JP2008532792A - 耐汚染性ｄｌｃ皮膜層 - Google Patents

Abstract

【解決手段】２つの主面をもつ基材に関し、そのうちの少なくとも１つは非反射性皮膜を含有し、該非反射性皮膜の表面に空気と接触する外層が設けられ、該外層は、厚みが１０ｎｍ以下、表面エネルギーが６０ｍＪ／ｍ²未満であり、かつオレイン酸接触角が７０°未満を示す表面をもつことを特徴とする。
【選択図】なし

Description

本発明は、比較的耐汚染性の光学特性をもち、汚れ取りが容易な、表面処理された非反射性皮膜を有する基材に関する。

非反射性皮膜は、特に眼科用レンズ、とりわけ眼鏡レンズの分野において使用される。
一般に、伝統的に金属酸化物の真空蒸着法により得られる単層膜または多層膜がある。
このような皮膜層は、特に使用者の視覚的快適性を改善するという光学的観点上の利点がある。

しかし、残念ながら上記層は汚れ易く、特に指跡の指紋などの油汚れがつき易いという問題がある。
汚れの影響は主に２つあり、その一つは、使用者の受光する透過光線の透過性を損なわせることで使用者の視認性を悪くすることであり、他の一つは、他人から見て、ガラス表面上に局所的に反射の強さと色が異なる審美的な不快さを生じることである。

この理由により、眼科用レンズの最終製品のほとんどが、非反射性皮膜上に設けられた、油汚れの付着を防止するように表面エネルギーを低くし、それにより油汚れの除去を容易にする疎水性および／または疎油性の表面皮膜層を含む。
疎水性および／または疎油性皮膜層は、非反射性皮膜の表面上に表面エネルギー低減化合物を被覆することにより得られる。
このような化合物は、先行技術たとえば特許文献１〜５に広く開示されている。

フッ素含有基を有するシラン系化合物、特に、１または複数のパーフルオロカーボンまたはパーフルオロエーテル含有基がもっともよく用いられる。その例としては、上記したような１または複数のフッ素含有基を含むシラザン、ポリシラザンまたはケイ素化合物などが挙げられる。

特に有効な既知の方法は、非反射性皮膜上に、フッ素含有基およびＳｉ−Ｒ含有基を有する化合物を堆積することからなり、ここでのＲはＯＨ基またはその前駆体好ましくはアルコキシ基に対応する。従来一般的に、疎水性および／または疎油性皮膜は、厚みが１０ｎｍ未満で、２０ｍＪ（ミリジュール）／ｍ²未満、特に効果的には１５ｍＪ／ｍ² 未満の表面エネルギーを発生する。
この皮膜は、多くの使用者を満足させる。

しかしながら、このように処理された非反射性皮膜は汚れの除去が容易であるとしても、現実的には、たいてい、汚れる前のガラスとほぼ同等の光学特性を回復させるために、特殊なミクロファイバータイプの拭き取り布を使用するか、および／または拭き取り作業を頻繁に繰り返す必要性が残る。

ＤＬＣ系薄膜層（ダイアモンド状炭素）は、最先端技術ですでに開示されている。
特許文献６は、少なくとも１つのＤＬＣ系層で被覆した無機基材および眼科用レンズ、特にサングラスの分野におけるそれの応用を開示する。
基材は、該基材と、光学的に基本的に透明なＤＬＣ外層との間に蒸着されて挿入された中間膜層を含む。
特に、基材からの層の積層は、第一中間膜層、第二中間膜層、ＤＬＣ膜層、他の中間膜層、ＤＬＣ型外層の順であることが具体的に記載されている。
各層の厚みは、所定の波長範囲における光反射を最小化または最大化するように選択することができる。

特許文献６は、そのような積層膜が従来の光学的皮膜層よりも優れた耐摩耗性をもつことを示す。
ＤＬＣ膜は、好ましくは炭化水素ガス、具体的にメタンまたは炭素蒸気を用いるイオン銃法による蒸着を介して行なわれる。
このＤＬＣ層の厚みは、１０Åないし１０μｍの範囲、好ましくは少なくとも２００Åとすることができる。
例Ｑは、無機ガラス製基材の表面からＳｉＯ₂ （７５ｎｍ）／ＤＬＣ（５５ｎｍ）／ＳｉＯ₂（７５ｎｍ）／ＤＬＣ（５５ｎｍ）の順に堆積した反射積層膜を示す。このように被覆された基材は、サングラスとして使用することができ、青−黄光沢をもつ。

米国特許（特許文献７）は、有機基材自体が１または複数の中間層のポリシロキサン層で被覆された有機基材上の同タイプの積層膜を開示し、それは金属酸化物または金属窒化物を含んでいてもよい。
上記基材はサングラスレンズであり、そのほとんどはポリカーボネート製である。
最終積層膜の耐久性ならびに耐摩耗性は、このような製品について言及される主要な特徴である。

米国特許（特許文献８）は、特にサングラスのための眼科用レンズ表面に、ミラー効果をもつ非反射性皮膜を形成する方法を開示する。
使用される誘電材料はＤＬＣ材料を含むことが記載されている。
この材料は、積層膜を構成する多層のうちの１層の成分として用いられてもよく、または積層膜のトップ層または外層として用いられてもよく、この場合、該ＤＬＣ層は摩耗に対する付加的な耐性とともに充分な化学的耐性をもたらす。この特許は、ＤＬＣ層の高い原子密度とともにその疎水性、硬さおよび低摩擦係数が、積層膜に、より長い耐久性、より優れた耐摩耗性および汚れの落とし易さをもたらすことについては明確にしてない。
この特許では、積層第一皮膜は、高耐摩耗性の透明皮膜成分である。
この摩耗耐性皮膜は、好ましくは５〜２０μｍの範囲にあるが、オルガノシランまたはオルガノシラザンプラズマ由来のイオンアシスト蒸着により得られる。

上記のような文献では、ＤＬＣ層は、その従来公知の性質、主として、該層が設けられる製品の耐摩耗性および耐久性を改善するために用いられる。
これら性質のためにはＤＬＣ層の充分な厚みを必要とし、これが、ＤＬＣ層が少なくとも２０ｎｍ厚である現実的な理由である。

特許文献６は、特に積層膜の耐摩耗性を改良するために、該積層膜の不可欠部分として数層のＤＬＣ層を堆積することが好ましく、ＤＬＣ堆積膜の全厚みを厚くすることも可能にすることを示す。
ミラー型反射積層膜の表面上への厚い層の堆積は、その高い屈折指数により反射効果を打ち消す目的ならば可能であるが、逆に、非反射性能を大きく損なわせるため、厚みによって顕著な耐摩耗性効果をもたらすような外層を非反射性積層膜とともに使用することは不可能である。
上記各文献は、非反射性皮膜の表面上への耐摩耗性を有するＤＬＣ層の堆積について言及しない。

