JP2014530481A5 - - Google Patents
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- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
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- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 5
- FGUUSXIOTUKUDN-IBGZPJMESA-N C1(=CC=CC=C1)N1C2=C(NC([C@H](C1)NC=1OC(=NN=1)C1=CC=CC=C1)=O)C=CC=C2 Chemical compound C1(=CC=CC=C1)N1C2=C(NC([C@H](C1)NC=1OC(=NN=1)C1=CC=CC=C1)=O)C=CC=C2 FGUUSXIOTUKUDN-IBGZPJMESA-N 0.000 claims description 2
Description
上の説明は、好ましい実施の形態の動作を示すために含まれ、本発明の範囲を限定することを意図していないことが理解されるべきである。上の説明から、多くの変形が、本発明の意図及び範囲に包含されることが当業者に明らかである。
以下に、出願当初の特許請求の範囲に記載の事項を、そのまま付記しておく。
[1]
その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリであって、
第1及び第2のホイールが設けられた本体を具備し、前記ホイールの両方が、前記本体の中央水平面から垂直に延び、前記第1のホイールは、さらに、前記第2のホイールよりも前記本体の前記水平面からさらに延び、
前記モジュール又は前記支持体に設けられ、かつ、前記本体の前記第1及び第2のホイールと接触し、前記モジュールと前記支持体との間で前記本体をガイドするように配置されたトラックを具備し、前記トラックは、傾斜部を有し、前記モジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入により、前記モジュールが前記支持体からリフトされるアセンブリ。
[2]
前記第1のホイールは、前記第2のホイールよりも前記本体の前記中央水平面からさらに距離h延び、前記第1のホイールの軸は、前記第2のホイールの軸から水平方向に距離Dに配置されている請求項1のアセンブリ。
[3]
前記トラックは、第1及び第2の傾斜部を有し、前記第1の傾斜部は、前記第2の傾斜部と直接一致し、前記第1の傾斜部の開始部は、前記第2の開始部から水平方向に前記距離Dに、かつ、前記第2の傾斜部の開始部から垂直方向に前記距離hに配置されている請求項2のアセンブリ。
[4]
前記本体は、水平面を有し、前記水平面は、前記中央水平面に対して第1及び第2のホイールの反対側に配置されている請求項1ないし3のいずれか1のアセンブリ。
[5]
前記本体には、さらに、ガイドホイールが設けられている請求項1ないし4のいずれか1のアセンブリ。
[6]
前記ガイドホイールは、好ましくは、前記水平面を規定している請求項4又は5のアセンブリ。
[7]
前記トラックは、さらに、第1及び第2の水平な平坦部を有し、
前記第1の平坦部の開始部は、前記第2の平坦部の開始部から水平方向に前記距離Dに、かつ、前記第2の平坦部の開始部から垂直方向に前記距離hに配置され、
前記第1の平坦部は、前記第1の傾斜部と前記第2の傾斜部との間に配置されている請求項3ないし6のいずれか1のアセンブリ。
[8]
前記トラックは、さらに、前記第1の傾斜部の開始部に接続された第3の水平な平坦部を有する請求項7のアセンブリ。
[9]
前記第1の傾斜部は、前記第2の傾斜部に接続され、前記第1及び第2の傾斜部は、単一の傾斜部を一緒に形成している請求項3ないし6のいずれか1のアセンブリ。
[10]
前記第1のホイール及び前記第2のホイールは、前記本体の前記中央水平面から垂直下向き方向に延びている請求項1ないし9のいずれか1のアセンブリ。
[11]
さらに、前記モジュールを運ぶための移動可能なカートを具備し、前記カートは、
前記モジュールをガイドし支持するためのガイドホイールと、
前記本体の前記ガイドホイールで前記カートの前記ガイドホイールをアライメントさせるために、前記ガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節するためのアジャ開始部を有する請求項5ないし10のいずれか1のアセンブリ。
[12]
前記第1の傾斜部の傾きは、1:50〜1:200の範囲にあるか、約1:100である請求項3ないし11のいずれか1のアセンブリ。
[13]
前記本体を前記支持体に解放可能に接続するためのコネクタをさらに具備する請求項1ないし12のいずれか1のアセンブリ。
[14]
その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリであって、
第1及び第2の滑動装置が設けられた本体を具備し、前記滑動装置の両方は、前記本体の前記中央水平面から垂直に延び、前記第1の滑動装置は、前記第2の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面からさらに垂直に延び、
