JP2017201403A - リソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリ及び方法、並びにこのようなアセンブリを有するリソグラフィシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アセンブリは、本体116とトラック110とを有する。トラック110は、傾斜部を有する。本体には、2つのホイールが設けられ、第1のホイール117は、第2のホイール118よりも本体の中央水平面から垂直にさらに距離h延びることができ、第1のホイール117の軸は、第2のホイール118の軸から距離Dで水平方向に配置されることができる。トラック110は、第1及び第2の傾斜部を有することができ、第1の傾斜部111は、第2の傾斜部112からの水平方向に距離Dに、かつ、第2の傾斜部112から垂直方向に距離hに配置されている。モジュール122と支持体との間への本体116の挿入により、モジュール122が支持体からリフトされる。
【選択図】図1
Description
第1及び第2のホイールが設けられた本体を具備し、前記ホイールの両方が、前記本体の中央水平面から垂直に延び、前記第1のホイールは、さらに、前記第2のホイールよりも前記本体の前記水平面からさらに延び、
前記モジュール又は前記支持体に設けられ、かつ、前記本体の前記第1及び第2のホイールと接触し、前記モジュールと前記支持体との間で前記本体をガイドするように配置されたトラックを具備し、前記トラックは、傾斜部を有し、
前記モジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入により、前記モジュールが前記支持体からリフトされる。
前記モジュールをガイドし支持するためのガイドホイールと、
前記カートの前記ガイドホイールを前記本体の前記ガイドホイールとアライメントするために、前記ガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節するためのアジャスタとを有する。
前記パターニングビームを与え、前記パターニングビームに対して前記ターゲットを移動させるための1組のモジュールを具備し、前記1組のモジュールは、リフト可能なモジュールを有し、
前記1組のモジュールを支持するためのフレームと、
前記リフト可能なモジュールを垂直方向にリフトするための請求1ないし9のいずれか1のアセンブリとを具備し、
前記リフト可能なモジュールは、支持体によって支持され、前記支持体は、前記フレーム又は前記1組のモジュールの他方のモジュールであり、前記アセンブリの前記本体は、前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に挿入されるように配置されることができる。
請求10〜13のいずれか1のリソグラフィシステムを設ける工程と、
前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入する工程とを具備する。
好ましくは移動可能なカートに、その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを水平に移動させる工程を具備する。
a)請求18ないし21のいずれか1のリソグラフィシステムを設ける工程と、
b)前記リフト可能なモジュールを運ぶために移動可能なカートを設ける工程と、
c)前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入して、これにより、前記支持体から前記モジュールをリフトさせる工程と、
d)その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートに水平に移動させる工程とを具備する。
d1)前記移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
d2)その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートの前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む。
e)他のリフト可能なモジュールを運ぶために他の移動可能なカートを設ける工程を含み、他のリフト可能なモジュールは、他の移動可能なカートに配置され、
f)前記カートに対して前記他のリフト可能なモジュールを前記本体に水平に移動させる工程と、
g)前記他のリフト可能なモジュールと前記支持体との間の前記本体を取り外し、これにより前記支持体に前記モジュールを下げる工程とをさらに具備する。
f1)前記他の移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記他の移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
f2)前記カートに対して前記リフト可能なモジュールを前記本体の前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む。
ビーム源502と、ビームコリメート系503とを有することができる照明光学モジュール501と、
