JP2014530718A - 機器再処理装置及び機器再処理法 - Google Patents

Abstract

医療機器の洗浄、消毒、及び／又は滅菌用の機器再処理装置が開示される。本明細書に定義する１つ以上のチャネルを有する機器を再処理するために、再処理装置は、各チャネルを通る流体の流れを制御するよう構成される１つ以上の流量制御システムを備えることができる。様々な実施形態では、流量制御システムは、差圧センサと、チャネル内の流体の流れを制御するための比例弁と、を備えることができる。また再処理装置は、１つには、流量制御システムに流体を供給するよう構成できる流体循環ポンプと、２つには、流量制御システムに供給された流体の圧力を制御するためのシステムと、を備えることができる。また再処理装置は、流体循環システムに一定量の流体を供給するためのシステムを備えることができる。このシステムは、内部の流体量を監視するための流体高さセンサを有するリザーバーと、リザーバーに流体を供給するよう構成されるポンプと、を備えることができる。

Description

本発明は一般に、医療機器の再処理、洗浄、滅菌、及び／又は除染に関する。

様々な場合において、内視鏡は、患者の体内に挿入されるように構成することができる遠位端を有する細長い部分、すなわち管と、加えて水、空気、及び／又は他のいずれかの好適な流体を手術部位に向けるように構成することができる細長い部分を通じて延びる複数のチャネルとを含むことができる。いくつかの場合においては、内視鏡内の１つ又は２つ以上のチャネルが、手術用器具を手術部位内に案内するように構成することができる。いずれの場合も、内視鏡は、チャネルと流体連通する入口を有する近位端、及び更に、チャネルを通る流体の流れを制御するように構成された１つ又は２つ以上の弁及び／又はスイッチを有する制御ヘッド区分を更に含むことができる。少なくとも１つの場合において、内視鏡は、チャネルを通じた空気及び水の流れを制御するように構成された制御ヘッド内の空気チャネル、水チャネル、及び１つ又は２つ以上の弁を含むことができる。

除染システムを使用して、既に使用した内視鏡などの医療用装置を、例えば医療用装置が再び使用できるように再処理することができる。内視鏡を再処理するための様々な除染システムが存在する。一般的にこのようなシステムは、少なくとも１つの洗い落とし用水槽を備えることができ、この洗い落とし用水槽内に洗浄及び／又は消毒される内視鏡が定置できる。この洗い落とし用水槽は通常、水槽内に定置された内視鏡内及び／又は内視鏡上に、洗浄剤及び／又は消毒剤を差向ける目的の、ライン、ポンプ、及び弁の循環システムを支持するハウジングによって支持される。除染プロセスの間、チャネルが閉塞していないことを確認するために、内視鏡内のチャネルを調べることができる。様々な実施形態では、循環システムはコネクタによって内視鏡チャネルに流体連結することができ、このコネクタは、チャネルの末端部を形成することができるポートに取り外し可能に係合する。かかるコネクタは、内視鏡に接続される際に流体の密封シールを達成でき、更に除染プロセスの完了時に容易に取り外し可能であることができる。

前述した考察は、特許請求の範囲を否定するものと解釈されるべきではない。

少なくとも一形態では、医療機器洗浄用の機器再処理装置は、医療機器を受容するよう構成されるチャンバーと、再処理流体供給源と、再処理流体供給源と流体連通する供給ポンプであって、容積型ポンプを構成する供給ポンプと、供給ポンプと流体連通するリザーバーであって、上面及び底面を備え、リザーバーが上面と底面との間に再処理流体高さを備えることができる、リザーバーと、を備えてよい。機器再処理装置は更に、リザーバー上面とリザーバー底面との間に延在するリニアセンサであって、再処理流体高さを検出するよう構成されるリニアセンサと、加えて、リニアセンサと信号通信するプロセッサであって、再処理流体高さが所定の高さを下回ると供給ポンプを動作するよう構成され、所定の高さがリザーバー上面とリザーバー底面との間にあるプロセッサと、を備えることができる。機器再処理装置は更に、リザーバー底面及びチャンバーと流体連通する分配ポンプを備えることができ、分配ポンプは容積型ポンプを備え、かつプロセッサが分配ポンプを動作するよう構成される。

少なくとも一形態では、少なくとも第１チャネル及び第２チャネルを有する機器を通る再処理流体の流れを制御する方法は、再処理流体源と流体連通するポンプを動作する工程と、第１弁と、第１圧力差センサと、を備える第１流体回路を通して再処理流体を流す工程であって、第１流体回路がポンプ及び第１チャネルと流体連通する工程と、第２弁と、第２圧力差センサと、を備える第２流体回路を通して再処理流体を流す工程であって、第２流体回路がポンプ及び第２チャネルと流体連通する工程と、を含んでよい。この方法は更に、第１圧力差センサを利用して、第１弁内を流れる再処理流体中の第１圧力差を検出する工程と、第２圧力差センサを利用して、第２弁内を流れる再処理流体中の第２圧力差を検出する工程と、第１弁を調節して、第１圧力差センサからの出力を利用して第１チャネルを通る再処理流体の第１流量を制御する工程と、第２弁を調節して、第２圧力差センサからの出力を利用して第２チャネルを通る再処理流体の第２流量を制御する工程と、を含んでよい。

少なくとも一形態では、流路を備える医療機器洗浄用の機器再処理装置は、医療機器を受容するよう構成されるチャンバーと、流路と流体連結された供給コネクタと、再処理流体を加圧し、再処理流体を供給コネクタに供給するよう構成されるポンプであって、入口及び出口を備えるポンプと、ポンプ出口から流出する再処理流体のゲージ圧を検知するよう配置されるゲージ圧センサと、を備えてよい。機器再処理装置は更に、供給コネクタと流体連通する弁であって、流路を通る再処理流体の流量を制御するよう構成され、入口と、出口と、を備える弁を含む、流量制御システムを備えることができる。機器再処理装置は更に、固定オリフィスの両側において再処理流体の圧力低下を検知するよう構成される圧力差センサであって、ゲージ圧センサに対して下流かつ弁出口に対して上流に配置される圧力差センサと、圧力差センサと信号通信するプロセッサであって、圧力低下に基づいて流量を読み取り、少なくとも部分的に閉じろ及び少なくとも部分的に開けろのうち少なくとも１つの命令を弁に送るよう構成されるプロセッサと、を備えてよい。

少なくとも一形態では、機器再処理装置の流体循環システム用供給リザーバー内の再処理流体量を維持するための監視システムを利用する方法は、ある量の再処理流体を再処理流体源から供給リザーバーに供給する工程と、供給リザーバー内の再処理流体量を検知する工程と、供給リザーバー内の再処理流体の量が所定の量を超えているかどうかを判定する工程と、を含むことができる。この方法は更に、供給リザーバー中の再処理流体の量が所定の量に満たない場合に、容積型充填ポンプを動作させて再処理流体を供給リザーバーに供給する工程であって、容積型充填ポンプが、ストローク１回当たり一定量の再処理流体を供給するよう構成される工程と、容積型充填ポンプの動作中に供給リザーバー内の再処理流体の量を監視する工程と、供給リザーバー内の再処理流体の量が、ストローク１回当たりに移動する量と容積型充填ポンプのストローク回数の積に等しい再供給量ずつ増加したかどうかを判定する工程と、供給リザーバー内の再処理流体の量が再供給量ずつ増加しなかった場合に警報を通報する工程と、を含んでよい。

少なくとも一形態では、チャネルを備える機器を通る再処理流体の流れを制御する方法は、再処理流体源と流体連通するポンプを動作する工程と、ポンプから流出する再処理流体のゲージ圧を測定する工程と、再処理流体の流れを調節し再処理流体のゲージ圧を調節する工程と、弁と圧力差センサとを備える流体回路を通して再処理流体を流す工程であって、流体回路がポンプ及びチャネルと流体連通する工程と、を含んでよい。この方法は更に、圧力差センサを利用して、弁内を流れる再処理流体中の圧力差を検出する工程と、弁を調節して、圧力差センサからの出力を利用してチャネルを通る再処理流体の流量を制御する工程と、を含んでよい。

少なくとも一形態では、少なくとも第１チャネル及び第２チャネルを有する機器を通る再処理流体の流れを制御する方法であって、第１チャネルがパラメーターの第１値によって定義され、第２チャネルがパラメーターの第２値によって定義される方法は、再処理流体源と流体連通するポンプを初期設定して運転サイクルを開始する工程と、第１弁を備える第１流体回路に再処理流体を供給する工程であって、第１流体回路がポンプ及び第１チャネルと流体連通する工程と、第２弁を備える第２流体回路に再処理流体を供給する工程であって、第２流体回路がポンプ及び第２チャネルと流体連通する工程と、を含んでよい。この方法は更に、第１弁を調節して第１チャネルを通る再処理流体を制限する工程であって、再処理流体の流れが、パラメーターの第１値とパラメーターの第２値との差に基づく量によって制限され、それによって、ポンプが初期設定されると再処理流体が第１チャネル及び第２チャネルを通って流れる工程と、を含んでよい。

前述した考察は、特許請求の範囲を否定するものと解釈されるべきではない。

本発明の特徴及び利点、並びにそれらを実現する方法は、本発明の実施形態の以下の説明を添付の図面と併せて参照することでより明らかとなり、また発明自体のより深い理解が得られるであろう。
２つの水槽を備える少なくとも１つの実施形態に従う内視鏡再処理装置の斜視図である。 図１の内視鏡再処理装置の水槽の斜視図である。 図１の内視鏡再処理装置のチャネルフローサブシステムのダイアグラムである。 内部を流れる流体の圧力を制御するためのチャネルフローサブシステムのダイアグラムである。 複数個の流量制御ユニットを備えるマニホールドアセンブリの斜視図である。 図４のマニホールドアセンブリのマニホールドの斜視図である。 内視鏡チャネル供給ラインを通る流体の流れを制御するよう構成される流量制御ユニットの斜視図である。 図６の流量制御ユニットの比例弁の斜視図である。 図７の比例弁を除いた状態の図６の流量制御ユニットの斜視図である。 プリント基板（ＰＣＢ）アセンブリと、ゲージ圧センサと、２つの差圧センサと、を備える、図６の制御ユニットのサブアセンブリの斜視図である。 図９の制御ユニットの差圧センサの斜視図である。 図９の制御ユニットのゲージ圧センサの斜視図である。 流体送達システムの斜視図である。 図１２の流体送達システムの平面図である。 図１２の流体送達システムの断面正面図である。 図１２の流体送達システムの正面図である。 図１２の流体送達システムの回路図である。 図２の水槽中の内視鏡キャリアの内部に配置される内視鏡を示す。

対応する参照符合は、複数の図面を通じて対応する部材を示す。本明細書において説明される例示は、一形態による本発明の特定の実施形態を例示し、このような例示は、いかなる方法によっても本発明の範囲を限定するものとして解釈されない。

