TW201312296A - 用於以垂直方向升起微影系統之模組的組件和方法、以及包含該組件之微影系統 - Google Patents

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Abstract

本發明係有關於一種用於從其支撐物以一垂直方向升起一微影系統之一模組的組件和方法、以及包含這樣的元件之一微影系統。組件包括一主體以及一軌道。軌道包括一斜面。主體係具有二輪，其中第一輪比第二輪從一中間水平面上垂直地更伸出多一距離h，並且第一輪之一軸係定位在水平方向上從第二輪之一軸起之一距離D上。軌道可包括一第一斜面以及一第二斜面，其中第一斜面之一起點係定位在水平方向上從第二輪之一起點起之距離D上以及在垂直方向上從第二斜面之起點起之距離h。於模組以及支撐物之間的主體之插入導致模組從支撐物被升起。

Description

用於以垂直方向升起微影系統之模組的組件和方 法、以及包含該組件之微影系統
本發明係關於一種用於以垂直方向升起微影系統之模組的組件和方法、以及包含該組件之微影系統支撐。
微影系統，於一圖案化光束處理一目標物，如一晶圓，在該領域中係為已知。這樣的系統通常包括用以產生與投射一圖案化光束於一目標物(或一晶圓)之模組以及用以移動相對於圖案化光束之目標物之模組。
在微影系統之組裝或是模組維修的過程中，可能需要在從系統之靜止處移動此系統之模組之前來將此系統之模組升起，舉例來說，為了替換此模組。
因為一微影系統之模組可能是沉重時，一個如電子或氣動起重機的裝置可被使用來升起一或一個以上的模組。這樣的裝置可提供於此微影系統本身內部或是可從此微影系統外部提供，而在這樣的情況下，此裝置必須帶入於此微影系統附近。
然而，起重機的運作既會在微影系統內佔用空間，也會在加工空間中佔用空間，而兩者皆非微影運作中所希望出現的。並且，起重機與其他已知類似吊具伴隨著此機械停機時間將可能不合理地延長如此的總處理時間。此外，起重機與這樣的吊具可能需要緊接著處理及/或移除與被升起物件之連接，關於此成本耗費以及有時需要被升起而 容易損害模組被認為是非期望的。如此已知工具也可能不利於接下來的要求以緊接著升起該模組以允許工具升起部件之移除。
本發明之目的在於提供用於升起一微影系統之一模組之一改良組件，較佳地於此避免上述一或一個以上缺點。
本發明之目的係藉由提供一組件來達成，此組件用於從其支撐物以一垂直方向升起一微影系統之一模組，此組件包括：一主體，係提供一第一輪以及一第二輪，此二輪從此主體之一中間水平面垂直地伸出，其中此第一輪比此第二輪從此主體之此中間水平面垂直地伸出更多；以及一軌道，係以提供於此模組或此支撐物上，並且安排用以接觸此主體之此第一輪與此第二輪，且用以導引此模組及此支撐物之間之此主體，其中此軌道包括一斜面，其中於此模組以及此支撐物之間的此主體之插入導致此模組從此支撐物被升起。
當此主體前移過此軌道上並插入於此模組與此支撐物之間時，由於此斜面之關係，此主體將被水平地與垂直地移動。與此主體接觸之一微影系統之一(可升起)模組也可從而垂直地移動。
在一實施例中，此第一輪比此第二輪從此主體之此中間水平面垂直地更伸出多一距離h，並且此第一輪之一軸係定位在一水平方向上從此第二輪之一軸起之一距離D上。
在一實施例中，此軌道包括一第一斜面以及一第二斜面，此第一斜面直接全等於此第二斜面，其中，此第一斜面之一起點係定位在此水平方向上從此第二斜面之一起點起之此距離D上、以及在此垂直方向上從此第二斜面之此起點起之此距離h上。
可以理解的是此第一輪與此第二輪可藉由一第一滑動元件與一第二滑動元件來替換。每一個滑動元件包括一曲面或是一尖狀物，用以接觸該軌道之各自的接觸點上。假使那樣，此第一滑動元件比此第二滑動元件從此主體之此中間水平面垂直地更伸出多一距離h，並且此第一滑動元件之此接觸點係定位在一水平方向上從此第二滑動元件之此接觸點起之一距離D上。
在一實施例中，此主體包括一水平面，此水平面對於此中間水平面來說，係設置相對於此第一輪以及此第二輪。
當此主體前移過此軌道上並插入於此模組與此支撐物之間時，此主體之此水平面將係水平地與垂直地移動，但是此水平面將維持水平，即，將不旋轉此主體之此水平面。此效果係經由此第一斜面與此第二斜面之形狀與位置、以及相對於此水平面之此第一輪與此第二輪之一對應位置所引起。與此主體接觸之一微影系統之一升降模組也可從而垂直地移動，同時也不被轉動。
