JP2014524404A - 多孔質コーティングを備えた反射防止グレージングユニット - Google Patents
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Abstract
Description
−第1の極小値PCmin1と極大値PCmaxの間で増加し、該極大値PCmaxの該第1の極小値PCmin1に対する比が少なくとも1.2であり、かつ、
−炭素の比が該極大値PCmaxと第2の極小値PCmin2との間で次いで減少し、該極大値PCmaxの該第2の極小値PCmin2に対する比が少なくとも1.2である、
グレージングユニットに関する。
上記の膜は、該膜の材料となる多孔質材料の組成を構成するケイ素元素、酸素元素及び炭素元素のうちの個別の原子の比率という意味において、次の一般の化学組成、すなわち、
−28〜38%のケイ素、
−55〜68%の酸素、及び
−2〜10%の炭素
を有する。
−第1の極小値PCmin1と極大値PCmaxの間で増加し、該極大値PCmaxの該第1の極小値PCmin1に対する比が少なくとも1.2であり、かつ、
−炭素の比が該極大値PCmaxと第2の極小値PCmin2との間で次いで減少し、該極大値PCmaxの該第2の極小値PCmin2に対する比が少なくとも1.2である、
多孔質膜に関する。
−プラズマが少なくとも2つのプラズマビーム源を含む装置によって基材の表面でその幅全体にわたって作り出される工程であって、各プラズマビーム源は、放電が作り出されるキャビティと、外側に向かって延びるノズルと、磁場のない領域が各放電キャビティ内に作り出されるように互いに対面して配置されかつ放電キャビティに隣接して配置された複数の磁石とを含み、酸素含有イオン化ガスが各放電キャビティに導入され、各プラズマビーム源が交互にアノード又はカソードとして作用する工程、
−基材がプラズマビーム下で動かされる工程、
−少なくとも1つのケイ素前駆体化合物が2つのプラズマ源の間で基材上に堆積される工程、
−ケイ素、酸素、炭素及び場合によっては水素を含む材料の膜を備えた基材が回収される工程、並びに、
−このようにして堆積された膜が、炭素の少なくとも一部を除去して多孔質材料の膜を得ることを可能とする条件下で熱処理にさらされる工程
を含む方法に関する。
イオン化ガスがアルゴンと酸素の混合物であり、ガスの全圧が1×10-3〜1×10-2mbarであり、かつ、
1つ又は複数のケイ素前駆体がケイ素の有機金属から選択され、特にシロキサン、例えばヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)若しくはテトラメチルジシロキサン(TDMSO)、アルキルシラン、例えばジエトキシメチルシラン(DEMS)、(Si(CH3)3)2(HMDS)、Si(CH3)4(TMS)、(SiO(CH3)2)4、(SiH(CH3)2)2、ケイ素アルコラート、例えばSi(OC2H5)4(TEOS)、Si(OCH3)4(TMOS)、又はケイ素水素化物、特にSiH4若しくはSi2H6、又はケイ素塩化物、特にSiCl4、CH3SiCl3、(CH3)2SiCl2から選択され、好ましくはHDMSO又はTDMSOから選択される。
−追加のガス、例えばCH4又はC2H2が加えられる。これらのガスの役割は、膜の焼き戻し前に膜中のCHの量を増加させることである。これらのガスはSi前駆体と同時に又は別々にチャンバー内に注入することができるが、常に装置によって作り出されるプラズマの近くで注入することができる。
−所望のコーティングのタイプにより、選択された前駆体は、水素を全く含まないか若しくはほとんど含まない膜を得るため、TDMSOのように少量の水素を含み、又は水素含有一次膜、すなわちSiOxCyHzの膜を得るため、HDMSOのようにより多量の水素を含む。
−熱処理が空気中で実施される。
−熱処理が真空中で実施される。
−熱処理が焼き戻し処理又は曲げ処理である。
−熱処理が国際公開第2008/096089号に記載されているような処理法であり、膜のそれぞれの点が少なくとも300℃の温度まで上げられる一方で、基材の第1の面の反対側の面の至る所が150℃以下の温度で維持される。
−基材の他の面への低E又は太陽熱遮断機能を有する多層の薄膜のマグネトロン堆積に使用されたのと同一の1つ又は複数の真空キャビティ中で、多孔質膜を基材の第一の面に堆積させる。
ガラス基材の表面からの反射の低減は、エネルギー透過係数TEの増加をもたらす。それゆえ、上記のように、コーティングを備えたガラス基材の光学特性は、透過の変化ΔTEを、多層を備えたガラス基材(焼き戻し後)のエネルギー透過と、コーティングしていない同一のガラス基材のエネルギー透過との間の差分パーセントとして測定することにより測定した。TE及びΔTEは、ISO規格9050:2003(E)で定義される基準により、太陽のスペクトルの300〜2500nmの領域において測定した。
堆積したコーティングの摩耗に対する耐性を、焼き戻し後に、グレージングの外部の用途について代表的なIEC規格61215/10.13による耐湿熱性試験により測定した(気候シミュレーション試験)。すなわち、老化を促進させるため、サンプルを極端な湿気及び温度条件(相対湿度85%、85℃)に総時間2000時間の間さらした。上記のエネルギー透過の増加ΔTEは、試験を開始する前(A−を参照されたい)、次いで2000時間の試験後に測定した。