米国特許第４,４１０,５６３号 欧州特許第０,２０３,７３０号 欧州特許第７４９,０２１号 欧州特許第８４４,２６５号 欧州特許第９３３,３７７号 国際公開９２／０５９５１号 米国特許第５,１９０,８０７号 米国特許第６,０７７,５６９号

本発明の目的は、その光学特性、特に透過性について、汚れ特に指紋に影響されないか、ほとんど影響されない非反射性積層膜を含む基材を提供することである。

本発明の他の目的は、従来の積層膜に基づき、その積層構造および材料に変更なく、比較的耐汚染性でクリーニング容易な非反射性皮膜を含む基材を提供することである。

本発明の他の目的は、非反射性多層膜の性能を損なうことなく比較的耐汚染性である非反射性多層膜を提供することである。

本発明の他の目的は、その表面に汚れが付着していても高い光学的透過性をもつ非反射性積皮膜層を含む基材を提供することである。

上記目的から、２つの主面を有し、少なくとも一方の主面に非反射性皮膜を有する基材であって、該非反射性皮膜上に空気と接触する外層が堆積されており、該外層は、厚みが１０ｎｍ以下、その表面エネルギーが６０ｍＪ／ｍ²未満であり、かつその表面のオレイン酸接触角が７０°未満である基材の提供が目される。

実際、本発明者は、前述した従来使用されている疎水性および疎油性トップコートを含む非反射性皮膜と異なり、表面エネルギーが低く、親油性で、超微細な層を非反射性積層膜の表面上に積層することにより、非反射性積層膜を被覆した基材の透過光学特性は、非反射性積層膜上に堆積した汚れによる影響をほとんど受けなかったことを確認した。
実用上、上記基材を眼鏡用レンズとすれば、着用者の視界はどのような汚れにもほとんどあるいはまったく影響を受けないことを意味する。

より正確には、どのような理論的制限も受けることなく、汚れの付着は、非反射性積層膜の表面上に、局所的に、油性材料の付着層となり、一方で入射光線透過率に、他方で同光線の反射に影響することによりその光学特性を損なわせる原因となると考えられる。
具体的に、残存反射色は、通常、染みがついた領域で局所的に変る。

現在、非反射性積層膜の表面上に積層させる外層として使用されている疎水性および疎油性トップコートの表面上に堆積した汚れは、微液滴として付き、上記表面の表面エネルギーが低いため容易に除去されるが、光線を散乱させることを本発明は観察している。

逆に、本発明の場合には、その表面の親油性により、汚れが表面上に均等に分配され、拭き取り後は、薄く、ほとんど散乱のない、膜類似層を形成する。
好ましい外層は、４０°以下、より好ましくは３０°以下、より一層好ましくは２０°以下、特に好ましくは１５°以下のオレイン酸接触角をもつものである。

外層は、通常、前述の親油性を保持するならば、可能な限り最低の表面エネルギーをもつものが選ばれる。
このため、該外層の表面エネルギーは、好ましくは５５°ｍＪ／ｍ²未満、より好ましくは５０°ｍＪ／ｍ²未満、より一層好ましくは４５ｍＪ／ｍ²未満、特に好ましくは３０ｍＪ／ｍ²未満である。
表面エネルギーは、次の文献に記載されたオーエンス−ウェンツ（Owens-Wendt）法にしたがい算出される：“ポリマーの表面力エネルギー概算”Owens D.K.，Wendt R.G. (１９６９）J. APPL. POLYM. SCI., １３，１７４１−１７４７。

低表面エネルギー親油性材料からなる超微細層の形成には、所望の親油性および表面エネルギー特性を発揮するものであれば、どのような種類の材料または材料のどのような組み合わせも用いることができる。
好ましい例としては、ケイ素およびフッ素含有ＤＬＣ層が挙げられる。このような層は、たとえば著書名“M.グリスク（Grishke）（１９９８）ダイアモンドおよび関連材料 （Diamond and related materials），７，４５４−４５８”に記載されている。
このような層は、ケイ素含有膜のための（一例として）ＨＭＤＳＯ（ヘキサメチルジシロキサン）またはＴＭＳ（トリメチルシラン）およびフッ素含有層のためのＣＦ₄に基づくプラズマ法を用いて生成される。

ＤＬＣ材料は、本発明の実施に特に好適な材料である。
ＤＬＣ材料は、文献に広範囲に記載されており、かなりの割合のｓｐ³Ｃ−Ｃ結合からなるアモルファスカーボンの準安定性形態として定義される。この材料は、カーボンのみからなっていてもよく、またはａ-Ｃ：Ｈで示される水素化アロイを含むことができる。
ＤＬＣ層の特性ならびにその製法は、特に“ダイアモンド状アモルファスカーボン”と表題された論文； J. ロバートソン（Robertson）；材料科学および工学（Materials science and engineering）Ｒ３７（２００２）１２９−１８１に記載されている。

上記ＤＬＣ材料は、好ましくはａ-Ｃ：Ｈ材料を含む。
このような材料からなる層は、比較的疎水性（水接触角＝８２°）で、かつ高親油性（オレイン酸接触角＝１２°）である。
このタイプの材料は、ｓｐ²混成炭素クラスターと定義することができ、実質的にそのほとんどが芳香族であり、ほとんどが水素化されているｓｐ³混成Ｃ−Ｃ結合をもつマトリックス全体に分布している。

上記ａ-Ｃ：Ｈ材料含有層は、プラズマ化学気相堆積法により積層される。
プラズマ化学気相堆積法（従来ＰＥＣＶＤと称される）は、試料表面における反応ガスと該表面との縮合反応に電圧をかけ、該反応ガスの一部がプラズマの形態にイオン化 されることからなる。

プラズマは、ＣＨ₄、Ｃ₂Ｈ₂、Ｃ₂Ｈ₄およびＣ₆Ｈ₆などの炭化水素、好ましくはメタンＣＨ₄を含むガスの少なくとも一部分をイオン化することにより生成される。
上記イオン化工程の間、メタンの場合には、ＣＨ₃ ⁺、Ｃ₂Ｈ₅ ⁺、Ｈ⁺イオンが生成され、それらが基材を攻撃する。該プラズマは、ＣＨ₃ ^・、Ｃ₂Ｈ₅ ^・、Ｈラジカルも含む。

該層の堆積工程の間、該基材を無線周波発生器に連結したカソードに接触させる。
基材（カソード）を有する電極とプラズマとの間にかけられる自己バイアス電圧は、得られるＤＬＣ膜、特にａ-Ｃ：Ｈの膜の構造的状態を決定するための重要なパラメータを示す。一般的にいって、水素濃度は、カソードにかけられる自己バイアス電圧の絶対値が増加するに従って減少する。

