CN103889311A - 器械再处理机和器械再处理方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于对医疗器械进行清洁、消毒和/或灭菌的器械再处理机。为了对具有限定于其中的一个或多个通道的器械进行再处理，所述再处理机可包括一个或多个流量控制系统，所述系统被配置成控制流体通过每个通道的流量。在各种实施例中，流量控制系统可包括压差传感器和用于控制通道中的所述流体流动的比例阀。所述再处理机还可包括：其一，流体循环泵，其可被配置成为所述流量控制系统供应流体，以及其二，系统，其用于控制被供应给所述流量控制系统的所述流体的压力。所述再处理机还可包括用于向所述流体循环系统供应定量的流体的系统。所述系统可包括具有流体高度传感器的贮存器以监测其中的所述流体量，以及被配置成为所述贮存器供应流体的泵。

Description

器械再处理机和器械再处理方法

背景技术

I.技术领域

本发明整体涉及医疗器械的再处理、清洁、灭菌和/或净化。

II.相关领域的描述

在各种情况下，内窥镜可以包括细长部或管，其具有可以被配置成插入患者体内的远端，并另外包括贯穿细长部的多个通道，其可以被配置成将水、空气和/或任何其他合适的流体导入手术部位。在一些情况下，内窥镜中的一个或多个通道可以被配置成将手术器械引导进手术部位。在任何情况下，内窥镜还可以包括近端，其具有与通道流体连通的入口，并另外包括具有一个或多个阀和/或开关的控制头部分，其被配置成控制流体通过通道的流动。在至少一种情况下，内窥镜可以包括空气通道、水通道和在控制头内被配置成控制空气和水流动通过通道的一个或多个阀。

净化系统可以用来再处理先前使用的医疗装置，诸如内窥镜，以使得医疗装置可以再次使用。存在用于再处理内窥镜的多种净化系统。通常，这种系统可包括至少一个冲洗水池，待清洁和/或消毒的内窥镜可以置于其中。冲洗水池通常由外壳支撑，外壳为了将清洁和/或消毒剂导向已置于水池中的内窥镜之中和/或之上而支撑管路、泵和阀的循环系统。在净化过程中，可以评估内窥镜内的通道，以核实通道未被阻塞。在各种实施例中，循环系统可通过连接器流体联接到内窥镜通道，这些连接器可释放地接合可限定通道末端的端口。此类连接器可在附接到内窥镜的同时实现不透流体的密封，然而它们又可在净化过程结束时容易地释放。

上述讨论不应当视为对权利要求范围的否定。

发明内容

在至少一种形式中，用于清洁医疗器械的器械再处理机可包括被配置成容纳医疗器械的腔室、再处理流体的供应装置、与再处理流体的供应装置流体连通的供应泵（其中供应泵包括正排量泵）以及与供应泵流体连通的贮存器，其中贮存器包括顶部和底部，并且其中贮存器可包括顶部和底部之间的再处理流体高度。器械再处理机还可包括在贮存器顶部和贮存器底部之间延伸的线性传感器，其中线性传感器被配置成检测再处理流体高度；以及另外与线性传感器进行信号通信的处理器，其中处理器被配置成当再处理流体高度低于预定高度时操作供应泵，并且其中预定高度介于贮存器顶部和贮存器底部之间。器械再处理机还可包括与贮存器底部和腔室流体连通的分配泵，其中分配泵包括正排量泵，并且其中处理器被配置成操作分配泵。

在至少一种形式中，一种控制再处理流体通过具有至少第一通道和第二通道的器械的流动的方法可包括以下步骤：操作与再处理流体源流体连通的泵；使再处理流体流过包括第一阀和第一压差传感器的第一流体回路，其中第一流体回路与泵和第一通道流体连通；以及使再处理流体流过包括第二阀和第二压差传感器的第二流体回路，其中第二流体回路与泵和第二通道流体连通。该方法还可包括以下步骤：利用第一压差传感器检测流入第一阀内的再处理流体中的第一压差，利用第二压差传感器检测流入第二阀内的再处理流体中的第二压差，利用来自第一压差传感器的输出调节第一阀以控制再处理流体通过第一通道的第一流量，以及利用来自第二压差传感器的输出调节第二阀以控制再处理流体通过第二通道的第二流量。

在至少一种形式中，用于清洁包括通路的医疗器械的器械再处理机可包括被配置成容纳医疗器械的腔室、被配置成与通路流体联接的供应连接器、被配置成对再处理流体加压并且向供应连接器供应再处理流体的泵（该泵包括入口和出口）以及表压传感器，该表压传感器被设置成感测从泵出口流出的再处理流体的表压。该器械再处理机还可包括流量控制系统，该系统包括与供应连接器流体连通的阀，其中阀被配置成控制再处理流体通过通路的流量，并且其中阀包括入口和出口。器械再处理机还可包括压差传感器，该压差传感器被配置成感测固定孔口相对侧上的再处理流体中的压降，其中压差传感器定位在相对于表压传感器的下游以及相对于阀出口的上游；以及与压差传感器进行信号通信的处理器，其中处理器被配置成基于压降解读流量并且命令阀进行至少部分闭合和至少部分打开中的至少一个。

在至少一种形式中，一种利用监测系统保持用于器械再处理机的流体循环系统的供应贮存器内的再处理流体的容积的方法可包括以下步骤：自再处理流体源向供应贮存器供应一定量的再处理流体，感测供应贮存器中的所述一定量的再处理流体，以及确定供应贮存器中的所述一定量的再处理流体是否多于预定量。该方法还可包括以下步骤：如果供应贮存器中的所述一定量的再处理流体少于预定量，操作正排量充填泵以向供应贮存器供应再处理流体，其中正排量充填泵被配置成每冲程供应固定容积的再处理流体；操作正排量充填泵时监测供应贮存器中的所述一定量的再处理流体，确定供应贮存器中的所述一定量的再处理流体所增加的再供应容积是否等于每冲程所排开的容积和正排量充填泵的冲程数的乘积，以及在供应贮存器中的所述一定量的再处理流体未增加再供应容积时播送警示。

在至少一种形式中，一种控制再处理流体通过包括通道的器械的流动的方法可包括以下步骤：操作与再处理流体源流体连通的泵，测量从泵流出的再处理流体的表压，调整再处理流体的流动以调整再处理流体的表压，以及使再处理流体流过包括阀和压差传感器的流体回路，其中流体回路与泵和通道流体连通。该方法还可包括以下步骤：利用压差传感器检测流入阀内的再处理流体中的压差，以及利用来自压差传感器的输出调节阀以控制再处理流体通过通道的流量。

在至少一种形式中，一种控制再处理流体流过具有至少第一通道和第二通道（其中第一通道由参数的第一值限定，并且第二通道由参数的第二值限定）的器械的流动的方法可包括以下步骤：初始化与再处理流体源流体连通的泵以开始操作循环；向包括第一阀的第一流体回路供应再处理流体，其中第一流体回路与泵和第一通道流体连通；以及向包括第二阀的第二流体回路供应再处理流体，其中第二流体回路与泵和第二通道流体连通。该方法还可包括以下步骤：调节第一阀以限制再处理流体流过第一通道的流动，其中再处理流体的流量受到基于参数的第一值和参数的第二值之间的差值的量的限制，由此当泵初始化时再处理流体流过第一通道和第二通道。