前記モジュール又は前記支持体に設けられ、前記本体の前記第1及び第2の滑動装置と接触するように配置されたトラックを具備し、前記トラックは、傾斜部を有し、前記モジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入により、前記モジュールが前記支持体からリフトされるアセンブリ。
[15]
前記第1及び第2の滑動装置の各々は、それぞれの接点で前記トラックと接触するための湾曲面又は山型部を有する請求項14のアセンブリ。
[16]
前記第1の滑動装置は、前記第2の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面から垂直にさらに距離h延び、前記第1の滑動装置の接点は、前記第2の滑動装置の接点から水平方向に距離Dに配置されている請求項15のアセンブリ。
[17]
前記トラックは、第1及び第2の傾斜部を有し、前記第1の傾斜部は、前記第2の傾斜部で直接一致し、前記第1の傾斜部の開始部は、前記第2の傾斜部の開始部から水平方向に前記距離Dに、かつ、前記第2の傾斜部の開始部から垂直方向に前記距離hに配置されている請求項16のアセンブリ。
[18]
パターニングビームを用いてターゲットを処理するためのリソグラフィシステムであって、リソグラフィシステムは、
前記パターニングビームを与え、前記パターニングビームに対して前記ターゲットを移動させるための1組のモジュールを具備し、前記1組のモジュールは、リフト可能なモジュールを有し、
前記1組のモジュールを支持するためのフレームと、
前記リフト可能なモジュールを垂直方向にリフトするための請求項1ないし17のいずれか1のアセンブリとを具備し、
前記リフト可能なモジュールは、支持体によって支持され、
前記支持体は、前記フレームか前記1組の他方のモジュールであり、
前記アセンブリのトラックは、前記支持体又は前記リフト可能なモジュールに配置され、前記アセンブリの前記本体は、前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に挿入されるように配置されているリソグラフィシステム。
[19]
溝は、前記支持体又は前記リフト可能なモジュールに設けられ、前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入中に前記本体をガイドするように配置され、前記トラックが前記溝に設けられる請求項18のリソグラフィシステム。
[20]
前記本体は、細長い形状を有し、前記溝は、細長い形状を有する請求項19のリソグラフィシステム。
[21]
前記本体の挿入方向に前記モジュールの移動を制限するように配置された制限装置をさらに具備する請求項18ないし20のいずれか1のリソグラフィシステム。
[22]
その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするための方法であって、
請求項18ないし21のいずれか1のリソグラフィシステムを設ける工程と、
前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入する工程とを具備する方法。
[23]
好ましくは移動可能なカートに、その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを水平に移動させる工程をさらに具備する請求項22の方法。
[24]
リソグラフィシステムのモジュールを交換するための方法であって、
a)請求項18ないし21のいずれか1のリソグラフィシステムを設ける工程と、
b)前記リフト可能なモジュールを運ぶために移動可能なカートを設ける工程と、
c)前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入して、これにより、前記支持体から前記モジュールをリフトさせる工程と、
d)その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートに水平に移動させる工程とを具備する方法。
[25]
工程d)は、さらに、
d1)前記移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
d2)その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートの前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む請求項24の方法。
[26]
e)他のリフト可能なモジュールを運ぶために他の移動可能なカートを設ける工程を含み、他のリフト可能なモジュールは、他の移動可能なカートに配置され、
f)前記カートに対して前記他のリフト可能なモジュールを前記本体に水平に移動させる工程と、
g)前記他のリフト可能なモジュールと前記支持体との間の前記本体を取り外し、これにより前記支持体に前記モジュールを下げる工程とをさらに具備する請求項24又は25の方法。
[27]
工程f)は、さらに、
f1)前記他の移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記他の移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
f2)前記カートに対して前記リフト可能なモジュールを前記本体の前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む請求項26の方法。
[28]