本明細書で開示される装置並びに方法の構造、機能、製造、及び使用の原理の全体的な理解が与えられるよう、特定の例示的実施形態について以下に説明する。これらの実施形態の１以上の例を添付図面に示す。本明細書で詳細に説明され、添付の図面に示される装置及び方法は、非限定的な例示的実施形態であること、並びに、本発明の各種の実施形態の範囲は、特許請求の範囲によってのみ定義されることは、当業者には理解されよう。１つの例示的な実施形態との関連において例示又は説明された特徴は、他の実施形態の特徴と組み合わせることができる。かかる修正及び変更は本発明の範囲内に含まれることが意図される。

本明細書全体を通して、「様々な実施形態」、「いくつかの実施形態」、「一実施形態」、又は「ある実施形態」等の参照は、その実施形態との関連において記述されている特定の特徴、構造、又は特性が、少なくとも１つの実施形態に含まれることを意味する。したがって、本明細書の全体を通じた各所で、「様々な実施形態において」、「いくつかの実施形態において」、「１つの実施形態において」、又は「ある実施形態において」などの語句が出現するが、これらは必ずしもすべてが、同じ実施形態を指すわけではない。更に、特定の特徴、構造、又は特性は、１つ以上の実施形態で、任意の好適なやり方で組み合わせることができる。故に、一実施形態に関して図示又は記載される特定の特徴、構造、又は特性は、１つ以上の他の実施形態の特徴、構造、又は特性と、全体として又は部分的に、制限なしに組み合わせることができる。かかる修正及び変更は本発明の範囲内に含まれることが意図される。

用語「近位」及び「遠位」は、本明細書において手術器具について使用される。「近位」という用語は、臨床医に最も近い部分を指し、「遠位」という用語は、臨床医から離れた位置にある部分を指す。便宜上、及び明確性のために、「垂直」、「水平」、「上」、「下」などの、空間的用語は、本明細書では、図面に関連して使用し得ることが更に理解されよう。しかしながら、場合によっては、本明細書に開示される装置を多くの向き及び配置で使用でき、これらの用語は限定的及び／又は絶対的であることが意図されない。

上述のように、図１を参照すると、内視鏡再処理装置１００などの医療機器再処理装置は、例えば、１本以上の内視鏡を洗浄するよう構成できる。特定の実施形態では、内視鏡再処理装置は、内視鏡を消毒及び／又は滅菌するよう構成できる。様々な実施形態では、内視鏡再処理装置は、少なくとも１つの水槽１１０を備えてよく、各水槽１１０は内視鏡を内部に受容するよう構成できる。内視鏡再処理装置１００は例えば２つの水槽を備えているが、任意の好適な数の水槽１１０を備える様々な別の実施形態が想定される。様々な実施形態では、再処理装置１００は更に、各水槽１１０内に定置することができ、内視鏡を内部に保持するよう構成される、１つ以上の内視鏡キャリア１２０を備えてよい。使用する際、臨床医は、内視鏡キャリア１２０内に内視鏡を定置し、その後水槽１１０の内部に内視鏡キャリア１２０を配置できる。あるいは、臨床医は、水槽１１０内にキャリア１２０を配置し、その後キャリア１２０内に内視鏡を置くことができる。いずれの場合にも、水槽１１０の内部に内視鏡を適切に配置すると、折り畳み式ドア１３０を閉じ、再処理装置フレーム１４０を固定及び／又は密閉して、内視鏡を水槽１１０の内部に閉じ込めることができる。その後、臨床医は、例えば制御盤１５０をインターフェースとして内視鏡再処理装置１００を操作できる。水槽１１０、キャリア１２０、及び折り畳み式ドア１３０の代表的な実施形態は、同時に出願された共有の「ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴ ＲＥＰＲＯＣＥＳＳＯＲＳ，ＳＹＳＴＥＭＳ，ＡＮＤ ＭＥＴＨＯＤＳ」という表題の米国特許出願（代理人整理番号１１０５１５）に記載されており、その開示全体が参照することにより本明細書に組み込まれる。ここで図１７を参照すると、内視鏡１０１は、水槽１１０内に配置されるキャリア１２０の内部に配置されているものとして示される。様々な実施形態では、内視鏡１０１は、キャリア１２０の内部に保持できる様々な部分１０２、１０３、及び／又は１０４を備えてよい。

様々な実施形態では、上記に加え、内視鏡再処理装置１００は、例えば洗剤、滅菌剤、消毒剤、水、アルコール、及び／若しくは任意のその他好適な流体などの１種以上の再処理流体を、内視鏡を通して循環できる、並びに／又はこれら流体を内視鏡上に噴霧できる循環システムを備えることができる。循環システムは、流体供給部と、循環ポンプと、を備え、循環ポンプは、流体が流体供給部から循環システム内に引き込むことができるように、流体供給部と流体連結できる。特定の実施形態では、循環システムは、流体を、例えば水などの別の流体と混合できる混合チャンバーを備えることができ、混合チャンバーは循環ポンプと流体連通できる。いずれの場合にも、ここで図２を参照すると、各水槽１１０は、循環ポンプと流体連通できる１つ以上のスプレーノズル１１２を備えることができ、循環ポンプによって加圧された流体が、循環システムからノズル１１２を通って内視鏡上に噴出できるようにする。少なくとも１つのこのような実施形態では、各水槽１１０は、その外辺部の周囲に配置された複数個のノズル１１２と、水槽床（つまりはねよけ板）１１１から上方に噴霧できる１つ以上のノズル１１２と、を備えることができる。特定の代表的な実施形態は、同時に出願された共有の「ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴ ＲＥＰＲＯＣＥＳＳＯＲＳ，ＳＹＳＴＥＭＳ，ＡＮＤ ＭＥＴＨＯＤＳ」という表題の米国特許出願（代理人整理番号１１０５１５）に詳述されており、その開示全体が参照することにより本明細書に組み込まれる。

様々な実施形態では、上記に加え、各水槽１１０は、内部に噴霧された流体を、その底面に配置された排液管１１６に向かって下向きに導き、後に流体が循環システム内に再度入れるように構成できる。内視鏡内の内部チャネルを洗浄、消毒、及び／又は滅菌するために、内視鏡再処理装置１００は、内視鏡の内部チャネルと流体連通して定置できる循環システムポンプと流体連通する１つ以上の供給ラインを備えることができる。様々な実施形態では、再度図２を参照すると、各水槽１１０は、供給ラインの末端に備えることができる１つ以上のポート１１４を備えることができる。図示した実施形態では、各水槽１１０は、その両側に配置された一列の４つのポート１１４を有するが、任意の好適な数及び配置のポート１１４を備えることができるその他の代替的実施形態が想定される。特定の実施形態では、内視鏡再処理装置１１０は更に、ポート１１４と連結及び／又は封止係合できる１本以上の可撓性導管と、内視鏡内に画定されるチャネルと、を備え、循環システムから加圧された流体が、ポート１１４、可撓性導管を通り、かつその後に内視鏡内に流れるようにできる。可撓性導管を内視鏡に封止係合するのに使用される可撓性導管及びコネクタは、ＦＬＵＩＤ ＣＯＮＮＥＣＴＯＲ ＦＯＲ ＥＮＤＯＳＣＯＰＥ ＲＥＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ ＳＹＳＴＥＭという表題の米国特許出願第１２／９９８，４５９号（２０１１年８月２９日出願）及びＱＵＩＣＫ ＤＩＳＣＯＮＮＥＣＴ ＦＬＵＩＤ ＣＯＮＮＥＣＴＯＲという表題の同第１２／９９８，４５８号（同じく２０１１年８月２９日出願）に記載されており、その開示全体が参照することにより本明細書に組み込まれる。

様々な場合では、上記に加え、内視鏡内に画定されるチャネルが、例えば残骸によって詰まり、又はつまり閉塞されるようになる場合があり、これによって内視鏡が正しく洗浄、消毒、及び／又は滅菌されるのが阻止できる。場合によっては、内視鏡チャネル内に位置する残骸は、内部の流体の流れを少なくとも部分的に塞がることがあり、これによって、流体がチャネルを通過できる量が低下する。内視鏡チャネルを通る流体の流量を監視して、チャネル内に閉塞が存在するかどうかを評価できる内視鏡再処理装置の様々な実施形態が、本明細書において想定される。このような実施形態では、監視システムは、流体の実際の流量を測定し、流体が循環ポンプによって加圧された際の特定の圧力を予測させる流体の流量と比較できるであろう。また特定の監視システムは、可撓性導管のコネクタが、内視鏡チャネル及び／又は例えば水槽ポート１１４と封止係合されるかどうかを評価できるであろう。かかるシステムでは、監視システムは、流体の流量が、例えば予測流量を超えるかどうかを検出できるであろう。ＡＵＴＯＭＡＴＥＤ ＥＮＤＯＳＣＯＰＥ ＲＥＰＲＯＣＥＳＳＯＲ ＳＥＬＦ−ＤＩＳＩＮＦＥＣＴＩＯＮ ＣＯＮＮＥＣＴＩＯＮという表題の米国特許第７，８７９，２８９号（２０１１年２月１日発行）の開示全体が、参照することにより本明細書に組み込まれる。

ここで図３のダイアグラムを参照すると、内視鏡再処理装置は、ポンプ１６２として示される循環システムポンプと流体連通するマニホールド１６６を含むチャネルフローサブシステム１６０を備えてよく、内視鏡再処理装置のチャネル供給ラインに、及び続いて内視鏡のチャネルに加圧流体を分配するよう構成できる。内視鏡再処理装置のこのようなチャネル供給ラインは、図３のダイアグラム中で供給ライン１６４として示される。様々な実施形態では、各内視鏡再処理装置供給ライン１６４は、少なくとも１つの差圧センサ１７２と、少なくとも１つの比例弁１７４と、少なくとも１つのゲージ圧センサ１７６と、を備えてよい。特定の実施形態では、ここで図６及び９を参照すると、各再処理装置チャネル供給ライン１６４は、ハウジング１７１と、差圧センサ１７２と、比例弁１７４と、ゲージ圧センサ１７６と、を備える制御ユニットアセンブリ１７０を備えることができる。少なくとも１つのこのような実施形態では、各ハウジング１７１は、入口１６８と、差圧センサ１７２の入口１７３ａ、その後出口１７３ｂを通して流体の流れを方向付けるよう構成できる内部流路と、を備えることができる。差圧センサ１７２の入口１７３ａと出口１７３ｂとの間に、一定の直径を備えるオリフィス１７５（図１０）が画定できる。少なくとも１つのこのような実施形態では、オリフィス１７５の直径は、その長さに沿って一定であってよい。かかるオリフィスは、例えば穿孔プロセスによって作製できるであろう。様々な別の実施形態では、オリフィス１７５の直径は、その長さに沿って一定でなくてもよい。いずれの場合でも、かかるオリフィスは、時間と共に変化しない、又は少なくとも実質的に変化しないという点で固定してよい。以下に詳述するように、ここで図９及び１０を参照すると、差圧センサ１７２は更に、制御ユニットアセンブリ１７０のプリント基板（ＰＣＢ）アセンブリ１７９と信号通信する差圧センサ１７２を定置できる、複数個の電気接点１７７を備えることができる。また電気接点１７７は、差圧センサ１７２に電力を供給するようにも構成できる。様々な圧力差センサが、例えばＨｏｎｅｙｗｅｌｌから市販されている。