此組件之一優點為，不論於此系統中，或是存放在此系統外(例如，在所謂的加工區)，相較於一起重機或是任一如此吊具，其佔有較少的空間。此組件具有相對限度的力 能夠使此沉重的模組之升起，這取決於斜坡之斜率。使用者可藉由推動此軌道上的此主體來使用此裝置，舉例來說，於一般使用者手動的情況下。在這樣的方式下模組可被升起，反之沒有此組件則無法或難以容易和良好地控制升起，當然如維修人員之使用者的情況下亦然。由於此主體可以快速地插入，此組件能夠使此模組之一快速替換。這有甚至更多此情形，當此組件使一升降模組能夠轉移到一可動式台車上。
此斜面之高度定義此模組可被升起高度。在這樣的方式下，此模組所升起之此高度係經由一筆直前進方式準確地控制，其可使容易損害系統部分之損壞風險降到最小。根據本發明，此第一斜面與此第二斜面之高度對應一距離h，其中此第一輪比此第二輪從此主體之此中間水平面垂直地更伸出多一距離h，且其中此第一斜面之一起點係定位在此垂直方向上從此第二斜面之此起點起之此距離h。
此距離D可被限定於平行此主體之一插入方向，即，此主體插入此模組與此支撐物之間之方向。
可以明瞭的是，提及為“D”之所有距離係為相同，同樣地，提及為“h”之所有距離係為相同。
此軌道可提供於此升降模組之此支撐物上。假使那樣，此主體可被插入於此升降模組以及提供於此支撐物上的此軌道之間。此水平面之後將接觸此升降模組，同時此第一輪與此第二輪接觸此軌道。這樣的架構即為正常配置。
然而，此軌道係也提供於此升降模組上或更特別地係於此升降模組之下側上。假使那樣，此主體可插入於此軌道與此支撐物之間。此第一輪與此第二輪之後將接觸提供於此升降模組上之此軌道，同時此水平面之後將接觸此支撐物。這樣的架構即為倒置配置。
根據本發明一實施例之組件，此第一輪之軸與此第二輪之軸係彼此相對及/或相對於此水平面為平行。此第一輪之軸與此第二輪之軸可個別地垂直於此主體之一插入方向。
根據本發明一實施例之組件，此主體更具有多數個導輪，其中此多數個導輪較佳地限制於此水平面。
此第一輪與此第二輪可從此主體之一側垂直地伸出。可提供此多數個導輪在此主體之一相對側。此多數個導輪之軸可安排與此第一輪以及此第二輪平行。
當此主體係插入於此模組與此支撐物之間時，此多數個導輪可導引此主體。此多數個導輪係可安排用以於此正常配置下接觸此升降模組。在這樣的方式下，無水平力或是少許水平力係可施加於此升降模組上。一水平移動從而可被防止。在一倒置配置中，此多數個倒輪係可安排用以接觸此支撐物。
根據本發明一實施例之組件，此軌道更包括一第一水平頂以及一第二水平頂；此第一水平頂之一起點係定位在此水平方向上從此第二水平頂之一起點起之此距離D上、以及在此垂直方向上從此第二水平頂之此起點起之此距離h 上；以及此第一水平頂係安排於此第一斜面以及此第二斜面之間。
提供此第一水平頂以及此第二水平頂之一優點係於升起此升降模組後它們使此主體能夠在這些水平頂上置於一靜止位置。
根據本發明一實施例之組件，此軌道更包括與此第一斜面之此起點連接之一第三水平頂。當此第三水平頂在升起發生前插入此升降模組以及此支撐物之間時，可導引或接觸此主體。
根據本發明一實施例之組件，此第一斜面與此第二斜面係連接，並且此第一斜面與此第二斜面結合形成一單一斜面。此第二斜面之起點與此第一斜面之終點連接。這會產生包括此第一斜面與此第二斜面之一單一斜面。
根據本發明一實施例之組件，其中此第一輪與此第二輪在一垂直向下方向上從此主體之此中間水平面伸出。
在這實施例中，此第一輪與此第二輪從此主體之一下側伸出，並且此主體係可安排於如上所述的正常配置。
在另一實施例中，根據本發明一實施例之組件，其中此第一輪與此第二輪在一垂直向上方向上從此主體之此中間水平面伸出。此第一輪與此第二輪從此主體之一上側伸出，並且此主體係可安排於如上所述的倒置配置。
根據本發明一實施例之組件，此組件更包括用於承載此模組之一可動式台車，其中此台車包括：多數個導輪，用以導引以及支撐此模組；以及多數個調整器，用以調整 此多數個導輪之位置及/或方位，使得此台車之此多數個導輪對齊於此主體之此多數個導輪。
提供如此一可動式台車之一優點係使此升降模組從此支撐物移開。當此台車之此多數個導輪對齊於此主體之此多數個導輪且此升降模組係升起時，此升起的主體係可沿著此主體之此多數個導輪與此台車之此多數個導輪水平地移動至此台車上。然後支撐此模組之此可動式台車可被移開。此台車之多數個導輪的軸係可安排與此主體之多數個導輪平行。
根據本發明一實施例之組件，此第一斜面以及此第二斜面之斜率係於1：50至1：200範圍內，或大約是1：100。提供具有如此一斜率之此第一斜面以及此第二斜面的一優點係使得可施加相對小的力而將沉重模組升起。
根據本發明一實施例之組件，此組件更包括用於可鬆脫地連接此主體與此支撐物之多數個連接器。此多數個連接器之一優點係可於此模組已升起後防止此主體移動。這樣的方式可防止插入後，此主體返回下去此軌道。