自己バイアス電圧がゼロのとき、堆積層のａ-Ｃ：Ｈ材料ｓｐ²領域は小サイズであり、高度に水素化されたｓｐ³マトリックス中に分散している。そのような層の機械的特性は、ポリマーの特性に似ており、比較的劣る。
自己バイアス電圧が１５０ボルト近辺では、その絶対値に従い、ｓｐ³マトリックスの水素化度が減少し、ｓｐ³Ｃ−Ｃ混成の最大と良好な機械的特性が得られる。
約４００ボルトの絶対値で示される高い自己バイアス電圧のとき、黒鉛状クラスターのサイズが大きくなり、該層の吸収性は強くなり、硬さは低下する。

本発明の範囲において使用される上記ａ-Ｃ：Ｈ材料は、水素原子を、通常、３０〜５５％の範囲で、より好ましくは４３％超の原子百分率で含有する。
このａ-Ｃ：Ｈ材料は、通常、カソードに、０ないし−４００ボルト、好ましくは０ないし−1５０ボルト、より好ましくは−１０ないし−５０ボルトの範囲の自己バイアス電圧をかけることによって堆積される。
堆積工程の間、ガス圧は、通常、１０^-2ミリバールないし１０^-1ミリバールの範囲にある。

外層の２５℃ ，６３０ｎｍにおける屈折指数は、１.５８〜２.１５、好ましくは１.６０〜２.１０の範囲にある。
該外層の厚みは、好ましくは２ｎｍ超ないし１０ｎｍ、より好ましくは３〜８ｎｍの範囲にある。

このように厚みが薄いと、ＤＬＣ層の吸収性はほとんど残っていない。上記したとおり、この層の堆積工程の間、絶対値の小さいカソードの自己バイアス電圧を作用させることにより、この吸収性をより低減させることが可能である。
自己バイアス電圧は、特に、０ないし−５０ボルト、好ましくは−１０ないし−５０ボルトの範囲が推奨され、この後者の電圧範囲は、低消光率と充分な機械的特性（硬さ）の組合わせを実現する。
具体的に、ａ-Ｃ：Ｈ層厚みを増加するとき、ａ-Ｃ：Ｈ材料は、４００ｎｍにおける消光率が０.２０未満、好ましくは０.１５未満のものが好ましく用いられる。

その上に上記層が積層される非反射性皮膜は、従来技術で公知の非反射性皮膜であればよい。
一例として、非反射性皮膜は、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＭｇＦ₂またはＴａ₂Ｏ₅、またはそれらの組合わせなどの単層または多層の膜の誘電材料を含むことができる。

この非反射性皮膜は、通常、以下の方法のいずれかによる真空蒸着により堆積することができる：
１.蒸着、任意にイオンビームアシスト。
２.イオンビームスパッタリング。
３.陰極スパッタリング、任意にマグネトロンアシスト。
４.プラズマ化学気相成長法
真空蒸着と並んで、ゾル／ゲル無機層堆積も想定することができる（たとえばテトラエトキシシラン加水分解物から）。

膜が単層からなるとするなら、その光学厚みをλ／４（λは４５０〜６５０ｎｍの範囲の波長である）に対応させる必要がある。
非反射性皮膜が複数の層からなるとするなら、これはすなわち高屈折指数の材料層と低屈折指数材料層の交互積層皮膜層である。通常、高指数は、ｎ_D ²⁵≧1.５５、好ましくは≧１.６０を意味し；低指数は、ｎ_D ²⁵＜１.５０、好ましくは＜１.４５を意味する。
多層膜が３層からなるとするなら、それぞれの光学厚みλ／４、λ／２、λ／４またはλ／４-λ／４-λ／４に対応した組み合わせを用いることができる。
さらに、上記した３つの層に属する層のどれかに代えて、より多くの層を含む同等の膜も用いることができる。

上記非反射性皮膜で被覆された基材側面および上記外層のＲｍ反射係数（４００−８００ｎｍ波長領域で平均した反射）は、２.５％未満である。
被覆された側面のＲｍ反射係数は、好ましくは２％未満、より好ましくは１.５％未満、特に好ましくは１％未満である。

非反射性皮膜の物理的厚みは、通常、７００ｎｍ未満、好ましくは５００ｎｍ未満である。
好ましくは、非反射性皮膜は、多層膜である。
非反射性皮膜のための高屈折指数材料 は、好ましくは金属酸化物から選ばれる。
低屈折指数材料は、好ましくはケイ素酸化物から選ばれ、特にＳｉＯ₂である。非反射性皮膜は、好ましくは蒸着で堆積される。
非反射性積層膜は、１または複数のＤＬＣ層を含んでもよいが、好ましくはＤＬＣ材料含有層をまったく含まない。

空気と接触する外層は、厚みが１０ｎｍ以下、その表面エネルギーが６０ｍＪ／ｍ²未満、かつその表面のオレイン酸接触角は７０°未満であり、該層は、好ましくは、基材に対し最外層の非反射性皮膜層に相当する低屈折指数のケイ素酸化物含有層の表面上に積層される。

非反射性皮膜は、有機または無機ガラスなどのどのような適切な基材、たとえば眼科用レンズ、特に眼鏡レンズの表面に積層してもよく、該基材は裸であってもよく、あるいは１または複数の皮膜層、好ましくは耐摩耗層、好ましくはそれ自体が耐衝撃性プライマーおよび／またはおよび接着促進プライマー上に積層された皮膜層で任意に被覆されていてもよい。
非反射性皮膜は、好ましくは耐摩耗層の上に積層される。

アンダーコート層または下地層を、任意に、耐摩耗層と非反射性皮膜の間に堆積してもよい。
好適な態様は、１００ｎｍを超える厚みにすることができるシリカ系アンダーコート層または通常極薄い、すなわち典型的に１０ｎｍ未満の厚みであるＣｒまたはニオブまたはそれらの酸化物を含むアンダーコート層を含む。

耐摩耗層は、好ましくはポリシロキサンまたはメタクリラート皮膜層である。好ましくは、エポキシシランなどのアルコキシシランで、好ましくは３官能基のものの少なくとも１つを含むゾルおよび／またはたとえばＨＣｌ塩酸溶液を用いる加水分解を介して得られるその加水分解物の堆積および硬化により得られる。
加水分解工程後、２時間ないし２４時間、好ましくは２時間ないし６時間保持し、触媒は任意に添加される。好ましくは、界面活性剤も皮膜層の光学的品質を向上させるために添加される。

好ましいエポキシ−アルコキシシランは、１つのエポキシ基と３つのアルコキシ基を含み、後者はケイ素原子に直接結合している。
好ましいエポキシ−アルコキシシランは、β-（３,４-エポキシシクロヘキシル）エチルメトキシシランなどのβ-（３,４-エポキシシクロヘキシル）基を含有するアルコキシシランであってもよい。
特に好ましいエポキシ−アルコキシシランは、下記式（Ｉ）で示される：

