JP2003098305A - 反射防止フィルム - Google Patents
反射防止フィルムInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、保護膜としてＤＬＣ膜を使用
した反射防止フィルムにおいて、薄い膜厚で十分な耐久
性を確保しうるＤＬＣ膜有する反射防止フィルムの提供
を課題とする。 【解決手段】 該基材の表面に設けられた反射防止膜
と、該反射防止膜の表面に設けられた保護膜とから主と
して構成される反射防止フィルムにおいて、炭化水素と
フッ化水素、もしくは炭化水素とフッ化炭素の混合ガス
を用いた真空薄膜形成技術により膜厚が１ｎｍ〜２０ｎ
ｍであり、Ｆ／Ｃ原子比で０．０１〜２．０のフッ素を
含むＤＬＣ膜を保護膜として形成する。また、ＤＬＣ膜
の厚み方向で、フッ素含有率が反射防止膜側より大気側
に向けて連続的に増加するようにすると好ましい。
した反射防止フィルムにおいて、薄い膜厚で十分な耐久
性を確保しうるＤＬＣ膜有する反射防止フィルムの提供
を課題とする。 【解決手段】 該基材の表面に設けられた反射防止膜
と、該反射防止膜の表面に設けられた保護膜とから主と
して構成される反射防止フィルムにおいて、炭化水素と
フッ化水素、もしくは炭化水素とフッ化炭素の混合ガス
を用いた真空薄膜形成技術により膜厚が１ｎｍ〜２０ｎ
ｍであり、Ｆ／Ｃ原子比で０．０１〜２．０のフッ素を
含むＤＬＣ膜を保護膜として形成する。また、ＤＬＣ膜
の厚み方向で、フッ素含有率が反射防止膜側より大気側
に向けて連続的に増加するようにすると好ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示板（ＬＣ
Ｄ）、テレビやコンピュ−タ−の表示画面ブラウン管
（ＣＲＴ）、その他の表示画面などの前面に装着され、
耐擦傷性、耐久性そして反射防止性に優れた反射防止膜
を有するプラスチックフィルムに関する。
Ｄ）、テレビやコンピュ−タ−の表示画面ブラウン管
（ＣＲＴ）、その他の表示画面などの前面に装着され、
耐擦傷性、耐久性そして反射防止性に優れた反射防止膜
を有するプラスチックフィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶ディスプレイやブラウン管等の表示
画面を見る場合、窓からの外光や室内照明の光が画面上
で反射し、表示が見難くなり、ディスプレイ作業におけ
る疲労の原因とも成っている。この対策の一つとして、
表示画面の表面に反射防止膜を設け、表示画質を向上さ
せることが行われている。
画面を見る場合、窓からの外光や室内照明の光が画面上
で反射し、表示が見難くなり、ディスプレイ作業におけ
る疲労の原因とも成っている。この対策の一つとして、
表示画面の表面に反射防止膜を設け、表示画質を向上さ
せることが行われている。
【０００３】一般的には液晶表示板（ＬＣＤ）、テレビ
やコンピュ−タ−表示用ブラウン管（ＣＲＴ）などの表
示画面はガラスである場合が多く、従来はそのガラス面
に直接反射防止機能を付与することで背後光原からの光
の反射による視覚的障害を避けてきた。こうしたガラス
表面に反射防止機能を付与するには、上記表示画面に金
属酸化物や誘電体からなる多層膜を形成させることによ
り行うが、この多層膜の形成は真空装置中で蒸着法によ
り行うため、被処理材がＣＲＴのように数十ｃｍ四方と
大きく、曲面を持つような場合は、大掛かりな設備が必
要とされ、経済性の面で問題があった。
やコンピュ−タ−表示用ブラウン管（ＣＲＴ）などの表
示画面はガラスである場合が多く、従来はそのガラス面
に直接反射防止機能を付与することで背後光原からの光
の反射による視覚的障害を避けてきた。こうしたガラス
表面に反射防止機能を付与するには、上記表示画面に金
属酸化物や誘電体からなる多層膜を形成させることによ
り行うが、この多層膜の形成は真空装置中で蒸着法によ
り行うため、被処理材がＣＲＴのように数十ｃｍ四方と
大きく、曲面を持つような場合は、大掛かりな設備が必
要とされ、経済性の面で問題があった。
【０００４】したがって、あらかじめ反射防止性能を付
与したＰＥＴやＰＣなどの樹脂フィルムを用意し、それ
を表示用ガラス面に接着して反射防止機能を付与するこ
とが行われるようになった。すなわち反射防止膜を有す
るプラスチックフィルムまたはシート状の基材を、接着
剤等を用いてガラス面上に貼合せることがおこなわれて
いる。また、これまでＣＲＴの画像のコントラストを上
げるために着色ガラスをブラウン管材料として用いてい
たが、最近のフラット型ＣＲＴでは無着色のガラスを用
いたブラウン管を用いて、その代わりに、装着する樹脂
フィルムに着色機能をもたせる方法がとられている。こ
の方法によると画像全体が均一にコントラスト効果を持
たせることができる。その際、樹脂フィルムの平均可視
光透過率は６０〜７５％が適当であり、６０％より低い
と画像が暗すぎて見えなくなる。しかしこのような基材
は、樹脂フィルム自体が柔らかいため、キズに対して弱
く、耐摩耗性、耐久性の面で実用的ではなかった。この
点を克服するために、上記樹脂フィルムの表面にアクリ
ル系のハードコート膜を設け、その上に反射防止膜を形
成する方法が検討されている。
与したＰＥＴやＰＣなどの樹脂フィルムを用意し、それ
を表示用ガラス面に接着して反射防止機能を付与するこ
とが行われるようになった。すなわち反射防止膜を有す
るプラスチックフィルムまたはシート状の基材を、接着