上述讨论不应当视为对权利要求范围的否定。

附图说明

通过结合附图来参考本发明实施例的以下说明，本发明的特征及优点及其获取方法将会变得更加明显，并可更好地理解发明本身，其中：

图1为根据至少一个实施例的内窥镜再处理机的透视图，所述再处理机包括两个水池；

图2为图1的内窥镜再处理机的水池的透视图；

图3为图1的内窥镜再处理机的通道流子系统的示意图；

图3A为用于控制流过其中的流体的压力的通道流子系统的示意图；

图4为包括多个流量控制单元的歧管组件的透视图；

图5为图4的歧管组件的歧管的透视图；

图6为流量控制单元的透视图，该流量控制单元被配置成控制流体流过内窥镜通道供应管线的流量；

图7为图6的流量控制单元的比例阀的透视图；

图8为图7的比例阀被移除的图6的流量控制单元的透视图；

图9为图6的控制单元的子组件的透视图，该子组件包括印刷电路板(PCB)组件、表压传感器和两个压差传感器；

图10为图9的控制单元的压差传感器的透视图。

图11为图9的控制单元的表压传感器的透视图；

图12为流体递送系统的透视图；

图13为图12的流体递送系统的俯视图；

图14为图12的流体递送系统的剖面正视图；

图15为图12的流体递送系统的正视图；

图16为图12的流体递送系统的示意图；以及

图17示出了定位在图2的水池的内窥镜托架内的内窥镜。

贯穿多个视图，对应的参考符号指示对应的部件。本文示出的范例以一种形式示出了本发明的某些实施例，并且不应将此类范例理解为以任何方式限制本发明的范围。

具体实施方式

现在将描述某些示例性实施例，以从整体上理解本文所公开的装置和方法的结构、功能、制造和用途。这些实施例的一个或多个实例在附图中示出。本领域的普通技术人员将会理解，本文具体描述和在附图中示出的装置和方法为非限制性的示例性实施例，并且本发明各种实施例的范围仅由权利要求书限定。就一个示例性实施例进行图解说明或描述的特征，可与其他实施例的特征进行组合。这种修改形式和变化形式旨在包括在本发明的范围之内。

本说明书通篇引用的“各种实施例”、“一些实施例”、“一个实施例”或“实施例”等，是指结合所述实施例描述的具体特征、结构或特性包括在至少一个实施例中。因此，本说明书通篇出现的短语“在多个实施例中”、“在一些实施例中”、“在一个实施例中”或“在实施例中”等并不一定都指相同的实施例。此外，在一个或多个实施例中，具体特征、结构或特性可按任何合适的方式组合。因此，在无限制的情况下，结合一个实施例示出或描述的具体特征、结构或特性可全部或部分地与一个或多个其他实施例的特征、结构或特性结合。这种修改形式和变化形式旨在包括在本发明的范围之内。

本文所用的术语“近侧”和“远侧”是以外科器械为参照的。术语“近侧”是指最靠近临床医生的部分，术语“远侧”是指远离临床医生的部分。还应当理解，为简洁和清楚起见，本文可以结合附图使用诸如“竖直”、“水平”、“上”和“下”之类的空间术语。然而，在某些情况下，本文所公开的装置可在许多取向和位置中使用，并且这些术语并非旨在限制和/或绝对化。

如上所述，参见图1，医疗器械再处理机，诸如内窥镜再处理机100，可被配置成清洁一个或多个内窥镜。在某些实施例中，内窥镜再处理机可被配置成对内窥镜进行消毒和/或灭菌。在各种实施例中，内窥镜再处理机可包括至少一个水池110，其中每个水池110可被配置成在其中容纳内窥镜。虽然内窥镜再处理机100包括（例如）两个水池，但可设想出各种替代性实施例，其包括任何合适数量的水池110。在各种实施例中，再处理机100还可包括被配置成在其中支撑内窥镜的一个或多个内窥镜托架120，所述内窥镜可置于每个水池110中。在使用中，临床医生可将内窥镜置于内窥镜托架120中并且随后将内窥镜托架120定位在水池110内。或者，临床医生可将托架120定位在水池110中并且随后将内窥镜定位在托架120中。在任一情况中，一旦将内窥镜适当定位在水池110内，就可将折叠门130闭合、固定和/或密封至再处理机框架140以便将内窥镜包封在水池110内。然后，临床医生可（例如）通过与控制面板150交接来操作内窥镜再处理机100。水池110、托架120和折叠门130的示例性实施例在同时提交的、共同拥有的名称为“INSTRUMENTREPROCESSORS,SYSTEMS,ANDMETHODS”（器械再处理机、系统和方法）、代理人案卷号为110515的美国专利申请中有所描述，该专利申请的全部公开内容以引用方式并入本文。现在参见图17，将内窥镜101示为定位在托架120内，而托架则定位在水池110中。在各种实施例中，内窥镜101可包括可被支撑在托架120内的各种部分102、103和/或104。

在各种实施例中，就以上所述而言，内窥镜再处理机100可包括循环系统，该循环系统可使一种或多种再处理流体（诸如洗涤剂、灭菌剂、消毒剂、水、醇类和/或任何其他合适的流体）循环通过内窥镜和/或将流体喷洒到内窥镜上。该循环系统可包括流体供应装置和循环泵，其中循环泵可在流体方面连接于流体供应装置，使得可将流体从流体供应装置抽取到循环系统中。在某些实施例中，循环系统可包括在其中可将流体与另一种流体（诸如水）混合的混合腔室，其中混合腔室可与循环泵流体连通。在任一情况中，现在参见图2，每个水池110可包括一个或多个喷雾嘴112，所述喷雾嘴可与循环泵流体连通，使得通过循环泵加压的流体可通过喷嘴112从循环系统喷出并且喷到内窥镜上。在至少一个此类实施例中，每个水池110可包括围绕其周边定位的多个喷嘴112以及可从水池底板或后挡板111向上喷洒的一个或多个喷嘴112。某些示例性实施例在同时提交的、共同拥有的名称为“INSTRUMENTREPROCESSORS,SYSTEMS,ANDMETHODS”（器械再处理机、系统和方法）、代理人案卷号为110515的美国专利申请中有更详细描述，该专利申请的全部公开内容以引用方式并入本文。

在各种实施例中，就以上所述而言，每个水池110可被配置成将喷洒于其中的流体向下引导至位于其底部的排口116，其中流体可再次进入循环系统。为了对内窥镜内的内部通道进行清洁、消毒和/或灭菌，内窥镜再处理机100可包括与循环系统泵流体连通的一个或多个供应管线，而循环系统泵可被设置成与内窥镜的内部通道流体连通。在各种实施例中，再次参见图2，每个水池110可包括一个或多个端口114，所述端口可包括供应管线的末端。在示出的实施例中，每个水池110具有定位于其相对侧上的一排四个端口114，但可设想出其他替代性实施例，其可包括任何合适数量和布置的端口114。在某些实施例中，内窥镜再处理机110还可包括一个或多个柔性导管，其可与端口114和在内窥镜中限定的通道连接和/或密封接合，使得来自循环系统的加压流体可流过端口114、柔性导管并且随后进入内窥镜。用于将柔性导管与内窥镜密封接合的柔性导管和连接器在2011年8月29日提交的名称为“FLUIDCONNECTORFORENDOSCOPEREPROCESSINGSYSTEM”（用于内窥镜再处理系统的流体连接器）的美国专利申请序列号12/998,459以及也在2011年8月29日提交的名称为“QUICKDISCONNECTFLUIDCONNECTOR”（快速断开流体连接器）的美国专利申请序列号12/998,458中有所描述，这些专利申请的全部公开内容均以引用方式并入本文。