上で概説したように、差圧センサ１７２は、ＰＣＢアセンブリ１７９と電気通信及び／又は信号通信できる。より具体的には、ＰＣＢアセンブリ１７９は特に、例えばマイクロプロセッサ及び／又は任意の好適なコンピュータを備えてよく、このとき差圧センサ１７２は、ＰＣＢアセンブリ１７９のマイクロプロセッサに伝達される電位を発生するよう構成できる。少なくとも１つのこのような実施形態では、ＰＣＢアセンブリ１７９のマイクロプロセッサは、差圧センサ１７２によって供給された電位を判断し、差圧センサ１７２を通って流れる流体の流量を算出するよう構成できる。

特定の実施形態では、上記に加え、複数の流体流量値を、例えば、ＰＣＢアセンブリ１７９上のプログラム可能なメモリ内に定義される参照テーブルに保存できる。多くの場合、様々な実施形態では、参照テーブル内の期待される流体流量値を理論的に予測できるが、特定の実施形態では、その値を経験的に試験して、その後プログラム可能なメモリ内に保存できる。いずれの場合にも、循環ポンプ１６２によって放出され、マニホールド１６６に供給されている流体のゲージ圧の関数として、流体流量を決定できる。少なくとも１つのこのような実施形態では、例えばゲージ圧センサ１５９（図３）などのゲージ圧センサを循環ポンプ１６２の出口に対して下流に配置でき、再処理装置チャネル供給ライン１６４のそれぞれに供給されている流体のゲージ圧を測定できるようにする。このような実施形態では、ゲージ圧センサ１５９を、流量制御ユニット１７０の各ＰＣＢアセンブリ１７９と電気通信及び／又は信号通信するように定置することができ、流体のゲージ圧を、各ＰＣＢアセンブリ１７９のマイクロプロセッサに電位という形で伝達できるようにする。流体のゲージ圧がＰＣＢアセンブリ１７９に伝達されると、様々な実施形態では、マイクロプロセッサは、参照テーブルから流体の流量を得て、その流体流量値を目標流体流量と比較できる。多くの場合、実際の流量は目標流量とぴったり一致しないため、実際の流量に対する最小目標値と最大目標値との間の値の範囲が許容できる。

様々な実施形態では、上記に加え、再処理装置チャネル供給ライン１６４を通る流体流量は、２つの変数、つまり上述のゲージ圧センサ１５９のゲージ圧読み取り値、及び更に、対応する流量制御ユニット１７０の差圧センサ１７２の圧力余も取り地の関数として決定できる。このようなシステムは、複数個の参照テーブルを利用して流体の流量を導き出すことができる。例えば、マニホールド１６６に供給できる流体のすべての可能性のあるゲージ圧、例えば２４１ｋＰａ（３５ｐｓｉ）などに関して、差圧センサ１７２の読み取り値と予測流量を関連付けるテーブルが、各ＰＣＢアセンブリ１７９内に保存できるであろう。このような実施形態では、広範なゲージ圧からなる必要があるため、多くの参照テーブルが必要となる場合がある。様々な別の実施形態では、再処理装置供給ライン１６４に供給される流体の圧力を、特定の圧力又は制限範囲内の圧力に制限することができる。少なくとも１つのこのような実施形態では、図３Ａを参照すると、機器再処理装置１００の流体循環システムは、循環ポンプ１６２の出口及び流体フィードバックループ１５７と流体連通できる、例えば比例弁１５８などの圧制限弁を備えることができる。少なくとも１つのこのような実施形態では、比例弁１５８は、ポンプ１６２によって放出される流体の一部の方向を変え、方向が変えられた流体を、例えば、ポンプ１６２に対して上流に配置された入口において循環システムに戻すように構成でき、マニホールド１６６に供給されている流体の圧力が、一定の、又は少なくとも実質的に一定の圧力、例えば２４１ｋＰａ（３５ｐｓｉｇ）などで提供されるようにできる。少なくとも１つのこのような実施形態では、例えば、マイクロプロセッサ及び／又は任意の好適なコンピュータを備えるＰＣＢアセンブリは、マイクロプロセッサ及び／又は任意の好適なコンピュータがゲージ圧センサ１５９及び比例弁１５８と電気通信及び／又は信号通信していることを利用できる。使用する際、流体のゲージ圧が例えば２４１ｋＰａ（３５ｐｓｉｇ）を超えると、ＰＣＢアセンブリが、一定分又は追加分開き、流体又はより多くの流体が、流体フィードバックループ１５７を通過させるようにせよという命令を比例弁１５８に送ることができる。このような場合には、かかる作用によってマニホールド１６６に流れる流体の圧力を下げることができる。流体の圧力が２４１ｋＰａ（３５ｐｓｉｇ）を超えたままである場合には、ＰＣＢアセンブリは、追加分開けと比例弁１５８に命令することができる。このような工程を任意の好適な回数繰り返し、所望の流体の圧力に到達できるであろう。同様に、流体のゲージ圧が例えば２４１ｋＰａ（３５ｐｓｉｇ）未満のとき、ＰＣＢアセンブリは、特定量閉じて、流体フィードバックループ１５７を通って流れる流量を下げよと比例弁１５８に命令することができる。このような場合には、かかる作用によってマニホールド１６６に流れる流体の圧力を上げることができる。流体の圧力が２４１ｋＰａ（３５ｐｓｉｇ）を下回ったままである場合には、ＰＣＢアセンブリは、追加量閉じろと比例弁１５８に命令することができる。このような工程を任意の好適な回数繰り返し、所望の流体の圧力に到達できるであろう。

上記を考慮すると、様々な実施形態では、再処理装置供給ライン１６４の流量制御ユニット１７０に供給されている流体のゲージ圧を制御して、一定の、又は少なくとも実質的に一定の圧力に維持するようにできる。したがって、再処理装置供給ライン１６４を通って流れる流体の流量を算出するための変数のうち１つを、一定に、又は少なくとも実質的に一定に維持できる。このように、結果的に、各再処理装置供給ライン１６４及びその関連する制御ユニット１７０を通る流体の流量は、１つの変数、すなわち、差圧センサ１７２の読み取り値のみの関数であることができる。少なくとも１つのこのような実施形態では、実際の算出流量を算出し、及び／又は実際の算出流量を目標流量と関連付けて、再処理装置供給ライン１６４を通る流体流量について、実際の算出流量が最小許容値と最大許容値との間にあるかどうかを判定するために、１つのみの参照テーブルが必要であってよい。

再処理装置供給ライン１６４によって供給されるとき、実際の流体流量が、ある内視鏡チャネルに関する最小許容値と最大許容値との間にある場合には、対応する流量制御ユニット１７０のＰＣＢアセンブリ１７９は、比例弁１７４を調節しないで、代わりに流量制御ユニット１７０を通って流れる流体の流量を監視し続けてよい。再処理装置供給ライン１６４を通る実際の流体の流量が、所定の再処理装置供給ライン１６４に関して所定のゲージ圧の参照テーブルに保存されている最小許容値を下回る、又は最大許容値を上回る場合には、ＰＣＢアセンブリ１７９は、これらに関連して比例弁１７４を開ける、部分的に開ける、閉じる、及び／又は部分的に閉じることができる。少なくとも１つの実施形態では、図６〜８を参照すると、比例弁１７４は、オリフィス又はチャンバー１８０と、チャンバー１８０内に配置される弁要素と、作動されて、流体がチャンバーを通って流れることができる解放位置と、要素が内部を通る流体の流れを塞いでいる閉鎖位置との間、及び／又は任意のその他好適な中間位置の間にチャンバー１８０内の要素を回転できるソレノイドと、を備えることができる。

様々な実施形態では、上記に加え、ＰＣＢアセンブリ１７９のマイクロプロセッサを、比例弁１７４の弁チャンバー１８０内の弁要素の位置を調節するよう構成できる。使用する際、再処理装置供給ライン１６４を通る実際の流体流量が目標流体流量より高い場合、比例弁１７４のソレノイドが弁要素を閉鎖位置に向けて動かし、中を通る流体の流れを更に抑制することができる。同様に、再処理装置供給ライン１６４を通る実際の流体流量が目標流体流量より低い場合、比例弁１７４のソレノイドが弁要素を解放位置に向けて動かし、中を流れる流体の抑制を弱めることができる。様々な実施形態では、弁要素は、解放位置から第１位置まで回転して、弁オリフィスを第１程度、例えば約２５％抑制し、第２位置まで回転して、弁オリフィスを第２程度、例えば約５０％抑制し、第３位置まで回転して、弁オリフィスを第３程度、例えば約７５％抑制し、更に、弁オリフィスが例えば約１００％抑制する閉鎖位置まで回転できる。様々な実施形態では、比例弁１７４の弁要素は、任意の好適な数の位置に配置可能であり、弁１７４を通る流体の流れに対して所望の抑制度合いを提供できる。いずれにしても、弁要素の位置は、ＰＣＢアセンブリ１７９によって弁ソレノイドに印加された電位によって制御でき、このとき、例えば、弁ソレノイドに低電位が印加されると、弁要素が完全に閉鎖された位置により近い位置に向くようになり、それに対して弁ソレノイドに高電位が印加されると、弁要素が、例えば完全に解放された位置により近い位置に向くことをもたらすことができる。

様々な場合において、上記の結果、ＰＣＢアセンブリ１７９を、再処理装置供給ライン１６４を通って流れる流体の流量を継続的に監視し、比例弁１７４を調節して再処理装置供給ライン１６４、及びそれに応じて、比例弁に流体連結する内視鏡チャネルを通って流れる流量を上げる及び／又は下げるよう構成できる。様々な実施形態では、上記に加え、ＰＣＢアセンブリ１７９を、流体の流量を所望の流量に、及び／又は所望の流量付近に維持するよう構成できる。循環している流体が、例えば滅菌剤又は滅菌剤を含む溶液である実施形態では、滅菌剤は内視鏡を滅菌できるが、滅菌剤が内視鏡に悪影響を与える、つまり劣化させる場合もある。このように、上記を考慮すると、チャネルフローサブシステム１６０を、内視鏡の滅菌のため、最低限で十分な滅菌剤流を内視鏡に供給するが、内視鏡への最大限の滅菌剤流量を制限するよう構成し、滅菌剤が内視鏡を過度に劣化しないようにできる。同様に、上記を考慮すると、チャネルフローサブシステム１６０を、内視鏡の消毒のため、最低限で十分な消毒剤流を内視鏡に供給するが、内視鏡への最大限の消毒剤流を制限するよう構成し、消毒剤が内視鏡を過度に劣化しないようにできる。様々な実施形態では、各内視鏡チャネル供給ラインは更に、例えば差圧センサ１７８などの第２差圧センサを備え、再処理装置供給ライン１６４を通る流体の流量の検出もできる。少なくとも１つのこのような実施形態では、制御ユニットアセンブリ１７０の第１差圧センサ１７２及び第２差圧センサ１７８を互いに平行に定置でき、圧力センサ１７２及び１７８が、はっきりと異なる電圧読み取り値をＰＣＢアセンブリ１７９に与える場合には、ＰＣＢアセンブリ１７９は、例えば比例弁１７４を閉じる、及び／又は、操作者に対して制御ユニットアセンブリ１７０が修理を要する必要があるかも知れないという警報を発する、つまり警告するなどの補正動作ルーチンを実行できる。