式中、
Ｒ¹は、１〜６の炭素原子をもつアルキル基、好ましくはメチルまたはエチル基を示し、
Ｒ²は、メチル基または水素原子を示し、
ａは、１ないし６の整数であり、
ｂは、０、１または２である。

このようなエポキシシランの例として、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシランまたはγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランが挙げられる。γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランが好ましく用いられる。
さらに使用できるエポキシシランの例として、γ-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランおよびγ-グリシドキシエトキシプロピルメチルジメトキシシランなどのエポキシジルコキシシランも挙げられる。
しかしながらエポキジアルコキシシランは、好ましくは前述のエポキシトリアルコキシシランよりも少量で使用される。

他の好ましいアルコキシシランは、次の式で示される：
Ｒ³ _cＲ⁴ _dＳｉＺ_{4 -(c+d)} (II)
式中、Ｒ³およびＲ⁴は、置換または非置換のアルキル、メタクリロキシアルキル、アルケニルおよびアリール基（置換アルキル基は、たとえばハロゲン化、特に塩化またはフッ化アルキル基）から選ばれ；
Ｚは、アルコキシ、アルコキシアルコキシまたは アシルオキシ基を示し；
ｃおよびｄは、個々に０、１または２であり；かつｃ＋ｄの合計は０、１または２である。
この式は次の化合物を含む：（１）ケイ酸メチル、ケイ酸エチル、ケイ酸n-プロピル 、ケイ酸イソプロピル、ケイ酸n-ブチル、ケイ酸sec-ブチル、およびケイ酸t-ブチル などのテトラアルコキシシラン、および／または（２）メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、γ-クロロプロピル-トリメトキシシラン、γ-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどのトリアルコキシシラン、トリアルコキシアルキルシランまたはトリアシロキシシラン、 および／または（３）ジメチルジメトキシシラン、γ-クロロプロピルメチルシランおよびメチルフェニルジメトキシシランなどのジアルコキシシラン。

アルコキシシラン加水分解物を用いる場合には、それ自体公知の方法で調製される。
欧州特許第６１４９５７および米国特許第４２１１８２３に詳細された方法を実施することができる。
シラン加水分解物は、たとえば、溶媒の存在下、水または塩酸もしくは硫酸溶液をシランに添加することにより調製される。溶媒をまったく添加せず、水とアルコキシシランとの反応により生成するアルコールまたはカルボン酸のみを用いて加水分解を行なうことも可能である。この溶媒は、アルコール、ケトン、塩化アルキルおよび芳香族溶媒などの他の溶媒種に置き換えることもできる。
塩酸水溶液を用いる加水分解は好ましい。

アルコキシシランとともに、上記溶液は、金属酸化物もしくはオキシ水酸化物、または シリカ粒子などの無機材料粒子を含んでいてもよい。
このような粒子の好適例としては、シリカ、または酸化チタンもしくはジルコニウム粒子などの高屈折指数粒子が挙げられる。

ゾル／ゲル組成物は、好ましくは少なくとも１の硬化触媒を含む。
硬化触媒の好適例としては、特にアルミニウム化合物、具体的には、次のアルミニウム化合物から選ばれる：
・アルミニウムキレート、および
・以下に詳細される式（III）または（IV）で示される化合物：

（Ｒ'Ｏ）_3-nＡｌ（ＯＳｉＲ”₃）_n （IV）
式中、
ＲおよびＲ'は、１〜１０の炭素原子を有する線状または分枝鎖状アルキル基、
Ｒ”は、１〜１０の炭素原子を有する線状または分枝鎖状アルキル基、フェニル基、

であり、ここで、Ｒは上記同様に定義され、ｎは１〜３の整数である。

すでに知られているとおり、アルミニウムキレートは、アルコラートまたはアルミニウムアシル化物と窒素およびイオウ不含の金属イオン封鎖剤との反応により得られ、配位原子として酸素を含む化合物である。アルミニウムキレート化合物は、好ましくは次式（Ｖ）で示される化合物から選ばれる：
ＡｌＸ_vＹ_3-v （Ｖ）
式中、
Ｘは、ＯＬ基を示し、該Ｌは１〜１０の炭素原子を有するアルキル基を示し、
Ｙは、次式（１）または（２）で示される化合物から得られる少なくとも１つの配位子：（１）Ｍ¹ＣＯＣＨ₂ＣＯＭ²
（２）Ｍ³ＣＯＣＨ₂ＣＯＯＭ⁴
式中、Ｍ¹、Ｍ²、Ｍ³およびＭ⁴は、１〜１０の炭素原子を有するアルキル基を示し、
ｖは０、１または２である。

式（Ｖ）で示される化合物の好適な例としては、アルミニウムアセチルアセトナト、アルミニウムエチルアセトアセタートビスアセチルアセトナト、アルミニウムビスエチルアセトアセタートアセチルアセトナト、アルミニウムジ-n-ブトキシドモノエチルアセトアセタートおよびアルミニウムジiプロポキシドモノ-メチルアセトアセタートなどが挙げられる。

式（III）または（IV）で示される化合物の好適な例としては、式中Ｒ’がイソプロピルまたはエチル基を示しかつＲおよびＲ”がメチル基を示すものが好ましく挙げられる。
アセチルアセトナトアルミニウムを、好ましくは硬化触媒組成として、該組成物の全重量に対し０.１〜５重量％の範囲の量で用いることは特に好都合である。

耐摩耗層コーティング組成物は、さらに、顔料、紫外線吸収剤、着色染料、黄変防止剤、抗酸化剤などの添加剤を１または複数含むことができる。

前述のとおり、耐摩耗層コーティング組成物は、有機溶媒をさらに含むことができ、それの大気中での沸点は、好ましくは７０〜１４０℃の範囲である。
本発明において使用しうる好ましい有機溶媒としては、アルコール、エステル、ケトン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロフランおよびそれらの混合物などが挙げられる。
アルコールは、好ましくはメタノール、エタノールおよびイソプロパノールなどの低級アルコール（Ｃ₁−Ｃ₆）から選ばれる。
エステルは、好ましくはアセタートから選ばれ、特には酢酸エチルである。

上記組成物は、さらに、１または複数の表面活性剤、具体的にフッ素系またはフッ化ケイ素系化合物を、該組成の全重量に対し、通常、０.００１〜１重量％、好ましくは０.０１〜１重量％の量で含むことができる。好ましい界面活性剤としては、３Ｍから上市されているＦＬＵまたはＡＤ（登録商標）ＦＣ４３０、ＥＦＫＡから上市されているＥＦＫＡ３０３４（登録商標）、ＢＹＫから上市されているＢＹＫ-３０６（登録商標）およびＢＯＲＣＨＥＲＳから上市されているBaysiloneＯＬ３１（登録商標）などが挙げられる。