前記移動可能なカート及び前記他の移動可能なカートは、同じカートである請求項26又は27の方法。
以下に、出願当初の特許請求の範囲に記載の事項を、そのまま付記しておく。
[1]
その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリであって、
第1及び第2のホイールが設けられた本体を具備し、前記ホイールの両方が、前記本体の中央水平面から垂直に延び、前記第1のホイールは、さらに、前記第2のホイールよりも前記本体の前記水平面からさらに延び、
前記モジュール又は前記支持体に設けられ、かつ、前記本体の前記第1及び第2のホイールと接触し、前記モジュールと前記支持体との間で前記本体をガイドするように配置されたトラックを具備し、前記トラックは、傾斜部を有し、前記モジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入により、前記モジュールが前記支持体からリフトされるアセンブリ。
[2]
前記第1のホイールは、前記第2のホイールよりも前記本体の前記中央水平面からさらに距離h延び、前記第1のホイールの軸は、前記第2のホイールの軸から水平方向に距離Dに配置されている請求項1のアセンブリ。
[3]
前記トラックは、第1及び第2の傾斜部を有し、前記第1の傾斜部は、前記第2の傾斜部と直接一致し、前記第1の傾斜部の開始部は、前記第2の開始部から水平方向に前記距離Dに、かつ、前記第2の傾斜部の開始部から垂直方向に前記距離hに配置されている請求項2のアセンブリ。
[4]
前記本体は、水平面を有し、前記水平面は、前記中央水平面に対して第1及び第2のホイールの反対側に配置されている請求項1ないし3のいずれか1のアセンブリ。
[5]
前記本体には、さらに、ガイドホイールが設けられている請求項1ないし4のいずれか1のアセンブリ。
[6]
前記ガイドホイールは、好ましくは、前記水平面を規定している請求項4又は5のアセンブリ。
[7]
前記トラックは、さらに、第1及び第2の水平な平坦部を有し、
前記第1の平坦部の開始部は、前記第2の平坦部の開始部から水平方向に前記距離Dに、かつ、前記第2の平坦部の開始部から垂直方向に前記距離hに配置され、
前記第1の平坦部は、前記第1の傾斜部と前記第2の傾斜部との間に配置されている請求項3ないし6のいずれか1のアセンブリ。
[8]
前記トラックは、さらに、前記第1の傾斜部の開始部に接続された第3の水平な平坦部を有する請求項7のアセンブリ。
[9]
前記第1の傾斜部は、前記第2の傾斜部に接続され、前記第1及び第2の傾斜部は、単一の傾斜部を一緒に形成している請求項3ないし6のいずれか1のアセンブリ。
[10]
前記第1のホイール及び前記第2のホイールは、前記本体の前記中央水平面から垂直下向き方向に延びている請求項1ないし9のいずれか1のアセンブリ。
[11]
さらに、前記モジュールを運ぶための移動可能なカートを具備し、前記カートは、
前記モジュールをガイドし支持するためのガイドホイールと、
前記本体の前記ガイドホイールで前記カートの前記ガイドホイールをアライメントさせるために、前記ガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節するためのアジャ開始部を有する請求項5ないし10のいずれか1のアセンブリ。
[12]
前記第1の傾斜部の傾きは、1:50〜1:200の範囲にあるか、約1:100である請求項3ないし11のいずれか1のアセンブリ。
[13]
前記本体を前記支持体に解放可能に接続するためのコネクタをさらに具備する請求項1ないし12のいずれか1のアセンブリ。
[14]
その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリであって、
第1及び第2の滑動装置が設けられた本体を具備し、前記滑動装置の両方は、前記本体の前記中央水平面から垂直に延び、前記第1の滑動装置は、前記第2の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面からさらに垂直に延び、
前記モジュール又は前記支持体に設けられ、前記本体の前記第1及び第2の滑動装置と接触するように配置されたトラックを具備し、前記トラックは、傾斜部を有し、前記モジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入により、前記モジュールが前記支持体からリフトされるアセンブリ。
[15]
前記第1及び第2の滑動装置の各々は、それぞれの接点で前記トラックと接触するための湾曲面又は山型部を有する請求項14のアセンブリ。
[16]
前記第1の滑動装置は、前記第2の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面から垂直にさらに距離h延び、前記第1の滑動装置の接点は、前記第2の滑動装置の接点から水平方向に距離Dに配置されている請求項15のアセンブリ。
[17]
前記トラックは、第1及び第2の傾斜部を有し、前記第1の傾斜部は、前記第2の傾斜部で直接一致し、前記第1の傾斜部の開始部は、前記第2の傾斜部の開始部から水平方向に前記距離Dに、かつ、前記第2の傾斜部の開始部から垂直方向に前記距離hに配置されている請求項16のアセンブリ。
[18]
パターニングビームを用いてターゲットを処理するためのリソグラフィシステムであって、リソグラフィシステムは、