上で概説したように、各比例弁１７４は、可変オリフィスの状態を制御するよう構成できる。少なくとも１つのこのような実施形態では、各比例弁１７４は、上記の比例弁１７４の弁要素を、常時閉じた状態にかたよらせるよう構成でき、例えばバネなどのバイアス用要素を備えてよい。これも上述のように、比例弁１７４のソレノイドを作動させ、弁要素を少なくとも部分的に開いた位置に変えることができる。少なくとも１つの実施形態では、一連の電圧パルスを対応するＰＣＢアセンブリ１７９からソレノイドに加え、弁要素が開く程度、つまり量を制御できる。少なくとも１つのこのような実施形態では、ソレノイドに加えられる電圧パルスの周波数が高くなると、可変オリフィスが大きくなり、それによって通り抜ける流体の流量をより大きくできる。同様に、ソレノイドに加えられる電圧パルスの周波数が低くなると、可変オリフィスが小さくなり、それによって通り抜ける流体の流量をより小さくできる。電圧パルスが比例弁１７４のソレノイドに加えられなくなると、バイアス要素によって弁要素を再度閉じた状態に変えることができる。弁要素が常時開いた状態にかたより、比例弁のソレノイドが作動して、弁要素を少なくとも部分的に閉じた状態にかたよらせることができる、その他様々な実施形態が想定される。様々な別の実施形態では、オリフィスを制御するための弁は、完全解放位置と完全閉鎖位置との間を弁要素が循環し、弁要素が開いた時間に対して弁要素が閉じる時間を制御することにより、中を流れる流量を制御するよう構成できる。少なくとも１つのこのような実施形態では、弁要素は、例えばソレノイドによって、開いた状態と閉じた状態との間を素早く循環できる。

上記に加え、各再処理装置供給ライン１６４は、制御ユニットアセンブリ１７０を備えてよく、制御ユニットアセンブリ１７０は、再処理装置供給ライン１６４を通る流体の流れを互いに独立して制御するよう構成できる。様々な実施形態では、制御ユニットアセンブリ１７０は、互いに電気通信及び／又は信号通信していない場合がある。このような実施形態では、各制御ユニットアセンブリ１７０は、別の制御ユニットアセンブリ１７０と通信せずに、再処理装置供給ライン１６４を通って流れる流体の流量を監視して調節するよう構成される。しかしながら様々な別の実施形態では、制御ユニットアセンブリ１７０は互いに電気通信及び／又は信号通信し、再処理装置供給ライン１６４内の流体の特定のパラメーターを例えば互いに比較できるであろう。いずれの場合にも、制御ユニット１７０のＰＣＢアセンブリ１７９をプログラムし、制御ユニット１７０を出るゲージ圧が、例えば約１５０．０ｋＰａ（２１．７５ｐｓｉｇ）といった所定の最大圧を超えた場合には、その比例弁１７４を完全に開くことができる。様々な実施形態では、上記制御ユニットアセンブリ１７０のゲージ圧センサ１７６は、１つには、再処理装置供給ライン１６４の比例弁１７４を出る流体のゲージ圧を検出し、２つには、ゲージ圧内の電位を判断できそれぞれの対応するＰＣＢアセンブリ１７９に電位を伝達するように構成できる。流体供給ラインの２点間において、流体の圧力低下を検出できる差圧センサ１７２及び１７８と比較して、ゲージ圧センサ１７６は、実際の流体圧力、つまりゲージ圧を検出できる。様々な実施形態では、図９及び１１を参照すると、ゲージ圧センサ１７６は、流体の流れを、センサ要素を過ぎて流量制御ユニット１７０の出口１８３まで方向付けるよう構成できる、流路１８５を備えてよい。上記と同様に、各ゲージ圧センサ１７６は、対応するＰＣＢアセンブリ１７９と電気通信及び／又は信号通信するゲージ圧センサ１７６を定置できる、複数個の電気接点１８７を備えてよい。

上記に加え、流体循環システム１６０のマニホールド１６６は、８つの内視鏡再処理装置供給ライン１６４及びこれらと連結される内視鏡チャネルに、内部を流れる流体を分配するよう構成できる。ここで図５を参照すると、マニホールド１６６は、入口１６１と、８つの出口１６３と、マニホールド１６６の反対側末端部に配置された第２入口１６５と、を備えてよい。様々な実施形態では、マニホールド１６６は、内視鏡再処理装置１００の操作中にわたって、数種類の異なる流体を受容し、分配するよう構成できる。再度図３を参照すると、マニホールド１６６の入口１６１は、ポンプ１６２からの、特に水及び洗剤を含む溶液の流れを受容するよう構成できる。様々な実施形態では、１つ以上の弁を操作して水源と流体連通するポンプ１６２を定置し、ポンプ１６２が供給ライン１６４に水を注入できるようにする。特定の実施形態では、１つ以上の弁を操作して滅菌剤源、つまり滅菌剤溶液と流体連通するポンプ１６２を定置し、ポンプ１６２が供給ライン１６４に滅菌剤を注入できるようにする。少なくとも１つの実施形態では、再度図５を参照すると、内視鏡再処理装置１００は、例えば弁１６７などの１つ以上の弁を備えてよく、この弁を操作して、例えば加圧空気源１９０からのマニホールド１６６内への加圧空気の流入を可能にできる。少なくとも１つのこのような実施形態では、加圧空気によって、あらゆる残存する水、洗剤、及び／又は滅菌剤を強制的に内視鏡チャネルから追い出すことができる。特定の実施形態では、内視鏡再処理装置１００は更に、アルコール供給１９１と、アルコール供給１９１からアルコールを吸引し、アルコールを例えば第２入口１６５を通ってマニホールド１６６内に導入するよう構成できるポンプと、を備えることができる。少なくとも１つのこのような実施形態では、逆止弁１９２をかかるポンプ及び第２入口１６５の中間に配置し、別の流体がマニホールド１６６からアルコール供給１９１に流入できないようにできる。

上記を考慮すると、機器再処理装置は、例えば内視鏡などの機器のチャネルに１種以上の加圧流体を供給するよう構成できる。様々な実施形態では、内視鏡チャネルに供給されている流体の流量を監視できる。内視鏡チャネルに供給されている流体の流量が目標流量、又は最小許容流量を下回る場合には、機器再処理装置は内部を流れる流体の流量を増すことができる。内視鏡チャネルに供給されている流体の流量が目標流量、又は最大許容流量を上回る場合には、機器再処理装置は内部を流れる流体の流量を減らすことができる。特定の実施形態では、機器再処理装置は、内視鏡チャネルに流体を供給する複数の供給ラインを備えてよく、各供給ラインは、内部を通過する流体の流量を調節するよう調整できる可変弁オリフィスを備えてよい。様々な実施形態では、各供給ラインの可変弁オリフィスは、流体の流量を検知するよう構成される固定したオリフィス圧力差センサを備える、閉ループ構成の一部であってよい。様々な実施形態では、圧力差センサは、可変弁オリフィスに対して上流に、かつ循環ポンプに対して下流に配置できる。少なくとも１つの実施形態では、機器再処理装置は更に、循環ポンプを出る流体のゲージ圧を検知するためのゲージ圧センサと、目標とした圧力に対して流体の圧力調節するよう構成できる圧力制御システムと、を備えてよい。少なくとも１つのこのような実施形態では、差圧センサは、ゲージ圧センサ及び圧力制御システムに対して下流に配置できる。

上述のように、内視鏡再処理装置１００の流体循環システムは、内視鏡を通る流体を循環させるよう、及び／又は、内視鏡の外側表面上に流体を噴霧するよう構成できる。様々な実施形態では、ここで図８を参照すると、内視鏡再処理装置１００は、１種以上の流体を流体循環システムに分配するよう構成できる流体分配システム２００を備えてよい。様々な実施形態では、ここで図１２〜１６を参照すると、流体分配システム２００は、それぞれが、例えば異なる流体を流体循環システムに分配するよう構成でき、例えば流体分配サブシステム２００ａ及び２００ｂなどの２種類以上の別の流体分配サブシステムを備えてよい。様々な実施形態では、ここで図１６を参照すると、内視鏡再処理装置１００は、例えば、滅菌剤容器２０１ａ及び／又は洗剤容器２０１ｂなどの１つ以上の流体容器を内部に収容するよう構成できる保存区域を備えてよく、このとき内視鏡再処理装置１００は更に、それぞれが流体容器の１つと封止係合できる１つ以上の流体コネクタを備えてよい。特定の実施形態では、内視鏡再処理装置１００は更に、流体容器上のＲＦＩＤタグ及び／又はバーコードを読み取り、例えば１つには、正しい流体が使用されているか、２つには、特定の有効期限までに流体が使用されているかを確実にするよう構成できる、ＲＦＩＤリーダー及び／又はバーコードリーダーを備えることができる。いずれにしても、流体コネクタが流体容器に結合されると、以下に更に詳述するように、流体分配システム２００は、流体を流体容器から吸引し、循環システム内に分配するよう構成できる。

様々な実施形態では、上記に加え、流体サブシステム２００ａは、供給ポンプ２１０と、リザーバー２２０と、分配ポンプ２３０と、を備えてよい。特定の実施形態では、供給ポンプ２１０は、流体容器及び／又は任意のその他好適な流体源と流体連通する入口２１１を備えてよい。少なくとも１つの実施形態では、供給ポンプ２１０は容積型ポンプを備えてよく、少なくとも１つのこのような実施形態では、ピストンのストローク１回当たり一定量の容積、つまり流体を置き換えるよう構成されるピストンを備えることができる。より具体的には、主に図１４を参照すると、供給ポンプ２１０は、シリンダー２１３内を、第１の、つまり下死点（ＢＤＣ）位置と、第２の、つまり上死点（ＴＤＣ）位置との間を移動、つまり往復運動し、流体をシリンダー２１３内に引き込み、シリンダー出口２１４を通して流体を押し出すよう構成できるピストン２１２を備えることができる。特定の実施形態では、供給ポンプ２１０は更に、ピストン２１２がＴＤＣ位置に達すると、ピストン２１２によって接触され、弁要素を開いて、ポンプ出口２１４を通って流体の流出を可能にできるバルブリフター２１５を備えることができる。ピストン２１２がＢＤＣ位置に戻ると、例えばバルブリフター２１５の後方に配置される弁バネが、弁要素及びバルブリフター２１５を着座位置まで戻すように構成でき、着座位置では出口２１４は、次のストロークの間、弁要素及びバルブリフター２１５がピストン２１２によって再度持ち上げられるまで密閉的に閉じられる。以下に詳述するように、供給ポンプ２１０の出口２１４は、リザーバー２２０と流体連通し、供給ポンプ２１０によって加圧された流体が、リザーバー２２０内に画定される内部空洞部２２１内に放出するようにできる。