本發明之目的係藉由提供用於以一圖案化光束處理一目標物之一微影系統來達成，此微影系統包括：一組模組，用以提供此圖案化光束以及移動相對於此圖案化光束之此目標物，其中，此組模組包括一升降模組；一框架，用以支撐此組模組；以及根據申請專利範圍第1至9項中任一項所述之此組件，用以於此垂直方向升起此升降模組，其中此升降模組藉由一支撐物支撐，此支撐物係此框架或是此 組模組之另一模組；其中此組件之此軌道係安排在此支撐物上或是此升降模組上，以及此組件之此主體係安排以插入於此升降模組以及此支撐物之間。
根據本發明一實施例之微影系統，一溝槽係提供於此支撐物或此升降模組中，並且係安排用以於此主體之插入此升降模組以及此支撐物之間過程中導引此主體，並且此軌道係提供於此溝槽中。
具有一第一輪與一第二輪之此主體可為非平衡的，即，當它係放置於一水平區域時，它可能倒向一側。提供一溝槽之優點可為，此溝槽防止此主體倒下或此溝槽維持此主體之筆直的方位。進一步，當此溝槽插入時，此溝槽導引此主體，使得它沿著此軌道。
根據本發明一實施例之微影系統，此微影系統更包括一限制器，係用以安排限制此模組於此主體之一插入方向的一移動
當此主體插入時，由於在此主體與此升降模組之間可能產生摩擦力，水平力可能施加於此模組上。這些力可能導致此主體在一水平方向上沿著此主體插入之方向移動。一限制器可防止如此之移動。
本發明之目的係藉由提供一種從其本身的支撐物並以一垂直方向升起一微影系統之一模組的方法來達成，包括以下步驟：提供根據申請專利範圍第10至13項中任一項所述之一微影系統；以及於此升降模組以及此支撐物之間插入此主體。
根據本發明一實施例之方法，此方法更包括以下步驟：相對於此升降模組之此支撐物，水平地移動此升降模組，較佳地於一可動式台車上。
根據本發明之另一態樣，係提供一種方法，用於交換微影系統之一模組，包括以下步驟：(a)提供根據申請專利範圍第18至21項中任一項所述之一微影系統；(b)提供用於承載此升降模組之一可動式台車；(c)於此升降模組以及此支撐物之間插入此主體，並且此模組從此支撐物升起；(d)相對於此升降模組之此支撐物，水平地移動此升降模組至此可動式台車上。
在一實施例中，於步驟(d)更包括：(d1)調整此可動式台車之多數個導輪的位置及/或方位，使得此台車之此多數個導輪對齊於此主體之此多數個導輪；(d2)相對於此升降模組之此支撐物，水平地移動此升降模組至此可動式台車之此多數個導輪上。
在一實施例中，此方法更包括以下步驟：(e)提供用於承載另一模組之另一可動式台車，其中此另一升降模組係安排於此另一可動式台車上；(f)相對於此台車，水平地移動此另一升降模組於此主體上；(g)於此另一升降模組以及此支撐物之間移去此主體，從而降低此模組於此支撐物上。
在一實施例中，於步驟(f)更包括：(f1)調整該另一可動式台車之多數個導輪的位置及/或方位，使得此台車之此多數個導輪對齊於此主體之此多數個導輪；(f2)相對於此 升降模組之此支撐物，水平地移動此升降模組至此可動式台車之此多數個導輪上。
在一實施例中，此可動式台車以及此另一可動式台車為相同台車。根據本發明方法之實施例的效果以及優點可為按照如上所述的微影系統以及組件之實施例的效果和優點。
圖1示意地顯示根據本發明一實施例之一組件。一軌道110係具有一第一斜面111以及一第二斜面112。此第一斜面111直接全等於此第二斜面112，意指它們的方位、高度(距離h)、以及長度l與斜率h/l為相同。此第一斜面之一起點115係定位在一垂直方向(或z方向)上從此第二斜面之一起點115起之一距離h以及在一水平方向(或X方向)上的一距離D上。
一主體116具有一第一輪117與一第二輪118。此主體116包括一中間水平面130。此主體116可包括一水平面119，其中此水平面119係安排與此主體之此中間水平面130平行並且相對於此中間水平面130來說，此水平面119係設置相對於此第一輪117與此第二輪118。此第一輪117比此第二輪118從此中間水平面130垂直地更伸出多一距離h。此第一輪之一軸120係定位在水平方向上從此第二輪之一軸121起之一距離D上。
此主體也可具有滾子或是任何其他滑動元件來代替此第一輪與此第二輪，只要會使此主體能夠沿行此軌道110，同時滾子或是任何其他滑動元件維持接觸此軌道110，並且此水平面在沒有任何旋轉運動下垂直地進行移動。