506で一緒に示される開口アレイ及びコンデンサレンズアレイを有することができるアパーチャアレイ及びコンデンサレンズモジュール504と、
小ビームブランカアレイ508を有することができるビームスイッチングモジュール507と、
510で一緒に示されるビーム停止アレイと、ビーム偏向器アレイと、投影レンズアレイとを有することができる投影光学モジュール509と、
比較的大きい位置決め誤差で比較的大きい距離に沿ってターゲット530を移動させるために配置されたロングストロークモジュール519と、
比較的小さい位置決め誤差で比較的小さい距離に沿ってターゲット又はウェーハ530を移動させるために配置されたショートストロークモジュール518と、
ウェーハテーブル532を支持するために配置されたチャックモジュール531とを有する。
a)この文献に説明されるような実施の形態によるリソグラフィシステムを設ける工程と、
b)この文献に説明されるような移動可能なカートを設ける工程と、
c)リフト可能なモジュールと支持体との間に支持体を挿入して、支持体からモジュールをリフトする工程と、
d)その支持体に対してリフト可能なモジュールを移動可能なカートに水平に移動させる工程とによって説明されることができる。
e)他のリフト可能なモジュールを運ぶために他の移動可能なカートを設ける工程を具備し、前記他のリフト可能なモジュールは、前記他の移動可能なカートに配置され、
f)前記本体に前記他の移動可能なカートに対して水平に前記他のリフト可能なモジュールを移動させる工程と、
g)前記他のリフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を取り外して、これにより、前記支持体に前記モジュールを下げる工程とを具備する。
以下に、出願当初の特許請求の範囲に記載の事項を、そのまま、付記しておく。
[1] その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリであって、
第1及び第2のホイールが設けられた本体を具備し、前記ホイールの両方が、前記本体の中央水平面から垂直に延び、前記第1のホイールは、さらに、前記第2のホイールよりも前記本体の前記水平面からさらに延び、
前記モジュール又は前記支持体に設けられ、かつ、前記本体の前記第1及び第2のホイールと接触し、前記モジュールと前記支持体との間で前記本体をガイドするように配置されたトラックを具備し、前記トラックは、傾斜部を有し、前記モジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入により、前記モジュールが前記支持体からリフトされるアセンブリ。
[2] 前記第1のホイールは、前記第2のホイールよりも前記本体の前記中央水平面からさらに距離h延び、前記第1のホイールの軸は、前記第2のホイールの軸から水平方向に距離Dに配置されている[1]のアセンブリ。
[3] 前記トラックは、第1及び第2の傾斜部を有し、前記第1の傾斜部は、前記第2の傾斜部と直接一致し、前記第1の傾斜部の開始部は、前記第2の開始部から水平方向に前記距離Dに、かつ、前記第2の傾斜部の開始部から垂直方向に前記距離hに配置されている[2]のアセンブリ。
[4] 前記本体は、水平面を有し、前記水平面は、前記中央水平面に対して第1及び第2のホイールの反対側に配置されている[1]ないし[3]のいずれか1のアセンブリ。
[5] 前記本体には、さらに、ガイドホイールが設けられている[1]ないし[4]のいずれか1のアセンブリ。
[6] 前記ガイドホイールは、好ましくは、前記水平面を規定している[4]又は[5]のアセンブリ。
[7] 前記トラックは、さらに、第1及び第2の水平な平坦部を有し、
前記第1の平坦部の開始部は、前記第2の平坦部の開始部から水平方向に前記距離Dに、かつ、前記第2の平坦部の開始部から垂直方向に前記距離hに配置され、
前記第1の平坦部は、前記第1の傾斜部と前記第2の傾斜部との間に配置されている[3]ないし[6]のいずれか1のアセンブリ。
[8] 前記トラックは、さらに、前記第1の傾斜部の開始部に接続された第3の水平な平坦部を有する[7]のアセンブリ。
[9] 前記第1の傾斜部は、前記第2の傾斜部に接続され、前記第1及び第2の傾斜部は、単一の傾斜部を一緒に形成している[3]ないし[6]のいずれか1のアセンブリ。
[10] 前記第1のホイール及び前記第2のホイールは、前記本体の前記中央水平面から垂直下向き方向に延びている[1]ないし[9]のいずれか1のアセンブリ。
[11] さらに、前記モジュールを運ぶための移動可能なカートを具備し、前記カートは、
前記モジュールをガイドし支持するためのガイドホイールと、
前記本体の前記ガイドホイールで前記カートの前記ガイドホイールをアライメントさせるために、前記ガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節するためのアジャ開始部を有する[5]ないし[10]のいずれか1のアセンブリ。
[12] 前記第1の傾斜部の傾きは、1:50〜1:200の範囲にあるか、約1:100である[3]ないし[11]のいずれか1のアセンブリ。
[13] 前記本体を前記支持体に解放可能に接続するためのコネクタをさらに具備する[1]ないし[12]のいずれか1のアセンブリ。
