて露光した。そして現像液で、感光した部分のレジストを除去した。つまり、銅膜上に配線パターンのレジスト膜が残った部分と、銅膜が露出した部分がある状態である。
金属膜の腐食性は以下のようにして評価した。まず、シリコン基板上にシリコン熱酸化膜を100nmの厚みに成膜し、シリコン熱酸化膜上にスパッタ法で銅膜を300nmの厚みで成膜し、Cu膜サンプルを作製した。これを「Cu gate」と呼ぶ。同様にシリコン基板上のシリコン熱酸化膜上に、モリブデン膜を20nmの厚みで成膜し、その上に続けて銅膜を300nmの厚みで成膜し、Cu/Moの積層膜サンプルを作製した。これを、「Cu/Mo gate」と呼ぶ。また、シリコン基板上のシリコン熱酸化膜上にアルミニウム膜を300nmの厚さで成膜し、Al膜サンプルを作製した。これを「Al gate」と呼ぶ。
以下の要領でサンプルレジスト剥離液を調製した。サンプルレジスト剥離液は、環状アミンと極性溶媒と水と防食剤で構成されている。
環状アミンとしてピロリジン(PRL)を用いた。
ピロリジン(PRL) 0.8質量%
極性溶媒は、2種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 27.2質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
水 30.0質量%
防食剤として、還元水飴を用いた
還元水飴 2.0質量%
以上を混合攪拌して24時間放置し、実施例1のサンプルレジスト剥離液とした。
なお、以下の実施例および比較例を通じて、還元水飴は、還元水飴全量に対して、単糖アルコールが40質量%、二糖アルコールが29質量%、三糖アルコールが18質量%、四糖アルコールが8質量%、五糖アルコールが5質量%のものを用いた。
実施例2は実施例1より環状アミンの量を減らした。
環状アミンとしてピロリジンを用いた。
ピロリジン(PRL) 0.5質量%
極性溶媒は、2種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 28.5質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
水 30.0質量%
防食剤として、還元水飴を用いた
還元水飴 1.0質量%
以上を混合攪拌して24時間放置し、実施例2のサンプルレジスト剥離液とした。
実施例3は、環状アミンの種類を変えた。
環状アミンとして3−(エチルアミノ)ピロリジンを用いた。
3−(エチルアミノ)ピロリジン 0.8質量%
極性溶媒は、2種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 27.2質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
水 30.0質量%
防食剤として、還元水飴を用いた
還元水飴 2.0質量%
以上を混合攪拌して24時間放置し、実施例3のサンプルレジスト剥離液とした。
なお、3−(エチルアミノ)ピロリジンは、下記(2)式で表される化合物である。
実施例4は防食剤の種類を変更した。
環状アミンとしてピロリジンを用いた。
ピロリジン(PRL) 0.5質量%
極性溶媒は、2種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 27.0質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
水 30.0質量%
防食剤として、ソルビトール(Stol)とポリエチレングリコール(平均分子量6000)(PEG6000)を用いた。
ソルビトール(Stol) 1.5質量%
ポリエチレングリコール(PEG6000) 1.0質量%
以上を混合攪拌して24時間放置し、実施例4のサンプルレジスト剥離液とした。
比較例1は実施例1と同じ組成であるが、調合直後のサンプルレジスト剥離液である。
環状アミンとしてピロリジンを用いた。
ピロリジン(PRL) 0.8質量%
極性溶媒は、2種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 27.2質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
水 30.0質量%
防食剤として、還元水飴を用いた
還元水飴 2.0質量%
以上を混合攪拌した直後のものを比較例1のサンプルレジスト剥離液とした。
比較例2は、実施例4(Stol+PEG6000)に対して、防食剤をソルビトールだけにした。
ピロリジン(PRL) 0.5質量%
極性溶媒は、2種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 28.0質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
水 30.0質量%
防食剤として、ソルビトールを用いた
ソルビトール(Stol) 1.5質量%
以上を混合攪拌して24時間放置し、比較例2のサンプルレジスト剥離液とした。
比較例3は、実施例4(Stol+PEG6000)に対して、防食剤をポリエチレングリコールだけにして、量も増やした。
ピロリジン(PRL) 0.5質量%
極性溶媒は、2種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 27.5質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
水 30.0質量%
防食剤として、ポリエチレングリコールを用いた
ポリエチレングリコール(PEG6000) 2.0質量%
以上を混合攪拌して24時間放置し、比較例3のサンプルレジスト剥離液とした。
比較例4は実施例4(PRL=0.5質量%)に対して、環状アミンの量を増やした。
環状アミンとしてピロリジンを用いた。
ピロリジン(PRL) 0.8質量%
極性溶媒は、2種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 26.7質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
水 30.0質量%
防食剤として、ソルビトール(Stol)とポリエチレングリコール(平均分子量6000)(PEG6000)を用いた。
ソルビトール(Stol) 1.5質量%
ポリエチレングリコール(PEG6000) 1.0質量%
以上を混合攪拌して24時間放置し、比較例4のサンプルレジスト剥離液とした。
比較例5は、実施例2(PRL=0.5質量%)に対して、環状アミンの量をさらに減らした。
環状アミンとしてピロリジンを用いた。
ピロリジン(PRL) 0.2質量%