剤等を用いてガラス面上に貼合せることがおこなわれて
いる。また、これまでＣＲＴの画像のコントラストを上
げるために着色ガラスをブラウン管材料として用いてい
たが、最近のフラット型ＣＲＴでは無着色のガラスを用
いたブラウン管を用いて、その代わりに、装着する樹脂
フィルムに着色機能をもたせる方法がとられている。こ
の方法によると画像全体が均一にコントラスト効果を持
たせることができる。その際、樹脂フィルムの平均可視
光透過率は６０〜７５％が適当であり、６０％より低い
と画像が暗すぎて見えなくなる。しかしこのような基材
は、樹脂フィルム自体が柔らかいため、キズに対して弱
く、耐摩耗性、耐久性の面で実用的ではなかった。この
点を克服するために、上記樹脂フィルムの表面にアクリ
ル系のハードコート膜を設け、その上に反射防止膜を形
成する方法が検討されている。
【０００５】また、耐久性の向上を図る手段として、反
射防止膜の膜質を改善する方法や反射防止膜の上に硬質
保護膜を設ける方法等が検討されている。これらの中
で、ダイヤモンド状硬質炭素（ＤＬＣ）膜を用いた保護
膜の形成が有力視されている。
射防止膜の膜質を改善する方法や反射防止膜の上に硬質
保護膜を設ける方法等が検討されている。これらの中
で、ダイヤモンド状硬質炭素（ＤＬＣ）膜を用いた保護
膜の形成が有力視されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、耐久性
を実用水準まで高めるべく、上記ダイヤモンド状硬質炭
素膜（以下、ＤＬＣ膜と省略する。）を反射防止膜表面
に直接形成する場合、必要とされる膜厚は、例えば５０
０ｎｍと厚くしなければならない。しかしＤＬＣ膜を厚
くすると、ＤＬＣ膜自体の光学効果が発揮されることに
なり、フィルム自体の反射防止機能が低下してしまう。
を実用水準まで高めるべく、上記ダイヤモンド状硬質炭
素膜（以下、ＤＬＣ膜と省略する。）を反射防止膜表面
に直接形成する場合、必要とされる膜厚は、例えば５０
０ｎｍと厚くしなければならない。しかしＤＬＣ膜を厚
くすると、ＤＬＣ膜自体の光学効果が発揮されることに
なり、フィルム自体の反射防止機能が低下してしまう。
【０００７】本発明は、このような実情に鑑みて提案さ
れたものであって、保護膜としてＤＬＣ膜を使用した反
射防止フィルムにおいて、薄い膜厚で十分な耐久性を確
保しうるＤＬＣ膜有する反射防止フィルムの提供を目的
とする。
れたものであって、保護膜としてＤＬＣ膜を使用した反
射防止フィルムにおいて、薄い膜厚で十分な耐久性を確
保しうるＤＬＣ膜有する反射防止フィルムの提供を目的
とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意研究した結果、 上記反射防止膜表面の
ＤＬＣ膜中に一定量以上のフッ素が含有された場合に、
該ＤＬＣ膜が薄くても良好な耐久性を有する反射防止膜
表面が得られることを見出し本発明に至った。
達成すべく鋭意研究した結果、 上記反射防止膜表面の
ＤＬＣ膜中に一定量以上のフッ素が含有された場合に、
該ＤＬＣ膜が薄くても良好な耐久性を有する反射防止膜
表面が得られることを見出し本発明に至った。
【０００９】即ち、上記課題を解決する本発明は、基材
と、該基材の表面に設けられた反射防止膜と、該反射防
止膜の表面に設けられた保護膜とから主として構成され
る反射防止フィルムにおいて、保護膜として膜厚が１ｎ
ｍ〜２０ｎｍであり、Ｆ／Ｃ原子比で０．０１〜２．０
のフッ素を含むＤＬＣ膜を用いることを特徴とするもの
である。
と、該基材の表面に設けられた反射防止膜と、該反射防
止膜の表面に設けられた保護膜とから主として構成され
る反射防止フィルムにおいて、保護膜として膜厚が１ｎ
ｍ〜２０ｎｍであり、Ｆ／Ｃ原子比で０．０１〜２．０
のフッ素を含むＤＬＣ膜を用いることを特徴とするもの
である。
【００１０】また、好ましくはＤＬＣ膜の厚み方向で、
フッ素含有率が反射防止膜側より大気側に向けて連続的
に増加するものである。本発明において、上記ＤＬＣ膜
を形成するに際しては、例えば真空薄膜形成技術を用
い、炭化水素とフッ化水素、もしくは炭化水素とフッ化
炭素の混合ガスを用いて、Ｆ／Ｃ原子比で０．０１〜
２．０のフッ素を含むＤＬＣ膜を形成する。
フッ素含有率が反射防止膜側より大気側に向けて連続的
に増加するものである。本発明において、上記ＤＬＣ膜
を形成するに際しては、例えば真空薄膜形成技術を用
い、炭化水素とフッ化水素、もしくは炭化水素とフッ化
炭素の混合ガスを用いて、Ｆ／Ｃ原子比で０．０１〜
２．０のフッ素を含むＤＬＣ膜を形成する。
【００１１】
【発明の実施の形態】図１は本発明に含まれる反射防止
フィルムの基本的な構造を示す模式的な断面図である。
図に示すように本反射防止フィルムは、透明な基体と、
その上に形成された反射防止膜と、その上に形成された
保護膜とからなる。このような反射防止フィルムは、例
えば粘着剤を介してＣＲＴやＬＣＤの画面に貼り付けら
れる。透明基体は例えば、５０〜２００mmの厚みのポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のフィルムの上にア
クリル系の硬化樹脂（ハードコート）を１〜２０mmほど
塗布した有機基材である。本発明の特徴として保護膜は
フッ素を多く含有するＤＬＣ膜からなる。
フィルムの基本的な構造を示す模式的な断面図である。
図に示すように本反射防止フィルムは、透明な基体と、
その上に形成された反射防止膜と、その上に形成された