在各种实施例中，就以上所述而言，在内窥镜内限定的通道可被（例如）碎片阻挡或阻塞，碎片可抑制对内窥镜进行适当清洁、消毒和/或灭菌。在一些情况下，定位于内窥镜通道内的碎片可至少部分阻挡流体在其中流过，从而降低其中流体可流过通道的流量。在本文中可设想出内窥镜再处理机的各种实施例，其中可监测流体通过内窥镜通道的流量以评估通道中是否存在阻塞。在此类实施例中，监测系统可测量流体的实际流量并且将其与在通过循环泵将流体加压至的压力给定的情况下所预期的流体流量进行比较。某些监测系统也可评估柔性导管的连接器是否与（例如）内窥镜通道和/或水池端口114密封接合。在此类系统中，监测系统可检测流体的流量是否高于（例如）预期流量。公布于2011年2月1日的名称为“AUTOMATEDENDOSCOPEREPROCESSORSELF-DISINFECTIONCONNECTION”（自动化内窥镜再处理机自身消毒连接）的美国专利No.7,879,289的全部公开内容以引用方式并入本文。

现在参见图3的示意图，内窥镜再处理机可包括通道流子系统160，该通道流子系统包括与循环系统泵（以泵162指示）流体连通的歧管166，其可被配置成将加压流体分配至内窥镜再处理机的通道供应管线并且随后分配至内窥镜的通道。内窥镜再处理机的此类通道供应管线在图3的示意图中以供应管线164指示。在各种实施例中，每个内窥镜再处理机供应管线164可包括至少一个压差传感器172、至少一个比例阀174和至少一个表压传感器176。在某些实施例中，现在参见图6和9，每个再处理机通道供应管线164可包括控制单元组件170，其包括外壳171、压差传感器172、比例阀174和表压传感器176。在至少一个此类实施例中，每个外壳171可包括入口168和内部通路，该内部通路可被配置成引导流体流过压差传感器172的入口173a，然后流过出口173b。可在压差传感器172的入口173a和出口173b之间限定孔口175（图10），该孔口具有固定直径。在至少一个此类实施例中，孔口175的直径沿着其长度可为恒定的。可通过（例如）钻孔法形成此类孔口。在各种其他实施例中，孔口175的直径沿着其长度可能不是恒定的。在任一种情况中，此类孔口在某种意义上说可为固定的，即其随时间推移不改变或至少基本上不变。如下文更详细描述，现在参见图9和10，压差传感器172还可包括多个电触点177，所述电触点可将压差传感器172设置成与控制单元组件170的印刷电路板(PCB)组件179进行信号通信。电触点177也可被配置成为压差传感器172供应电力。各种压差传感器可从（例如）霍尼韦尔公司(Honeywell)商购获得。

如上文所概述，压差传感器172可与PCB组件179进行电通信和/或信号通信。更具体地讲，除了别的以外，PCB组件179可包括（例如）微处理器和/或任何合适的计算机，其中压差传感器172可被配置成产生电势，该电势被传送至PCB组件179的微处理器。在至少一个此类实施例中，PCB组件179的微处理器可被配置成解读由压差传感器172所提供的电势并且计算流体流过压差传感器172的流量。

在某些实施例中，就以上所述而言，可将多个流体流量值存储在限定于（例如）PCB组件179上的可编程存储器内的查找表中。通常，在各种实施例中，可理论上预测查找表中的预期流体流量的值，而在某些实施例中，可根据经验测试所述值并且随后存储在可编程存储器中。在任一情况中，可根据由循环泵162排放并且供应给歧管166的流体的表压确定流体流量。在至少一个此类实施例中，可将表压传感器，诸如表压传感器159（图3）定位在相对于循环泵162的出口的下游，使得可测量被供应给再处理机通道供应管线164中的每一者的流体的表压。在此类实施例中，可将表压传感器159设置成与流量控制单元170的每个PCB组件179进行电通信和/或信号通信，使得可将流体的表压以电势的形式传送至每个PCB组件179的微处理器。在各种实施例中，一旦将流体的表压传送至PCB组件179，微处理器就可从查找表得出流体的流体流量并且将流体流量值与目标流体流量进行比较。通常，实际流量与目标流量将不会完全匹配，因而用于实际流量的介于最小目标值和最大目标值之间的一系列值可为可接受的。

在各种实施例中，就以上所述而言，可根据两个变量确定通过再处理机通道供应管线164的流体流量，所述两个变量为如上所述从表压传感器159读取的表压，以及另外从对应的流量控制单元170的压差传感器172读取的压差。此类系统可利用多个查找表来得出流体的流量。例如，对于可供应给歧管166的流体的每个潜在表压（诸如35psi）而言，可将关联压差传感器172的读数和预期流量的表存储在每个PCB组件179内。在此类实施例中，可能需要考虑大范围的表压，从而可能需要大量的查找表。在各种其他实施例中，被供应给再处理机供应管线164的流体的压力可限于特定压力或有限范围的压力。在至少一个此类实施例中，参见图3A，器械再处理机100的流体循环系统可包括限压阀，诸如比例阀158，其可与循环泵162的出口和流体反馈回路157流体连通。在至少一个此类实施例中，比例阀158可被配置成重新导向由泵162排放的流体的一部分并且将重新导向的流体返回至（例如）定位于相对于泵162的上游的入口处的循环系统，使得被供应给歧管166的流体的压力按恒定或至少基本上恒定的压力（诸如35psig）提供。在至少一个此类实施例中，可利用包括（例如）微处理器和/或任何合适的计算机的PCB组件，该组件与表压传感器159和比例阀158进行电通信和/或信号通信。在使用中，当流体的表压高于（例如）35psig时，PCB组件可命令比例阀158打开一定量或额外的量以允许流体或更多流体流过流体反馈回路157。在此类情况下，此类操作可降低流向歧管166的流体的压力。如果流体的压力保持大于35psig，则PCB组件可命令比例阀158打开额外的量。此类步骤可重复任何合适的次数以达到所需的流体压力。相应地，当流体的表压低于（例如）35psig时，PCB组件可命令比例阀158闭合一定量以减小流体流过流体反馈回路157的流量。在此类情况下，此类操作可升高流向歧管166的流体的压力。如果流体的压力保持低于35psig，则PCB组件可命令比例阀158闭合额外的量。此类步骤可重复任何合适的次数以达到所需的流体压力。

鉴于上文所述，在各种实施例中，可对供应给再处理机供应管线164的流量控制单元170的流体的表压进行控制，使得其保持在恒定或至少基本上恒定的压力。因此，用于计算流过再处理机供应管线164的流体的流量的变量之一可保持恒定或至少基本上恒定。因此，作为结果，流体通过每个再处理机供应管线164及其关联控制单元170的流量可仅仅取决于一个变量，即，来自压差传感器172的读数。在至少一个此类实施例中，可能仅需要一个查找表来计算实际的计算流量和/或将实际的计算流量与目标流量关联以确定实际的计算流量是否介于通过再处理机供应管线164的流体流量的最小和最大可接受值之间。

如果对于给定的内窥镜通道而言，实际流体流量介于最小和最大可接受值之间，如由再处理机供应管线164向其供应的那样，则对应流量控制单元170的PCB组件179可能不会调整比例阀174，并且相反可能继续监测流体流过流量控制单元170的流量。如果通过再处理机供应管线164的流体的实际流量低于存储在用于给定再处理机供应管线164的给定表压的查找表中的最小可接受值或高于存储在该查找表中的最大可接受值，则PCB组件179可打开、部分打开、闭合和/或部分闭合与之关联的比例阀174。在至少一个实施例中，参见图6-8，比例阀174可包括孔口或腔室180、定位于腔室180内的阀元件和螺线管，可启动该螺线管以使腔室180内的元件在打开位置（在该位置处流体可流过腔室）、闭合位置（在该位置处元件阻塞流体从中流过）和/或中间的任何其他合适位置之间旋转。