[14] その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリであって、
第1及び第2の滑動装置が設けられた本体を具備し、前記滑動装置の両方は、前記本体の前記中央水平面から垂直に延び、前記第1の滑動装置は、前記第2の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面からさらに垂直に延び、
前記モジュール又は前記支持体に設けられ、前記本体の前記第1及び第2の滑動装置と接触するように配置されたトラックを具備し、前記トラックは、傾斜部を有し、前記モジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入により、前記モジュールが前記支持体からリフトされるアセンブリ。
[15] 前記第1及び第2の滑動装置の各々は、それぞれの接点で前記トラックと接触するための湾曲面又は山型部を有する[14]のアセンブリ。
[16] 前記第1の滑動装置は、前記第2の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面から垂直にさらに距離h延び、前記第1の滑動装置の接点は、前記第2の滑動装置の接点から水平方向に距離Dに配置されている[15]のアセンブリ。
[17] 前記トラックは、第1及び第2の傾斜部を有し、前記第1の傾斜部は、前記第2の傾斜部で直接一致し、前記第1の傾斜部の開始部は、前記第2の傾斜部の開始部から水平方向に前記距離Dに、かつ、前記第2の傾斜部の開始部から垂直方向に前記距離hに配置されている[16]のアセンブリ。
[18] パターニングビームを用いてターゲットを処理するためのリソグラフィシステムであって、リソグラフィシステムは、
前記パターニングビームを与え、前記パターニングビームに対して前記ターゲットを移動させるための1組のモジュールを具備し、前記1組のモジュールは、リフト可能なモジュールを有し、
前記1組のモジュールを支持するためのフレームと、
前記リフト可能なモジュールを垂直方向にリフトするための[1]ないし[17]のいずれか1のアセンブリとを具備し、
前記リフト可能なモジュールは、支持体によって支持され、
前記支持体は、前記フレームか前記1組の他方のモジュールであり、
前記アセンブリのトラックは、前記支持体又は前記リフト可能なモジュールに配置され、前記アセンブリの前記本体は、前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に挿入されるように配置されているリソグラフィシステム。
[19] 溝は、前記支持体又は前記リフト可能なモジュールに設けられ、前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入中に前記本体をガイドするように配置され、前記トラックが前記溝に設けられる[18]のリソグラフィシステム。
[20] 前記本体は、細長い形状を有し、前記溝は、細長い形状を有する[19]のリソグラフィシステム。
[21] 前記本体の挿入方向に前記モジュールの移動を制限するように配置された制限装置をさらに具備する[18]ないし[20]のいずれか1のリソグラフィシステム。
[22] その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするための方法であって、
[18]ないし[21]のいずれか1のリソグラフィシステムを設ける工程と、
前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入する工程とを具備する方法。
[23] 好ましくは移動可能なカートに、その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを水平に移動させる工程をさらに具備する[22]の方法。
[24] リソグラフィシステムのモジュールを交換するための方法であって、
a)[18]ないし[21]のいずれか1のリソグラフィシステムを設ける工程と、
b)前記リフト可能なモジュールを運ぶために移動可能なカートを設ける工程と、
c)前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入して、これにより、前記支持体から前記モジュールをリフトさせる工程と、
d)その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートに水平に移動させる工程とを具備する方法。
[25] 工程d)は、さらに、
d1)前記移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
d2)その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートの前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む[24]の方法。
[26]e)他のリフト可能なモジュールを運ぶために他の移動可能なカートを設ける工程を含み、他のリフト可能なモジュールは、他の移動可能なカートに配置され、
