JP2003248102A

JP2003248102A - 多層構造の反射防止膜

Info

Publication number: JP2003248102A
Application number: JP2002048436A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Kamibayashi; 浩行上林; Mutsutomo Shirai; 睦智白井
Original assignee: Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Maxell Holdings Ltd
Priority date: 2002-02-25
Filing date: 2002-02-25
Publication date: 2003-09-05

Abstract

(57)【要約】【課題】反射防止特性を良好に維持しながら、優れた
耐擦傷性を持たせることができるようにする。【解決手段】透明なプラスチックの基板１上に、これ
を保護するためのハードコート層２を設け、この上に多
層構造の反射防止膜５を形成し、さらに、その上に、撥
水性を良好にするために、撥水膜６を形成する。この撥
水膜６は、薄い炭素薄膜を介して形成するようにしても
よい。反射防止膜５は、下層側から、高屈折率の誘電体
層３ａ，低屈折率の誘電体層３ｂ，高屈折率の誘電体層
３ｃ，低屈折率の誘電体層３ｄが積層されてなり、か
つ、高屈折率の誘電体層３ａ，３ｃは互いに膜厚が異な
り、また、低屈折率の誘電体層３ｂ，３ｄも互いに膜厚
が異なっている。そして、高屈折率の誘電体層３ｃは、
これと同程度の屈折率の炭素薄膜５とともに、所定膜厚
の高屈折率層をなしている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスやプラスチ
ックなどの透明な光学基材などに設けられる反射防止膜
に係り、特に、複数の透明な誘電体層の積層体からなる
多層構造の反射防止膜に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、陰極線管表示装置でのガラス製の
表示画面や液晶表示パネル，プラズマディスプレイパネ
ルなどでのプラスチック製の基板などの透明な光学基材
は勿論のこと、眼鏡レンズやプリズムといったガラスも
しくはプラスチック製の光学基材においても、外光の反
射を防止するための手段が講じられている。特に、陰極
線管表示装置や液晶表示装置，プラズマディスプレイと
いった表示装置では、外光の反射によって表示画像が見
えにくくなったり、表示画面にゴースト現象が現われた
りするものであり、これを防止するために、反射防止手
段が設けられている。

【０００３】かかる反射防止手段としては、陰極線管表
示装置での陰極線管画面や眼鏡などのガラス製基材に反
射防止フィルムを貼り付ける方法も知られているが、ま
た、透明な誘電体層が多層積層された積層体構造をなす
反射防止膜も知られている。かかる反射防止膜は、ガラ
スの光学基材に対しては、それに直接形成されるが、透
明なプラスチックの光学基材（以下、プラスチック基材
という）に対しては、通常、このプラスチック基材の表
面にハードコート膜を形成し、その上に反射防止膜を形
成する。プラスチック基材は外部からの衝撃に対して強
度が不足し、また、反射防止膜も、誘電体層からなるも
のであるから、外部からの衝撃に対して強度が充分でな
いため、プラスチック基材に直接かかる反射防止膜を形
成したのでは、外部の衝撃に対してプラスチック基材を
保護することができない。上記のハードコート膜は、か
かる問題を解消するためのものである。

【０００４】かかる反射防止膜の一従来例が特開平８ー
２６２２０３号公報に開示されており、これを図４によ
って説明する。

【０００５】この従来例は反射防止膜の表面強度を高め
るようにしたものであって、図４において、透明絶縁基
板１０上に反射防止膜１２が形成され、この反射防止膜
１２上に反射防止膜の表面強度を高めるためのダイヤモ
ンド型構造の非晶質炭素（DLC：Diamond Like Carbon）
の薄膜層（以下、単に炭素薄膜という）１３を設けたも
のである。