在各种实施例中，就以上所述而言，PCB组件179的微处理器可被配置成调整比例阀174的阀腔室180内的阀元件的位置。在使用中，如果通过再处理机供应管线164的实际流体流量高于目标流体流量，则比例阀174的螺线管可使阀元件朝其闭合位置运动以进一步限制流体流过其中。同样，如果通过再处理机供应管线164的实际流体流量低于目标流体流量，则比例阀174的螺线管可使阀元件朝其打开位置运动以减少对流过其中的流体的限制。在各种实施例中，可使阀元件从打开位置旋转至第一位置以限制阀孔口第一量，诸如大约25%，旋转至第二位置以限制阀孔口第二量，诸如大约50%，旋转至第三位置以限制阀孔口第三量，诸如大约75%，以及旋转至闭合位置，其中阀孔口（例如）为大约100%受限。在各种实施例中，比例阀174的阀元件可定位在任何合适数量的位置中以对流体流过阀174的流量提供所需限制。在任何情况下，可通过PCB组件179施加于阀螺线管的电势来控制阀元件的位置，其中与（例如）将较高电势施加于阀螺线管（其使阀元件取向在更邻近其完全打开位置的位置）相比，（例如）施加于阀螺线管的较低电势可导致阀元件被取向在更邻近其完全闭合位置的位置。

在各种情况下，由于上面的原因，PCB组件179可被配置成持续监测流体流过再处理机供应管线164的流量并且调整比例阀174以增加和/或减少流体流过再处理机供应管线164以及相应地流体联接到其上的内窥镜通道的流量。在各种实施例中，就以上所述而言，PCB组件179可被配置成使流体的流量保持在和/或接近所需流量。在被循环的流体为（例如）灭菌剂或包括灭菌剂的溶液的实施例中，灭菌剂可对内窥镜灭菌；然而，灭菌剂也可负面影响或劣化内窥镜。因此，鉴于上文所述，通道流子系统160可被配置成向内窥镜供应足够少的灭菌剂流量以便对内窥镜灭菌，同时限制流到内窥镜的灭菌剂最大流量，使得灭菌剂不会使内窥镜过度劣化。相似地，鉴于上文所述，通道流子系统160可被配置成向内窥镜供应足够少的消毒剂流量以便对内窥镜消毒，同时限制流到内窥镜的消毒剂最大流量，使得消毒剂不会使内窥镜过度劣化。在各种实施例中，每个内窥镜通道供应管线还可包括第二压差传感器，诸如压差传感器178，其也可检测流体通过再处理机供应管线164的流量。在至少一个此类实施例中，可将控制单元组件170的第一压差传感器172和第二压差传感器178设置成彼此平行，其中如果压力传感器172和178向PCB组件179提供明显不同的电压读数，则PCB组件179可执行纠正操作例程，其可包括（例如）闭合比例阀174，和/或向操作者发出警示或警告，表明可能需要维修控制单元组件170。

如上文所概述，每个比例阀174可被配置成控制可变孔口的状态。在至少一个此类实施例中，每个比例阀174可包括偏置元件，诸如弹簧，其可被配置成使上文所讨论的比例阀174的阀元件偏置为正常闭合状态。可致动也如上文所讨论的比例阀174的螺线管以将阀元件移至至少部分打开位置。在至少一个实施例中，可将一系列电压脉冲从相应的PCB组件179施加至螺线管，其可控制阀元件打开的程度或量。在至少一个此类实施例中，电压脉冲施加于螺线管的频率越大，可变孔口就可能越大，从而允许更大流体流量从中通过。相应地，电压脉冲施加于螺线管的频率越低，可变孔口就可能越小，从而允许较小的流体流量从中通过。如果不再向比例阀174的螺线管施加电压脉冲，则偏置元件可再次将阀元件移至闭合状态。可设想出其他各种实施例，其中将阀元件偏置为正常打开状态并且比例阀的螺线管可操作以将阀元件偏置为至少部分闭合状态。在各种其他实施例中，用于控制孔口的阀可被配置成使阀元件在完全打开位置和完全闭合位置之间循环并且通过控制与阀元件处于打开状态的时间相比较而闭合阀元件的时间来控制流体流过其中的流量。在至少一个此类实施例中，可通过（例如）螺线管使阀元件在其打开和闭合状态之间快速循环。

就以上所述而言，每个再处理机供应管线164可包括控制单元组件170，其中控制单元组件170可被配置成独立于另一个控制单元组件来控制流体流过再处理机供应管线164的流量。在各种实施例中，控制单元组件170彼此可能不进行电通信和/或信号通信。在此类实施例中，每个控制单元组件170被配置成在不与其他控制单元组件170通信的情况下监测和调整流体流过再处理供应管线164的流量。然而，在各种其他实施例中，控制单元组件170可彼此进行电通信和/或信号通信，使得（例如）可将再处理机供应管线164内的流体的某些参数彼此进行比较。在任一情况中，如果离开控制单元170的表压超出预定最大压力，诸如大约21.75psig，则可对控制单元170的PCB组件179编程以完全打开其比例阀174。在各种实施例中，上文提到的控制单元组件170的表压传感器176可被配置成：其一，检测离开再处理机供应管线164的比例阀174的流体的表压，以及其二，将电势传送至其相应的PCB组件179，该组件可将电势解读为表压。与可检测流体供应管线的两个点之间的流体中的压降的压差传感器172和178相比，表压传感器176可检测流体的实际压力或表压。在各种实施例中，参见图9和11，表压传感器176可包括通路185，所述通路可被配置成引导流体流过传感元件并且流向流量控制单元170的出口183。与以上类似，每个表压传感器176可包括多个电触点187，所述电触点可将表压传感器176设置成与其对应的PCB组件179进行电通信和/或信号通信。

就以上所述而言，流体循环系统160的歧管166可被配置成将流过其中的流体分配给八个内窥镜再处理机供应管线164以及与之关联的内窥镜通道。现在参见图5，歧管166可包括入口161、八个出口163和定位在歧管166的相对末端上的第二入口165。在各种实施例中，歧管166可被配置成在内窥镜再处理机100的整个操作过程中容纳和分配若干不同流体。再次参见图3，歧管166的入口161可被配置成容纳来自泵162的包含水和洗涤剂（除了别的以外）的溶液的流量。在各种实施例中，可操作一个或多个阀以将泵162设置成与水源流体连通，使得泵162可将水泵送到供应管线164中。在某些实施例中，可操作一个或多个阀以将泵162设置成与灭菌剂或灭菌剂溶液的源流体连通，使得泵162可将灭菌剂泵送到供应管线164中。在至少一个实施例中，再次参见图5，内窥镜再处理机100可包括一个或多个阀，诸如阀167，可操作所述阀以允许来自（例如）加压的空气源190的加压空气流入歧管166中。在至少一个此类实施例中，加压的空气可迫使任何剩余的水、洗涤剂和/或灭菌剂流出内窥镜通道。在某些实施例中，内窥镜再处理机100还可包括醇类供应装置191和泵，该泵可被配置成从醇类供应装置191抽取醇类并且通过（例如）第二入口165将醇类引入歧管166中。在至少一个此类实施例中，可将止回阀192定位在此类泵和第二入口165中间，使得来自歧管166的其他流体无法流入醇类供应装置191。

鉴于上文所述，器械再处理机可被配置成向器械（诸如内窥镜）的通道供应一种或多种加压流体。在各种实施例中，可监测被供应给内窥镜通道的流体的流量。如果被供应给内窥镜通道的流体的流量低于目标流量或可接受的最小流量，则器械再处理机可增加流体流过其中的流量。如果被供应给内窥镜通道的流体的流量高于目标流量或可接受的最大流量，则器械再处理机可减小流体流过其中的流量。在某些实施例中，器械再处理机可包括为内窥镜通道供应流体的多个供应管线，其中每个供应管线可包括可变阀孔口，可通过调节该阀孔口来调整流体通过其中的流量。在各种实施例中，每个供应管线的可变阀孔口可为闭合回路布置的一部分，该布置包括被配置成感测流体流量的固定孔口压差传感器。在各种实施例中，可将压差传感器定位在相对于可变阀孔口的上游和相对于循环泵的下游。在至少一个实施例中，器械再处理机还可包括用于感测离开循环泵的流体的表压的表压传感器以及可被配置成相对于目标压力调节流体压力的压力控制系统。在至少一个此类实施例中，可将压差传感器定位在相对于表压传感器和压力控制系统的下游。