f)前記カートに対して前記他のリフト可能なモジュールを前記本体に水平に移動させる工程と、
g)前記他のリフト可能なモジュールと前記支持体との間の前記本体を取り外し、これにより前記支持体に前記モジュールを下げる工程とをさらに具備する[24]又は[25]の方法。
[27] 工程f)は、さらに、
f1)前記他の移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記他の移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
f2)前記カートに対して前記リフト可能なモジュールを前記本体の前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む[26]の方法。
[28] 前記移動可能なカート及び前記他の移動可能なカートは、同じカートである[26]又は[27]の方法。
Claims (28)
- その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリであって、
第1及び第2のホイールが設けられた本体を具備し、前記ホイールの両方が、前記本体の中央水平面から垂直に延び、前記第1のホイールは、さらに、前記第2のホイールよりも前記本体の前記水平面からさらに延び、
前記モジュール又は前記支持体に設けられ、かつ、前記本体の前記第1及び第2のホイールと接触し、前記モジュールと前記支持体との間で前記本体をガイドするように配置されたトラックを具備し、前記トラックは、傾斜部を有し、前記モジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入により、前記モジュールが前記支持体からリフトされるアセンブリ。 - 前記第1のホイールは、前記第2のホイールよりも前記本体の前記中央水平面からさらに距離h延び、前記第1のホイールの軸は、前記第2のホイールの軸から水平方向に距離Dに配置されている請求項1のアセンブリ。
- 前記トラックは、第1及び第2の傾斜部を有し、前記第1の傾斜部は、前記第2の傾斜部と直接一致し、前記第1の傾斜部の開始部は、前記第2の開始部から水平方向に前記距離Dに、かつ、前記第2の傾斜部の開始部から垂直方向に前記距離hに配置されている請求項2のアセンブリ。
- 前記本体は、水平面を有し、前記水平面は、前記中央水平面に対して第1及び第2のホイールの反対側に配置されている請求項1ないし3のいずれか1のアセンブリ。
- 前記本体には、さらに、ガイドホイールが設けられている請求項1ないし4のいずれか1のアセンブリ。
- 前記ガイドホイールは、好ましくは、前記水平面を規定している請求項4又は5のアセンブリ。
- 前記トラックは、さらに、第1及び第2の水平な平坦部を有し、
前記第1の平坦部の開始部は、前記第2の平坦部の開始部から水平方向に前記距離Dに、かつ、前記第2の平坦部の開始部から垂直方向に前記距離hに配置され、
前記第1の平坦部は、前記第1の傾斜部と前記第2の傾斜部との間に配置されている請求項3ないし6のいずれか1のアセンブリ。 - 前記トラックは、さらに、前記第1の傾斜部の開始部に接続された第3の水平な平坦部を有する請求項7のアセンブリ。
- 前記第1の傾斜部は、前記第2の傾斜部に接続され、前記第1及び第2の傾斜部は、単一の傾斜部を一緒に形成している請求項3ないし6のいずれか1のアセンブリ。
- 前記第1のホイール及び前記第2のホイールは、前記本体の前記中央水平面から垂直下向き方向に延びている請求項1ないし9のいずれか1のアセンブリ。
- さらに、前記モジュールを運ぶための移動可能なカートを具備し、前記カートは、
前記モジュールをガイドし支持するためのガイドホイールと、
前記本体の前記ガイドホイールで前記カートの前記ガイドホイールをアライメントさせるために、前記ガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節するためのアジャ開始部を有する請求項5ないし10のいずれか1のアセンブリ。 - 前記第1の傾斜部の傾きは、1:50〜1:200の範囲にあるか、約1:100である請求項3ないし11のいずれか1のアセンブリ。
- 前記本体を前記支持体に解放可能に接続するためのコネクタをさらに具備する請求項1ないし12のいずれか1のアセンブリ。
- その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリであって、
第1及び第2の滑動装置が設けられた本体を具備し、前記滑動装置の両方は、前記本体の前記中央水平面から垂直に延び、前記第1の滑動装置は、前記第2の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面からさらに垂直に延び、
前記モジュール又は前記支持体に設けられ、前記本体の前記第1及び第2の滑動装置と接触するように配置されたトラックを具備し、前記トラックは、傾斜部を有し、前記モジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入により、前記モジュールが前記支持体からリフトされるアセンブリ。 - 前記第1及び第2の滑動装置の各々は、それぞれの接点で前記トラックと接触するための湾曲面又は山型部を有する請求項14のアセンブリ。