【０００６】ここでは、反射防止膜１２は４つの誘電体
層１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄが積層されてなり、
下層側の２つの誘電体層１１ａ，１１ｂでは、上側の誘
電体層１１ｂの方が、下側の誘電体層１１ａに比べ、厚
い膜厚であって、かつ屈折率は小さい。この関係は、上
層側の２つの誘電体層１１ｃ，１１ｄについても同様で
ある。また、下から奇数番目の誘電体層１１ａ，１１ｃ
では、上層の方が厚い膜厚で、かつ屈折率は等しく、下
から偶数番目の誘電体層１１ｂ，１１ｄについても、同
様であるが、下から奇数番目の誘電体層１１ａ，１１ｃ
よりも屈折率が小さい。つまり、屈折率が大きい誘電体
層（高屈折率層）と屈折率が小さい誘電体層（低屈折率
層）とが交互に配置されるように積層されている。さら
に、炭素薄膜１３の膜厚を誘電体層１１ａ〜１１ｄの膜
厚よりも小さく設定する。

【０００７】このような膜厚，屈折率の関係を持たせな
がら、これら膜厚，屈折率の値を適宜設定することによ
り、炭素薄膜１３の表面や炭素薄膜１３，誘電体層１１
ａの境界面，反射防止膜１２内の各誘電体層の境界面と
いったように、数多くの反射面を形成し（ここで、上記
のように、屈折率がことなる誘電体層を交互に積層する
ことにより、かかる反射面が多数得られるようにしてい
る）、これらで反射された外光が互いに干渉して相殺し
合い、反射防止効果が得られることになる。また、各誘
電体層の膜厚を異ならせることにより、夫々の誘電体層
での光路長（＝膜厚×屈折率）を異ならせ、広い波長範
囲でかかる干渉が生ずるようにしている。そして、以上
のように、各誘電体層の厚みを異ならせたり、屈折率を
異ならせることにより、外光の広い波長範囲で反射防止
効果が得られる。

【０００８】なお、この従来例において、透明絶縁基板
１０はポリマ材料やガラス材料からなるものであり、誘
電体層１１ａ〜１１ｄには、ＳｉＯ₂，ＴｉＯ₂，ＺｒＯ
₂，ＭｇＦ₂，ＣｅＦ₃，Ａｌ₂Ｏ₃，ＳｉＯ，ＣｅＯ₂など
の材料が用いられ、また、誘電炭層１１ａ〜１１ｄは真
空蒸着法，イオンめっき法，スパッタリング方のいずれ
かで形成され、炭素薄膜１３はイオンビーム蒸着法，プ
ラズマ蒸着法，スパッタリング法，レーザすりへり法の
いずれかで形成される。

【０００９】反射防止膜の他の従来例が特開平９ー２５
８００４号公報に開示されている。これは、眼鏡レンズ
やディスプレイなどに設けられるものであって、以下、
図５により、これを説明する。

【００１０】同図において、ガラスあるいはプラスチッ
クなど透明な基板２０上に反射防止膜２２が設けられ、
この反射防止膜２２の上に、中間層２３を介して撥水層
２４が設けられている。反射防止膜２２は先の従来例と
同様の材料の誘電体層２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ
が積層されてなる。撥水層２４は反射防止膜２２に水を
はじく特性、即ち、撥水性を持たせるために設けられた
ものであり、また、中間層２３は撥水層２４と反射防止
膜２２の最上層の誘電体層２１ｄとの結合を良好にし、
撥水層２４が反射防止膜２２から容易に剥離されないよ
うにするためのものである。

【００１１】ここで、反射防止膜２２では、下層側から
１層目と３層目の誘電体層２１ａ，２１ｃはＴｉＯ_Xか
らなり、２層目と４層目の誘電体層２１ｂ，２１ｄはＳ
ｉＯ_Xからなる。そして、撥水層２４は水接触角が大き
いベヘン酸からなるものであって、中間層２３の材料と
してはＳｉＯ_Xとベヘン酸とで化学反応を生ずるＡｌ，
Ｔｉ，Ｓｉなどのうちのいずれかが用いられる。かかる
化学反応により、撥水層２４と中間層２３とが、誘電体
層２１ｄと中間層２３とが夫々強固に結合され、撥水層
２４が剥がれにくくなるものである。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記特開平
８ー２６２２０３号公報（以下、公知文献１という）に
開示されている従来例では、図４において、反射防止層
１２の上に炭素薄膜１３を形成してこの反射防止層１２
の表面強度を高めるものであるが、この表面強度を充分
に高めるためには、この炭素薄膜１３の膜厚をある程度
厚くしなければならない（公知文献１では、７０Åとし
ている）。しかし、このように炭素薄膜１３の膜厚を厚
くすると、これが反射防止層１２の１つの屈折率層とし
て作用し、反射防止層１２の反射特性に悪影響を及ぼす
ことになる。