保護膜とからなる。このような反射防止フィルムは、例
えば粘着剤を介してＣＲＴやＬＣＤの画面に貼り付けら
れる。透明基体は例えば、５０〜２００mmの厚みのポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）のフィルムの上にア
クリル系の硬化樹脂（ハードコート）を１〜２０mmほど
塗布した有機基材である。本発明の特徴として保護膜は
フッ素を多く含有するＤＬＣ膜からなる。
【００１２】本発明は、反射防止膜表面に真空薄膜形成
技術により形成されたＤＬＣ膜中にフッ素を共存させる
ことにより、該ＤＬＣ膜の厚さを薄くできたものであ
る。本発明においてＤＬＣ膜の厚さを２０ｎｍ以下とし
たのは，２０ｎｍより厚いとＤＬＣ自体の着色性により
可視光透過率が低すぎてしまい，ディスプレイ表面に装
着するフィルムとして利用できないからであり、１ｎｍ
以上としたのは、これより薄いと実質的に均一、かつ充
分な耐久性を有するＤＬＣ膜とならないからである。ま
た、ＤＬＣ膜中のフッ素をＦ／Ｃ原子比で０．０１〜
２．０としたのは、この範囲を下回ると２０ｎｍの厚さ
で実質的に充分な耐久性を有するＤＬＣ膜とならず、こ
の範囲を上回るとＤＬＣ膜自体の硬度が低下して保護膜
として機能しないからである。
技術により形成されたＤＬＣ膜中にフッ素を共存させる
ことにより、該ＤＬＣ膜の厚さを薄くできたものであ
る。本発明においてＤＬＣ膜の厚さを２０ｎｍ以下とし
たのは，２０ｎｍより厚いとＤＬＣ自体の着色性により
可視光透過率が低すぎてしまい，ディスプレイ表面に装
着するフィルムとして利用できないからであり、１ｎｍ
以上としたのは、これより薄いと実質的に均一、かつ充
分な耐久性を有するＤＬＣ膜とならないからである。ま
た、ＤＬＣ膜中のフッ素をＦ／Ｃ原子比で０．０１〜
２．０としたのは、この範囲を下回ると２０ｎｍの厚さ
で実質的に充分な耐久性を有するＤＬＣ膜とならず、こ
の範囲を上回るとＤＬＣ膜自体の硬度が低下して保護膜
として機能しないからである。
【００１３】本発明において、ＤＬＣ膜は反射防止層と
して形成される金属酸化物積層膜の上に保護膜として設
けられる。ＤＬＣ膜を構成するカーボンのラマン分光ス
ペクトルを調査するとダイヤモンド構造に由来するピー
クと、グラファイト構造に由来するピークとが観測され
る。本発明において言うＤＬＣ膜とは、前記ダイヤモン
ド構造に由来するピークが存在するものを言う。
して形成される金属酸化物積層膜の上に保護膜として設
けられる。ＤＬＣ膜を構成するカーボンのラマン分光ス
ペクトルを調査するとダイヤモンド構造に由来するピー
クと、グラファイト構造に由来するピークとが観測され
る。本発明において言うＤＬＣ膜とは、前記ダイヤモン
ド構造に由来するピークが存在するものを言う。
【００１４】このＤＬＣ膜を形成する方法としては、例
えばスパッタリング法、ＣＶＤ法等が使用可能である。
本発明では、このＤＬＣ膜を形成する際に、反応室内に
フッ化炭素ガスもしくはフッ化炭素ガスと炭化水素ガス
の混合ガスを導入する。ここで、炭化水素ガスとして
は、メタン、エタン、トルエン、プロパン、アセチレ
ン、ブタン等を用いることができ、またフッ化水素ガス
としては、フッ化エチレン、フッ化エタン、オクタフル
オロシクロブタン、フロン２３等を用いることができ
る。
えばスパッタリング法、ＣＶＤ法等が使用可能である。
本発明では、このＤＬＣ膜を形成する際に、反応室内に
フッ化炭素ガスもしくはフッ化炭素ガスと炭化水素ガス
の混合ガスを導入する。ここで、炭化水素ガスとして
は、メタン、エタン、トルエン、プロパン、アセチレ
ン、ブタン等を用いることができ、またフッ化水素ガス
としては、フッ化エチレン、フッ化エタン、オクタフル
オロシクロブタン、フロン２３等を用いることができ
る。
【００１５】これにより、上記反射防止膜表面にフッ素
を多く含有するＤＬＣ膜が形成されるようになる。導入
ガスの組成を変化させて得られるＤＬＣ膜中のフッ素の
含有量を制御する。なお、フッ素の含有量は、原子比で
０．０１〜２．０の範囲で、ＤＬＣ膜の厚み方向で、反
射防止膜側より待機側に向けて連続的に増加することが
好ましい。これにより、膜自体の強度が向上し、膜厚が
薄くても十分な耐久性を確保することができる。
を多く含有するＤＬＣ膜が形成されるようになる。導入
ガスの組成を変化させて得られるＤＬＣ膜中のフッ素の
含有量を制御する。なお、フッ素の含有量は、原子比で
０．０１〜２．０の範囲で、ＤＬＣ膜の厚み方向で、反
射防止膜側より待機側に向けて連続的に増加することが
好ましい。これにより、膜自体の強度が向上し、膜厚が
薄くても十分な耐久性を確保することができる。
【００１６】また、このダイヤモンド状硬質炭素膜の形
成に際し、例えばヘキサメチルジシロキサン、オクタメ
チルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタ
シロキサン等の有機シリコン化合物ガス又は有機フッ化
シリコンガスを導入してもよい。これにより、得られる
ＤＬＣ膜中に珪素が取り込まれ、より顕著な効果を期待
することができる。
成に際し、例えばヘキサメチルジシロキサン、オクタメ
チルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタ
シロキサン等の有機シリコン化合物ガス又は有機フッ化
シリコンガスを導入してもよい。これにより、得られる
ＤＬＣ膜中に珪素が取り込まれ、より顕著な効果を期待