- 前記第1の滑動装置は、前記第2の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面から垂直にさらに距離h延び、前記第1の滑動装置の接点は、前記第2の滑動装置の接点から水平方向に距離Dに配置されている請求項15のアセンブリ。
- 前記トラックは、第1及び第2の傾斜部を有し、前記第1の傾斜部は、前記第2の傾斜部で直接一致し、前記第1の傾斜部の開始部は、前記第2の傾斜部の開始部から水平方向に前記距離Dに、かつ、前記第2の傾斜部の開始部から垂直方向に前記距離hに配置されている請求項16のアセンブリ。
- パターニングビームを用いてターゲットを処理するためのリソグラフィシステムであって、リソグラフィシステムは、
前記パターニングビームを与え、前記パターニングビームに対して前記ターゲットを移動させるための1組のモジュールを具備し、前記1組のモジュールは、リフト可能なモジュールを有し、
前記1組のモジュールを支持するためのフレームと、
前記リフト可能なモジュールを垂直方向にリフトするための請求項1ないし17のいずれか1のアセンブリとを具備し、
前記リフト可能なモジュールは、支持体によって支持され、
前記支持体は、前記フレームか前記1組の他方のモジュールであり、
前記アセンブリのトラックは、前記支持体又は前記リフト可能なモジュールに配置され、前記アセンブリの前記本体は、前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に挿入されるように配置されているリソグラフィシステム。 - 溝は、前記支持体又は前記リフト可能なモジュールに設けられ、前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入中に前記本体をガイドするように配置され、前記トラックが前記溝に設けられる請求項18のリソグラフィシステム。
- 前記本体は、細長い形状を有し、前記溝は、細長い形状を有する請求項19のリソグラフィシステム。
- 前記本体の挿入方向に前記モジュールの移動を制限するように配置された制限装置をさらに具備する請求項18ないし20のいずれか1のリソグラフィシステム。
- その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするための方法であって、
請求項18ないし21のいずれか1のリソグラフィシステムを設ける工程と、
前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入する工程とを具備する方法。 - 好ましくは移動可能なカートに、その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを水平に移動させる工程をさらに具備する請求項22の方法。
- リソグラフィシステムのモジュールを交換するための方法であって、
a)請求項18ないし21のいずれか1のリソグラフィシステムを設ける工程と、
b)前記リフト可能なモジュールを運ぶために移動可能なカートを設ける工程と、
c)前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入して、これにより、前記支持体から前記モジュールをリフトさせる工程と、
d)その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートに水平に移動させる工程とを具備する方法。 - 工程d)は、さらに、
d1)前記移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
d2)その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートの前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む請求項24の方法。 - e)他のリフト可能なモジュールを運ぶために他の移動可能なカートを設ける工程を含み、他のリフト可能なモジュールは、他の移動可能なカートに配置され、
f)前記カートに対して前記他のリフト可能なモジュールを前記本体に水平に移動させる工程と、
g)前記他のリフト可能なモジュールと前記支持体との間の前記本体を取り外し、これにより前記支持体に前記モジュールを下げる工程とをさらに具備する請求項24又は25の方法。 - 工程f)は、さらに、
f1)前記他の移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記他の移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
f2)前記カートに対して前記リフト可能なモジュールを前記本体の前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む請求項26の方法。 - 前記移動可能なカート及び前記他の移動可能なカートは、同じカートである請求項26又は27の方法。
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