如上所述，内窥镜再处理机100的流体循环系统可被配置成使流体循环通过内窥镜和/或将流体喷洒到内窥镜的外部表面上。在各种实施例中，现在参见图8，内窥镜再处理机100可包括流体分配系统200，该系统可被配置成将一种或多种流体分配给流体循环系统。在各种实施例中，现在参见图12-16，流体分配系统200可包括两个或更多个单独的流体分配子系统，诸如流体分配子系统200a和200b，所述子系统可各自被配置为将（例如）不同流体分配给流体循环系统。在各种实施例中，现在参见图16，内窥镜再处理机100可包括储存区域，其可被配置成在其中容纳流体的一个或多个容器，诸如灭菌剂容器201a和/或洗涤剂容器201b，其中内窥镜再处理机100还可包括一个或多个流体连接器，所述流体连接器可各自与流体容器中的一者密封接合。在某些实施例中，内窥镜再处理机100还可包括RFID读取器和/或条码读取器，其可被配置成读取流体容器上的RFID标签和/或条码以确保：其一，使用正确的流体，以及其二，流体在（例如）特定截止日期前使用。在任何情况下，一旦流体连接器联接到流体容器，流体分配系统200就可被配置成从流体容器抽取流体并且将其分配到循环系统中，如下文进一步更详细描述。

在各种实施例中，就以上所述而言，流体子系统200a可包括供应泵210、贮存器220和分配泵230。在某些实施例中，供应泵210可包括与流体容器和/或任何其他合适的流体源流体连通的入口211。在至少一个实施例中，供应泵210可包括正排量泵，该正排量泵在至少一个此类实施例中可包括活塞，该活塞被配置为活塞的每冲程排开固定量的容积或流体。更具体地讲，主要参见图14，供应泵210可包括活塞212，其可被配置成在第一或下止点(BDC)位置和第二或上止点(TDC)位置之间在汽缸213内运动或往复运动，以便将流体抽取到汽缸213中并且推动流体通过汽缸出口214。在某些实施例中，供应泵210还可包括起阀器215，可通过活塞212接触该起阀器以打开阀元件并且在活塞212达到其TDC位置时允许流体通过泵出口214离开。当活塞212返回至其BDC位置时，（例如）定位在起阀器215后方的阀弹簧可被配置成使阀元件和起阀器215返回至坐入位置，在该位置处出口214密封闭合，直至活塞212在其下一个冲程过程中再次提升阀元件和起阀器215。如下文更详细描述，供应泵210的出口214可与贮存器220流体连通，使得通过供应泵210加压的流体可排放到在贮存器220中限定的内部腔体221中。

在各种实施例中，贮存器220可包括底部222、外壳223和顶部224，其中在至少一个实施例中，供应泵210的出口214可通过（例如）底部222的端口228与贮存器220的内部腔体221流体连通。在其他各种实施例中，供应泵210可通过（例如）外壳223和/或顶部224中的端口与贮存器腔体211流体连通。在任何情况下，底部222和顶部224可与外壳223密封接合，其中在至少一个实施例中，底部222和顶部224可被配置成以（例如）按扣配合和/或压配布置接合外壳223。在各种实施例中，底部222和顶部224可由塑性材料构成，（例如）贮存器220内包含的流体可能不会使所述塑性材料降解。在某些实施例中，贮存器220还可包括可定位在底部222和外壳223中间的密封件，诸如O形环229，以及定位在外壳223和顶部224中间的密封件，诸如O形环229，其可防止流体从贮存器220漏出。在各种实施例中，外壳223可由任何合适材料构成，诸如玻璃。在至少一个实施例中，外壳223可由（例如）硼硅酸盐构成，贮存器220内包含的流体可能不会使硼硅酸盐降解。

如上文所述，供应泵210可被配置成针对供应泵活塞212的每个冲程向内部贮存器腔体221供应固定量的流体。在使用中，可对供应泵210操作合适的次数或循环数，以便充填内部腔体221和/或将内部腔体221充填到内部腔体221内的预定液位或高度之上。在某些实施例中，贮存器220可包括溢流管线227，该溢流管线可被配置成在贮存器220满溢时泄放流体使之返回到（例如）流体源。在各种实施例中，再次参见图14，内部腔体221可具有底部225、顶部226以及在底部225和顶部226之间限定的高度。在至少一个此类实施例中，内部腔体221可为圆柱形并且可沿着其高度具有恒定周长，而在其他实施例中，内部腔体221可具有任何合适的构型。在各种实施例中，由于上述原因，供应泵210的每个循环可将内部贮存器腔体221内的流体的高度提升特定或固定的量。在至少一个实施例中，可通过（例如）使供应泵210操作冲程数与分配泵230操作冲程数相同来保持贮存器220中的流体的量。在某些实施例中，贮存器210可包括传感器，诸如液位传感器240，该传感器可被配置成检测贮存器腔体221内的流体高度和/或贮存器腔体221内的流体高度的变化，如下文更详细描述。

在各种实施例中，就以上所述而言，液位传感器240可包括模拟传感器并且可安装至贮存器外壳223。在至少一个实施例中，外壳223可由玻璃构成并且液位传感器240可（例如）使用至少一种粘合剂附接到玻璃。在至少一个此类实施例中，液位传感器可包括电容传感器，诸如线性电容传感器，该传感器可具有定位在贮存器腔体221的底部225或其附近的第一末端241和定位在贮存器腔体221的顶部226或其附近的第二末端242。在此类实施例中，液位传感器240可被配置成在内部腔体211为空或至少基本上空时产生第一或低电压，以及在内部腔体211为满或至少基本上满时产生第二或高电压。此外，液位传感器240可被配置成产生所述低电压和所述高电压之间的一系列电压，具体取决于贮存器腔体211内的流体的液位。更具体地讲，在各种实施例中，液位传感器240所产生的电压可取决于贮存器腔体221内的流体高度，因此电压可随流体高度增加而增加。在至少一个此类实施例中，电压可（例如）与流体高度成线性比例，其中在至少一个实施例中，（例如）低电压可为大约零伏，并且高电压可为大约五伏。

在各种实施例中，流体分配子系统200a还可包括分配泵230，该分配泵可与贮存器210的内部腔体211流体连通并且可被配置成将流体从贮存器腔体211抽出并且将流体分配到内窥镜再处理机100的流体循环系统中和/或流体循环系统内的混合腔室中。在至少一个实施例中，分配泵230的入口可通过贮存器220底部222中的端口238与内部腔室221的底部225流体连通。在某些实施例中，分配泵230可包括正排量泵，其可被配置成每冲程排开固定容积的流体。正排量泵结合供应泵210详细描述，为简明起见此类讨论在此不再赘述。在一些实施例中，供应泵210和分配泵230可相同或至少几乎相同。在至少一个实施例中，分配泵230可被配置成每冲程排开与供应泵210相同或至少基本上相同量的容积或流体。