前記パターニングビームを与え、前記パターニングビームに対して前記ターゲットを移動させるための1組のモジュールを具備し、前記1組のモジュールは、リフト可能なモジュールを有し、
前記1組のモジュールを支持するためのフレームと、
前記リフト可能なモジュールを垂直方向にリフトするための請求項1ないし17のいずれか1のアセンブリとを具備し、
前記リフト可能なモジュールは、支持体によって支持され、
前記支持体は、前記フレームか前記1組の他方のモジュールであり、
前記アセンブリのトラックは、前記支持体又は前記リフト可能なモジュールに配置され、前記アセンブリの前記本体は、前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に挿入されるように配置されているリソグラフィシステム。
[19]
溝は、前記支持体又は前記リフト可能なモジュールに設けられ、前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入中に前記本体をガイドするように配置され、前記トラックが前記溝に設けられる請求項18のリソグラフィシステム。
[20]
前記本体は、細長い形状を有し、前記溝は、細長い形状を有する請求項19のリソグラフィシステム。
[21]
前記本体の挿入方向に前記モジュールの移動を制限するように配置された制限装置をさらに具備する請求項18ないし20のいずれか1のリソグラフィシステム。
[22]
その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするための方法であって、
請求項18ないし21のいずれか1のリソグラフィシステムを設ける工程と、
前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入する工程とを具備する方法。
[23]
好ましくは移動可能なカートに、その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを水平に移動させる工程をさらに具備する請求項22の方法。
[24]
リソグラフィシステムのモジュールを交換するための方法であって、
a)請求項18ないし21のいずれか1のリソグラフィシステムを設ける工程と、
b)前記リフト可能なモジュールを運ぶために移動可能なカートを設ける工程と、
c)前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入して、これにより、前記支持体から前記モジュールをリフトさせる工程と、
d)その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートに水平に移動させる工程とを具備する方法。
[25]
工程d)は、さらに、
d1)前記移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
d2)その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートの前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む請求項24の方法。
[26]
e)他のリフト可能なモジュールを運ぶために他の移動可能なカートを設ける工程を含み、他のリフト可能なモジュールは、他の移動可能なカートに配置され、
f)前記カートに対して前記他のリフト可能なモジュールを前記本体に水平に移動させる工程と、
g)前記他のリフト可能なモジュールと前記支持体との間の前記本体を取り外し、これにより前記支持体に前記モジュールを下げる工程とをさらに具備する請求項24又は25の方法。
[27]
工程f)は、さらに、
f1)前記他の移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記他の移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
f2)前記カートに対して前記リフト可能なモジュールを前記本体の前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む請求項26の方法。
[28]
前記移動可能なカート及び前記他の移動可能なカートは、同じカートである請求項26又は27の方法。
Claims (21)
- 支持体(401)から、リソグラフィシステム(500)のモジュール(122;501,504,507,509,518,519,531)を、前記支持体に対して垂直方向にリフトするためのアセンブリであって、
第1及び第2のホイール又は第1及び第2の滑動装置(117,118)が設けられた本体(116)を具備し、前記第1及び第2のホイールの両方、又は第1及び第2の滑動装置の両方が、前記本体の中央水平面(130)から垂直に延び、
前記モジュール又は前記支持体に設けられ、かつ、前記本体の前記第1及び第2のホイール又は第1及び第2の滑動装置と接触し、前記モジュールと前記支持体との間で前記本体をガイドするように配置されたトラック(110)を具備し、
前記第1のホイール又は前記第1の滑動装置は、さらに、前記第2のホイール又は前記第2の滑動装置よりも前記本体の前記水平面からさらに延び、
前記本体は、前記モジュールが前記支持体からリフトされるために、前記モジュールと前記支持体との間に挿入されるように構成され、
前記トラックは傾斜部(111;112)を備え、前記本体が前記トラックの前記傾斜部に沿って前進するとき、前記モジュールが前記支持体からリフトされる、