することができる。
【００１７】本発明の反射防止フィルムにおいて反射防
止膜はフィルム基体上に、真空薄膜形成技術により低屈
折率の金属酸化物薄膜と高屈折率の金属酸化物薄膜もし
くは金属窒化物薄膜が積層されて形成される。低屈折率
の金属酸化物薄膜材料としてはＳｉＯ2やＭｇＦ2などが
挙げられ、高屈折率の金属酸化物薄膜材料としてはＴｉ
Ｏ2、ＺｒＯ2、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5、Ｉｎ2Ｏ
3、ＩＴＯなどが挙げられ、高屈折率の金属窒化物薄膜
材料としてＴｉＮ、ＺｒＮなどが挙げられる。
止膜はフィルム基体上に、真空薄膜形成技術により低屈
折率の金属酸化物薄膜と高屈折率の金属酸化物薄膜もし
くは金属窒化物薄膜が積層されて形成される。低屈折率
の金属酸化物薄膜材料としてはＳｉＯ2やＭｇＦ2などが
挙げられ、高屈折率の金属酸化物薄膜材料としてはＴｉ
Ｏ2、ＺｒＯ2、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5、Ｉｎ2Ｏ
3、ＩＴＯなどが挙げられ、高屈折率の金属窒化物薄膜
材料としてＴｉＮ、ＺｒＮなどが挙げられる。
【００１８】金属酸化物薄膜や金属窒化物薄膜を形成す
る手段としては、微量の酸素ガスや窒素を導入した真空
下で上述の金属材料を加熱蒸発させ上記フィルム基体上
に被着せしめる真空蒸着法や、上記金属酸化物材料や金
属窒化物材料の蒸発を放電中で行うイオンプレーティン
グ法、アルゴンを主成分とする雰囲気中でグロー放電を
起こし生じたアルゴンイオンでターゲット表面の原子を
たたき出すスパッタ法等、いわゆるＰＶＤ技術がいずれ
も使用可能である。上記各種の真空薄膜形成技術により
形成された反射防止膜上に保護膜としてＤＬＣ膜を形成
する際に、反応室内にフッ化炭素ガスを導入する。これ
により、得られる保護膜において、フッ素を含有するよ
うな構成となる。この結果、上記反射防止膜上にフッ素
の効果により優れた潤滑性が得られ、且つ摩擦係数が低
減する。従って、十分な耐久性が得られる。
る手段としては、微量の酸素ガスや窒素を導入した真空
下で上述の金属材料を加熱蒸発させ上記フィルム基体上
に被着せしめる真空蒸着法や、上記金属酸化物材料や金
属窒化物材料の蒸発を放電中で行うイオンプレーティン
グ法、アルゴンを主成分とする雰囲気中でグロー放電を
起こし生じたアルゴンイオンでターゲット表面の原子を
たたき出すスパッタ法等、いわゆるＰＶＤ技術がいずれ
も使用可能である。上記各種の真空薄膜形成技術により
形成された反射防止膜上に保護膜としてＤＬＣ膜を形成
する際に、反応室内にフッ化炭素ガスを導入する。これ
により、得られる保護膜において、フッ素を含有するよ
うな構成となる。この結果、上記反射防止膜上にフッ素
の効果により優れた潤滑性が得られ、且つ摩擦係数が低
減する。従って、十分な耐久性が得られる。
【００１９】
【実施例】次に実施例を用いて本発明をさらに説明す
る。以下、本発明を具体的な実施例により説明するが、
本発明がこの実施例に限定されるものでないことは言う
までもない。 （実施例１〜６、比較例１〜３）図１に示した反射防止
フィルムの作成に際して反射防止膜を以下のような手順
で形成した。フィルム基体のハードコート層の上に、Ｉ
ＴＯ膜（２１ｎｍ）、ＳｉＯ2膜（３２ｎｍ）、ＩＴＯ
膜（４２ｎｍ）、ＳｉＯ2膜（１０３ｎｍ）の順に４層
すべてを、巻き取り式スパッタリング装置を用いて、各
層の膜厚さを光学膜厚（ｎ×ｄ）としてオンラインで計
測制御しながら順次形成させた。ＩＴＯ膜はＩＴＯター
ゲットを用いたＤＣスパッタリング法で形成した。ま
た、ＳｉＯ２膜はＳｉターゲットを用い、酸素ガスを用
いた反応性スパッタ法で形成した。
る。以下、本発明を具体的な実施例により説明するが、
本発明がこの実施例に限定されるものでないことは言う
までもない。 （実施例１〜６、比較例１〜３）図１に示した反射防止
フィルムの作成に際して反射防止膜を以下のような手順
で形成した。フィルム基体のハードコート層の上に、Ｉ
ＴＯ膜（２１ｎｍ）、ＳｉＯ2膜（３２ｎｍ）、ＩＴＯ
膜（４２ｎｍ）、ＳｉＯ2膜（１０３ｎｍ）の順に４層
すべてを、巻き取り式スパッタリング装置を用いて、各
層の膜厚さを光学膜厚（ｎ×ｄ）としてオンラインで計
測制御しながら順次形成させた。ＩＴＯ膜はＩＴＯター
ゲットを用いたＤＣスパッタリング法で形成した。ま
た、ＳｉＯ２膜はＳｉターゲットを用い、酸素ガスを用
いた反応性スパッタ法で形成した。
【００２０】次に、反射防止膜の表面に保護膜を形成し
た。この際に使用したプラズマＣＶＤ連続膜形成装置の
構成について説明する。このプラズマＣＶＤ連続膜形成
装置は、内部が所定の真空度に保たれた真空槽内におい
て、反射防止膜が形成されたフィルム基体（被処理体）
が、定速回転する送りロールから定速回転する巻き取り
ロールに向かって順次走行するようになされている。こ
れら送りロール側から巻き取りロール側に亘って上記フ
ィルム基体が走行する中途部には、該反射防止膜を引き
出すように上記各ロールの径よりも大径となされた回転
支持体が定速回転するように設けられている。該反射防
止膜支持体は反射防止膜が外側（回転支持体側と逆側）
に向くよう回転支持体上に搬送される。また、これら送
りロールと回転支持体及び該回転支持体と巻き取りロー
ル間には、ガイドロールがそれぞれ配設されており、上
記送りロールと回転支持体５及び該回転支持体と巻き取