【００１３】即ち、第１の従来例では、反射防止層１２
の最上位層１１ｄが低屈折率層であり、この上に形成さ
れる炭素薄膜１３は高屈折率の層であって、その膜厚を
ある程度厚くすると、反射防止層１２での高屈折率層と
して作用する。良好な反射防止特性が得られるようにす
るために、誘電体層１１ａ〜１１ｄの膜厚を夫々所定に
設定するのであるが、さらに、炭素薄膜１３が高屈折率
層として作用すると、これが反射防止膜１２の特性に影
響して、良好な反射防止特性が得られないことになる。

【００１４】また、上記特開平９ー２５８００４号（以
下、公知文献２という）に記載の従来例では、図５にお
いて、反射防止膜２２の上に中間層２３を介して撥水層
２４を設けるものであるから、撥水層２４が剥がれにく
くすることはできるものの、反射防止膜２２の表面強度
を高め、優れた耐擦傷性を持たせるようにすることは配
慮されていない。また、仮に上記の公知文献１の記載の
方法を適用するにしても、反射防止膜２２の表面に撥水
層２４を設けているので、かかる公知文献１の記載の方
法を適用することはできない。

【００１５】本発明の目的は、かかる問題を解消し、反
射防止特性を良好に維持しながら、優れた耐擦傷性を持
たせることができるようにした多層構造の反射防止膜を
提供することにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、透明な光学部材の表面に設けられ、複
数の誘電体層の積層体からなる多層構造の反射防止膜で
あって、積層体内の誘電体層間に透明な炭素薄膜を設け
た構成とするものである。

【００１７】また、本発明は、透明な光学部材の表面に
設けられ、高屈折率の層と低屈折率の層とが対をなし
て、かかる屈折率層の対が複数積層された積層体からな
る多層構造の反射防止膜であって、積層体での少なくと
も１つの対での低屈折率の層を誘電体層のみの構成と
し、この対での高屈折率の層を誘電体層と透明な炭素薄
膜とを積層した構成とし、この対以外の対での高屈折率
の層及び低屈折率の層をともに誘電体層でのみ構成した
ものである。

【００１８】さらに、積層体上に、積層体内での誘電体
層よりも薄い膜厚の炭素薄膜を介して、炭素薄膜と化学
反応して結合する撥水層を設けた構成とする。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
より説明する。

【００２０】図１は本発明による多層構造の反射防止膜
の第１の実施形態を示す断面構成図であって、１は透明
基板、２はハードコート層、３ａ〜３ｄは誘電体層、４
は炭素薄膜、５はこの実施形態の多層構造の反射防止膜
（以下、単に反射防止膜という）、６は撥水層である。

【００２１】同図において、透明基板１は、ガラス基板
やＰＭＭＡ，ポリカーボネート，アクリロニトリルスチ
レン樹脂，環状オレフィン系樹脂などのプラスチック基
板であるが、ここでは、プラスチック基板として説明す
る。なお、このプラスチック基板１は、液晶表示パネル
やプラズマディスプレイパネルなど表示パネルの基板と
するが、プラスチック性の眼鏡レンズやプリズムなどの
光学基材であってもよい。

【００２２】この透明基板１上に、ハードコート層２を
介して、反射防止膜５が設けられている。この反射防止
膜５は複数の誘電体層３ａ〜３ｄと炭素薄膜４とが積層
されてなる積層体の多層構造をなしており、この反射防
止膜５の最上位層である誘電体層３ｄ上に撥水層６が設
けられている。