在使用中，可操作供应泵210以充填贮存器220的内部腔室221，直至流体液位达到或超出腔室221内的预定高度。在各种实施例中，流体分配子系统200a可包括计算机或微处理器，诸如PCB组件250，其可与供应泵210、分配泵230和/或液位传感器240进行电通信和/或信号通信。在至少一个此类实施例中，PCB组件250可被配置成检测液位传感器240所产生的电势并且根据电势计算贮存器220内的流体高度。如果PCB组件250计算出贮存器220内的流体液位低于预定高度，则PCB组件250可操作流体供应泵210，直至流体液位达到或超出预定高度。在至少一个实施例中，当贮存器220中的流体液位低于预定高度时，PCB组件250可能不会操作分配泵230。如果PCB组件250计算出贮存器220中的流体液位处于或高于预定高度，则PCB组件250可操作分配泵230以在需要时为流体循环系统供应流体。在某些实施例中，PCB组件250可被配置成在操作分配泵230前操作供应泵210，使得在操作分配泵230之前贮存器220中存在足够的流体供应。在至少一个实施例中，PCB组件250可被配置成在操作分配泵230之后操作供应泵210以便补充贮存器220内的流体供应。在各种实施例中，PCB组件250可被配置成同时操作分配泵230和供应泵210，使得可在分配泵230分配贮存器220中的流体时对该流体进行补充。

如上文所概述，供应泵210可包括正排量泵，并且在此类实施例中，PCB组件250可被配置成监测供应泵210在泵活塞212的每冲程中是否向贮存器220递送恰当量的流体。更具体地讲，有关供应泵210的固定容积排量的信息可在PCB组件250内编程，使得PCB组件250可评估如流体液位传感器240所测量，在供应泵210的每冲程中贮存器220内的流体容积的增加是否与供应泵210的容积排量匹配。如果如流体液位传感器240所测量，在供应泵210的每冲程中贮存器220内的流体的增加等于或至少充分等于供应泵210的固定容积排量，则PCB组件250可向内窥镜再处理机100的操作者发出信号，表明在为供应泵210充分供应来自流体源的流体。如果如流体液位传感器240所测量，在供应泵210的每冲程中贮存器220内的流体的增加不等于或至少不充分等于供应泵210的固定容积排量，则PCB组件250可向内窥镜再处理机100的操作者发出信号，表明没有为供应泵210充分供应来自流体源的流体并且流体源可能需要检查，因为（例如）流体源可能为空的。在各种情况中，检查流体源可包括替换或补充流体源。在各种实施例中，在操作者检查流体供应装置时，贮存器220可根据需要在其中包含一定量的流体，所述一定量的流体可足以供应内窥镜再处理机100。在之前的内窥镜再处理机中，其流体循环系统直接从流体供应装置抽取流体，因此，内窥镜再处理机只有在操作循环已开始并且流体的缺乏使操作循环中断之后才能识别流体源已耗尽。

在各种实施例中，就以上所述而言，内窥镜再处理机100可包括（例如）两个水池110，所述水池可各自被配置成使得可在其中对内窥镜进行清洁、消毒和/或灭菌。在某些实施例中，再次参见图16，内窥镜再处理机100可包括用于向每个水池110供应流体的单独流体循环系统，诸如循环系统290a和290b。在此类实施例中，流体分配子系统200a可被配置成为流体循环系统290a、290b中的两者供应来自流体源201a的流体，并且相似地，流体分配子系统200b可被配置成为流体循环系统290a、290b中的两者供应来自流体源201b的流体。在至少一个此类实施例中，内窥镜再处理机100可包括阀280a，该阀可以：其一，与流体分配子系统200a的分配泵230流体连通，以及其二，选择性地与流体循环系统290a、290b流体连通，使得可选择性地将流体从流体源201a供应给流体循环系统290a、290b。相似地，内窥镜再处理机100可包括阀280b，该阀可以：其一，与流体分配子系统200b的分配泵230流体连通，以及其二，选择性地与流体循环系统290a、290b流体连通，使得可选择性地将流体从流体源201b供应给流体循环系统290a、290b。在运行流体循环系统的操作循环之前，在某些实施例中，流体循环系统可能需要来自流体分配子系统200a的一定量的流体，诸如洗涤剂和/或灭菌剂。在各种实施例中，就以上所述而言，可对PCB组件250编程以保持子系统200a的贮存器220内的一定量的流体，使得当需要流体来供应流体循环系统290a、290b时，流体为可用的而不必操作供应泵210。在各种情况下，流体循环系统所需的来自贮存器220的所述一定量的流体可大于可通过分配泵230的单个冲程而供应的流体容积，从而可能需要分配泵230的多个冲程。在任何情况下，在器械再处理机100的操作循环之前流体循环系统所需的所述一定量的特定流体可等于可对PCB组件250编程而保持在贮存器220中的流体的最小量。在某些实施例中，可对PCB组件250编程以在贮存器220中保持足够流体，从而为流体循环系统中的两者供应特定流体以开始其操作循环，并且无需通过对应的供应泵210进行再充填。当然，就以上所述而言，随后可操作供应泵210以在为流体循环系统中的两者供应了足够量的流体之后再充填贮存器220。鉴于上述原因，在各种实施例中，贮存器220可具有包含在其中的足够流体，以在致动对应的供应泵210来再充填贮存器220之前提供流体循环系统的至少一个操作循环，其中如果供应泵210（例如）由于空的流体供应装置而无法再充填贮存器220，则会使内窥镜再处理机100的操作者有机会在流体循环系统的下一个操作循环之前替换流体供应装置。

就以上所述而言，分配泵230可包括正排量泵，并且在此类实施例中，PCB组件250可监测分配泵230是否在每冲程中从贮存器220抽取恰当量的流体。更具体地讲，有关分配泵230的固定容积排量的信息可在PCB组件250内编程，使得PCB组件250可评估如流体液位传感器240所测量，在分配泵230的每冲程中贮存器220内流体的减少是否与分配泵230的固定容积排量匹配。如果如流体液位传感器240所测量，在分配泵210的每冲程中贮存器220内流体的减少等于或至少充分等于分配泵230的固定容积排量，则PCB组件250可向内窥镜再处理机100的操作者发出信号，表明在为分配泵230充分供应来自贮存器220的流体。如果如流体液位传感器240所测量，在分配泵230的每冲程中贮存器220内流体的减少不等于或至少不充分等于分配泵230的容积排量，则PCB组件250可向内窥镜再处理机100的操作者发出信号，表明没有为分配泵230充分供应流体并且可能需要对流体分配子系统进行某种检查和/或维护。

如上文关于各种实施例所讨论，每个流体分配子系统200a、200b可包括流体供应泵210和单独的流体分配泵230。同样如上文所讨论，在各种实施例中，可使流体供应泵210和流体分配泵230彼此独立操作以分别向贮存器220供应流体以及从贮存器220分配流体。在某些替代性实施例中，单个泵送设备可被配置成：其一，将流体从流体供应装置泵送到贮存器220中，和其二，将来自贮存器220的流体泵送到流体循环系统中。在至少一个此类实施例中，泵送设备可包括活塞，该活塞具有定位在第一汽缸内的第一活塞头和定位在第二汽缸内的第二活塞头，其中活塞可进行线性往复运动以分别在第一和第二汽缸内运动第一和第二活塞头。在各种实施例中，第一汽缸可与流体源和贮存器流体连通，而第二汽缸可与贮存器和流体循环系统流体连通，使得在第一汽缸内运动的第一活塞头可将来自流体源的流体泵送到贮存器中，并且在第二汽缸内运动的第二活塞头可将来自贮存器的流体泵送到流体循环系统中。在各种实施例中，第一活塞头和第一汽缸的布置可包括第一正排量泵，并且第二活塞头和第二汽缸的布置可包括第二正排量泵。在某些实施例中，泵送设备可包括阀控制系统，该系统可被配置成（例如）控制或限制流体流入第一汽缸和/或第二汽缸。在至少一个此类实施例中，阀控制系统可被配置成闭合阀元件并且在将流体从第一汽缸泵送到贮存器中时阻止流体流入第二汽缸。相似地，阀控制系统可被配置成闭合阀元件并且在从贮存器将流体泵送通过第二汽缸时阻止流体流入第一汽缸。在此类实施例中，第一和第二活塞头可在其相应的第一和第二汽缸内往复运动；然而，可阻止流体流过汽缸，如上文所述。在各种替代性实施例中，泵可包括旋转泵，其具有与流体源流体连通的第一孔、与贮存器流体连通的第二孔以及与流体循环系统流体连通的第三孔。在至少一个此类实施例中，阀控制系统可被配置成在将流体泵送到贮存器中时闭合或阻塞第三孔，以及或者，在从贮存器泵送流体时阻塞第一孔。在某些实施例中，阀控制系统可包括（例如）一个或多个梭形阀和/或柱形阀的任何合适布置。在各种实施例中，可利用包括三通阀的任何合适的正排量泵将流体从流体源泵送到贮存器220中并且随后从贮存器220泵送到流体循环系统中。

