JP2015008267A5 - - Google Patents

Description

本発明の基板洗浄装置は、基板を回転させながら洗浄液及びガスを用いて基板を洗浄する装置において、
基板を水平に保持する基板保持部と、
前記基板保持部を鉛直軸周りに回転させる回転機構と、
前記基板保持部に保持された基板に各々洗浄液を供給するための第１の洗浄液ノズル及び第２の洗浄液ノズルと、
前記基板保持部に保持された基板にガスを吐出する基板の中心部にガスを吐出するときに用いられる第１のガスノズルと、
前記第１のガスノズルの移動軌跡から外れる位置に設けられた第２のガスノズルと、
前記第１の洗浄液ノズル、第２の洗浄液ノズル、第１のガスノズル及び第２のガスノズルを移動させるためのノズル移動部と、
前記第１の洗浄液ノズルから洗浄液を基板の中心部に吐出するステップと、次いで前記洗浄液の吐出位置を前記基板の中心部から周縁側に移動させた後、前記第１のガスノズルからガスを当該中心部に吐出するステップと、続いて第１の洗浄液ノズル及び第１のガスノズルから夫々洗浄液及びガスの吐出を行いながら前記第１の洗浄液ノズル及び前記第１のガスノズルの各吐出位置を基板の周縁側に向けて移動させるステップと、次に前記第１の洗浄液ノズルから第２の洗浄液ノズルに洗浄液の吐出を切替えると共に、前記第１のガスノズルから第２のガスノズルにガスの吐出を切替え、第２の洗浄液ノズルからの洗浄液の吐出及び第２のガスノズルからのガスの吐出を行いながら当該第２の洗浄液ノズル及び当該第２のガスノズルの各吐出位置を基板の周縁側に向けて移動させるステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備え、
前記第２の洗浄液ノズルは、吐出位置が第１の洗浄液ノズルの吐出位置の移動軌跡から外れる位置に設定され、
第２の洗浄液ノズル及び第２のガスノズルの各吐出位置から基板の中心部までの距離を、夫々ｄ２及びｄ３とすると、第２の洗浄液ノズルから洗浄液を吐出しているときには、ｄ３＜ｄ２であり、かつ第２の洗浄液ノズルが基板の周縁側に移動するにつれて、ｄ２とｄ３との差が徐々に小さくなるように構成されていることを特徴とする。

本発明の基板洗浄方法は、基板を回転させながら洗浄液及びガスを用いて基板を洗浄する方法において、
基板を基板保持部に水平に保持する工程と、
前記基板保持部を鉛直軸周りに回転させながら、第１の洗浄液ノズルから洗浄液を基板の中心部に吐出する工程と、
次いで前記洗浄液の吐出位置を基板の周縁側に移動させた後、第１のガスノズルからガスを前記基板の中心部に吐出する工程と、
続いて第１の洗浄液ノズル及び第１のガスノズルから夫々洗浄液及びガスの吐出を行いながら前記第１の洗浄液ノズル及び前記第１のガスノズルの各吐出位置を基板の周縁側に向けて移動させる工程と、
次に前記第１の洗浄液ノズルから第２の洗浄液ノズルに洗浄液の吐出を切替えると共に、前記第１のガスノズルの移動軌跡から外れる位置において、前記第２の洗浄液ノズルと共通のノズル移動部に水平面に対して３０度〜６０度の範囲で傾いた状態で設けられた第２のガスノズルを用いて、前記第１のガスノズルから第２のガスノズルにガスの吐出を切替え、第２の洗浄液ノズルからの洗浄液の吐出及び第２のガスノズルからのガスの吐出を行いながら当該第２の洗浄液ノズル及び当該第２のガスノズルの各吐出位置を基板の周縁側に向けて移動させる工程と、
複数の洗浄処理の種別の中から選択された洗浄処理の種別に対応する第２のガスノズルの吐出口の高さを、基板の洗浄処理の種別と基板に対する第２のガスノズルの吐出口の高さとを対応付けたデータを記憶する記憶部の中から読み出して前記ノズル移動部を昇降させる昇降機構に出力して、第２のガスノズルの吐出口の高さを調整する工程と、を含み、
前記第２の洗浄液ノズルは、吐出位置が第１の洗浄液ノズルの吐出位置の移動軌跡から外れる位置に設定され、
前記第２の洗浄液ノズル及び第２のガスノズルの各吐出位置から基板の中心部までの距離を、夫々ｄ２及びｄ３とすると、第２の洗浄液ノズルから洗浄液を吐出しているときには、ｄ３＜ｄ２であり、かつ第２の洗浄液ノズルが基板の周縁側に移動するにつれて、ｄ２とｄ３との差が徐々に小さくなることを特徴とする。

Claims (8)

1. 基板を回転させながら洗浄液及びガスを用いて基板を洗浄する装置において、
   基板を水平に保持する基板保持部と、
   前記基板保持部を鉛直軸周りに回転させる回転機構と、
   前記基板保持部に保持された基板に各々洗浄液を供給するための第１の洗浄液ノズル及び第２の洗浄液ノズルと、
   前記基板保持部に保持された基板にガスを吐出する基板の中心部にガスを吐出するときに用いられる第１のガスノズルと、
   前記第１のガスノズルの移動軌跡から外れる位置に設けられた第２のガスノズルと、
   前記第１の洗浄液ノズル、第２の洗浄液ノズル、第１のガスノズル及び第２のガスノズルを移動させるためのノズル移動部と、
   前記第１の洗浄液ノズルから洗浄液を基板の中心部に吐出するステップと、次いで前記洗浄液の吐出位置を前記基板の中心部から周縁側に移動させた後、前記第１のガスノズルからガスを当該中心部に吐出するステップと、続いて第１の洗浄液ノズル及び第１のガスノズルから夫々洗浄液及びガスの吐出を行いながら前記第１の洗浄液ノズル及び前記第１のガスノズルの各吐出位置を基板の周縁側に向けて移動させるステップと、次に前記第１の洗浄液ノズルから第２の洗浄液ノズルに洗浄液の吐出を切替えると共に、前記第１のガスノズルから第２のガスノズルにガスの吐出を切替え、第２の洗浄液ノズルからの洗浄液の吐出及び第２のガスノズルからのガスの吐出を行いながら当該第２の洗浄液ノズル及び当該第２のガスノズルの各吐出位置を基板の周縁側に向けて移動させるステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備え、
   前記第２の洗浄液ノズルは、吐出位置が第１の洗浄液ノズルの吐出位置の移動軌跡から外れる位置に設定され、
   第２の洗浄液ノズル及び第２のガスノズルの各吐出位置から基板の中心部までの距離を、夫々ｄ２及びｄ３とすると、第２の洗浄液ノズルから洗浄液を吐出しているときには、ｄ３＜ｄ２であり、かつ第２の洗浄液ノズルが基板の周縁側に移動するにつれて、ｄ２とｄ３との差が徐々に小さくなるように構成されていることを特徴とする基板洗浄装置。
2. 前記第２のガスノズルにおけるガスの吐出流量は、前記第１のガスノズルにおけるガスの吐出流量よりも大きく設定されていることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
3. 前記第２の洗浄液ノズル及び第２のガスノズルは、昇降機構により昇降自在な共通のノズル移動部に設けられ、
   前記第２のガスノズルのガスの吐出方向は、水平面に対して３０度〜６０度の範囲で傾いており、
   基板の洗浄処理の種別と基板に対する第２のガスノズルの吐出口の高さとを対応付けたデータを記憶する記憶部を備え、複数の洗浄処理の種別の中から選択された洗浄処理の種別に対応する第２のガスノズルの吐出口の高さを前記記憶部の中から読み出して前記昇降機構に制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の基板洗浄装置。
4. 前記第２のガスノズルのガスの吐出方向は、水平面に対して４５度±５度であることを特徴とする請求項３記載の基板洗浄装置。
5. 前記第１の洗浄液ノズル、第２の洗浄液ノズル、第１のガスノズル及び第２のガスノズルは、共通のノズル移動部に設けられていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一項記載の基板洗浄装置。
6. 前記第１の洗浄液ノズル、第２の洗浄液ノズル、第１のガスノズル及び第２のガスノズルのうちの少なくとも一つのノズルが設けられているノズル移動部は、他のノズルが設けられているノズル移動部とは別個に独立して移動可能なノズル移動部に設けられていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
7. 基板を回転させながら洗浄液及びガスを用いて基板を洗浄する方法において、
   基板を基板保持部に水平に保持する工程と、
   前記基板保持部を鉛直軸周りに回転させながら、第１の洗浄液ノズルから洗浄液を基板の中心部に吐出する工程と、
   次いで前記洗浄液の吐出位置を基板の周縁側に移動させた後、第１のガスノズルからガスを前記基板の中心部に吐出する工程と、
   続いて第１の洗浄液ノズル及び第１のガスノズルから夫々洗浄液及びガスの吐出を行いながら前記第１の洗浄液ノズル及び前記第１のガスノズルの各吐出位置を基板の周縁側に向けて移動させる工程と、
   次に前記第１の洗浄液ノズルから第２の洗浄液ノズルに洗浄液の吐出を切替えると共に、前記第１のガスノズルの移動軌跡から外れる位置において、前記第２の洗浄液ノズルと共通のノズル移動部に水平面に対して３０度〜６０度の範囲で傾いた状態で設けられた第２のガスノズルを用いて、前記第１のガスノズルから第２のガスノズルにガスの吐出を切替え、第２の洗浄液ノズルからの洗浄液の吐出及び第２のガスノズルからのガスの吐出を行いながら当該第２の洗浄液ノズル及び当該第２のガスノズルの各吐出位置を基板の周縁側に向けて移動させる工程と、
   複数の洗浄処理の種別の中から選択された洗浄処理の種別に対応する第２のガスノズルの吐出口の高さを、基板の洗浄処理の種別と基板に対する第２のガスノズルの吐出口の高さとを対応付けたデータを記憶する記憶部の中から読み出して前記ノズル移動部を昇降させる昇降機構に出力して、第２のガスノズルの吐出口の高さを調整する工程と、を含み、
   前記第２の洗浄液ノズルは、吐出位置が第１の洗浄液ノズルの吐出位置の移動軌跡から外れる位置に設定され、
   前記第２の洗浄液ノズル及び第２のガスノズルの各吐出位置から基板の中心部までの距離を、夫々ｄ２及びｄ３とすると、第２の洗浄液ノズルから洗浄液を吐出しているときには、ｄ３＜ｄ２であり、かつ第２の洗浄液ノズルが基板の周縁側に移動するにつれて、ｄ２とｄ３との差が徐々に小さくなることを特徴とする基板洗浄方法。
8. 基板を回転させながら洗浄液及びガスを用いて基板を洗浄する装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶した記憶媒体であって、
   前記コンピュータプログラムは、請求項７に記載の基板洗浄方法を実行するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。