該皮膜層組成物の理論的固形分量は、無機固形分として好ましくは１〜５０重量％、より好ましくは３〜３５重量％、より一層好ましくは１０〜３５重量％を示す。
上記理論的固形分含量は、最終皮膜層組成物の各種成分について算出される固形分量全重量に相当する。

本明細書において、“シランの固形分量全重量”は、Ｑ_kＳｉＯ_{（4-k）／2}で示される単位の重量計算値を意味し、ここでのＱは、ケイ素原子にＳｉ−Ｃ結合を介して直接結合した有機基であり、Ｑ_kＳｉＯ_（4-k）/2は、Ｑ_kＳｉＲ'''_（4-k）（ここで、Ｓｉ−Ｒ'''は加水分解によりＳｉＯＨをもたらす、ｋは０、１または２である。）から得られる。

従来公知のいずれの堆積方法でも耐摩耗性コーティング層の堆積に用いることができる。
他の堆積方法は、スピンコーティング堆積ならびにコーティングしようとする基材を組成物の浴中に浸漬するディップコーティングである。
ゾルは、好ましくは遠心と呼ばれるスピンコーティング法により、基材たとえばジエチレングリコールポリ（ビスアリルカーボネート）系のエシロール（Essilor）製ＯＲＭＡ（登録商標）基材上に堆積される。堆積速度は、１００ｒｐｍ〜３０００ｒｐｍ、好ましくは２００ｒｐｍ〜２０００ｒｐｍの範囲である。

その後、ワニスは、好ましくは、オーブン中、８０℃〜1２０℃の範囲の温度で、１〜５時間、典型的に３時間の熱処理方法により硬化される。
耐摩耗層の厚みは、１〜１０μｍ、好ましくは３〜８μｍの範囲にある。

眼科用レンズなどの透明ポリマー材料製品のために従来使用されているどのような耐衝撃性プライマー層も耐衝撃性プライマー層として使用することができる。
好ましいプライマー組成物としては、熱可塑性ポリウレタン系組成物たとえば日本特許６３-１４１００１および６３-８７２２３中に記載されるもの、ポリ（メタ）アクリルプライマー組成物、たとえば米国特許ＵＳ-５,０１５,５２３中に記載されるもの、熱硬化性ポリウレタン系組成物たとえば欧州特許ＥＰ-０,４０４,１１１中に記載されるもの、およびポリ（メタ）アクリルラテックス系およびポリウレタンラテックス系組成物たとえば特許明細書ＵＳ５,３１６,７９１およびＥＰ-０,６８０,４９２中に記載されるものなどが挙げられる。

好ましいプライマー組成物は、ポリウレタン系のものおよびラテックス系特にポリウレタン系ラテックスのものである。

ポリ（メタ）アクリルラテックスは、主として、たとえばエチル（メタ）アクリラートまたはブチル（メタ）アクリラート、またはメトキシまたはエトキシエチル（メタ）アクリラートなどの（メタ）アクリラートと、少量の、たとえばスチレンなどの他の共重合モノマーの少なくとも１つとから導かれるコポリマーラテックスである。
好ましいポリ（メタ）アクリルラテックスは、アクリラート−スチレン共重合ポリマーラテックスである。
そのようなアクリラート−スチレン共重合ポリマーラテックスは、ゼネカ樹脂（ZENECA RESINS）からＮＥＯＣＲＹＬ（登録商標）の商品名で上市されている。

ポリウレタン系ラテックスも周知であり、市場で入手可能である。
その例として、ポリエステル単位を含むポリウレタンラテックスが挙げられる。そのよなラテックスもまた、ZENECA RESINSからはNEOREZ（登録商標）の商品名で、バクセンデンケミカル（BAXENDEN CHEMICAL）からはWITCOBOND（登録商標）の商品名で上市されている。

そのようなラテックスの混合物もまた、プライマー組成物中に使用でき、具体的に、ポリウレタンラテックスとポリ（メタ）アクリルラテックスとの混合物である。
これらプライマー組成物は、光学物品の側面の表面上にディッピングまたは遠心により積層し、その後、少なくとも７０℃ないし１００℃まで、好ましくは約９０℃の温度で、２分間ないし２時間、通常約１５分間乾燥して、硬化後０.２〜２.５μｍ厚み、好ましくは０.５〜１.５μｍ厚みのプライマー層を形成する。

本発明における光学物品に好適な有機ガラス基材として、ポリカーボネート基材および 以下の重合物がある：アルキルメタクリラート、特にメチル（メタ）アクリラートおよびエチル（メタ）アクリラートなどのＣ₁−Ｃ₄アルキルメタクリラート、ポリエトキシ含有ビスフェノール含有ジメタクリラートなどのポリエトキシ含有芳香族（メタ）アクリラート、線状または分枝状、脂肪族または芳香族、ポリオールアリルカーボネートなどのアリル誘導体、チオ-（メタ）アクリル化合物、ポリチオウレタン、ポリカーボネート（ＰＣ）およびポリエピスルフィド基材。

これらのうちでも推奨される基材は、たとえばエチレングリコールビスアリルカーボネート、ジエチレングリコールビス2-メチルカーボネート、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）、エチレングリコールビス（2-クロロアリルカーボネート）、トリエチレングリコールビス（アリルカーボネート）、1,3-プロパンジオールビス（アリルカーボネート）、プロピレングリコールビス（2-エチルアリルカーボネート）、1,3-ブチレンジオールビス（アリルカーボネート）、1,4-ブテンジオールビス（2-ブロモアリルカーボネート）、ジプロピレングリコールビス（アリルカーボネート）、トリメチレングリコールビス（2-エチルアリルカーボネート）、ペンタメチレングリコールビス（アリルカーボネート）、イソプロピレン ビスフェノール−Ａビス（アリルカーボネート）などのポリオールアリルカーボネートの重合物である。

特に推奨されるものは、ＣＲ３９（登録商標）の商品名でＰＰＧインダストリー（INDUSTRIE）から上市されているジエチレングリコールビスアリルカーボネートの重合により得られる基材である（エシロールＯＲＭＡレンズ（登録商標））。

推奨される基材として、たとえば仏国特許出願ＦＲ-Ａ-２,７３４,８２７に記載されるチオ-（メタ）アクリルモノマーの重合により得られるものもある。
基材は、上記モノマーの混合物の重合により得られる。

堆積の前に、活性部位を生成させ、耐摩耗層組成物に対する接着性を向上させるためのプラズマもしくはコロナ処理、または酸もしくは塩基性水溶液を用いる適切な処理により基材の表面を活性化することができる。