於一第一滑動元件與一第二滑動元件(代替一第一輪與一第二輪)之情形下，每一個滑動元件可包括一曲面或一尖狀物。每一曲面或尖狀物係安排用以接觸此軌道110之各自的接觸點上。按照本實施例具有多數個輪，此第一滑動元件比此第二滑動元件從此主體之此中間水平面垂直地更伸出多一距離h，並且此第一滑動元件之此接觸點係定位在水平方向上從此第二滑動元件之此接觸點起之一距離D上。
適用於具有此第一輪與此第二輪之實施例之所有特徵也可適用於具有此第一滑動元件與此第二滑動元件之實施例。
在一微影系統上，通常於真空中運作，於此真空中顆粒之產生是不被期望的。因此，使用輪取代滑動元件之一優點為較少量顆粒之產生。實際上，於滑動元件之情形下，此滑動元件之材質的磨耗及/或此軌道之材質的磨耗可於真空中產生顆粒。
在圖1中，為了描述清楚，此主體116係描繪於此軌道110上方，但使用上為此第一輪以及此第二輪係與此軌道110接觸。當此主體前移過此軌道上時，此主體將不會有任何旋轉而同時於垂直方向與水平方向上移動。即意味著， 接觸此主體之一升降模組122也可於垂直方向被移動，即，它可被升起。此升降模組可經過一距離h被升起。
一升降模組係描述為用於安排經由此主體116以進行升起之一模組，當此主體係插入於此模組以及其支撐物之間時。可以理解，當此主體移除於此模組以及其支撐物之間時，此升降模組也可安排經由此主體以進行降低。
圖1示意地顯示於所謂的正常配置的一實施例。然而，可以理解圖1也可被顛倒，而顛倒的圖1示意地顯示於所謂的倒置配置的一實施例。參考號碼122之後可指為此支撐物，並且此軌道110之後係可提供於一升降模組之下側上。
此主體係可具有多數個導輪123，其中，此多數個導輪123可限制於此水平面119。使用上，此多數個導輪可與此升降模組122接觸(於此正常配置中)或與此支撐物接觸(於此倒置配置中)。此多數個導輪之接觸面(就是說於使用上，與此升降模組或此支撐物接觸的一導輪之表面可被當作為一導輪之接觸面)可一起限制於此水平面119。
除了多數個導輪123，此主體也可具有多數個導引滾子或是任何其他導引元件，其會降低此升降模組122與此主體116之間的摩擦力(於此正常配置中)或降低主體116與此支撐物之間的摩擦力(於此倒置配置中)。
此第一輪之軸與此第二輪之軸係可安排相對於彼此平行、此中間水平面130以及/或相對於此水平面119為平行。此多個軸係可安排以垂直於此主體之插入方向。一樣可應用於此多數個導輪123之軸。
此軌道更可包括一第一水平頂124與一第二水平頂125。如圖1中所示，此第一水平頂124之一起點126係定位在水平方向上從此第二水平頂125之一起點127起之此距離D上與在此垂直方向上從此第二水平頂125之此起點127起之此距離h上，並且此第一水平頂124係安排於此第一斜面111以及此第二斜面112之間。
此軌道更可包括一第三水平頂128，其係與此第一斜面之起點114連接。
根據本發明一實施例之組件，此第二斜面112之此起點115與此第一斜面111之此終點129可連接。然後此第一水平頂124可被刪除。在這樣的情形下，此第一斜面與此第二斜面結合形成一單一斜面，當此第一斜面與此第二斜面各別具有一長度D。此單一斜面將具有一高度2h與一長度2D，以及具有一斜率2h/2D=h/D。
此第一斜面與此第二斜面之此斜率(h/l)係於1：50至1：200範圍內，或大約是1：100。此距離h可於0.1毫米至1.0毫米範圍內，或大約0.5毫米。
於圖2中，係示意地顯示根據本發明另一實施例之一組件。在這實施例中提供一可動式台車201。此台車201可包括多數個導輪202以導引及支撐此模組122。此可動式台車可包括多數個調整器203，用以調整此多數個導輪之位置及/或方位。此台車201係可具有多數個輪204，使此台車能夠朝向或從此升降模組之此支撐物移動。
當此台車201係定位於此升降模組附近時，此多數個導輪202之位置及/或方位可被調整，使得它們對齊於此主體之此多數個導輪123。此台車201以及此主體116係可具有一對接介面205，使得此台車201以及此主體116連接。在升起此升降模組122後，它可沿著此主體116以及此台車201兩者的多數個導輪被移動到此台車201上。當經由此台車201進行承載時，此模組122隨後可被移開。
圖3示意地顯示根據本發明另一實施例之一組件的一主體。此主體係可具有此第一輪117、此第二輪118、此多數個導輪123及/或此對接介面205。此主體可具有一細長形狀。此主體之此長度LB可大約為900毫米以及此主體之此高度HB可大約為50毫米。此主體116可具有多數個滑動裝置301，用以減輕此主體與此支撐物之間的摩擦力。