【００２３】ハードコート層２は、プラスチック基板で
ある透明基板１の表面強度を高めるとともに、この透明
基板１と反射防止膜５の最下位層である誘電体層３ａと
の密着性を高めるために設けられている。

【００２４】反射防止膜５は、上下する２つの層を対と
し、かかる対の一方の層（ここでは、下側の層）を屈折
率が高い高屈折率層、他方の層（ここでは、上側の層）
を屈折率が低い低屈折率層として、かかる対を多層積層
したものである。そこで、反射防止膜５では、誘電体層
３ａ，３ｂが１つの対をなし、誘電体層３ｃ，３ｄも１
つの対をなしていて、これら対での誘電体層３ａ，３ｃ
が高屈折率層、誘電体層３ｂ，３ｄが低屈折率層をなし
ている。

【００２５】また、この反射防止膜５では、高屈折率
層，低屈折率層毎に、上層になる程、誘電体層の膜厚が
厚くなるようにしている。従って、高屈折率層につい
て、上層側の誘電体層３ｃは、下層側の誘電体層３ａよ
りも厚い膜であり、低屈折率層について、上層側の誘電
体層３ｄは、下層側の誘電体層３ｂよりも厚い膜であ
る。

【００２６】高屈折率層３ａ，３ｃの誘電体層材料とし
ては、屈折率が、例えば、１．８〜２．３程度のものが
使用され、低屈折率層３ｂ，３ｄの誘電体層材料として
は、屈折率が、例えば、１．３〜１．５程度のものが使
用される。かかる誘電体層材料としては、ＴｉＯ_X，Ｓ
ｉＯ_X，Ａｌ_YＯ_X，ＴａＯ_X，ＺｒＯ_X，ＩＴＯ，ＳｉＮ
などの公知の材料を用いることができる。

【００２７】炭素薄膜４は上記のＤＬＣ（Diamond Like
Carbon）からなるものであって、その屈折率は１．８
〜２．３であり、高屈折率層をなす誘電体層３ａ，３ｃ
の屈折率と同程度である。そこで、この実施形態では、
この炭素薄膜４を反射防止膜５での高屈折率層の一部と
して用い、これにより、反射防止膜５の耐擦傷性を高め
るようにするものである。具体的には、誘電体層３ｃの
下側にこの炭素薄膜４を設け、これら誘電体層３ｃと炭
素薄膜４とで所定の膜厚の１つの高屈折率層が形成され
るようにしている。

【００２８】撥水層６としては、撥水性や撥油性，防汚
性を持たせるために採用されている、例えば、フッ素化
合物などを用い、反射防止機能に影響しない程度の薄い
膜厚とする。

【００２９】このように、炭素薄膜４と高屈折率層をな
す誘電体層３ｃとは同程度の屈折率を有するものであっ
て、これら炭素薄膜４と誘電体層３ｃとの境界面でほと
んど反射が生ずることがないから、かかる炭素薄膜４を
設けても、可視光領域（４００〜７００ｎｍ）で優れた
反射防止性能が得られ、反射防止特性が低下することが
ない。

【００３０】また、このように、反射防止膜５内にかか
る炭素薄膜４を設けることにより、表面に撥水層６を形
成した反射防止膜５の耐衝撃性，耐擦傷性が大幅に改善
されるし、さらに、炭素薄膜４は優れた気体遮断性を有
するから、大気からの、あるいはハードコート層２側か
らの気体や水分の侵入を防ぐことができる。

【００３１】図２は本発明による多層構造の反射防止膜
の第２の実施形態を示す断面構成図であって、７は炭素
薄膜であり、図１に対応する部分には同一符号を付けて
重複する説明を省略する。

【００３２】同図において、この第２の実施形態では、
撥水層６を中間層としての炭素薄膜７を介して反射防止
膜５上に形成したものであり、これ以外の構成は図１に
示した実施形態と同様である。