堆積したコーティングの摩耗に対する耐性を、焼き戻し後に、エリクセン試験により測定した。すなわち、特に金属学の分野においてよく知られているこの試験において、コーティングの引掻きに対する耐性を、コーティングをその表面上で動く鋼鉄の針と接触させることにより測定する。針には0.2ニュートンから6ニュートンまで増加する力を加える。この方法において、コーティングの機械抵抗は、引掻き傷を起こす加えた力として測定する。
Claims (16)
- 反射防止コーティングを備えた透明な、特にガラスの基材を含むグレージングユニットであって、該コーティングがケイ素、酸素、炭素及び場合によっては水素を本質的に含む少なくとも1つの多孔質材料の膜を含み、ケイ素、酸素、及び炭素の原子寄与率の合計に対する炭素の原子比PCが膜の第1の表面から膜の第2の表面までの厚さ方向において局所的に変化する、すなわち、
−第1の極小値PCmin1と極大値PCmaxとの間で増加し、該極大値PCmaxの該第1の極小値PCmin1に対する比が少なくとも1.2であり、かつ、
−次いで、炭素の比が該極大値PCmaxと第2の極小値PCmin2との間で減少し、該極大値PCmaxの該第2の極小値PCmin2に対する比が少なくとも1.2である、
グレージングユニット。 - 前記膜が、該膜の材料となる多孔質材料の組成を構成するケイ素元素、酸素元素及び炭素元素のうちの個別の原子の比率という意味において、次の一般の化学組成、すなわち、
−28〜38%のケイ素、
−55〜68%の酸素、及び
−2〜10%の炭素
を有する、請求項1に記載のグレージングユニット。 - 前記反射防止コーティングが多孔質材料の膜のみから成り、多孔質膜中の炭素の比率が大気側の表面又はその表面付近で極小値PCmin1に達し、多孔質膜中の炭素の比率が基材の表面又はその付近で極小値PCmin2に達する、請求項1及び2のいずれか1項に記載のグレージングユニット。
- 前記膜中のケイ素の個別の比率が30at%〜35at%である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のグレージングユニット。
- 前記膜中の酸素の個別の比率は58at%〜65at%である、請求項1〜4のいずれか1項に記載のグレージングユニット。
- 前記膜中の炭素の個別の比率は3at%〜8at%である、請求項1〜5のいずれか1項に記載のグレージングユニット。
- 膜の材料中の全体の炭素量は15at%未満であり、好ましくは10at%未満であり、より好ましくは5at%未満である、請求項1〜6のいずれか1項に記載のグレージングユニット。
- PCmax/PCmin1比、及び/又はPCmax/PCmin2比が1.5超であり、好ましくは2超である、請求項1〜7のいずれか1項に記載のグレージングユニット。
- 膜の厚さ方向において、炭素の個別の比率の極小値PCmin及び極大値PCmaxの連続を含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載のグレージングユニット。
- 多孔質膜の厚さが30〜150nmであり、好ましくは50〜120nmである、請求項1〜9のいずれか1項に記載のグレージングユニット。
- 多孔質膜の屈折率が1.42未満であり、好ましくは1.40未満又は1.35未満である、請求項1〜10のいずれか1項に記載のグレージングユニット。
- ケイ素、酸素、炭素及び場合によっては水素を本質的に含む多孔質材料製であり、ケイ素、酸素、及び炭素の原子寄与率の合計に対する炭素の原子比PCが膜の第1の表面から膜の第2の表面までの厚さ方向において局所的に変化する、すなわち、
−第1の極小値PCmin1と極大値PCmaxとの間で増加し、該極大値PCmaxの該第1の極小値PCmin1に対する比が少なくとも1.2であり、かつ、
−炭素の比が該極大値PCmaxと第2の極小値PCmin2との間で次いで減少し、該極大値PCmaxの該第2の極小値PCmin2に対する比が少なくとも1.2である
ことを特徴とする、請求項1〜11のいずれか1項に記載の多孔質膜。 - 前記膜の材料となる多孔質材料の組成を構成するケイ素元素、酸素元素及び炭素元素のうちの個別の原子の比率という意味において、次の一般の化学組成を、すなわち、
−28〜38%のケイ素、好ましくは30〜35%のケイ素
−55〜68%の酸素、好ましくは58〜65%の酸素、及び
−2〜10%の炭素、好ましくは3〜10%の炭素
を有する、請求項12に記載の多孔質膜。 - 請求項1〜11のいずれか1項に記載のグレージングユニットの製造方法であって、
−プラズマが少なくとも2つのプラズマビーム源を含む装置によって基材の表面でその幅全体にわたって作り出される工程であって、各プラズマビーム源は、放電が作り出されるキャビティと、外側に向かって延びるノズルと、磁場のない領域が各放電キャビティ内に作り出されるように互いに対面して配置されかつ放電キャビティに隣接して配置された複数の磁石とを含み、酸素含有イオン化ガスが各放電キャビティに導入され、各プラズマビーム源が交互にアノード又はカソードとして作用する工程、
−基材がプラズマビーム下で動かされる工程、
−少なくとも1つのケイ素前駆体化合物が2つのプラズマ源の間で基材上に堆積される工程、
−ケイ素、酸素、炭素及び場合によっては水素を含む材料の膜を備えた基材が回収される工程、並びに、
−このようにして堆積された膜が、炭素の少なくとも一部を除去して多孔質材料の膜を得ることを可能とする条件下で熱処理にさらされる工程