極性溶媒は、2種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 28.8質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
水 30.0質量%
防食剤として、還元水飴を用いた
還元水飴 1.0質量%
以上を混合攪拌して24時間放置し、比較例5のサンプルレジスト剥離液とした。
比較例6は、実施例1(PRL=0.8質量%)に対して、環状アミンの量をさらに増やした。
ピロリジン(PRL) 1.0質量%
極性溶媒は、2種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 27.0質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
水 30.0質量%
防食剤として、還元水飴を用いた
還元水飴 2.0質量%
以上を混合攪拌して24時間放置し、比較例6のサンプルレジスト剥離液とした。
比較例7は、実施例1(還元水飴)に対して、防食剤を(還元していない)水飴にした。
ピロリジン(PRL) 0.8質量%
極性溶媒は、2種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 27.2質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
水 30.0質量%
防食剤として、還元していない水飴を用いた
水飴 2.0質量%
以上を混合攪拌して24時間放置し、比較例7のサンプルレジスト剥離液とした。
五員環状アミンは2−メチルピロリジンを用いた。
2−メチルピロリジン 2.0質量%
極性溶媒は、2種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 28.0質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
水 30.0質量%
なお、2−メチルピロリジンは、ピロリジンの2位の位置にメチル基が結合している。
以上を混合攪拌して比較例8のサンプルレジスト剥離液とした。
五員環状アミンは1−メチルピロリジンを用いた。
1−メチルピロリジン 2.0質量%
極性溶媒は、2種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 28.0質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
水 30.0質量%
なお、1−メチルピロリジンは、ピロリジンの1位の位置(窒素の位置)にメチル基が結合している。
以上を混合攪拌して比較例9のサンプルレジスト剥離液とした。
実施例5は、実施例2(PRL=0.5質量%)に対して極性溶媒にグリセリンをさらに含有させた。
環状アミンとしては、ピロリジンを用いた。
ピロリジン(PRL) 0.5質量%
極性溶媒は、3種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 26.5質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
グリセリン 2.0質量%
水 30.0質量%
防食剤として、還元水飴を用いた
還元水飴 1.0質量%
以上を混合攪拌して24時間放置し、実施例5のサンプルレジスト剥離液とした。
実施例6は、実施例1(PRL=0.8質量%)に対して極性溶媒にグリセリンをさらに含有させた。
環状アミンとしては、ピロリジンを用いた。
ピロリジン(PRL) 0.8質量%
極性溶媒は、3種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 25.2質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
グリセリン 2.0質量%
水 30.0質量%
防食剤として、還元水飴を用いた
還元水飴 2.0質量%
以上を混合攪拌して24時間放置し、実施例6のサンプルレジスト剥離液とした。
実施例7は、実施例3(3−(エチルアミノ)ピロリジン)に対して極性溶媒にグリセリンをさらに含有させた。
環状アミンとしては、3−(エチルアミノ)ピロリジンを用いた。
3−(エチルアミノ)ピロリジン 0.8質量%
極性溶媒は、3種類を混合した。
プロピレングリコール(PG) 25.2質量%
ジエチレングリコールモノブチルエーテル(BDG) 40.0質量%
グリセリン 2.0質量%
水 30.0質量%
防食剤として、還元水飴を用いた
還元水飴 2.0質量%
以上を混合攪拌して24時間放置し、実施例7のサンプルレジスト剥離液とした。
2 膜部
3 Mo層(下地層)
4 (膜部2の)表面
5 テーパー角
6 テーパー面
7 エッチング残り
10 隙間
Claims (10)
- 環状アミンと、極性溶媒と、水と、防食剤を含み、各成分を調合後24時間以上経過させたことを特徴とするレジスト剥離液。
- 前記環状アミンは、五員環状アミンであることを特徴とする請求項1に記載されたレジスト剥離液。
- 前記五員環状アミンはピロリジンもしくはピロリジンの3位に置換基があるものであることを特徴とする請求項2に記載されたレジスト剥離液。
- 前記ピロリジンの3位に置換基があるものは3−(エチルアミノ)ピロリジンであることを特徴とする請求項3に記載されたレジスト剥離液。
- 前記環状アミンが全量に対して0.2質量%より多く、1.0質量%未満含有することを特徴とする請求項1乃至4の何れか1の請求項に記載されたレジスト剥離液。
- 前記防食剤は、還元水飴であることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1の請求項に記載されたレジスト剥離液。
- 前記防食剤はソルビトールとポリエチレングリコールの混合液であり、前記環状アミンが全量に対して0.2質量%より多く、0.8質量%未満含有することを特徴とする請求項1乃至5の何れか1の請求項に記載されたレジスト剥離液。
- 前記環状アミンは、0.2質量%より多く、1.0質量%未満であり、
前記極性溶媒は、50〜80質量%であり、
前記水は10〜50質量%であり、
前記防食剤は、0.5〜5質量%であることを特徴とする請求項1乃至7の何れか1の請求項に記載されたレジスト剥離液。 - さらにグリセリンを含有することを特徴とする請求項1乃至8の何れか1の請求項に記載されたレジスト剥離液。
- 前記グリセリンは、前記レジスト剥離液全量に対して、0.5〜5質量%であることを特徴とする請求項9に記載されたレジスト剥離液。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015012926A JP5885045B1 (ja) | 2015-01-27 | 2015-01-27 | レジスト剥離液とその製造方法 |