様々な実施形態では、リザーバー２２０は、底部２２２と、ハウジング２２３と、上部２２４と、を備えてよく、少なくとも１つの実施形態では、供給ポンプ２１０の出口２１４は、例えば底部２２２のポート２２８を通ってリザーバー２２０の内部空洞部２２１と流体連通できる。その他様々な実施形態では、供給ポンプ２１０は、例えばハウジング２２３及び／又は上部２２４中のポートを通ってリザーバー空洞部２１１と流体連通できる。いずれにしても、底部２２２及び上部２２４は、ハウジング２２３と封止係合でき、少なくとも１つの実施形態では、底部２２２及び上部２２４を、例えば、スナップ嵌め及び／又はプレス嵌め構成でハウジング２２３に嵌合されるよう構成できる。様々な実施形態では、底部２２２及び上部２２４は、例えばリザーバー２２０内に含まれる流体によって劣化されることのない、プラスチック材料で構成できる。特定の実施形態では、リザーバー２２０は、底部２２２とハウジング２２３の中間に配置してよい、例えばＯリング２２９などの封止部材、及び、ハウジング２２３と上部２２４との中間に配置される、例えばＯリング２２９などの封止部材を更に備えることができ、リザーバー２２０から流体が漏れ出るのを防ぐことができる。様々な実施形態では、ハウジング２２３は、例えばガラスなどの任意の好適な材料で構成されることができる。少なくとも１つの実施形態では、ハウジング２２３は、リザーバー２２０内に含まれる流体によって劣化されることのない、例えばボロシリケートで構成できる。

上述のように、供給ポンプ２１０は、供給ポンプピストン２１２の各ストロークにつき、一定量の流体を内部リザーバー空洞部２２１に供給するよう構成できる。使用する際、供給ポンプ２１０は、好適な回数、又は周期で操作して、内部空洞部２２１を充填、及び／又は、内部空洞部２２１内の所定のレベル、つまり高さを超えて内部空洞部２２１を充填することができる。特定の実施形態では、リザーバー２２０は、リザーバー２２０が過充填された場合には、流体を抜いて例えば流体源に戻すよう構成できるオーバーフローライン２２７を備えることができる。様々な実施形態では、図１４を再度参照すると、内部空洞部２２１は、底面２２５、上面２２６、及び底面２２５と上面２２６との間に画定される高さを有することができる。少なくとも１つのこのような実施形態では、内部空洞部２２１は円筒形であってよく、その高さに沿って一定の周長を有してよいが、別の実施形態では、内部空洞部２２１は任意の好適な形状を有してよい。様々な実施形態では、上記の結果、供給ポンプ２１０の各周期によって、内部リザーバー空洞部２２１内の流体の高さを、特定の又は固定の程度まで上げることができる。少なくとも１つの実施形態では、リザーバー２２０中の流体量は、例えば分配ポンプ２３０が操作されたストローク回数と同じ回数、供給ポンプ２１０を操作することによって維持できる。特定の実施形態では、リザーバー２１０は、以下に詳述するように、リザーバー空洞部２２１内の流体の高さ、及び／又はリザーバー空洞部２２１内の流体の高さの変化を検出するよう構成できる、例えばレベルセンサ２４０などのセンサを備えてよい。

様々な実施形態では、上記に加え、レベルセンサ２４０はアナログセンサを備えてよく、リザーバーハウジング２２３に取り付けできる。少なくとも１つの実施形態では、ハウジング２２３はガラスで構成されることができ、レベルセンサ２４０を、例えば少なくとも１種の接着剤を用いてガラスに接着してよい。少なくとも１つのこのような実施形態では、レベルセンサは、リザーバー空洞部２２１の底面２２５に、又はそれに隣接して配置される第１末端部２４１、及びリザーバー空洞部２２１の上面２２６に、又はそれに隣接して配置される第２末端部２４２を有することができ、例えば線形静電容量型センサなどの静電容量型センサを備えることができる。このような実施形態では、レベルセンサ２４０は、内部空洞部２１１が空のとき、又は少なくとも実質的に空のときに第１の、つまり低い電圧を、内部空洞部２１１が満杯のとき、又は少なくとも実質的に満杯のときに第２の、つまり高い電圧を発生するよう構成できる。加えて、レベルセンサ２４０は、リザーバー空洞部２１１内の流体量に応じて、低電圧と高電圧との間の範囲の電圧を発生するよう構成できる。より詳細には、様々な実施形態では、レベルセンサ２４０によって発生された電圧は、リザーバー空洞部２２１内の流体高さの関数であることができるため、流体高さが上昇すると電圧が上昇できる。少なくとも１つのこのような実施形態では、電圧は、例えば流体高さに線形比例することができ、少なくとも１つの実施形態では、低電圧とは約０ボルトであってよく、高電圧とは例えば約５ボルトであってよい。

様々な実施形態では、流体分配サブシステム２００ａは更に、リザーバー２１０の内部空洞部２１１と流体連通し、リザーバー空洞部２１１から流体を吸引して流体を流体循環システムに分配するよう構成できる分配ポンプ２３０、及び／又は、内視鏡再処理装置１００の流体循環システム内部の混合チャンバーを備えてよい。少なくとも１つの実施形態では、分配ポンプ２３０への入口は、リザーバー２２０の底部２２２中のポート２３８を通って、内部チャンバー２２１の底面２２５と流体連通することができる。特定の実施形態では、分配ポンプ２３０は、ストローク１回当たりに一定量の流体を置き換えるよう構成できる容積型ポンプを含んでよい。容積型ポンプは、供給ポンプ２１０に関連して詳細に記載されており、簡潔にする目的で、本明細書ではそのような記述を繰り返さない。いくつかの実施形態では、供給ポンプ２１０及び分配ポンプ２３０は、同一、又は少なくともほぼ同一であってよい。少なくとも１つの実施形態では、分配ポンプ２３０は、供給ポンプ２１０のように、ストローク１回当たり同量の、又は少なくとも実質的に同量の流体を置き換えるよう構成できる。

使用する際、供給ポンプ２１０を操作して、チャンバー２２１内の所定の高さに液面が達する、又は超えるまで、リザーバー２２０の内部チャンバー２２１を充填できる。様々な実施形態では、流体分配サブシステム２００ａは、供給ポンプ２１０、分配ポンプ２３０、及び／若しくはレベルセンサ２４０と電気通信、並びに／又は信号通信できる、例えばＰＣＢアセンブリ２５０などのコンピュータ、若しくはマイクロプロセッサを備えてよい。少なくとも１つのこのような実施形態では、ＰＣＢアセンブリ２５０は、レベルセンサ２４０によって発生された電位を検出し、電位に応じてリザーバー２２０内の流体高さを算出するよう構成できる。リザーバー２２０内の液面が所定の高さに満たないと、ＰＣＢアセンブリ２５０が算出する場合には、ＰＣＢアセンブリ２５０は、所定の高さに液面が達する、又は超えるまで、流体供給ポンプ２１０を操作できる。少なくとも１つの実施形態では、リザーバー２２０中の液面が所定の高さを下回るとき、ＰＣＢアセンブリ２５０は分配ポンプ２３０を操作しない場合がある。リザーバー２２０内の液面が所定の高さにある、又はそれを超えると、ＰＣＢアセンブリ２５０が算出する場合には、ＰＣＢアセンブリ２５０は、必要に応じて分配ポンプ２３０を操作して、流体循環システムに流体を供給できる。特定の実施形態では、ＰＣＢアセンブリ２５０は、分配ポンプ２３０の操作より前に供給ポンプ２１０を操作するよう構成でき、分配ポンプ２３０が操作される前に、リザーバー２２０内に十分な流体供給があるようにできる。少なくとも１つの実施形態では、ＰＣＢアセンブリ２５０は、リザーバー２２０内の流体供給を再充填するために、分配ポンプ２３０の操作後に供給ポンプ２１０を操作するように構成できる。様々な実施形態では、ＰＣＢアセンブリ２５０は、分配ポンプ２３０及び供給ポンプ２１０を同時に操作するよう構成でき、分配ポンプ２３０によって分配されているときに、リザーバー２２０内の流体を再充填できるようにしてよい。

上で概説したように、供給ポンプ２１０は容積型ポンプを備えることができ、このような実施形態では、ＰＣＢアセンブリ２５０は、供給ポンプ２１０が、ポンプピストン２１２のストローク１回当たりに、正しい量の流体をリザーバー２２０に送達しているかどうかを監視するよう構成できる。より具体的には、供給ポンプ２１０の一定の容積移送に関する情報をＰＣＢアセンブリ２５０にプログラムし、ＰＣＢアセンブリ２５０が、液面センサ２４０で測定するとき、供給ポンプ２１０のストローク１回当たりのリザーバー２２０内の流体容積の増加が、供給ポンプ２１０の容積移送に一致するかどうかを評価できるようにする。液面センサ２４０で測定するとき、供給ポンプ２１０のストローク１回当たりのリザーバー２２０の流体の増加が、供給ポンプ２１０の一定の容積移送に等しい、又は少なくとも十分に等しい場合には、ＰＣＢアセンブリ２５０は、内視鏡再処理装置１００の操作者に、供給ポンプ２１０に流体源から十分に流体が供給されているという信号を送ってよい。液面センサ２４０で測定するとき、供給ポンプ２１０のストローク１回当たりのリザーバー２２０の流体の増加が、供給ポンプ２１０の一定容積移送に等しくない、又は少なくとも十分に等しくない場合には、ＰＣＢアセンブリ２５０は、内視鏡再処理装置１００の操作者に、供給ポンプ２１０に流体源から十分に流体が供給されていないという信号、及び、例えば流体源が空である恐れがあるため、流体源を調べる必要があるかもしれないという信号を送ることができる。様々な場合において、流体源を調べることは、流体源を交換すること、又は再充填することを含んでよい。様々な実施形態では、リザーバー２２０には、必要に応じて操作者が流体供給部を調べている間に、内視鏡再処理装置１００に供給するのに十分であり得る量の流体が内部に入っている。以前の内視鏡再処理装置では、流体循環システムが流体供給部から直接流体を吸引していたため、内視鏡再処理装置は、運転サイクルが既に開始され、流体がないことによって運転サイクルが中断されるまで、流体源が空になっていることを識別できなかった。