を含む、方法。 - イオン化ガスがアルゴン及び酸素の混合物であり、気体の全圧が1×10-3〜1×10-2mbarである、請求項14に記載の透明な基材の製造方法。
- 1つ又は複数のケイ素前駆体がケイ素の有機金属から選択され、特にシロキサン、例えばヘキサメチルジシロキサン(HMDSO)若しくはテトラメチルジシロキサン(TDMSO)、アルキルシラン、例えばジエトキシメチルシラン(DEMS)、(Si(CH3)3)2(HMDS)、Si(CH3)4(TMS)、(SiO(CH3)2)4、(SiH(CH3)2)2、ケイ素アルコラート、例えばSi(OC2H5)4(TEOS)、Si(OCH3)4(TMOS)、又はケイ素水素化物、特にSiH4又はSi2H6、又はケイ素塩化物、特にSiCl4、CH3SiCl3、(CH3)2SiCl2から選択され、好ましくはHDMSO又はTDMSOから選択される、請求項14及び15のいずれか1項に記載の透明な基材の製造方法。
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Families Citing this family (3)
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CN116802165A (zh) * | 2021-03-25 | 2023-09-22 | 肖特股份有限公司 | 近红外透明、可见光吸收涂层及具有涂层的玻璃基板 |
CN114195403B (zh) * | 2021-12-06 | 2023-06-02 | 常州亚玛顿股份有限公司 | 一种高可靠多功能镀膜玻璃及其制备方法与应用 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001272506A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-10-05 | Japan Science & Technology Corp | 気孔を有する反射防止膜とその製法 |
JP2003294901A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Konica Corp | 反射防止フィルム、低屈折率領域の作製方法、偏光板 |
JP2005181939A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止フィルム、それを用いた偏光板及び表示装置 |
EP1679291A1 (de) * | 2005-01-10 | 2006-07-12 | INTERPANE Entwicklungs- und Beratungsgesellschaft mbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung einer reflexionsmindernden Beschichtung |
US20060210783A1 (en) * | 2005-03-18 | 2006-09-21 | Seder Thomas A | Coated article with anti-reflective coating and method of making same |
JP2008062498A (ja) * | 2006-09-07 | 2008-03-21 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリアフィルム |
US20080241373A1 (en) * | 2007-03-09 | 2008-10-02 | Afg Industries, Inc. | Anti-reflective coating for photovoltaic glass panel |
JP2009210739A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Keio Gijuku | 反射防止膜、その形成方法及び光学素子 |
JP2009534797A (ja) * | 2006-04-19 | 2009-09-24 | ジェネラル・プラズマ・インコーポレーテッド | デュアルプラズマビーム源および方法 |
JP2011073430A (ja) * | 2009-09-01 | 2011-04-14 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ガスバリア性積層フィルム |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19918811A1 (de) | 1999-04-26 | 2000-11-02 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorgespanntes, mit einer wischfesten, porösen SiO¶2¶-Antireflex-Schicht versehenes Sicherheitsglas u. Verfahren z. d. Herstellung |
FR2800998B1 (fr) | 1999-11-17 | 2002-04-26 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent comportant un revetement antireflet |