TW104140693A TW201631414A (zh) | 2015-01-27 | 2015-12-04 | 光阻剝離液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015012926A JP5885045B1 (ja) | 2015-01-27 | 2015-01-27 | レジスト剥離液とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5885045B1 JP5885045B1 (ja) | 2016-03-15 |
JP2016138951A true JP2016138951A (ja) | 2016-08-04 |
Family
ID=55457030
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015012926A Active JP5885045B1 (ja) | 2015-01-27 | 2015-01-27 | レジスト剥離液とその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5885045B1 (ja) |
TW (1) | TW201631414A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017069273A (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | レジスト剥離液中の炭酸濃度管理方法および炭酸濃度管理装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117761969A (zh) * | 2023-12-25 | 2024-03-26 | 四川熔增环保科技有限公司 | 一种剥离液及其制备方法与应用 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000284506A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Sharp Corp | フォトレジスト剥離剤組成物および剥離方法 |
JP2004252369A (ja) * | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 水あめを含有する表面処理剤 |
KR20080051250A (ko) * | 2006-12-05 | 2008-06-11 | 동우 화인켐 주식회사 | 포토레지스트 박리용 조성물 및 이를 이용한 박리 방법 |
KR20080054714A (ko) * | 2006-12-13 | 2008-06-19 | 동우 화인켐 주식회사 | 레지스트 박리용 알칼리 조성물 |
KR20080076016A (ko) * | 2007-02-14 | 2008-08-20 | 동우 화인켐 주식회사 | 포토레지스트 박리용 조성물 및 이를 이용한 박리 방법 |
US8357646B2 (en) * | 2008-03-07 | 2013-01-22 | Air Products And Chemicals, Inc. | Stripper for dry film removal |
JP5575318B1 (ja) * | 2013-09-02 | 2014-08-20 | パナソニック株式会社 | レジスト剥離液 |
-
2015
- 2015-01-27 JP JP2015012926A patent/JP5885045B1/ja active Active
- 2015-12-04 TW TW104140693A patent/TW201631414A/zh unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017069273A (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | レジスト剥離液中の炭酸濃度管理方法および炭酸濃度管理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201631414A (zh) | 2016-09-01 |
JP5885045B1 (ja) | 2016-03-15 |
TWI563353B (ja) | 2016-12-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6277511B2 (ja) | レジスト剥離液 | |
JP5885046B1 (ja) | レジスト剥離液 | |
JP5860020B2 (ja) | 厚いフィルム・レジストを除去するための剥離及びクリーニング用組成物 | |
JP4678673B2 (ja) | ホトレジスト用剥離液 | |
TWI494712B (zh) | Photoresist stripping solution | |
JP2016095413A (ja) | レジスト剥離液 | |
JP5885045B1 (ja) | レジスト剥離液とその製造方法 | |
JP5885043B1 (ja) | レジスト剥離液とその製造方法 | |
JP5885041B1 (ja) | レジスト剥離液 | |
JP6176584B1 (ja) | レジスト剥離液 | |
TWI629353B (zh) | Receptor stripping solution | |
JP5717519B2 (ja) | フォトレジスト用剥離液 | |
JP6198095B1 (ja) | レジスト剥離液 | |
TWI640842B (zh) | Photoresist stripper |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151225 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151225 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20151225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20160115 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160119 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160127 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5885045 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |