JP2015002261A - 基板洗浄装置、基板洗浄システムおよび基板洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記基板反転装置のうち、前記塗布膜に接触しうる部位が前記塗布膜よりも弾性率の低い樹脂材料により形成されている基板洗浄システムが提供される。
本発明のさらに他の実施形態によれば、上記基板洗浄装置と、基板を前記基板洗浄装置に対して搬入または搬出する基板搬送装置と、を備え、前記基板搬送装置のうち、前記塗布膜に接触しうる部位が前記塗布膜よりも弾性率の低い樹脂材料により形成されている基板洗浄システムが提供される。
PR 塗布膜(レジスト膜)
123,202 基板保持機構(スピンチャック)
123A 把持部
124,216 洗浄部(ブラシ)
151,151b,208b 支持部
Claims (9)
- 第1面に塗布膜が形成された基板の第2面を洗浄する基板洗浄装置であって、
前記基板の周縁部に接触して前記基板を保持する支持部と、
前記支持部により保持された前記基板の第2面を押圧することにより前記基板の第2面を洗浄する洗浄部と、
を備え、
前記支持部は、前記基板の周縁部の塗布膜と接触して、前記洗浄部による前記基板の第2面を洗浄するときに前記基板が前記基板洗浄部によって負荷される荷重を支えており、
前記支持部は、前記荷重に起因して前記支持部と前記塗布膜との間に作用する圧力を緩衝する材料により形成されていることを特徴とする、基板洗浄装置。 - 前記基板の側周縁に接触して前記基板を半径方向に拘束する把持部をさらに備えており、前記把持部は、前記支持部を形成する前記材料よりも弾性率が高い材料により形成されている、請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 前記把持部は導電性粒子が混合された樹脂材料からなる、請求項2記載の基板洗浄装置。
- 前記支持部を形成する前記樹脂材料には導電性粒子が混合されていない、請求項3記載の基板洗浄装置。
- 前記圧力を緩衝する材料は、前記塗布膜よりも弾性率の低いフッ素系の樹脂材料である、請求項1から4のうちいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
- 前記フッ素系の樹脂は、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)またはPFA(テトラフルオロエチレンとパーフルオロアルキルビニルエーテルの共重合体)である、請求項5記載の基板洗浄装置。
- 請求項1から7のうちのいずれか一項に記載の基板洗浄装置と、
前記基板洗浄装置により処理される基板または処理された基板を裏返す基板反転装置と、
を備え、
前記基板反転装置のうち、前記塗布膜に接触しうる部位が前記塗布膜よりも弾性率の低い樹脂材料により形成されている、基板洗浄システム。 - 請求項1から7のうちのいずれか一項に記載の基板洗浄装置と、
基板を前記基板洗浄装置に対して搬入または搬出する基板搬送装置と、
を備え、
前記基板搬送装置のうち、前記塗布膜に接触しうる部位が前記塗布膜よりも弾性率の低い樹脂材料により形成されている、基板洗浄システム。 - 第1面に塗布膜が形成された基板の第2面を洗浄する基板洗浄方法であって、
前記基板の第1面上の塗布膜と接触する支持部により前記基板を支持することと、
洗浄部を、前記支持部により保持された前記基板の第2面を押圧することにより、前記基板の第2面を洗浄することと、
を備え、
前記支持部は前記洗浄部による前記基板の第2面を洗浄するときに前記基板が前記基板洗浄部によって負荷される荷重を支え、前記支持部は、前記荷重に起因して前記支持部と前記塗布膜との間に作用する圧力を緩衝する材料により形成されていることを特徴とする、基板洗浄方法。
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