如上文所讨论，再次参见图16，内窥镜再处理机100可包括流体分配系统200，该系统可被配置成将流体供应给一个或多个流体循环系统。同样如上文所讨论，流体分配系统200可包括不止一个流体分配子系统，诸如第一子系统200a和第二子系统200b。在各种实施例中，第二子系统200b可与第一子系统200a相同或至少基本上相同，因此，为简明起见第二子系统200b的结构和操作在此不再赘述。在至少一个实施例中，第一子系统200a可被配置成将第一流体分配给一个或多个流体循环系统，诸如流体循环系统290a和290b，并且第二子系统200b可被配置成将第二流体分配给（例如）流体循环系统290a、290b。在至少一个此类实施例中，第一流体分配子系统200a可被配置成将（例如）洗涤剂分配给流体循环系统，而第二流体分配子系统200b可被配置成将灭菌剂（诸如过氧乙酸）分配给流体循环系统。同样如上文所讨论，可在不同时间操作流体分配系统200a和200b以在其操作循环过程中的不同时间为流体循环系统供应其相应的流体。在各种其他情况下，流体子系统200a和200b（例如）可同时操作以为相同流体循环系统供应不同流体和/或同时操作以为不同流体循环系统供应不同流体。

就以上所述而言，第一流体循环系统290a可包括第一通道流子系统160和用于使流体循环通过第一循环系统290a的第一泵162，而第二流体循环系统290b可包括第二通道流子系统160和用于使流体循环通过第二循环系统290b的第二泵160。在各种其他实施例中，器械再处理机可包括任何合适数量的流体循环系统；然而，关于流体循环系统中的任何一者，其通道流子系统160可被配置成控制该流体循环系统的初始化或启动程序。更具体地讲，在将器械置于水池110中并且闭合封盖130之后，操作者可初始化操作循环以对器械进行清洁，并且此时通道流子系统160可被配置成控制来自泵162的再处理流体的初始流量。在各种实施例中，器械（诸如内窥镜）可包括延伸通过其中的多个通道或内腔，所述多个通道或内腔可具有（例如）不同长度、直径和/或构型，使得通道可具有（例如）不同的总体流动阻力或限制。如果在所有比例阀174处于打开状态和/或相同状态的前提下初始化泵162，则从泵162流出的流体往往会在（例如）充填和/或加压具有较高流动阻力的内窥镜通道之前充填和/或加压具有较低流动阻力的内窥镜的通道。在各种情况下，此类情形将为瞬态的并且将最终达到流体循环系统的期望操作状态或稳态操作状态。在一些情况下，该启动程序完全合适。然而，在其他情况下，可能期望不同启动程序。

在各种实施例中，就以上所述而言，通道流子系统160可包括（例如）计算机和/或微处理器，其可在初始化程序过程中将阀174布置在不同状态下。在至少一个实施例中，子系统计算机可操作阀174以补偿（例如）内窥镜通道的不同流动阻力或限制。例如，对于控制流体流过高流动阻力内窥镜通道的流量的阀174而言，子系统计算机可将此类阀174置于完全打开状态，而对于控制流体流过低流动阻力内窥镜通道的流量的阀174而言，子系统计算机可将此类阀174置于部分闭合状态。在此类实施例中，来自泵162的流体流可趋于同时或至少基本上同时充填和/或加压所有内窥镜通道。在某些情况下，可缩短用加压流体充填通道的瞬态，并可在较少时间内达到稳态操作状态或期望的操作状态。此类实施例可减少运行器械再处理机100的清洁循环所需的总体时间。在具有八个内窥镜通道和用于控制流体流过（例如）八个对应通道供应管线164的流量的八个流量控制单元170的实施例中，其八个比例阀174可全部置于（例如）处于打开、闭合、部分打开和/或部分闭合的不同状态和/或相同状态下。

在本文所述的各种实施例中，流子系统计算机可利用一个或多个标准或参数以用于在初始化或启动程序过程中控制流量控制单元170的阀174。就以上所述而言，第一控制单元170的第一比例阀174可被配置成控制流体流过由特定参数的第一值限定的第一内窥镜通道，第二控制单元170的第二比例阀174可被配置成控制流体流过由所述特定参数的第二值限定的第二内窥镜通道，并且第三控制单元170的第三比例阀174可被配置成控制流体流过由特定参数的第三值限定的第三内窥镜通道。在各种实施例中，参数的第一值可大于参数的第二值，并且参数的第二值可大于参数的第三值，其中第一阀174可调节至第一打开状态，第二阀174可基于参数的第一值和第二值之间的差值调节至第二打开状态，并且第三阀174可基于参数的第一值和第三值之间的差值调节至第三打开状态，以便调控流体流过第一、第二和第三通道的流量。在至少一个此类实施例中，可分别选择第一、第二和第三阀174的第一打开状态、第二打开状态和第三打开状态，使得在流体循环系统的初始化或启动程序过程中，可在整个第一、第二和第三内窥镜通道内均匀或至少基本上均匀地分配流体流过第一、第二和第三内窥镜通道的流量。在至少一个实施例中，可选择阀174的第一、第二和第三打开状态，使得在内窥镜通道用流体充填时通过内窥镜通道的容积流量彼此相等或至少基本上相等。在此类实施例中，通过内窥镜通道的流体流量在初始化程序过程中可增加，其中每个流体流可与其他流体流同时增加。在至少一个实施例中，可选择阀174的第一、第二和第三打开状态，使得在内窥镜通道用流体充填时流过内窥镜通道的流体的表压彼此相等或至少基本上相等。在此类实施例中，流过内窥镜通道的压力或流体可在初始化程序过程中增加，其中每个流体流的压力可与其他流体流的压力同时增加。

在至少一个实施例中，就以上所述而言，用于选择比例阀174的打开状态的参数可包括器械通道的流动阻力值。在各种情况下，器械通道的流动阻力值可受到许多变量的影响；然而，器械通道的流动阻力值可很大程度上由通道长度、通道直径以及通道路径中的弯曲或弯道决定。具有较大长度、较小直径和/或在通道路径中具有更多弯曲的器械通道将通常比具有较短长度、较大直径和/或在通道路径中具有较少弯曲的器械通道具有较高流动阻力值。在任何情况下，可选择具有最高流动阻力值的医疗器械的器械通道作为基线，可通过该基线调整通过其他器械通道的流体流。在至少一个实施例中，第一器械通道可具有最高流体流动阻力并且可将第一比例阀174设定为（例如）完全打开状态。在各种实施例中，可基于第一流动阻力值和第二流动阻力值之间的差值将第二比例阀174闭合特定的量。相似地，可基于第一流动阻力值和第三流动阻力值之间的差值将第三比例阀174闭合特定的量。在各种情况下，器械通道的流动阻力值和第一流动阻力值或基线流动阻力值之间的差值越大，对应的比例阀174可闭合的程度就越大。