アセンブリ。 - 前記第1及び第2の滑動装置の各々は、それぞれの接点で前記トラックと接触するための湾曲面又は山型部を有する、請求項1に記載のアセンブリ。
- 前記第1のホイール又は前記第1の滑動装置は、前記第2のホイール又は前記第2の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面からさらに距離h延び、前記第1のホイールの軸は、前記第2のホイールの軸から水平方向に距離Dに配置されており、又は前記第1の滑動装置の接点は、前記第2の滑動装置の接点から水平方向に距離Dに配置されており、
前記トラックは、第1及び第2の傾斜部を有し、前記第1の傾斜部は、前記第2の傾斜部と直接一致し、前記第1の傾斜部の開始部は、前記第2の開始部から水平方向に前記距離Dに、かつ、前記第2の傾斜部の開始部から垂直方向に前記距離hに配置されている、請求項1又は2に記載のアセンブリ。 - 前記トラックは、さらに、第1及び第2の水平な平坦部を有し、
前記第1の平坦部の開始部は、前記第2の平坦部の開始部から水平方向に前記距離Dに、かつ、前記第2の平坦部の開始部から垂直方向に前記距離hに配置され、
前記第1の平坦部は、前記第1の傾斜部と前記第2の傾斜部との間に配置されている、請求項3に記載のアセンブリ。 - 前記トラックは、さらに、前記第1の傾斜部の開始部に接続された第3の水平な平坦部を有する、請求項4に記載のアセンブリ。
- 前記第1の傾斜部は、前記第2の傾斜部に接続され、前記第1及び第2の傾斜部は、単一の傾斜部を一緒に形成している、請求項3ないし5のいずれか1に記載のアセンブリ。
- 前記第1の傾斜部の傾きは、1:50〜1:200の範囲にあるか、又は略1:100である、請求項3ないし6のいずれか1に記載のアセンブリ。
- 前記第1のホイール又は前記第1の滑動装置及び前記第2のホイール又は前記第2の滑動装置は、前記本体の前記中央水平面から垂直下向き方向に延びている、請求項1ないし7のいずれか1に記載のアセンブリ。
- 前記本体は、水平面を有し、前記水平面は、前記中央水平面に対して第1及び第2のホイール又は前記第1及び第2の滑動装置の反対側に配置されている、請求項1ないし8のいずれか1に記載のアセンブリ。
- 前記本体には、さらに、ガイドホイールが設けられている、請求項1ないし9のいずれか1に記載のアセンブリ。
- 前記本体には、さらに、前記水平面を規定しているガイドホイールが設けられている、請求項9に記載のアセンブリ。
- さらに、前記モジュールを運ぶための移動可能なカートを具備し、前記カートは、
前記モジュールをガイドし支持するためのガイドホイールと、
前記本体の前記ガイドホイールで前記カートの前記ガイドホイールをアライメントさせるために、前記ガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節するための調節部を有する、請求項10又は11に記載のアセンブリ。 - 前記本体を前記支持体に解放可能に接続するためのコネクタをさらに具備する、請求項1ないし12のいずれか1に記載のアセンブリ。
- パターニングビームを用いてターゲットを処理するためのリソグラフィシステムであって、該リソグラフィシステムは、
前記パターニングビームを与え、前記パターニングビームに対して前記ターゲットを移動させるための1組のモジュールを具備し、前記1組のモジュールは、リフト可能なモジュールを有し、
前記1組のモジュールを支持するためのフレームと、
前記リフト可能なモジュールを垂直方向にリフトするための請求項1ないし13のいずれか1に記載のアセンブリとを具備し、
前記リフト可能なモジュールは、支持体によって支持され、
前記支持体は、前記フレームか前記1組の他方のモジュールであり、
前記アセンブリのトラックは、前記支持体又は前記リフト可能なモジュールに配置され、前記アセンブリの前記本体は、前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に挿入されるように配置されているリソグラフィシステム。 - 溝は、前記支持体又は前記リフト可能なモジュールに設けられ、前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入中に前記本体をガイドするように配置され、前記トラックが前記溝に設けられる、請求項14に記載のリソグラフィシステム。
- 前記本体は、細長い形状を有し、前記溝は、細長い形状を有する、請求項15に記載のリソグラフィシステム。
- 前記本体の挿入方向に前記モジュールの移動を制限するように配置された制限装置をさらに具備する、請求項14ないし16のいずれか1に記載のリソグラフィシステム。
- リソグラフィシステムのモジュールを交換するための方法であって、
a)請求項14ないし17のいずれか1に記載のリソグラフィシステムを設ける工程と、
b)前記リフト可能なモジュールを運ぶために移動可能なカートを設ける工程と、
c)前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入して、これにより、前記支持体から前記モジュールをリフトさせる工程と、
d)その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートに水平に移動させる工程と、を具備する方法。 - 工程d)は、さらに、