根據本發明一實施例之組件，此組件更包括另一(或一第二)主體以及另一(或一第二軌道)軌道。已經描述的此(第一)主體和此(第一)軌道也可個別地應用此另一(或第二)主體以及此另一(或第二)軌道。此升降模組從而可經由二個主體-軌道結合被升起，較佳地此二個主體-軌道結合係彼此空間分開的。
圖4示意地顯示根據本發明一實施例之一微影系統之一部分。此微影系統可包括用於提供一組模組，用以提供此圖案化光束以及移動相對於此圖案化光束之此目標物。這些模組之中至少一模組可為一升降模組。此微影系統可包括一框架，用於支撐此組模組。
在圖4中，一升降模組112係經由它的支撐物401所支撐。支撐物401可為此框架(一框架之一部分)或其他模組。可提供一溝槽402於支撐物401中。此溝槽402之形狀可對應此主體116之形狀。此溝槽402以及此主體116可個別具有一細長形狀。
在此支撐物上，此軌道110可被提供於此溝槽402內(在圖4中未示)。然而，此溝槽402也可被提供於此升降模組122中，同時此軌道110係提供於此支撐物上。
於圖4之一實施例中，二溝槽401可被提供，其指出此組件可包括二主體116以及二軌道110。此二主體116可彼此連接，舉例來說經由一桿。這會使此多個主體116之同時插入。
於此升降模組112升起後將此主體與此支撐物連接係可以為有利的。因此，多數個連接器可被提供，其可包括多數個栓件或多數個夾具。
圖5示意地顯示根據本發明一實施例之一微影系統之一部份的一概要。此微影系統500較佳為以一模組化樣式設計以允許維護的方便性。主要的子系統係較佳地建立於自含式或移除式模組，使得它們於盡可能微小地干擾其他子系統的情況下可從此微影系統移除。這特別有利於一微影機械裝入於一真空室中，該真空室被限制通往此機械。從而，可快速地移除以及替換一不完美的子系統，沒有非必要連接或干擾其他系統。
於圖5所示，在此實施例中，這些模組化子系統(或模組)可包括： 一照射光學模組501，其可包括一光束源502以及一光束校準系統503；一孔徑陣列與聚焦透鏡模組504，其可包括用506一起表示的一孔徑陣列與聚焦透鏡陣列；一光束切換模組507，其可包括子光束熄滅器模組508；一投射光學模組509，其可包括與510一起表示的一光欄陣列、光束偏向器陣列以及投射透鏡陣列；長程模組519，係安排沿著相對較大距離以於相對較大誤差下移動此目標物530；一短程模組518，係安排沿著相對較小距離以於相對較小誤差下移動此目標物或晶圓530；以及一墊塊模組531，係安排用以支撐一晶圓台532。
此多數個模組係可設計成從一框架滑動進入與滑動出去。模組化子系統之組合也可一起設計成形成一模組，其可一起從一框架滑動進入與滑動出現。
此框架可包括一對位內副框架513，一對位外副框架514以及一主框架515。此主框架515可經由振動抑制架座516支撐此對位內副框架513與此對位外副框架514。此系統可靜置於基座522上以及係可經由框架構件523支撐。一晶圓台532可支撐晶圓530，當此晶圓台係組設於此墊塊模組531上時。墊塊531係可安置於一平台短程518與長程519上。
此光束源502可提供一圖案化光束，且包括一光束以及如同一電子束般的一荷電粒子束。
從此光束源502來的此圖案化光束藉由此光束校準系統503校準。此校準光束可撞擊於一孔徑陣列上，其可阻斷此校準光束之一部分，以創造複數條子光束(beamlet)，舉例來說至少兩條子光束。然而，根據本發明一實施例之一微影系統係可安排用以產生大量的子光束，較佳約為10000至1000000條子光束。
此複數條子光束可通過一聚光透鏡陣列506，其可聚焦此複數條子光束於一子光束熄滅器陣列中，此子光束熄滅器陣列包括用於偏移一或多條子光束之複數個熄滅器。
此偏移子光束與此無偏移子光束可抵達在光欄陣列，此光欄陣列可具有複數個孔徑。此子光束熄滅器陣列以及此光欄陣列可一起運作以阻斷或讓子光束通過。如果此子光束熄滅器陣列偏移一子光束，它在此光欄陣列中將不會經過此對應孔徑，但反而它將被阻斷。但是，當此子光束熄滅器不會偏移一子光束時，它在此光欄陣列中將通過此對應孔徑，並且通過此光束偏向器陣列以及投射透鏡陣列。
此光束偏向器可提供於在x方向以及y方向上每一條子光束之偏移(舉例來說與一平面中與此目標物表面平行)，實際上與無偏移子光束之z方向垂直，以掃描此目標物之表面全部的子光束。
此子光束可通過投射透鏡陣列以及係可投射於此晶圓530上。此投射透鏡陣列較佳地提供一縮小率約為25至500倍(視特定的電子光學佈置而定)。此子光束可撞擊在此晶圓之表面上。 對於微影應用上，晶圓通常係具有一荷電粒子感應層或光阻層。