以下の実施例は、本発明を制限することなく説明する。
すべての堆積は、ＲＦ容量放電ＰＥＣＶＤ反応装置（プラズマ化学気相成長法）内で実施された。この技術において、堆積はガス前駆（ＣＨ₄）分子のプラズマ（イオン化、解離）中で進行する反応により得られる。

堆積に先立って、ベーンポンプおよびディフュージョンポンプにより、反応装置内を３×１０^-6ミリバールに減圧する。圧の調整は、実験前に、熱電対真空系計および熱陰極真空計の手段により観察することができ、堆積の間、ピラニ真空計で行うことができる。堆積室の端部近傍に配置されたスロットルゲート弁は実験の間操作され、それにより低速のガス流速による数ミリトールないし百ミリトールの範囲の圧を得ることができ、典型的に１０^-2ミリバール圧を与えるＣＨ₄について２０ｃｍ³／ｓを得ることができる。

堆積室は、プラズマおよび堆積の発生源である２つの電極を含む。半径１０ｃｍの２つの金属ディスクがある。そのうちの１つはフルで４ｍｍ厚みである：シリコン基材上への堆積に使用される。第２のものは、１ｃｍ厚みで、“−２”または“０”（指数０のガラス）の屈折指数をもつ眼科用レンズが装入される３つの円形孔を有する（半径６.５ｃｍで、厚み４ｍｍ）。

堆積前、基材担持電極を低真空にするエアロックシステム中に配置する。その後、電極 を自動的に堆積室中に導入する。エアロックシステムの使用は、２つの実験の間、堆積室の真空条件下での持続的な保持を可能にする。
操作モードは、印加電力に依存してさまざま異なる。

Ｉ.Ａ 自己バイアスモードにおける基材担持電極
基材担持電極に印加すれば、自己バイアス化される。印加電力を変えれば、異なる自己バイアス電圧を生じ、それが、層が成長する間に表面を攻撃するイオンのエネルギーとして作用する。２つの自己バイアス電圧−３５Ｖおよび−１５０Ｖに対応する２つの電力（４０および８５Ｗ）が適用される。この自己バイアス電圧は、通常は負であるが、絶対値で表記されることもある。

低自己バイアス電圧ａ-Ｃ：Ｈ層（Ｕ＝３５Ｖ）を生成する実験手順
１.試料を担持する適切な基材担持電極を、エアロックシステム中に置く。
２.ドアを閉める。
３.蒸着室内を真空にする。
４.エアロックシステムを、一旦、低真空にし、蒸着室の電極を自動的に傾ける。
５.到達真空度が３×１０^-6torrが得られるまで待ち、熱陰極真空計を停止させる。
６.“エッチング”操作モードを選択する。
７.スロットルゲート弁を閉じる。
８.アルゴン流量を２０ｃｍ³／ｓに設定した後、アルゴン供給弁を開ける。
９.１００Ｖの基材自己バイアス電圧（“プラットホーム電圧”）に対応する５０Ｗ放射電力（“印加電力”）を選択する。
１０.蒸着時間を１分に設定する。
１１.プラズマを発生するために“電源”ボタンを押す。
１２.一旦、洗浄が完了したら、アルゴン供給弁を閉め、スロットルゲート弁を開け、熱陰極真空計をオンにする。
１３.到達真空度が３×１０^-6torrが得られるまで待ち、熱陰極真空計を停止させる。
１４.スロットルゲート弁を閉じる。
１５.メタン流量を２０ｃｍ³／ｓに設定した後、メタン供給弁を開ける。
１６.−３５Ｖの基材自己バイアス電圧（“プラットホーム電圧”）に対応する２０Ｗ放射電力（“印加電力”）を選択する。
１７.約１００ｎｍの堆積を生成させるには蒸着時間を１時間２０分、約６ｎｍの厚みには５分および約３ｎｍの厚みには２分３０に設定する。
１８.プラズマを発生するために“電源”ボタンを押す。
１９.一旦、蒸着が完了したら、メタン供給弁を閉め、スロットルゲート弁を開け、熱陰極真空計をオンにする。
２０.ガスを自動的に大気中に放出する前に、エアロックシステム内の基材担持電極を上方へ傾けて戻すため、“解除”ボタンを押す。
２１.基材担持電極を反応装置から解除する。

高自己バイアス電圧ａ-Ｃ：Ｈ層（Ｕ＝１５０Ｖ）を生成する実験手順
上記工程１６および１７を以下の工程に代えた以外は、上記と同様の手順である。
１６.−１５０Ｖの基材自己バイアス電圧（“プラットホーム電圧”）に対応する８５Ｗ放射電力（“印加電力”）を選択する。
１７.約１００ｎｍの堆積を生成させるには蒸着時間を４０分、約６ｎｍの厚みには２分３０および約３ｎｍの厚みには１分１５に設定する。

Ｉ.Ｂ “基盤蒸着”のための陰極スパッタリングモード
標的電極に電力を印加すれば、それはすなわち自己バイアス化する。層の構造的変化および光学的性質は主に入射イオンエネルギーに依存し、かつ該基材は常にこのモードに 従い接地されているので、単一の電力（８５Ｗ）を印加する。

接地ａ-Ｃ：Ｈ層を生成するための実験手順
手順は、工程１４後に工程１４の２が付加され、工程１６および１７が後述するとおり置換されたのを除き、低自己バイアス電圧堆積工程に従う。
１４の２：陰極スパッタリングの操作モードを選択する。
１６：−２５０Ｖ標的自己バイアス電圧（“タレット電圧”）に対応する８５Ｗ放射電力（“印加電力”）を選択する。
１７.蒸着時間を、約１００ｎｍの堆積を生成させるには３０分、約６ｎｍの厚みには１分４４および約３ｎｍの厚みには５２秒に設定する。

以下、図面を参照して説明する。
図１は、ａ-Ｃ：Ｈ層厚みに依存する本発明のａ-Ｃ：Ｈ層が被覆されたまたは被覆層のない基材について、表面エネルギー値および接触角の値を示すグラフである。
図２は、自己バイアス電圧に依存する本発明のａ-Ｃ：Ｈ層が被覆されたまたは被覆層のない基材について、表面エネルギー値および接触角の値を示すグラフである。
図３は、本発明によるａ-Ｃ：Ｈ層または従来の疎水性および／または疎油性皮膜層が被覆されたまたは被覆層のない基材について、表面エネルギー値および接触角の値を示すグラフである。

接触角の測定は、静的接触角測定であり、ＧＢＸより上市されているDIGIDROP装置で実施された。接触角の評価は、水、二臭化メタン、ホルムアミドおよびオレイン酸の各液滴を堆積後、既知モーメント（３０００ｍｓ）を初期状態として行なわれる。ａ-Ｃ：Ｈ材料の表面エネルギー評価は、Owens-Wendt法により行なわれる。