d1)前記移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
d2)その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートの前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む、請求項18に記載の方法。 - e)他のリフト可能なモジュールを運ぶために前記と同じ又は他の移動可能なカートを設ける工程を含み、前記他のリフト可能なモジュールは、前記移動可能なカートに配置され、
f)前記移動可能なカートに対して前記他のリフト可能なモジュールを前記本体に水平に移動させる工程と、
g)前記他のリフト可能なモジュールと前記支持体との間の前記本体を取り外し、これにより前記支持体に前記他のモジュールを下げる工程とをさらに具備する、請求項18又は19に記載の方法。 - 工程f)は、さらに、
f1)前記他の移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
f2)前記カートに対して前記リフト可能なモジュールを前記本体の前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む、請求項20に記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201161533321P | 2011-09-12 | 2011-09-12 | |
US61/533,321 | 2011-09-12 | ||
NL2007401 | 2011-09-12 | ||
NL2007401A NL2007401C2 (en) | 2011-09-12 | 2011-09-12 | Assembly and a method for lifting a module of a lithography system in a vertical direction and a lithography system comprising such assembly. |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017116055A Division JP6367430B2 (ja) | 2011-09-12 | 2017-06-13 | リソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリ及び方法、並びにこのようなアセンブリを有するリソグラフィシステム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014530481A JP2014530481A (ja) | 2014-11-17 |
JP2014530481A5 true JP2014530481A5 (ja) | 2015-10-29 |
Family
ID=47883514
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014529636A Withdrawn JP2014530481A (ja) | 2011-09-12 | 2012-09-07 | リソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリ及び方法、並びにこのようなアセンブリを有するリソグラフィシステム |
JP2017116055A Active JP6367430B2 (ja) | 2011-09-12 | 2017-06-13 | リソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリ及び方法、並びにこのようなアセンブリを有するリソグラフィシステム |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017116055A Active JP6367430B2 (ja) | 2011-09-12 | 2017-06-13 | リソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリ及び方法、並びにこのようなアセンブリを有するリソグラフィシステム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9199829B2 (ja) |
JP (2) | JP2014530481A (ja) |
NL (2) | NL2007401C2 (ja) |
TW (1) | TW201312296A (ja) |
WO (1) | WO2013039386A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6499670B2 (ja) * | 2014-03-26 | 2019-04-10 | ゾエティス・サービシーズ・エルエルシー | 卵支持アセンブリ、ならびに関連するデバイス及び方法 |
WO2016169694A1 (de) | 2015-04-22 | 2016-10-27 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | Serviceeinrichtung |
EP3220413B1 (de) | 2016-03-15 | 2022-01-26 | Integrated Dynamics Engineering GmbH | Serviceeinrichtung |