りロール間を走行する上記反射防止膜支持体に適当なテ
ンションを与えつつ、円滑な走行がなされるようになさ
れている。
た。この際に使用したプラズマＣＶＤ連続膜形成装置の
構成について説明する。このプラズマＣＶＤ連続膜形成
装置は、内部が所定の真空度に保たれた真空槽内におい
て、反射防止膜が形成されたフィルム基体（被処理体）
が、定速回転する送りロールから定速回転する巻き取り
ロールに向かって順次走行するようになされている。こ
れら送りロール側から巻き取りロール側に亘って上記フ
ィルム基体が走行する中途部には、該反射防止膜を引き
出すように上記各ロールの径よりも大径となされた回転
支持体が定速回転するように設けられている。該反射防
止膜支持体は反射防止膜が外側（回転支持体側と逆側）
に向くよう回転支持体上に搬送される。また、これら送
りロールと回転支持体及び該回転支持体と巻き取りロー
ル間には、ガイドロールがそれぞれ配設されており、上
記送りロールと回転支持体５及び該回転支持体と巻き取
りロール間を走行する上記反射防止膜支持体に適当なテ
ンションを与えつつ、円滑な走行がなされるようになさ
れている。
【００２１】なお、上記送りロール、巻き取りロール及
び回転支持体は、それぞれ上記反射防止膜支持体の幅と
略同じ長さからなる円筒状をなすものである。従って、
このプラズマＣＶＤ連続膜形成装置においては、上記反
射防止膜支持体が、上記送りロールから順次送り出さ
れ、上記回転支持体の外周面に沿って通過し、更に上記
巻き取りロールに巻き取られていくようになされてい
る。
び回転支持体は、それぞれ上記反射防止膜支持体の幅と
略同じ長さからなる円筒状をなすものである。従って、
このプラズマＣＶＤ連続膜形成装置においては、上記反
射防止膜支持体が、上記送りロールから順次送り出さ
れ、上記回転支持体の外周面に沿って通過し、更に上記
巻き取りロールに巻き取られていくようになされてい
る。
【００２２】一方、上記真空槽内には、上記回転支持体
の下方に反応管が設けられ、これら回転支持体と反応管
の間を通過する際に、表面に反射防止層を有する上記反
射防止膜支持体上に保護膜が形成されるようになされて
いる。この反応管として本例では石英管を用いたが、他
に例えば、プラスチック等が使用可能である。
の下方に反応管が設けられ、これら回転支持体と反応管
の間を通過する際に、表面に反射防止層を有する上記反
射防止膜支持体上に保護膜が形成されるようになされて
いる。この反応管として本例では石英管を用いたが、他
に例えば、プラスチック等が使用可能である。
【００２３】この反応管の内部には、プラズマを発生さ
せる加速電極が組み込まれている。この加速電極９とし
ては、ガスを透過しやすく、且つ電界を均一にかけるこ
とができ、柔軟性に富んだ材質であることが望ましく、
例えば金網のような金属メッシュ等が好適である。この
ような加速電極の構成材料としては、例えば銅等が代表
的であるが、導電性から言えば例えば金等も使用可能で
ある。
せる加速電極が組み込まれている。この加速電極９とし
ては、ガスを透過しやすく、且つ電界を均一にかけるこ
とができ、柔軟性に富んだ材質であることが望ましく、
例えば金網のような金属メッシュ等が好適である。この
ような加速電極の構成材料としては、例えば銅等が代表
的であるが、導電性から言えば例えば金等も使用可能で
ある。
【００２４】この加速電極には、上記真空槽の外部に配
設された直流電源が接続されており、該直流電源により
基板電位よりも高い電圧が供給される。この加速電極に
印可される電圧としては、＋５００Ｖ〜２０００Ｖであ
ることが好ましい。本例では１０００Ｖであった。
設された直流電源が接続されており、該直流電源により
基板電位よりも高い電圧が供給される。この加速電極に
印可される電圧としては、＋５００Ｖ〜２０００Ｖであ
ることが好ましい。本例では１０００Ｖであった。
【００２５】上記反応管には、フッ化炭素ガスとトルエ
ンの混合ガスの導入口が形成されている。このガス導入
口は、上記真空槽の底部を貫通して設けられており、こ
のガス導入口を介して上記反応管内にフッ化炭素ガスと
トルエンの混合ガスが導入され、所定の雰囲気に制御さ
れるようになされる。
ンの混合ガスの導入口が形成されている。このガス導入
口は、上記真空槽の底部を貫通して設けられており、こ
のガス導入口を介して上記反応管内にフッ化炭素ガスと
トルエンの混合ガスが導入され、所定の雰囲気に制御さ
れるようになされる。
【００２６】これにより、上記加速電極に所定の電圧を
印加してプラズマＣＶＤを行い保護膜の成膜を行うに際
し、上記送りロールより送り出され、上記回転支持体の
外周面に沿って走行する上記反射防止膜支持体が上記回
転支持体と上記反応管室内を通過する時点で該反射防止
膜支持体上の反射防止膜上にフッ素を多く含有するＤＬ
Ｃ膜が形成される。この結果、反射防止膜の表面上に形
成された上記フッ素を含有するＤＬＣ膜により優れた潤
滑性が得られるとともに、摩擦係数の低減が図られる。
故に、良好な耐久性を確保することができる。
印加してプラズマＣＶＤを行い保護膜の成膜を行うに際
し、上記送りロールより送り出され、上記回転支持体の
外周面に沿って走行する上記反射防止膜支持体が上記回
転支持体と上記反応管室内を通過する時点で該反射防止
膜支持体上の反射防止膜上にフッ素を多く含有するＤＬ
Ｃ膜が形成される。この結果、反射防止膜の表面上に形
成された上記フッ素を含有するＤＬＣ膜により優れた潤