此微影系統可至少一部分地於一真空環境中運作。真空需要移除顆粒，此顆粒係由此圖案化光束解離而變成吸引光束源，並且可能分開並沉積於此機械組成上，以及可能使光束或是子光束色散。為了維護真空環境，此微影系統可包括一真空室520，其包括一金屬屏蔽層521(或多層)。此微影系統所有主要的元件較佳地被覆蓋於此真空室，例如光束源，此光束柱以及此可動式墊塊。
每一模組化子系統可要求大量的電子訊號及/或光訊號，以及用於它的操作的電能。此模組化子系統於此真空室內部可從一處理器520接受這些電子訊號，較佳地此處理器520係位於此室外面。
圖5之此實施例，作為一個例子，多數個溝槽402與多條軌道110(此多條軌道未顯示於圖5)係提供於此框架內，或更特別地於此主框架515中。在這樣情形下，此升降模組可被插入於此多數個溝槽402中，如上所解釋。在這樣情形下，此組件係提供於它正常配置。
進一步，於圖5中，作為另一例子，多數個溝槽402與多條軌道110(此多條軌道未顯示於圖5)係提供於此照射光學模組501中，其在這樣情形下係可為此升降模組。當多數個主體116係插入於此多數個溝槽402中時，可升起此模組501。在這樣情形下，此組件係提供於它的倒置配置。
於上述中，也描述一方法，用於從它支撐物以一垂直方向升起一微影系統之一模組，包括有提供根據本說明書中所描述任何實施例之一微影系統以及於此升降模組以及此支撐物之間插入此主體之該些步驟。此方法更包括有相對於此升降模組之此支撐物，水平地移動此升降模組，較佳地移動至一可動式台車上之步驟。
可以理解本發明之實施例係也可使用於定位一升降模組於它支撐物上。替代於此升降模組以及此支撐物之間插入此主體，可移除此主體，且導致降低或定位此模組於支撐物上。
進一步，根據本發明另一態樣，可交換一微影系統之一模組，經由從其支撐物首先移除一第一升降模組(下列步驟a-d)，以及之後定位一第二升降模組於此支撐物上(下列步驟e-g)。
經由以下步驟，從而可描述用於交換微影系統之一模組之一方法：(a)提供本說明書中任何實施例所描述之一微影系統；(b)提供用於承載此升降模組之一可動式台車；(c)於此升降模組以及此支撐物之間插入此主體，並且此模組從此支撐物升起；(d)相對於此升降模組之此支撐物，水平地移動此升降模組至此可動式台車上。
由於此主體可包括多數個導輪123並且此可動式台車可包括多數個導輪202，此方法可包括調整此可動式台車之 多數個導輪的位置及/或方位，使得此台車之此多數個導輪對齊於此主體之此多數個導輪。在此情況下，相對於此升降模組之此支撐物，可水平地移動此升降模組至此可動式台車之此多數個導輪上。
於此模組之移除後(步驟a-d)，可定位另一升降模組於此支撐物上，使用下列步驟e-g：(e)提供用於承載另一模組之另一可動式台車，其中此另一升降模組係安排於此另一可動式台車上；(f)相對於此台車，水平地移動此另一升降模組於此主體上；(g)於此另一升降模組以及此支撐物之間移去此主體，從而降低此模組於此支撐物上。
由於此主體可包括多數個導輪123並且此可動式台車也可包括多數個導輪202，此方法可包括調整此另一可動式台車之多數個導輪的位置及/或方位，使得此台車之此多數個導輪對齊於此主體之此多數個導輪。在那樣情況下，相對於此升降模組之此支撐物，水平地移動此升降模組至此主體之此多數個導輪上。
除了另一可動式台車，可使用於步驟b)提供的相同的台車。從而此可動式台車與此另一台車可為相同台車。
可以理解一微影系統使用一電子束以圖案化一目標物之任何描述的實施例也可作了適合的修正來使用於一微影系統使用一光束以圖案化一目標物上。
可以理解的是就上文敘述是包含以說明較佳實施例的運作以及並不意涵著侷限本發明之範圍。從上文所討論的，許多變化將對於本領域熟知技術之人士係顯而易見的，其亦包含於本發明的精神與範圍內。
110‧‧‧軌道
111‧‧‧第一斜面
112‧‧‧第二斜面
114‧‧‧起點
115‧‧‧起點
116‧‧‧主體
117‧‧‧第一輪117
118‧‧‧第二輪
119‧‧‧水平面
120‧‧‧軸
121‧‧‧軸
122‧‧‧升降模組
123‧‧‧導輪
124‧‧‧第一水平頂
125‧‧‧第二水平頂
126‧‧‧起點
127‧‧‧起點
128‧‧‧第三水平頂
129‧‧‧終點
130‧‧‧中間水平面
201‧‧‧可動式台車
202‧‧‧導輪
203‧‧‧校正器
204‧‧‧輪
205‧‧‧對接介面
301‧‧‧滑動裝置
401‧‧‧支撐部
402‧‧‧溝槽
500‧‧‧微影系統
501‧‧‧照射光學模組
502‧‧‧光束源
503‧‧‧光束校準系統
504‧‧‧孔徑陣列與聚焦透鏡模組
506‧‧‧聚光透鏡陣列
507‧‧‧光束切換模組
508‧‧‧子光束熄滅器模組