様々な実施形態では、上記に加え、内視鏡再処理装置１００は、それぞれが内視鏡を内部で洗浄、消毒、及び／又は滅菌できるように構成できる、例えば２つの水槽１１０を備えてよい。特定の実施形態では、図１６を再度参照すると、内視鏡再処理装置１００は、流体を各水槽１１０に供給する、例えば循環システム２９０ａ及び２９０ｂなどの別個の流体循環システムを備えてよい。このような実施形態では、流体分配サブシステム２００ａは、流体源２０１ａから流体循環システム２９０ａ、２９０ｂの両方に流体を供給するよう構成でき、同様に、流体分配サブシステム２００ｂは、流体源２０１ｂから流体循環システム２９０ａ、２９０ｂの両方に流体を供給するよう構成できる。少なくとも１つのこのような実施形態では、内視鏡再処理装置１００は、１つには、流体分配サブシステム２００ａの分配ポンプ２３０と流体連通でき、２つには、流体循環システム２９０ａ、２９０ｂと選択的に流体連通できる弁２８０ａを備えることができ、流体が、流体源２０１ａから選択的に流体循環システム２９０ａ、２９０ｂに供給できる。同様に、内視鏡再処理装置１００は、１つには、流体分配サブシステム２００ｂの分配ポンプ２３０と流体連通でき、２つには、流体循環システム２９０ａ、２９０ｂと選択的に流体連通できる弁２８０ｂを備えることができ、流体が、流体源２０１ｂから選択的に流体循環システム２９０ａ、２９０ｂに供給できる。流体循環システムの運転サイクルを実施する前に、特定の実施形態では、流体循環システムは、流体分配サブシステム２００ａから、ある量の、例えば洗剤及び／又は滅菌剤などの流体を必要としてよい。このような実施形態では、上記に加え、ＰＣＢアセンブリ２５０をプログラムして、サブシステム２００ａのリザーバー２２０内にある量の流体を維持し、流体を流体循環システム２９０ａ、２９０ｂに供給する必要があるとき、供給ポンプ２１０を操作しなくても流体が利用できるようにすることができる。様々な場合において、流体循環システムによってリザーバー２２０から必要とされる流体量は、分配ポンプ２３０のストローク１回で供給できる流体量より多い場合があるため、分配ポンプ２３０の複数回のストロークが必要とされてもよい。いずれにしても、機器再処理装置１００の運転サイクルに先立って流体循環システムが必要とする特定の流体量は、ＰＣＢアセンブリ２５０をプログラムしてリザーバー２２０内に維持できる流体の最小量に等しくてよい。特定の実施形態では、ＰＣＢアセンブリ２５０をプログラムして、リザーバー２２０内に十分な流体を維持し、両方の流体循環システムに特定の流体を供給し、対応する供給ポンプ２１０による再充填の必要なしに、運転サイクルを開始できる。当然ながら、上記に加え、両方の流体循環システムに十分な量の流体を充填した後に、供給ポンプ２１０を操作して、リザーバー２２０を再充填することができるであろう。上記を考慮すれば、様々な実施形態では、リザーバー２２０は、その内部に含まれる十分な流体を有し、対応する供給ポンプ２１０を作動してリザーバー２２０を再充填する前に、流体循環システムのうち少なくとも１つの運転サイクルに供給でき、例えば流体供給部が空であるために、供給ポンプ２１０がリザーバー２２０を再充填できない場合には、流体循環システムの次の運転サイクルの前に、内視鏡再処理装置１００の操作者に流体供給部を交換する機会を与える。

上記に加え、分配ポンプ２３０は容積型ポンプを備えてよく、このような実施形態では、ＰＣＢアセンブリ２５０は、分配ポンプ２３０が、ストローク１回当たりにリザーバー２２０から正しい量の流体を吸引しているかどうかを監視できる。より具体的には、分配ポンプ２３０の一定の容積移送に関する情報をＰＣＢアセンブリ２５０にプログラムし、ＰＣＢアセンブリ２５０が、液面センサ２４０で測定するとき、分配ポンプ２３０のストローク１回当たりのリザーバー２２０内の流体量の減少が、分配ポンプ２３０の一定の容積移送に一致するかどうかを評価できるようにする。液面センサ２４０で測定するとき、分配ポンプ２１０のストローク１回当たりのリザーバー２２０の流体の減少が、分配ポンプ２３０の一定の容積移送に等しい、又は少なくとも十分に等しい場合には、ＰＣＢアセンブリ２５０は、内視鏡再処理装置１００の操作者に、分配ポンプ２３０にリザーバー２２０から十分に流体が供給されているという信号を送ってよい。液面センサ２４０で測定するとき、分配ポンプ２３０のストローク１回当たりのリザーバー２２０の流体の減少が、分配ポンプ２３０の容積移送に等しくない、又は少なくとも十分に等しくない場合には、ＰＣＢアセンブリ２５０は、内視鏡再処理装置１００の操作者に、分配ポンプ２３０に十分に流体が供給されていないという信号、並びに、流体分配サブシステムにある程度の検査及び／又は保守が必要とされてもよいという信号を送ってよい。

様々な実施形態に関して上述したように、各流体分配サブシステム２００ａ、２００ｂは、流体供給ポンプ２１０と、別の流体分配ポンプ２３０と、を備えてよい。これも上述のように、様々な実施形態では、流体供給ポンプ２１０及び流体分配ポンプ２３０を互いに個別に操作して、それぞれリザーバー２２０に流体を供給する、及びリザーバー２２０から流体を分配してよい。特定の別の実施形態では、単一のポンプ装置は、１つには、流体供給部からリザーバー２２０内へ流体をポンプで送り、２つには、リザーバー２２０から流体循環システムへ流体をポンプで送るよう構成できる。少なくとも１つのこのような実施形態では、ポンプ装置は、第１シリンダー内に配置される第１ピストンヘッド、及び第２シリンダー内に配置される第２ピストンヘッドを有するピストンを備えることができ、このピストンは、直線的に往復運動して、それぞれ第１及び第２シリンダー内の第１及び第２ピストンヘッドを動かすことができる。様々な実施形態では、第１シリンダーは流体源及びリザーバーと流体連通し、一方第２シリンダーはリザーバー及び流体循環システムと流体連通し、第１シリンダー内を移動する第１ピストンヘッドが流体源からリザーバー内へ流体をポンプで送り、第２シリンダー内を移動する第２ピストンヘッドがリザーバーから流体循環システム内へ流体をポンプで送るようにできる。様々な実施形態では、第１ピストンヘッド及び第１シリンダーの構成は、第１容積型ポンプを備えてよく、第２ピストンヘッド及び第２シリンダーの構成は、第２容積型ポンプを備えてよい。特定の実施形態では、ポンプ装置は、例えば第１シリンダー及び／又は第２シリンダー内への流体の流れを制御又は制限するよう構成できる、弁制御システムを備えてよい。少なくとも１つのこのような実施形態では、弁制御システムは、流体が、第１シリンダーからリザーバー内へポンプで送られている間、弁要素を閉じて、第２シリンダー内への流体の流入を防止するよう構成できる。同様に、弁制御システムは、流体が、第２シリンダーからリザーバー内へポンプで送られている間、弁要素を閉じて、第１シリンダー内への流体の流入を防止するよう構成できる。このような実施形態では、第１及び第２ピストンヘッドは、対応する第１及び第２シリンダー内で往復運動できるが、シリンダーを通る流体の流れは、上記のように防止される場合がある。様々な別の実施形態では、ポンプには、流体源と流体連通する第１開口部、リザーバーと流体連通する第２開口部、及び流体循環システムと流体連通する第３開口部を有する回転ポンプを含んでよい。少なくとも１つのこのような実施形態では、弁制御システムは、流体をリザーバー内にポンプ送りするとき第３開口部が閉じられ、又は塞がれ、あるいは、流体をリザーバーからポンプ送りするとき第１開口部が塞がれるよう構成できる。特定の実施形態では、弁制御システムは、例えばシャトル弁及び／又はスプール弁のうち１つ以上の任意の好適な構成を備えることができる。様々な実施形態では、三方弁を備える任意の好適な容積型ポンプを利用して、流体源からリザーバー２２０内へ、次にリザーバー２２０から流体循環システム内へ流体をポンプで送ることができるであろう。

上述のように、再度図１６を参照すると、内視鏡再処理装置１００は、１つ以上の流体循環システムに流体を供給するよう構成できる、流体分配システム２００を備えることができる。これも上述のように、流体分配システム２００は、例えば第１サブシステム２００ａ及び第２サブシステム２００ｂなどの、２つ以上の流体分配サブシステムを備えてよい。様々な実施形態では、第２サブシステム２００ｂは、第１サブシステム２００ａと同一又は少なくとも実質的に同一であってよく、そのため、第２サブシステム２００ｂの構造及び操作については、簡潔にする目的で、本明細書で繰り返さない。少なくとも１つの実施形態では、第１サブシステム２００ａは、例えば流体循環システム２９０ａ及び２９０ｂなどの１つ以上の流体循環システムに、第１流体を分配するよう構成でき、第２サブシステム２００ｂは、例えば流体循環システム２９０ａ、２９０ｂに第２流体を分配するよう構成できる。少なくとも１つのこのような実施形態では、第１流体分配サブシステム２００ａは、例えば洗剤を流体循環システムに分配するよう構成でき、一方第２流体分配サブシステム２００ｂは、例えば過酢酸などの滅菌剤を流体循環システムに分配するよう構成できる。これも上述のように、流体分配システム２００ａ及び２００ｂは、異なった時間に操作され、運転サイクル中の異なった時間に、対応する流体を流体循環システムに供給してよい。様々な別の場合では、流体サブシステム２００ａ及び２００ｂは、同じ時間に操作され、同じ流体循環システムに異なる流体を供給してよく、及び／又は、同じ時間に操作され、例えば異なる流体循環システムに異なる流体を供給してよい。

上記に加え、第１流体循環システム２９０ａは、第１チャネルフローサブシステム１６０と、第１循環システム２９０ａを通って流体を循環させるための第１ポンプ１６２と、を備えてよく、一方第２流体循環システム２９０ｂは、第２チャネルフローサブシステム１６０と、第２循環システム２９０ｂを通って流体を循環させるための第２ポンプ１６０と、を備えてよい。様々な別の実施形態では、機器再処理装置は、任意の好適な数の流体循環システムを備えてよいが、任意の１つの流体循環システムについて、そのチャネルフローサブシステム１６０は、流体循環システムの初期設定、つまり起動手順を制御するよう構成できる。より具体的には、機器が水槽１１０内に定置され、蓋１３０が閉じられた後に、操作者は運転サイクルを初期設定して機器を洗浄でき、かかる時点において、チャネルフローサブシステム１６０は、ポンプ１６２からの再処理流体の初期流入を制御するよう構成できる。様々な実施形態では、例えば内視鏡などの機器は、例えば異なる長さ、直径、及び／又は形状を有する場合があり、チャネルに例えば異なる全般流動抵抗、つまり制限をもたらす可能性がある、貫通して延びている複数のチャネル、つまり管腔を備えることができる。ポンプ１６２が、比例弁１７４のすべてが開いた状態及び／又は同じ条件で初期設定される場合には、ポンプ１６２から流れる流体は、例えば、高い流動抵抗を有する内視鏡チャネルが充填される及び／又は加圧される前に、低い流動抵抗を有する内視鏡のチャネルが充填される及び／又は加圧される傾向があるだろう。様々な場合において、このような状況は一時的であり、最終的には流体循環システムの望ましい操作条件、つまり定常状態の操作条件に達するであろう。場合によっては、この起動手順は全体的に適している。しかしながら別の場合では、異なる起動手順が望ましい場合がある。