滑性が得られるとともに、摩擦係数の低減が図られる。
故に、良好な耐久性を確保することができる。
【００２７】続いて、上記プラズマＣＶＤ連続膜形成装
置（上記回転支持体の直径は７０ｃｍ、反応管は４０×
２０ｃｍの直方体のものを用いた。）を使用し、上記反
射防止膜が形成されたフィルム基体を上述の送りロール
に装着した後、反応管へ導入したフッ化炭素ガスとトル
エンとの混合比を表１のうに変化させて導入し、他の条
件は同一としてプラズマＣＶＤ法により、上記反射防止
膜上に膜厚５ｎｍのフッ素含有のＤＬＣ膜を形成した。
膜の組成は、同一条件で膜厚を厚く（７００ｎｍ）作製
したサンプルを用い、ＥＰＭＡとＸＲＦにて測定した。
導入したガスの混合比と膜中のフッ素含有量、摩擦係
数，及び鉛筆硬度を表１に示す。
置（上記回転支持体の直径は７０ｃｍ、反応管は４０×
２０ｃｍの直方体のものを用いた。）を使用し、上記反
射防止膜が形成されたフィルム基体を上述の送りロール
に装着した後、反応管へ導入したフッ化炭素ガスとトル
エンとの混合比を表１のうに変化させて導入し、他の条
件は同一としてプラズマＣＶＤ法により、上記反射防止
膜上に膜厚５ｎｍのフッ素含有のＤＬＣ膜を形成した。
膜の組成は、同一条件で膜厚を厚く（７００ｎｍ）作製
したサンプルを用い、ＥＰＭＡとＸＲＦにて測定した。
導入したガスの混合比と膜中のフッ素含有量、摩擦係
数，及び鉛筆硬度を表１に示す。
【００２８】
表１フッ
化炭素／トルエン 膜中のＦ含有量 摩擦係数 鉛筆硬度 備 考
流量比 Ｆ／Ｃ原子比
０ ０ ０．１５ ２Ｈ 比較例１
０．０１ ０．００６ ０．１４ ２Ｈ 比較例２
０．０２ ０．０１ ０．０９ ４Ｈ 実施例１
０．０４ ０．０３５ ０．０８ ４Ｈ 実施例２
１．００ ０．５５２ ０．０７ ４Ｈ 実施例３
２．１０ １．０７２ ０．０６ ４Ｈ 実施例４
４．３０ １．５３２ ０．０６ ４Ｈ 実施例５
７．１０ １．９８０ ０．０６ ４Ｈ 実施例６
８．９０ ２．２０３ ０．０６ ２Ｈ 比較例３
表１に示したように、本実施例のように、表面に１原子
％以上のフッ素を含むＤＬＣ膜を保護膜として形成する
ことにより、従来よりも潤滑性に優れ、且つ反射防止層
に対して強固に付着したＤＬＣ膜を得ることができ、耐
久性の向上を図ることができることがわかった。また、
実施例３の反射防止フィルムの光反射特性を図３に示
す。この図に示すように、５ｎｍの膜厚のフッ素含有Ｄ
ＬＣ膜を表面に施しても良好な反射防止特性を損なうこ
とはない。
％以上のフッ素を含むＤＬＣ膜を保護膜として形成する
ことにより、従来よりも潤滑性に優れ、且つ反射防止層
に対して強固に付着したＤＬＣ膜を得ることができ、耐
久性の向上を図ることができることがわかった。また、
実施例３の反射防止フィルムの光反射特性を図３に示
す。この図に示すように、５ｎｍの膜厚のフッ素含有Ｄ
ＬＣ膜を表面に施しても良好な反射防止特性を損なうこ
とはない。
【００２９】（実施例７〜１０，比較例４〜５）次にＦ
／Ｃ原子比０．０５のフッ素含有ＤＬＣ保護膜の膜厚を
変えて反射防止フィルムを作製し，摩擦係数，及び鉛筆
硬度，４００〜６００ｎｍの可視光領域の平均透過率を
測定した．その結果を表２に示す． 表２ Ｆ含有ＤＬＣ膜の 平均透過率 摩擦係数 鉛筆硬度 備 考 膜厚（ｎｍ） （％） ０．５ ８５ ０．１３ ２Ｈ 比較例４ １ ８３ ０．０９ ４Ｈ 実施例７ ２ ８０ ０．０７ ４Ｈ 実施例８ １０ ７２ ０．０７ ４Ｈ 実施例９ ２０ ６２ ０．０７ ４Ｈ 実施例10 ２５ ５５ ０．０７ ４Ｈ 比較例５ 比較例４の結果に示すように，膜厚が１ｎｍより薄くな
ると摩擦係数が大きく，鉛筆硬度が２Ｈであり，保護膜
として機能しない．また，比較例５の結果に示すように
膜厚が２５ｎｍになると平均透過率が低すぎて着色が濃
いためディスプレイの反射防止膜としては使用できな
い．実施例７〜１０に示すように膜厚を１〜２０ｎｍに
すれば，耐久性も高く保護膜として機能し，かつ透過率
も実用的である．実施例９，１０のような平均透過率が
６０〜７５％の着色した反射防止フィルムはＣＲＴの画
像のコントラストを向上させることができる．
／Ｃ原子比０．０５のフッ素含有ＤＬＣ保護膜の膜厚を
変えて反射防止フィルムを作製し，摩擦係数，及び鉛筆
硬度，４００〜６００ｎｍの可視光領域の平均透過率を
測定した．その結果を表２に示す． 表２ Ｆ含有ＤＬＣ膜の 平均透過率 摩擦係数 鉛筆硬度 備 考 膜厚（ｎｍ） （％） ０．５ ８５ ０．１３ ２Ｈ 比較例４ １ ８３ ０．０９ ４Ｈ 実施例７ ２ ８０ ０．０７ ４Ｈ 実施例８ １０ ７２ ０．０７ ４Ｈ 実施例９ ２０ ６２ ０．０７ ４Ｈ 実施例10 ２５ ５５ ０．０７ ４Ｈ 比較例５ 比較例４の結果に示すように，膜厚が１ｎｍより薄くな
ると摩擦係数が大きく，鉛筆硬度が２Ｈであり，保護膜
として機能しない．また，比較例５の結果に示すように
膜厚が２５ｎｍになると平均透過率が低すぎて着色が濃
いためディスプレイの反射防止膜としては使用できな
い．実施例７〜１０に示すように膜厚を１〜２０ｎｍに
すれば，耐久性も高く保護膜として機能し，かつ透過率
も実用的である．実施例９，１０のような平均透過率が
６０〜７５％の着色した反射防止フィルムはＣＲＴの画
像のコントラストを向上させることができる．
【００３０】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の反射防止フィルムは、膜厚の薄いフッ素リッチなＤＬ