DE102016120820A1 (de) * | 2016-11-02 | 2018-05-03 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | Anlage zur Prozessierung von Halbleiterbauelementen sowie Hebeeinrichtung |
CN107134728A (zh) * | 2017-05-23 | 2017-09-05 | 国网四川省电力公司阿坝供电公司 | 便于移动的直流电源系统 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3220331A (en) * | 1965-01-27 | 1965-11-30 | Kulicke And Soffa Mfg Company | Contact printing mask alignment apparatus for semiconductor wafer geometry |
US4256213A (en) * | 1976-06-04 | 1981-03-17 | Gordon A. Brewer | Flexible mobile conveyor |
US5285909A (en) * | 1993-02-04 | 1994-02-15 | Slater Robert C | Pallet storage rack |
JP2000058420A (ja) * | 1998-08-11 | 2000-02-25 | Ushio Inc | 露光装置におけるマスクステージの取り付け構造 |
US6688819B1 (en) * | 2001-07-02 | 2004-02-10 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Modular, multi-function vehicle interface system |
JP3830041B2 (ja) * | 2003-06-20 | 2006-10-04 | 住友重機械工業株式会社 | ステージベース、及び基板処理装置 |
US7060990B2 (en) * | 2003-06-16 | 2006-06-13 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Stage base, substrate processing apparatus, and maintenance method for stage |
JP3781421B2 (ja) | 2003-07-23 | 2006-05-31 | キヤノン株式会社 | 位置決め方法および位置決め本体装置 |
JP4467369B2 (ja) * | 2004-06-29 | 2010-05-26 | Necエレクトロニクス株式会社 | 搬送台車 |
JP5280064B2 (ja) * | 2008-02-20 | 2013-09-04 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子ビーム描画装置 |
JP2010016066A (ja) * | 2008-07-01 | 2010-01-21 | Shimadzu Corp | 基板検査装置 |
US9052615B2 (en) * | 2008-08-29 | 2015-06-09 | Gigaphoton Inc. | Extreme ultraviolet light source apparatus |
JP5474522B2 (ja) * | 2009-01-14 | 2014-04-16 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光源システム |
JP2011040540A (ja) * | 2009-08-10 | 2011-02-24 | Nikon Corp | 基板処理装置のメンテナンス方法、基板処理装置及びデバイスの製造方法 |
-
2011
- 2011-09-12 NL NL2007401A patent/NL2007401C2/en not_active IP Right Cessation
-
2012
- 2012-09-07 JP JP2014529636A patent/JP2014530481A/ja not_active Withdrawn
- 2012-09-07 WO PCT/NL2012/050628 patent/WO2013039386A1/en active Application Filing
- 2012-09-11 US US13/610,392 patent/US9199829B2/en active Active
- 2012-09-12 TW TW101133273A patent/TW201312296A/zh unknown
-
2013
- 2013-03-11 NL NL2010417A patent/NL2010417C2/en active
-
2017
- 2017-06-13 JP JP2017116055A patent/JP6367430B2/ja active Active
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