509‧‧‧投射光學模組
513‧‧‧對位內副框架
514‧‧‧對位外副框架
515‧‧‧主框架
516‧‧‧振動抑制架座
518‧‧‧短程模組
519‧‧‧長程模組
520‧‧‧真空室
521‧‧‧金屬屏蔽層
522‧‧‧基座
523‧‧‧框架構件
524‧‧‧處理器單元
530‧‧‧目標物
531‧‧‧墊塊模組
532‧‧‧晶圓台
D‧‧‧距離
h‧‧‧高度
L‧‧‧長度
HB‧‧‧主體高度
LB‧‧‧主體長度
本發明將基於圖式中所示之範例型實施例基礎上做闡述，其中：圖1示意地顯示根據本發明一實施例之一組件；圖2示意地顯示根據本發明另一實施例之一組件；圖3示意地顯示根據本發明另一實施例之一組件的一主體；圖4示意地顯示根據本發明一實施例之一微影系統之一部分；及圖5示意地顯示根據本發明一實施例之一微影系統之一部份的一概要。
110‧‧‧軌道
111‧‧‧第一斜面
112‧‧‧第二斜面
114‧‧‧起點
115‧‧‧起點
116‧‧‧主體
117‧‧‧第一輪117
118‧‧‧第二輪
119‧‧‧水平面
120‧‧‧軸
121‧‧‧軸
122‧‧‧升降模組
123‧‧‧導輪
124‧‧‧第一水平頂
125‧‧‧第二水平頂
126‧‧‧起點
127‧‧‧起點
128‧‧‧第三水平頂
129‧‧‧終點
130‧‧‧中間水平面
D‧‧‧距離
h‧‧‧高度
L‧‧‧長度

Claims (28)

  1. 一種組件，用於從其支撐物以一垂直方向升起一微影系統之一模組，包括：一主體，係提供一第一輪以及一第二輪，該二輪從該主體之一中間水平面垂直地伸出，其中該第一輪比該第二輪從該主體之該中間水平面垂直地伸出更多；以及一軌道，係以提供於該模組或該支撐物上，並且安排用以接觸該主體之該第一輪與該第二輪，且用以導引該模組及該支撐物之間之該主體，其中該軌道包括一斜面，其中於該模組以及該支撐物之間的該主體之插入導致該模組從該支撐物被升起。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之組件，其中，該第一輪比該第二輪從該主體之該中間水平面垂直地更伸出多一距離h，並且該第一輪之一軸係定位在一水平方向上從該第二輪之一軸起之一距離D上。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之組件，其中，該軌道包括一第一斜面以及一第二斜面，該第一斜面直接全等於該第二斜面，其中，該第一斜面之一起點係定位在該水平方向上從該第二斜面之一起點起之該距離D上以及在該垂直方向上從該第二斜面之該起點起之該距離h上。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之組件，其中，該主體包括一水平面，該水平面對於該中間水平面來說，係設置相對於該第一輪以及該第二輪。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之組件，其中，該主體更具有多數個導輪。
  6. 如申請專利範圍第4或5項所述之組件，其中，該多數個導輪較佳地限制於該水平面。
  7. 如申請專利範圍第3至6項中任一項所述之組件，其中：該軌道更包括一第一水平頂與一第二水平頂；該第一水平頂之一起點係定位在該水平方向上從該第二水平頂之一起點起之該距離D上以及在該垂直方向上從該第二水平頂之該起點起之該距離h上；以及該第一水平頂係安排於該第一斜面以及該第二斜面之間。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之組件，其中，該軌道更包括與該第一斜面之該起點連接之一第三水平頂。
  9. 如申請專利範圍第3至6項中任一項所述之組件，其中，該第一斜面與該第二斜面係連接，並且該第一斜面與該第二斜面結合形成一單一斜面。
  10. 如申請專利範圍第1至9項中任一項所述之組件，其中，該第一輪與該第二輪在一垂直向下方向上從該主體之該中間水平面伸出。
  11. 如申請專利範圍第5至10項中任一項所述之組件，更包括用於承載該模組之一可動式台車，其中該台車包括：多數個導輪，用以導引以及支撐該模組；以及 多數個調整器，用以調整該多數個導輪之該位置及/或該方位，使得該台車之該多數個導輪對齊於該主體之該多數個導輪。
  12. 如申請專利範圍第3至11項中任一項所述之組件，其中，該第一斜面以及該第二斜面之斜率係於1：50至1：200範圍內，或大約是1：100。
  13. 如申請專利範圍第1至11項中任一項所述之組件，更包括用於可鬆脫地連接該主體與該支撐物之多數個連接器。