Ｃ膜を保護膜として用いているため、硬質で自己潤滑性
に優れた保護膜が得られるとともに、耐久性を改善する
ことができる。従って、本発明によれば、反射防止特性
を損なうことなく、良好な耐久性を有する反射防止フィ
ルムを提供することが可能となる。
の反射防止フィルムは、膜厚の薄いフッ素リッチなＤＬ
Ｃ膜を保護膜として用いているため、硬質で自己潤滑性
に優れた保護膜が得られるとともに、耐久性を改善する
ことができる。従って、本発明によれば、反射防止特性
を損なうことなく、良好な耐久性を有する反射防止フィ
ルムを提供することが可能となる。
【００３１】
【図１】本発明に係わる反射防止フィルムの構造例を示
す模式的な断面図である。
す模式的な断面図である。
【図２】本発明を適用して反射防止フィルムを製造する
に際し、ダイヤモンドライクカーボン膜の成膜時に使用
したプラズマＣＶＤ装置の構成を示す模式図である。
に際し、ダイヤモンドライクカーボン膜の成膜時に使用
したプラズマＣＶＤ装置の構成を示す模式図である。
【図３】実施例３の反射防止フィルムの反射特性を示す
グラフである。
グラフである。
Claims (2)
- 【請求項１】透明な基材と、該基材の表面に設けられた
反射防止膜と、該反射防止膜の表面に設けられた保護膜
とから主として構成される反射防止フィルムにおいて、
保護膜として膜厚が１ｎｍ〜２０ｎｍであり、Ｆ／Ｃ原
子比で０．０１〜２．０のフッ素を含むＤＬＣ膜を用い
ることを特徴とする反射防止フィルム。 - 【請求項２】ＤＬＣ膜の厚み方向で、フッ素含有率が反
射防止膜側より大気側に向けて連続的に増加するもので
ある請求項１記載の反射防止フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001285848A JP2003098305A (ja) | 2001-09-19 | 2001-09-19 | 反射防止フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001285848A JP2003098305A (ja) | 2001-09-19 | 2001-09-19 | 反射防止フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003098305A true JP2003098305A (ja) | 2003-04-03 |
Family
ID=19108925
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001285848A Pending JP2003098305A (ja) | 2001-09-19 | 2001-09-19 | 反射防止フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003098305A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006133421A (ja) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Seiko Epson Corp | 光学素子 |
| WO2006087502A1 (fr) * | 2005-02-21 | 2006-08-24 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Couche dlc antisalissure |
| JP2007213715A (ja) * | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Saitama Prefecture | フッ素化ダイヤモンドライクカーボン薄膜の製造方法およびそれにより得られたフッ素化ダイヤモンドライクカーボン薄膜 |
| WO2010086934A1 (ja) * | 2009-01-27 | 2010-08-05 | 国立大学法人香川大学 | 表示装置用フェースプレートとその製造方法及びそれらを用いた表示装置及び物品 |
| JP2011008275A (ja) * | 2010-07-30 | 2011-01-13 | Fujifilm Corp | 反射防止フィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
| CN103732552A (zh) * | 2011-08-18 | 2014-04-16 | 法国圣戈班玻璃厂 | 提供有多孔涂层的抗反射玻璃板 |
| WO2015171651A1 (en) * | 2014-05-05 | 2015-11-12 | General Plasma, Inc. | Scratch and fingerprint resistant anti-reflective films for use on display windows of electronic devices and other related technology |