２つのクリーニングテストが行なわれる。両者は、付着する汚れの性質が互いに異なる。
ここで行なわれた第一のクリーニングテスト（テストＡ）は、直径２０ｍｍ（再生皮脂、本質的にオレイン酸からなる）の汚れシミの眼科用レンズへの堆積、背面および前面方向動作（一方向拭き取り後、元に戻して、２回拭き取りパスとする）における再現可能な拭き取り方法を実施する；木綿布を用いて（バークシャー（Berkshire）製）、７５０ｇ負荷で。

第二のクリーニングテスト（テストＢ）は、３人が指紋をつけることで行なわれる。各人は、３つのガラス上に、各テスト系について、２つの近接したマークをつけた。これら結果は、９つの目視検査の平均に対応する。
各人は、新しいガラスにつける前に、指で額をなぞった。
拭き取りパスが、テストＡにおける手順と同様に行なわれた。

光源（紫外線管）に面する透過率分析に基づく目視検査はテストの各工程（０、２、１０、２０、７０、１５０、２００拭き取りパス後）において行なわれた。ガラスの清澄性は３段階のスコアで評価される。
３−汚れが目立つ
２−汚れがほとんど目立たない
１−清澄ガラス（視認できる汚れなし）

接触角および表面エネルギーの測定
実施例１−シリコン基材堆積
等自己バイアス電圧（−１５０Ｖ）を用いる各種厚み（３，６および１００ｎｍ）のａ-Ｃ：Ｈ層被覆基材ならびに変位自己バイアス電圧（０，−３５Ｖおよび−１５０Ｖ）を用いる一定厚み（１００ｎｍ）のａ-Ｃ：Ｈ層被覆基材を前述の方法にしたがって作製した。
陰極スパッタリングにより得られた約８０ｎｍのシリカ層で被覆された平坦なシリコンチップを基材として使用した。

これら基材について、表面エネルギーおよび接触角の値を図１および２に示す。
比較例に、初期、被覆のない基材（厚み＝０°ｎｍ）の値を示す。
堆積条件にかかわらず、ａ-Ｃ：Ｈ層は同じ表面エネルギー値が保たれた。すなわち３ ｎｍは、ａ-Ｃ：Ｈ材料層−特異的接触角挙動をもたらすに足りる。
曲線は、オレイン酸接触角が極めて小さく（≒１２°）、ａ-Ｃ：Ｈ膜の親油性の特徴を明確に示す。一方、ａ-Ｃ：Ｈ材料は、基本的に親水性を示さない（水接触角≒７８°）。

両液体および以下の成分の挙動は、表面エネルギー値で確かめられる：
・比較的非極性の液体であるオレイン酸は、ほぼ完全にａ-Ｃ：Ｈ層表面を湿らす。換言すれば、表面エネルギーの分散成分はかなり強い。
・極性液体である水は、ａ-Ｃ：Ｈ膜表面をほとんど湿らさない。換言すれば、表面エネルギーの極性成分は弱い。

実施例：反射処理した眼科用レンズへの堆積
実施例２−湿潤性測定
屈折指数−２.００で、厚み１μｍのポリウレタンプライマー皮膜層を有し、欧州特許ＥＰ６１４９５７の実施例３で規定される厚み約３μｍの耐摩耗層および耐摩耗層（外層＝ＳｉＯ₂）からＺｒＯ2／ＳｉＯ2／ＺｒＯ2／ＳｉＯ2の順に積層された非反射性多層皮膜層を有する数個のＯＲＭＡ(登録商標）眼科用レンズ（ESSILOR）は、上記のとおり非反射性多層皮膜層の最後のシリカ層の表面上に積層した各種皮膜層（トップコート）について接触角を特徴とする。

各系は、３枚のガラスと各ガラス毎に３つの測定が行なわれた。従来技術の製品（ＯＦ１１０）についても、単一のａ-Ｃ：Ｈ（３５Ｖ，３ｎｍ）ガラス系のみの湿潤性を試験した。
図３は、ＯＦ１１０トップコートで処理したガラスは、疎水性でかつ比較的高度に疎油性であることを示す。
一方、非反射性皮膜の第二シリカ層が直接空気に触れるトップコートのないガラスは、親水性でかつ親油性を示す。
ａ-Ｃ：Ｈ層を被覆したガラスは、比較的疎水性で、かつ親油性を示す。

実施例３−クリーニングテストの結果
第一系列のクリーニング性実験を行なった（上述したようなテストＡ）。
ａ-Ｃ：Ｈ層を被覆した非反射性ガラス（−１５０Ｖ；６ｎｍ）−実施例２で説明したような−を試験し、ａ-Ｃ：Ｈを被覆し（３ｎｍ）、各種自己バイアス電圧（−１５０Ｖ、−３５Ｖ、０Ｖ）で処理した非反射性ガラスを同様に試験した。
最後に、ａ-Ｃ：Ｈ-処理挙動を、市販の疎水性かつ疎油性トップコート（ＯＦ１１０，OPTRON）、およびトップコートなしと比較した。
再生皮脂を堆積後、清澄性スコアは３であった。
接触角測定では、ａ-Ｃ：Ｈ処理したガラスのクリーニングテスト挙動は、カーボン層の厚みにかかわらず、６ｎｍでも３ｎｍでもほぼ同じである（表１）。

表１は、自己バイアス電圧（−１５０Ｖ，−３５Ｖ，０Ｖ）にかかわらず、クリーニング性挙動は変化しなかったことも示す。
・激しく堆積した汚れの視認（拭き取り０）は、親油性表面（ａ-Ｃ：Ｈ，トップコートなし）の方が疎油性表面（ＯＦ１１０）よりも少なかった。本発明者は、親油性表面の場合には、汚れがほとんど散乱を起こさない薄い膜であることを観察した。一方、疎油性表面をもつと、汚れが、より散乱性の液滴となった。
・ａ-Ｃ：Ｈガラス上、汚れマークの視認は急速に低減した。汚れは、表面上に長時間留まるが、非散乱性の薄い膜を形成したため、ほとんど感知できない。
・従来技術のフッ素系トップコート（ＯＦ１１０）の挙動はまったく異なっていた：ａ-Ｃ：Ｈ材料で観察されたそれに比べて、視認の低減はほとんど変化ない。
強い親油性表面（ａ-Ｃ：Ｈ）のみが、拭き取りパス２で視認低減を収束した。

第二系列のクリーニングテスト（テストＢ）を行なった。
３枚のＯＦ１１０処理ガラス、３枚のトップコートなしガラスおび３枚のａ-Ｃ：Ｈ処理ガラス（３ｎｍ厚、自己バイアス電圧−３５Ｖ）上に、各人が近接する２つのマークを付けた。したがって、結果は９つの目視検査の平均に対応する。
再生皮脂堆積の直後、清澄性スコアは３であった。汚れは、ＯＦ１１０で、強く付いたマークが視認された。