  14. 一種組件，用於從它支撐物以一垂直方向升起一微影系統模組，包括：一主體，係提供一第一滑動元件以及一第二滑動元件，該二滑動元件從該主體之一中間水平面垂直地伸出，其中該第一滑動元件比該第二滑動元件從該主體之該中間水平面垂直地伸出更多；以及一軌道，係提供於該模組或該支撐物上，並且安排用以接觸該主體之該第一滑動元件與該第二滑動元件，用以導引該模組以及該支撐物之間之該主體，其中該軌道包括一斜面，其中於該模組以及該支撐物之間的該主體之插入導致該模組係從該支撐物被升起。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之組件，其中，該第一滑動元件與該第二滑動元各自包括一曲面或是一尖狀物，用以接觸該軌道之各自的接觸點上。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之組件，其中，該第一滑動元件比該第二滑動元件從該主體之該中間水平面垂直地更伸出多一距離h，並且該第一滑動元件之該接觸點係定位在一水平方向上從該第二滑動元件之該接觸點起之一距離D上。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之組件，其中，該軌道包括一第一斜面以及一第二斜面，該第一斜面係直接全等於該第二斜面，其中，該第一斜面之一起點係定位在該水平方向上從該第二斜面之一起點起之該距離D上以及在該垂直方向上從該第二斜面之該起點起之該距離h上。
  18. 一種微影系統，用於以一圖案化光束處理一目標物，該微影系統包括：一組模組，用以提供該圖案化光束以及移動相對於該圖案化光束之該目標物，其中，該組模組包括一升降模組；一框架，用以支撐該組模組；以及根據申請專利範圍第1至17項中任一項所述之該組件，用以於該垂直方向升起該升降模組，其中該升降模組藉由一支撐物支撐，該支撐物係該框架或是該組模組之另一模組；其中該組件之該軌道係安排在該支撐物上或該升降模組上，以及該組件之該主體係安排以插入於該升降模組以及該支撐物之間。
  19. 如申請專利範圍第18項所述之微影系統，其中，一溝槽係提供於該支撐物或該升降模組中，並且係安排用以 於該主體之插入該升降模組以及該支撐物之間過程中導引該主體，並且該軌道係提供於該溝槽中。
  20. 如申請專利範圍第19項所述之微影系統，其中，該主體有一細長形狀以及該溝槽有一細長形狀。
  21. 如申請專利範圍第18至20項中任一項所述之微影系統，更包括一限制器，係用以安排限制該模組於該主體之一插入方向的移動。
  22. 一種方法，用於從它支撐物以一垂直方向升起一微影系統之一模組，包括以下步驟：提供根據申請專利範圍第18至21項中任一項所述之一微影系統；以及於該升降模組以及該支撐物之間插入該主體。
  23. 如申請專利範圍第22項所述之方法，更包括以下步驟：相對於該升降模組之該支撐物，水平地移動該升降模組，較佳地移動至一可動式台車上。
  24. 一種方法，用於交換微影系統之一模組，包括以下步驟：(a)提供根據申請專利範圍第18至21項中任一項所述之一微影系統；(b)提供用於承載該升降模組之一可動式台車；(c)於該升降模組以及該支撐物之間插入該主體，從而該模組從該支撐物升起； (d)相對於該升降模組之該支撐物，水平地移動該升降模組至該可動式台車上。
  25. 如申請專利範圍第24項所述之方法，其中於步驟(d)更包括：(d1)調整該可動式台車之該多數個導輪的位置及/或方位，使得該台車之該多數個導輪對齊於該主體之該多數個導輪；以及(d2)相對於該升降模組之該支撐物，水平地移動該升降模組至該可動式台車之該多數個導輪上。
  26. 如申請專利範圍第24或25項所述之方法，更包括下列步驟：(e)提供用於承載另一模組之另一可動式台車，其中該另一升降模組係安排於該另一可動式台車上；(f)相對於該台車，水平地移動該另一升降模組於該主體上；以及(g)於該另一升降模組以及該支撐物之間移去該主體，從而降低該模組於該支撐物上。
  27. 如申請專利範圍第26項所述之方法，其中步驟(d)更包括：(f1)調整該另一可動式台車之多數個導輪的位置及/或方位，使得該台車之該多數個導輪對齊於該主體之該多數個導輪；以及(f2)相對於該升降模組之該支撐物，水平地移動該升降模組至該主體之該多數個導輪上。
  28. 如申請專利範圍第26或27項所述之方法，其中該可動式台車以及該另一可動式台車係相同台車。
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