JP2002294169A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Nippon Paper Industries Co Ltd | 塗料の管理方法 |
JP2003098305A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-04-03 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 反射防止フィルム |
JP2005525989A (ja) * | 2002-05-21 | 2005-09-02 | インターフロート・コーポレーション | 反射防止コーティングの生成の手順および措置、反射防止コーティング、および反射防止コーティングされた基板 |
US6825130B2 (en) * | 2002-12-12 | 2004-11-30 | Asm Japan K.K. | CVD of porous dielectric materials |
US6992284B2 (en) | 2003-10-20 | 2006-01-31 | Ionwerks, Inc. | Ion mobility TOF/MALDI/MS using drift cell alternating high and low electrical field regions |
FR2871243B1 (fr) * | 2004-06-02 | 2006-09-08 | Commissariat Energie Atomique | Revetements anti-reflechissants pour piles solaires et procede pour les fabriquer |
EP1818694A1 (en) * | 2006-02-14 | 2007-08-15 | DSMIP Assets B.V. | Picture frame with an anti reflective glass plate |
FR2911130B1 (fr) | 2007-01-05 | 2009-11-27 | Saint Gobain | Procede de depot de couche mince et produit obtenu |
-
2011
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001272506A (ja) * | 2000-03-24 | 2001-10-05 | Japan Science & Technology Corp | 気孔を有する反射防止膜とその製法 |
JP2003294901A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Konica Corp | 反射防止フィルム、低屈折率領域の作製方法、偏光板 |
JP2005181939A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Konica Minolta Opto Inc | 反射防止フィルム、それを用いた偏光板及び表示装置 |
EP1679291A1 (de) * | 2005-01-10 | 2006-07-12 | INTERPANE Entwicklungs- und Beratungsgesellschaft mbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung einer reflexionsmindernden Beschichtung |
US20060210783A1 (en) * | 2005-03-18 | 2006-09-21 | Seder Thomas A | Coated article with anti-reflective coating and method of making same |
JP2009534797A (ja) * | 2006-04-19 | 2009-09-24 | ジェネラル・プラズマ・インコーポレーテッド | デュアルプラズマビーム源および方法 |
JP2008062498A (ja) * | 2006-09-07 | 2008-03-21 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリアフィルム |
US20080241373A1 (en) * | 2007-03-09 | 2008-10-02 | Afg Industries, Inc. | Anti-reflective coating for photovoltaic glass panel |
JP2009210739A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Keio Gijuku | 反射防止膜、その形成方法及び光学素子 |
JP2011073430A (ja) * | 2009-09-01 | 2011-04-14 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ガスバリア性積層フィルム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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