様々な実施形態では、上記に加え、チャネルフローサブシステム１６０は、初期設定手順中に弁１７４を異なる条件に手配できる、例えばコンピュータ及び／又はマイクロプロセッサを備えることができる。少なくとも１つの実施形態では、サブシステムコンピュータは、弁１７４を操作して、例えば内視鏡チャネルの異なる流動抵抗、つまり制限を打ち消すことができる。例えば、流動抵抗が高い内視鏡チャネルを通る流体の流れを制御する弁１７４では、サブシステムコンピュータは、かかる弁１７４を完全開いた状態にでき、一方で、流動抵抗が低い内視鏡チャネルを通る流体の流れを制御する弁１７４では、サブシステムコンピュータは、かかる弁１７４を部分的に閉じた状態にできる。このような実施形態では、ポンプ１６２からの流体の流れは、すべての内視鏡チャネルを同時に、又は少なくとも実質的に同時に充填及び／又は加圧する傾向がある可能性がある。特定の場合では、加圧流体によってチャネルを充填する一時的状態が短くなる場合があり、定常状態の操作条件、つまり望ましい操作条件により短い時間で到達できる。かかる実施形態は、機器再処理装置１００の洗浄周期の実施に必要な全時間を短縮できる。例えば８つの対応するチャネル供給ライン１６４を通る流体の流れを制御するために、８つの内視鏡チャネル及び８つの流量制御ユニット１７０を有する実施形態では、これらの８つの比例弁１７４はすべて、例えば開いている、閉じている、部分的に開いている、及び／又は部分的に閉じているといった異なる条件及び／又は同じ条件で定置されてよい。

本明細書に記載される様々な実施形態では、流れサブシステムコンピュータは、初期設定、つまり起動手順中に、流量制御ユニット１７０の弁１７４を制御するための１つ以上の基準、又はパラメーターを利用できる。上記に加え、第１制御ユニット１７０の第１比例弁１７４は、特定のパラメーターの第１値によって定義される、第１内視鏡チャネルを通る流体の流れを制御するよう構成でき、第２制御ユニット１７０の第２比例弁１７４は、特定のパラメーターの第２値によって定義される、第２内視鏡チャネルを通る流体の流れを制御するよう構成でき、第３制御ユニット１７０の第３比例弁１７４は、特定のパラメーターの第３値によって定義される、第３内視鏡チャネルを通る流体の流れを制御するよう構成できる。様々な実施形態では、第１、第２、及び第３チャネルを通る流体の流れを制御するために、パラメーターの第１値は、パラメーターの第２値より大きくてよく、第２値は、パラメーターの第３値より大きくてよく、このとき第１弁１７４は、第１解放状態に調節でき、第２弁１７４は、パラメーターの第１値と第２値との間の違いに基づいて第２解放状態に調節でき、第３弁１７４は、パラメーターの第１値と第３値との間の違いに基づいて第３解放状態に調節できる。少なくとも１つのこのような実施形態では、第１、第２、及び第３弁１７４のそれぞれ第１解放状態、第２解放状態、及び第３解放状態は、流体循環システムの初期設定、つまり起動手順中に、第１、第２、及び第３内視鏡チャネルを通る流体の流れが、第１、第２、及び第３内視鏡チャネル全体に均一に、又は少なくとも実質的に均一に分布されるように選択できる。少なくとも１つの実施形態では、弁１７４の第１、第２、及び第３解放状態は、内視鏡チャネルを流体で充填するとき、内視鏡チャネルを通る体積流量が、互いに等しい、又は少なくとも実質的に等しくなるように選択できる。かかる実施形態では、内視鏡チャネルを通る流体流量は初期設定手順中に増加でき、このとき各流体の流れは、別の流体の流れと同時に増加できる。少なくとも１つの実施形態では、弁１７４の第１、第２、及び第３解放状態は、内視鏡チャネルを流体で充填するとき、内視鏡チャネルを通って流れる流体のゲージ圧が、互いに等しい、又は少なくとも実質的に等しくなるように選択できる。かかる実施形態では、内視鏡チャネルを通って流れる流体の圧力は初期設定手順中に増加でき、このとき各流体の流れの圧力は、別の流体の流れの圧力と同時に増加できる。

少なくとも１つの実施形態では、上記に加え、比例弁１７４の開いた状態を選択するためのパラメーターは、機器チャネルの流動抵抗値を含むことができる。様々な場合において、機器チャネルの流動抵抗値は、多くの変数の影響を受ける可能性があるが、機器チャネルの流動抵抗値は、チャネルの長さ、チャネルの直径、及びチャネル経路内の湾曲、又は屈曲によって大部分は特定できる。長さがより長く、直径がより小さく、及び／又はチャネル経路内に湾曲がより多い機器チャネルは、長さがより短く、直径がより大きく、及び／又はチャネル経路内に湾曲がより少ない機器チャネルよりも、一般的により高い流動抵抗値を有するであろう。いずれにしても、医療機器のうち一番高い流動抵抗値を有する機器チャネルを、ベースラインとして選択でき、そこから別の機器チャネルを通る流体の流れを調整できる。少なくとも１つの実施形態では、第１機器チャネルは最大の流体流動抵抗を有することができ、第１比例弁１７４を例えば完全開いた状態に設定できる。様々な実施形態では、第１流動抵抗値と第２流動抵抗値との間の差に基づいて、第２比例弁１７４をある程度閉じることができる。同様に、第１流動抵抗値と第３流動抵抗値との間の差に基づいて、第３比例弁１７４をある程度閉じることができる。様々な場合において、機器チャネルの流動抵抗値と第１流動抵抗値、つまりベースラインである流動抵抗値との間の差が大きいと、対応する比例弁１７４が閉じられる程度が大きくなる。

いずれにしても、上記に加え、流体循環システムの定常状態の操作条件、つまり望ましい操作条件に達すると、サブシステムコンピュータは、流量制御ユニット１７０が、上記のように、内視鏡チャネル供給ライン１６４を通る流体の流れを独立的に制御及び管理することを可能にできる。様々な場合において、本明細書に記載の装置及び方法は、異なる流動抵抗を有するチャネルを含む内視鏡、及び／又は任意のその他好適な機器を洗浄、消毒、及び／又は滅菌するために、再処理流体を十分に供給するように設計することができる。上記に加え、これらの装置及び方法は、各チャネルを個別に通る流体の流れを制御することによって、チャネルに再処理流体を十分に供給するよう構成できる。

様々な場合においても、ポンプ１６２は、運転サイクルの初期設定の間、及び運転サイクルを通して、すべての再処理装置供給ライン１６４及びこれらと連結される内視鏡チャネルに、再処理流体を十分に供給するための十分な出力を有することができる。上記に加え、流量制御ユニット１７０は、供給される流体を管理するよう構成でき、各再処理装置供給ライン１６４の中を通る流量が、最小目標流量に合致する、又は超える、つまり流体が不足していないようにできる。１つ以上の再処理装置供給ライン１６４を通る流体の流れが最小目標流量を下回り、ポンプ１６２が最大能力で操作されていない場合には、ポンプ１６２の出力を上げることができる。場合によっては、ポンプ１６２が再処理装置供給ライン１６４及びこれらと連結される内視鏡チャネルの需要に応ずるために、ポンプ１６２を出る再処理流体のゲージ圧は、少なくとも一時的に、例えば２４１ｋＰａ（３５ｐｓｉｇ）などの目標ゲージ圧を超えて上げることができる。１つ以上の再処理装置供給ライン１６４を通る流体の流れが最小目標流量を下回り、ポンプ１６２が最大又はほぼ最大能力で操作されている場合には、少なくとも１つのブースターポンプを操作して、マニホールド１６６及び再処理装置供給ライン１６４に入る再処理流体の流量及び／又は圧力を上げることができであろう。様々な実施形態では、少なくとも１つのブースターポンプは、例えばポンプ１６２と直列に、及び／又は、ポンプ１６２と並列にあってよく、少なくとも１つのブースターポンプを選択的に操作して、ポンプ１６２を補佐できるであろう。

本明細書に記載される様々な実施形態では、チャネルフローサブシステム１６０の各再処理装置供給ライン１６４は、可変オリフィスを制御するよう構成される比例弁１７４を備えることができる。様々な別の実施形態では、少なくとも１つの再処理装置供給ライン１６４は、固定オリフィス又は固定オリフィス弁を備えてよい。少なくとも１つの実施形態では、固定オリフィス弁は、開いた状態又は閉じた状態のいずれかで配置できる場合がある。少なくとも１つのこのような実施形態では、固定オリフィス弁を有する再処理装置供給ライン１６４は、例えば流体の流動抵抗が一番高い内視鏡チャネルに結合でき、このときこのような内視鏡チャネルを通る流体流量は、ポンプ１６２によって供給される再処理流体のゲージ圧の関数であってよい。様々な実施形態では、例えば比例弁１７４によって制御される可変オリフィスを有する再処理装置供給ライン１６４は、例えば固定オリフィス弁が開いた状態のときの、固定オリフィス弁を有する再処理装置供給ライン１６４に関して調節することができる。

参照により本明細書に組み込まれるといわれる任意の特許、出版物、又は他の公開資料は、全体又は一部において、組み込まれた資料が既存の定義、表現、又はこの開示に示された他の公開資料と矛盾しない範囲内で本明細書に組み込まれる。このように及び必要な範囲で、本明細書に明瞭に記載されている開示は、参照により本明細書に組み込んだ任意の矛盾する事物に取って代わるものとする。本明細書に参照により組み込むと称されているが現行の定義、記載、又は本明細書に記載されている他の開示物と矛盾するいずれの事物、又はそれらの部分は、組み込まれた事物と現行の開示事物との間に矛盾が生じない範囲でのみ組み込まれるものとする。

以上、本発明を例示的な構成を有するものとして説明したが、本発明は本開示の趣旨及び範囲内で更に改変することができる。したがって、本出願はその一般的原理を利用した本発明のあらゆる変形、使用又は適応を網羅するものとする。更に、本出願は、本発明が関連する技術分野における公知の、又は従来の実施に含まれるところの本開示からの発展形を網羅するものとする。