| US10399339B2 (en) | 2017-06-26 | 2019-09-03 | Seiko Epson Corporation | Nozzle plate, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and manufacturing method of nozzle plate |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05169459A (ja) * | 1991-12-24 | 1993-07-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 樹脂あるいはゴム用金型、樹脂あるいはゴム成形装置部品および樹脂あるいはゴムの成形方法 |
| JPH07121855A (ja) * | 1993-10-20 | 1995-05-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法及びプラズマｃｖｄ成膜方法 |
| JPH07256820A (ja) * | 1994-03-24 | 1995-10-09 | Olympus Optical Co Ltd | 摺動部材 |
| JP2001141903A (ja) * | 1999-11-15 | 2001-05-25 | Sony Corp | 反射防止フィルム |
-
2001
- 2001-09-19 JP JP2001285848A patent/JP2003098305A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05169459A (ja) * | 1991-12-24 | 1993-07-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 樹脂あるいはゴム用金型、樹脂あるいはゴム成形装置部品および樹脂あるいはゴムの成形方法 |
| JPH07121855A (ja) * | 1993-10-20 | 1995-05-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法及びプラズマｃｖｄ成膜方法 |
| JPH07256820A (ja) * | 1994-03-24 | 1995-10-09 | Olympus Optical Co Ltd | 摺動部材 |
| JP2001141903A (ja) * | 1999-11-15 | 2001-05-25 | Sony Corp | 反射防止フィルム |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006133421A (ja) * | 2004-11-04 | 2006-05-25 | Seiko Epson Corp | 光学素子 |
| WO2006087502A1 (fr) * | 2005-02-21 | 2006-08-24 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Couche dlc antisalissure |
| JP2008532792A (ja) * | 2005-02-21 | 2008-08-21 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 耐汚染性ｄｌｃ皮膜層 |
| JP2007213715A (ja) * | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Saitama Prefecture | フッ素化ダイヤモンドライクカーボン薄膜の製造方法およびそれにより得られたフッ素化ダイヤモンドライクカーボン薄膜 |
| WO2010086934A1 (ja) * | 2009-01-27 | 2010-08-05 | 国立大学法人香川大学 | 表示装置用フェースプレートとその製造方法及びそれらを用いた表示装置及び物品 |
| JP2010175657A (ja) * | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Kagawa Univ | 表示装置用フェースプレートとその製造方法及びそれらを用いた表示装置及び物品 |
| JP2011008275A (ja) * | 2010-07-30 | 2011-01-13 | Fujifilm Corp | 反射防止フィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
| CN103732552A (zh) * | 2011-08-18 | 2014-04-16 | 法国圣戈班玻璃厂 | 提供有多孔涂层的抗反射玻璃板 |
| WO2015171651A1 (en) * | 2014-05-05 | 2015-11-12 | General Plasma, Inc. | Scratch and fingerprint resistant anti-reflective films for use on display windows of electronic devices and other related technology |
| US10399339B2 (en) | 2017-06-26 | 2019-09-03 | Seiko Epson Corporation | Nozzle plate, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and manufacturing method of nozzle plate |
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