在任何情况下，就以上所述而言，一旦达到了流体循环系统的稳态操作状态或期望的操作状态，子系统计算机就可允许流量控制单元170独立地控制和制约流体流过内窥镜通道供应管线164的流量，如上文所讨论。在各种情况下，本文所述的装置和方法可被设计成提供足够的再处理流体供应以对包括具有不同流动阻力的通道的内窥镜和/或任何其他合适器械进行清洁、消毒和/或灭菌。就以上所述而言，这些装置和方法可被配置成通过单独地控制流体流过每个通道而向通道供应足够供应的再处理流体。

在各种情况下，泵162可具有足够输出以在操作循环的初始化过程中以及整个操作循环中为全部再处理机供应管线164及其关联的内窥镜通道供应足够供应的再处理流体。就以上所述而言，流量控制单元170可被配置成管理向其供应的流体，使得经过每个再处理机供应管线164的流量达到或超出最小目标流量，因此并不急需流体。如果通过再处理机供应管线164中的一者或多者的流体流量低于最小目标流量并且泵162未在最大容量下操作，则可增加泵162的输出。在一些情况下，离开泵162的再处理流体的表压可至少暂时增加到高于目标表压，诸如35psig，以便泵162满足再处理机供应管线164及其关联的内窥镜通道的供应需求。如果通过再处理机供应管线164中的一者或多者的流体流量低于最小目标流量并且泵162在最大或接近最大容量下操作，则可操作至少一个增压泵以增加进入歧管166和再处理机供应管线164的再处理流体的流量和/或压力。在各种实施例中，所述至少一个增压泵可（例如）与泵162串联和/或与泵162并联，其中可选择性地操作所述至少一个增压泵以协助泵162。

在本文所讨论的各种实施例中，通道流子系统160的每个再处理机供应管线164可包括被配置成控制可变孔口的比例阀174。在各种其他实施例中，再处理机供应管线164中的至少一者可包括固定孔口或固定孔口阀。在至少一个实施例中，固定孔口阀可定位成处于打开状态或闭合状态。在至少一个此类实施例中，具有固定孔口阀的再处理机供应管线164可联接到（例如）具有最高流体流动阻力的内窥镜通道，其中通过此类内窥镜通道的流体流量可取决于由泵162所供应的再处理流体的表压。在各种实施例中，当固定孔口阀（例如）处于打开状态时，可相对于具有固定孔口阀的再处理机供应管线164来调节（例如）具有由比例阀174控制的可变孔口的再处理机供应管线164。

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尽管已经将本发明作为示例性设计进行了描述，但还可以在本公开的精神和范围内对本发明进行另外的修改。因此本专利申请旨在涵盖采用本发明一般原理的任何变型、用途或适应型式。此外，本专利申请旨在涵盖本发明所属领域中出自已知或惯有实践范围内的背离本公开的型式。

Claims (9)

1.一种控制再处理流体通过具有至少第一通道和第二通道的器械的流动的方法，所述方法包括以下步骤：

操作与再处理流体源流体连通的泵；

使所述再处理流体流动通过包括第一阀和第一压差传感器的第一流体回路，其中所述第一流体回路与所述泵和所述第一通道流体连通；

利用所述第一压差传感器检测流入所述第一阀中的所述再处理流体中的第一压差；

利用来自所述第一压差传感器的输出调节所述第一阀以控制再处理流体通过所述第一通道的所述第一流量；

使所述再处理流体流动通过包括第二阀和第二压差传感器的第二流体回路，其中所述第二流体回路与所述泵和所述第二通道流体连通；

利用所述第二压差传感器检测流入所述第二阀中的所述再处理流体中的第二压差；以及

利用来自所述第二压差传感器的输出调节所述第二阀以控制再处理流体通过所述第二通道的所述第二流量；

其中调节所述第一阀的所述步骤包括调节第一可变阀孔口，并且其中调节所述第二阀的所述步骤包括调节第二可变阀孔口。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤：

测量所述第一流体回路中的所述再处理流体的第一表压；

将所述第一表压与第一最大压力进行比较；以及

如果所述第一表压超出所述第一最大压力，则闭合所述第一阀以停止流体通过所述第一流体回路的流动。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤：

将所述第一流量与第一目标流量进行比较；以及

如果所述第一流量高于所述第一目标流量，则至少部分地闭合所述第一阀，或如果所述第一流量低于所述第一目标流量，则至少部分地打开所述第一阀；

将所述第二流量与第二目标流量进行比较；以及

如果所述第二流量高于所述第二目标流量，则至少部分地闭合所述第二阀，或如果所述第二流量低于所述第二目标流量，则至少部分地打开所述第二阀。

4.一种用于清洁医疗器械的器械再处理机，所述医疗器械包括通路，所述器械再处理机包括：

腔室，其被配置成容纳所述医疗器械；

供应连接器，其被配置成与所述通路流体联接；

泵，其被配置成对再处理流体加压并且向所述供应连接器供应所述再处理流体，其中所述泵包括入口和出口；

表压传感器，其被定位成感测从所述泵出口流出的所述再处理流体的表压；以及

流量控制系统，其包括：

与所述供应连接器流体连通的阀，其中所述阀被配置成控制通过所述通路的再处理流体的流量，并且其中所述阀包括入口和出口；

压差传感器，其被配置成感测固定孔口相对侧上的所述再处理流体中的压降，其中所述压差传感器定位在相对于所述表压传感器的下游以及相对于所述阀出口的上游；以及

与所述压差传感器进行信号通信的处理器，其中所述处理器被配置成基于所述压降解读所述流量并且命令所述阀进行至少部分闭合和至少部分打开中的至少一个。

5.一种控制再处理流体通过包括通道的器械的流动的方法，所述方法包括以下步骤：

操作与再处理流体源流体连通的泵；

测量从所述泵流出的所述再处理流体的表压；

调整所述再处理流体的流动以调整所述再处理流体的表压，从而使从所述泵流出的所述再处理流体保持在基本上恒定的压力；

使所述再处理流体流动通过包括阀和压差传感器的流体回路，其中所述流体回路与所述泵和所述通道流体连通；

利用所述压差传感器检测流入所述阀中的所述再处理流体中的压差；以及

利用来自所述压差传感器的输出调节所述阀以控制再处理流体通过所述通道的所述流量；

其中调节所述阀的所述步骤包括调节可变阀孔口。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤：计算所述再处理流体通过所述通道的所述流量。

7.一种控制再处理流体通过具有至少第一通道和第二通道的器械的流动的方法，其中所述第一通道由参数的第一值限定，并且所述第二通道由所述参数的第二值限定，所述方法包括以下步骤：

初始化与再处理流体源流体连通的泵以开始操作循环；

向包括第一阀的第一流体回路供应所述再处理流体，其中所述第一流体回路与所述泵和所述第一通道流体连通；

向包括第二阀的第二流体回路供应所述再处理流体，其中所述第二流体回路与所述泵和所述第二通道流体连通；以及

调节所述第一阀以限制再处理流体通过所述第一通道的流动，其中再处理流体的所述流动受限的量取决于所述参数的第一值和所述参数的第二值之间的关系，由此当所述泵初始化时所述再处理流体流动通过所述第一通道和所述第二通道；

其中调节所述第一阀的所述步骤包括调节第一可变阀孔口，并且其中调节所述第二阀的所述步骤包括调节第二可变阀孔口。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述调节步骤包括限制再处理流体通过所述第一通道的流动，使得流动通过所述第一通道的所述再处理流体的压力与流动通过所述第二通道的所述再处理流体的压力相同。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤：调节所述第二阀以限制再处理流体通过所述第二通道的流动，其中再处理流体的所述流动受限的量取决于所述参数的第二值和所述参数的目标值之间的关系。

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