結果は、再生皮脂汚れの沈着（テストＡ）によるテストを裏付ける。
さらに、機械的特性について、従来の試験系（欧州特許ＥＰ９４７６０１（ESSILOR）、バイエル（Bayer），スチールウール（steel wool）などに記載されたＮ１０ラン）を実施した。非反射性皮膜上に積層したａ-Ｃ：Ｈ層（−３５Ｖ，３ｎｍ）で被覆した非反射性ガラスに実施した。
ａ-Ｃ：Ｈ層堆積は、機械的特性に何の影響も及ぼさないことが観察された。

図１は、ａ-Ｃ：Ｈ層厚みに依存する本発明のａ-Ｃ：Ｈ層が被覆されたまたは被覆層のない基材について、表面エネルギー値および接触角の値を示すグラフである。 図２は、自己バイアス電圧に依存する本発明のａ-Ｃ：Ｈ層が被覆されたまたは被覆層のない基材について、表面エネルギー値および接触角の値を示すグラフである。 図３は、本発明によるａ-Ｃ：Ｈ層または従来の疎水性および／または疎油性皮膜層が被覆されたまたは被覆層のない基材について、表面エネルギー値および接触角の値を示すグラフである。

Claims (36)

1. ２つの主面を有し、少なくとも一方の主面に非反射性皮膜を有する基材であって、前記非反射性皮膜上に空気と接触する外層が堆積されており、該外層は、厚みが１０ｎｍ以下、表面エネルギーが６０ｍＪ／ｍ²未満であり、かつ表面がオレイン酸接触角７０°未満を示すことを特徴とする基材。
2. 前記外層の厚みが２超ないし１０ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の基材。
3. 前記外層の厚みが３〜８ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項２に記載の基材。
4. 前記オレイン酸接触角が４０°以下、好ましくは３０°以下、より好ましくは２０°以下、さらに好ましくは１５°以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の基材。
5. 前記外層の表面エネルギーが５５ｍＪ／ｍ²未満であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の基材。
6. 前記外層の表面エネルギーが、５０ｍＪ／ｍ²未満、好ましくは４５ｍＪ／ｍ²未満、より好ましくは３０ｍＪ／ｍ²未満であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の基材。
7. 前記外層がＤＬＣ材料を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の基材。
8. 前記ＤＬＣ材料がａ-Ｃ：Ｈ材料を含むことを特徴とする請求項７に記載の基材。
9. 前記ａ-Ｃ：Ｈ材料が、水素原子を３０〜５５％の範囲、好ましくは４３％超の原子百分率で含むことを特徴とする請求項８に記載の基材。
10. 前記外層の２５℃および６３０ｎｍにおける屈折指数が、１.５８〜２.１５、好ましくは１.６０〜２.１０の範囲にあることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の基材。
11. 前記非反射性皮膜で被覆された前記基材の側面および前記外層のＲｍ反射係数が２.５％未満であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載の基材。
12. 前記被覆された側面のＲｍ反射係数が２％未満、好ましくは１.５％未満、より好ましくは１％未満であることを特徴とする請求項１１に記載の基材。
13. 前記非反射性皮膜の物理的厚みが、７００ｎｍ未満、好ましくは５００ｎｍ未満であることを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の基材。
14. 前記非反射性皮膜が多層皮膜層であることを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の基材。
15. 前記多層皮膜層が、高屈折指数材料層と低屈折指数材料層との交互積層膜であることを特徴とする請求項１４に記載の基材。
16. 前記高屈折指数材料が金属酸化物から選択されることを特徴とする請求項１５に記載の基材。
17. 前記低屈折指数材料がケイ素酸化物から選択されることを特徴とする請求項１６に記載の基材。
18. 前記非反射性皮膜がＤＬＣ材料含有層を含まないことを特徴とする請求項１〜１７のいずれかに記載の基材。
19. 前記外層が、前記基材最外の非反射性皮膜層であるケイ素酸化物からなる低指数層上に堆積されていることを特徴とする請求項１〜１８のいずれかに記載の基材。
20. 前記非反射性皮膜が蒸着膜であることを特徴とする請求項１〜１９のいずれかに記載の基材。
21. 前記非反射性皮膜が耐摩耗層上に堆積されていることを特徴とする請求項１〜２０のいずれかに記載の基材。
22. 前記耐摩耗層が耐衝撃性プライマー層上に堆積されていることを特徴とする請求項２１に記載の基材。
23. 前記耐摩耗層および前記非反射性皮膜の間に、アンダーコート層または下地層が堆積されていることを特徴とする請求項２１または２２に記載の基材。
24. 前記基材が有機材料基材であることを特徴とする請求項１〜２３のいずれかに記載の基材。
25. 眼科用レンズ、特に眼鏡レンズであることを特徴とする請求項１〜２４のいずれかに記載の基材。
26. ・２つの主面を有し、少なくとも一方の主面に非反射性皮膜を有する基材を準備し、
    ・前記非反射性皮膜上に、厚みが１０ｎｍ以下、表面エネルギーが６０ｍＪ／ｍ²未満であり、かつその表面がオレイン酸接触角７０°未満を示す空気と接触する外層を堆積することを含む方法。
27. 前記外層がＤＬＣ材料を含むことを特徴とする請求項２６に記載の方法。
28. 前記ＤＬＣ材料がａ-Ｃ：Ｈ材料を含むことを特徴とする請求項２７に記載の方法。
29. 前記ａ-Ｃ：Ｈ材料が、水素原子を３０〜５５％の範囲、好ましくは４３％超の原子百分率で含むことを特徴とする請求項２８に記載の方法。
30. 前記ａ-Ｃ：Ｈ材料含有層がプラズマ化学気相堆積法により堆積されることを特徴とする請求項２７または２８に記載の方法。
31. 前記層の堆積中、前記基材を無線周波発生器に連結したカソードに接触させることを特徴とする請求項３０に記載の方法。
32. 前記プラズマが炭化水素含有ガスの少なくとも部分イオン化により得られることを特徴とする請求項３０または３１に記載の方法。
33. 前記炭化水素が、ＣＨ_４、Ｃ_２Ｈ_２、Ｃ_２Ｈ_４およびＣ_６Ｈ_６から選ばれることを特徴とする請求項３１に記載の方法。
34. 前記カソードが０ないし−４００ボルトの範囲の自己バイアス電圧を有することを特徴とする請求項３１〜３３のいずれかに記載の方法。
35. 前記自己バイアス電圧が、０ないし−１５０ボルト、好ましくは−１０ないし−５０ボルトの範囲にあることを特徴とする請求項３４に記載の方法。
36. 前記ガスの圧が、１０^−２〜１０^−１ミリバールの範囲にあることを特徴とする請求項３２〜３５のいずれかに記載の方法。

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