〔実施の態様〕
（１） 少なくとも第１及び第２チャネルを有する機器を通る再処理流体の流れを制御する方法であって、
再処理流体源と流体連通するポンプを操作する工程と、
第１弁と、第１圧力差センサと、を備える第１流体回路を通して前記再処理流体を流す工程であって、前記第１流体回路が前記ポンプ及び前記第１チャネルと流体連通する、工程と、
前記第１圧力差センサを利用して、前記第１弁内に流れる前記再処理流体中の第１圧力差を検出する工程と、
前記第１弁を調節して、前記第１圧力差センサからの出力を利用して前記第１チャネルを通る前記再処理流体の第１流量を制御する工程と、
第２弁と、第２圧力差センサと、を備える第２流体回路を通して前記再処理流体を流す工程であって、前記第２流体回路が前記ポンプ及び前記第２チャネルと流体連通する、工程と、
前記第２圧力差センサを利用して、前記第２弁内に流れる前記再処理流体中の第２圧力差を検出する工程と、
前記第２弁を調節して、前記第２圧力差センサからの出力を利用して前記第２チャネルを通る前記再処理流体の第２流量を制御する工程と、を含み、
前記第１弁の調節工程が、第１可変弁オリフィスを調節する工程を含み、前記第２弁の調節工程が、第２可変弁オリフィスを調節する工程を含む、方法。
（２） 実施態様１に記載の方法であって、
前記第１流体回路内の前記再処理流体の第１ゲージ圧を測定する工程と、
前記第１ゲージ圧を第１最大圧と比較する工程と、
前記第１ゲージ圧が前記第１最大圧を超える場合に、前記第１弁を閉じて前記第１流体回路を通る流体の流れを止める工程と、を更に含む、方法。
（３） 実施態様１に記載の方法であって、
第１流量を第１目標流量と比較する工程と、
第１流量が前記第１目標流量を上回る場合に前記第１弁を少なくとも部分的に閉じる、又は、第１流量が前記第１目標流量を下回る場合に前記第１弁を少なくとも部分的に開ける工程と、
第２流量を第２目標流量と比較する工程と、
第２流量が前記第２目標流量を上回る場合に前記第２弁を少なくとも部分的に閉じる、又は、第２流量が前記第２目標流量を下回る場合に前記第２弁を少なくとも部分的に開ける工程と、を更に含む、方法。
（４） 医療機器の洗浄用の機器再処理装置であって、前記医療機器が流路を備え、前記機器再処理装置が、
前記医療機器を収容するよう構成される、チャンバーと、
前記流路と流体連結するよう構成される、供給コネクタと、
再処理流体を加圧し、前記再処理流体を前記供給コネクタに供給するよう構成されるポンプであって、入口及び出口を備える、ポンプと、
前記ポンプ出口から流出する前記再処理流体のゲージ圧を検知するよう配置される、ゲージ圧センサと、
流量制御システムであって、
前記供給コネクタと流体連通する弁であって、前記流路を通る再処理流体の流量を制御するよう構成され、入口と出口とを備える、弁と、
固定オリフィスの両側において前記再処理流体の圧力低下を検知するよう構成される圧力差センサであって、前記ゲージ圧センサに対して下流に、かつ前記弁出口に対して上流に配置される、圧力差センサと、
前記圧力差センサと信号通信するプロセッサであって、前記圧力低下に基づいて前記流量を判断し、少なくとも部分的に閉じろ、及び少なくとも部分的に開けのうちの少なくとも１つの命令を前記弁に送るよう構成される、プロセッサと、を備える、流量制御システムと、を備える、機器再処理装置。
（５） チャネルを備える機器を通る再処理流体の流れを制御する方法であって、
再処理流体源と流体連通するポンプを操作する工程と、
前記ポンプから流出する前記再処理流体のゲージ圧を測定する工程と、
前記再処理流体の流れを調節し、前記再処理流体の前記ゲージ圧を調節して、前記ポンプから流出する前記再処理流体を実質的に一定の圧力に維持する工程と、
弁と、圧力差センサと、を備える流体回路を通して前記再処理流体を流す工程であって、前記流体回路が前記ポンプ及び前記チャネルと流体連通する、工程と、
前記圧力差センサを利用して、前記弁内に流れる前記再処理流体中の圧力差を検出する工程と、
前記弁を調節して、前記圧力差センサからの出力を利用して前記チャネルを通る前記再処理流体の流量を制御する工程と、を含み、
前記弁を調節する前記工程が、可変弁オリフィスを調節する工程を含む、方法。

（６） 実施態様５に記載の方法であって、前記チャネルを通る前記再処理流体の流量を算出する工程を更に含む、方法。
（７） 少なくとも第１チャネル及び第２チャネルを有する機器を通る再処理流体の流れを制御する方法であって、前記第１チャネルがパラメーターの第１値によって定義され、前記第２チャネルが前記パラメーターの第２値によって定義され、前記方法が、
再処理流体源と流体連通するポンプを初期設定して運転サイクルを開始する工程と、
第１弁を備える第１流体回路に前記再処理流体を供給する工程であって、前記第１流体回路が前記ポンプ及び前記第１チャネルと流体連通する、工程と、
第２弁を備える第２流体回路に前記再処理流体を供給する工程であって、前記第２流体回路が前記ポンプ及び前記第２チャネルと流体連通する、工程と、
前記第１チャネルを通る前記再処理流体の流れを制限するために前記第１弁を調節する工程であって、前記再処理流体の流れが制限される量が、前記パラメーターの前記第１値と前記パラメーターの前記第２値との間の関係に応じて変化し、それによって、前記ポンプが初期設定されると前記再処理流体が前記第１チャネル及び前記第２チャネルを通って流れる、工程と、を含み、
前記第１弁を調節する前記工程が、第１可変弁オリフィスを調節する工程を含み、前記第２弁を調節する前記工程が、第２可変弁オリフィスを調節する工程を含む、方法。
（８） 実施態様７に記載の方法であって、前記調節工程は、前記第１チャネルを通って流れる前記再処理流体の圧力が、前記第２チャネルを通って流れる前記再処理流体の圧力と同じになるように、前記第１チャネルを通る前記再処理流体の流れを制限する工程を含む、方法。
（９） 実施態様７に記載の方法であって、前記第２チャネルを通る前記再処理流体の流れを制限するために前記第２弁を調節する前記工程を更に含み、前記再処理流体の流れが制限される量が、前記パラメーターの前記第２値と前記パラメーターの目標値との間の関係に応じて変化する、方法。

Claims (9)

1. 少なくとも第１及び第２チャネルを有する機器を通る再処理流体の流れを制御する方法であって、
   再処理流体源と流体連通するポンプを操作する工程と、
   第１弁と、第１圧力差センサと、を備える第１流体回路を通して前記再処理流体を流す工程であって、前記第１流体回路が前記ポンプ及び前記第１チャネルと流体連通する、工程と、
   前記第１圧力差センサを利用して、前記第１弁内に流れる前記再処理流体中の第１圧力差を検出する工程と、
   前記第１弁を調節して、前記第１圧力差センサからの出力を利用して前記第１チャネルを通る前記再処理流体の第１流量を制御する工程と、
   第２弁と、第２圧力差センサと、を備える第２流体回路を通して前記再処理流体を流す工程であって、前記第２流体回路が前記ポンプ及び前記第２チャネルと流体連通する、工程と、
   前記第２圧力差センサを利用して、前記第２弁内に流れる前記再処理流体中の第２圧力差を検出する工程と、
   前記第２弁を調節して、前記第２圧力差センサからの出力を利用して前記第２チャネルを通る前記再処理流体の第２流量を制御する工程と、を含み、
   前記第１弁の調節工程が、第１可変弁オリフィスを調節する工程を含み、前記第２弁の調節工程が、第２可変弁オリフィスを調節する工程を含む、方法。
2. 請求項１に記載の方法であって、
   前記第１流体回路内の前記再処理流体の第１ゲージ圧を測定する工程と、
   前記第１ゲージ圧を第１最大圧と比較する工程と、
   前記第１ゲージ圧が前記第１最大圧を超える場合に、前記第１弁を閉じて前記第１流体回路を通る流体の流れを止める工程と、を更に含む、方法。
3. 請求項１に記載の方法であって、
   第１流量を第１目標流量と比較する工程と、
   第１流量が前記第１目標流量を上回る場合に前記第１弁を少なくとも部分的に閉じる、又は、第１流量が前記第１目標流量を下回る場合に前記第１弁を少なくとも部分的に開ける工程と、
   第２流量を第２目標流量と比較する工程と、
   第２流量が前記第２目標流量を上回る場合に前記第２弁を少なくとも部分的に閉じる、又は、第２流量が前記第２目標流量を下回る場合に前記第２弁を少なくとも部分的に開ける工程と、を更に含む、方法。
4. 医療機器の洗浄用の機器再処理装置であって、前記医療機器が流路を備え、前記機器再処理装置が、
   前記医療機器を収容するよう構成される、チャンバーと、
   前記流路と流体連結するよう構成される、供給コネクタと、
   再処理流体を加圧し、前記再処理流体を前記供給コネクタに供給するよう構成されるポンプであって、入口及び出口を備える、ポンプと、
   前記ポンプ出口から流出する前記再処理流体のゲージ圧を検知するよう配置される、ゲージ圧センサと、
   流量制御システムであって、
   前記供給コネクタと流体連通する弁であって、前記流路を通る再処理流体の流量を制御するよう構成され、入口と出口とを備える、弁と、
   固定オリフィスの両側において前記再処理流体の圧力低下を検知するよう構成される圧力差センサであって、前記ゲージ圧センサに対して下流に、かつ前記弁出口に対して上流に配置される、圧力差センサと、
   前記圧力差センサと信号通信するプロセッサであって、前記圧力低下に基づいて前記流量を判断し、少なくとも部分的に閉じろ、及び少なくとも部分的に開けのうちの少なくとも１つの命令を前記弁に送るよう構成される、プロセッサと、を備える、流量制御システムと、を備える、機器再処理装置。
5. チャネルを備える機器を通る再処理流体の流れを制御する方法であって、
   再処理流体源と流体連通するポンプを操作する工程と、
   前記ポンプから流出する前記再処理流体のゲージ圧を測定する工程と、
   前記再処理流体の流れを調節し、前記再処理流体の前記ゲージ圧を調節して、前記ポンプから流出する前記再処理流体を実質的に一定の圧力に維持する工程と、
   弁と、圧力差センサと、を備える流体回路を通して前記再処理流体を流す工程であって、前記流体回路が前記ポンプ及び前記チャネルと流体連通する、工程と、
   前記圧力差センサを利用して、前記弁内に流れる前記再処理流体中の圧力差を検出する工程と、
   前記弁を調節して、前記圧力差センサからの出力を利用して前記チャネルを通る前記再処理流体の流量を制御する工程と、を含み、
   前記弁を調節する前記工程が、可変弁オリフィスを調節する工程を含む、方法。
6. 請求項５に記載の方法であって、前記チャネルを通る前記再処理流体の流量を算出する工程を更に含む、方法。
7. 少なくとも第１チャネル及び第２チャネルを有する機器を通る再処理流体の流れを制御する方法であって、前記第１チャネルがパラメーターの第１値によって定義され、前記第２チャネルが前記パラメーターの第２値によって定義され、前記方法が、
   再処理流体源と流体連通するポンプを初期設定して運転サイクルを開始する工程と、
   第１弁を備える第１流体回路に前記再処理流体を供給する工程であって、前記第１流体回路が前記ポンプ及び前記第１チャネルと流体連通する、工程と、
   第２弁を備える第２流体回路に前記再処理流体を供給する工程であって、前記第２流体回路が前記ポンプ及び前記第２チャネルと流体連通する、工程と、
   前記第１チャネルを通る前記再処理流体の流れを制限するために前記第１弁を調節する工程であって、前記再処理流体の流れが制限される量が、前記パラメーターの前記第１値と前記パラメーターの前記第２値との間の関係に応じて変化し、それによって、前記ポンプが初期設定されると前記再処理流体が前記第１チャネル及び前記第２チャネルを通って流れる、工程と、を含み、
   前記第１弁を調節する前記工程が、第１可変弁オリフィスを調節する工程を含み、前記第２弁を調節する前記工程が、第２可変弁オリフィスを調節する工程を含む、方法。
8. 請求項７に記載の方法であって、前記調節工程は、前記第１チャネルを通って流れる前記再処理流体の圧力が、前記第２チャネルを通って流れる前記再処理流体の圧力と同じになるように、前記第１チャネルを通る前記再処理流体の流れを制限する工程を含む、方法。
9. 請求項７に記載の方法であって、前記第２チャネルを通る前記再処理流体の流れを制限するために前記第２弁を調節する前記工程を更に含み、前記再処理流体の流れが制限される量が、前記パラメーターの前記第２値と前記パラメーターの目標値との間の関係に応じて変化する、方法。

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