【００３３】ここで、かかる炭素薄膜７は、反射防止膜
５における炭素薄膜４と同様のＤＬＣからなるが、反射
防止機能に影響を与えない程度の薄い膜厚で形成され
る。また、炭素薄膜７は、反射防止膜５の誘電体層３ｄ
として、上記の材料を用いた場合、かかる誘電体層３ｄ
と化学反応し、また、撥水層６として、上記のように、
フッ素化合物などの既に知られている材料を用いた場
合、かかる撥水層６と化学反応する。このようなフッ素
化合物などの既に知られている撥水層の材料は、低表面
エネルギ物質であるため、かかる材料による撥水層６を
直接誘電体層３ｄ上に形成すると、これら間で弱い電気
結合が生じ、これによってこれらが結合されるものであ
るから、機械的摩擦によって撥水層６の剥がれが生ずる
が、この第２の実施形態のように炭素薄膜７を介して撥
水層６を設けると、上記の化学反応によって誘電体層３
ｄと撥水層６とを密着することになり、撥水層６が反射
防止膜５から非常に剥がれにくいものとなる。

【００３４】このようにして、この第２の実施形態で
は、先の第１の実施形態と同様の効果が得られるととも
に、さらに、撥水層が剥がれにくいものとなるので、撥
水性や撥油性，防汚性が優れて反射特性を良好に維持す
ることができるという効果も得られる。

【００３５】なお、以上の実施形態は、基板１を透明
な、あるいは着色された透光性のブラスチック基材とす
るものであったが、陰極線管の画面やガラス眼鏡などの
同様のガラス基材であってもよい。但し、この場合に
は、図１，図２におけるハードコート層２は必ずしも必
要ない。

【００３６】次に、以上の実施形態の実施例について説
明する。

【００３７】〔実施例１〕基板１として、厚さ１．２ｍ
ｍ、長さ４０ｍｍ、幅２０ｍｍ、屈折率１．５３の環状
オレフィン系樹脂基板を用い、その表面にスピンコート
法によって屈折率１．５、厚さ３．５μｍのハードコー
ト層２を形成した後、このハードコート層２の上に高屈
折率層としての誘電体層３ａ，３ｃと低屈折率層として
の誘電体層３ｂ，３ｄとを交互に形成し、この形成過程
の途中の誘電体層３ｂの上に高屈折率の炭素薄膜４を形
成して、多層構造の反射防止膜５を得た。そして、この
反射防止膜５の最上部の誘電体層３ｄの上に屈折率１．
４３の撥水層６を形成し、図１に示す構造の実施例１を
得た。

【００３８】ここで、高屈折率層としての誘電体層３
ａ，３ｃには、ＳｉＮ（屈折率＝１．９５）を使用し、
低屈折率層としての誘電体層３ｂ，３ｄには、ＳｉＯ
₂(屈折率＝１．４５）を使用し、炭素薄膜４としてはＤ
ＬＣ（屈折率＝１．８〜２．３、ここでは、１．９とす
る）を使用し、夫々ＤＣマグネトロンスタッパ装置を用
いて次のように形成した。

【００３９】誘電体層３ａ，３ｃとしてのＳｉＮ膜
は、ＤＣマグネトロンスパッタ装置において、ターゲッ
トとしてシリコンターゲットを用い、Ａｒガスを200scc
m（standard cc/min：規定された環境での１分間当たり
の流量（ｃｃ＝ｃｍ²）であって、この規定された環境
とは、大気圧で０℃や２５℃などの指定された温度の環
境）で流しながら、このＡｒガス中にＮ₂ガスを混入
し、電力2.0ｋＷで成膜する反応性スパッタ法で形成し
た。ここで、誘電体層３ａの膜厚を２２５Å、誘電体層
３ｃの膜厚を５２４Åとした。

【００４０】誘電体層３ｂ，３ｄとしてのＳｉＯ₂膜
は、ＤＣマグネトロンスパッタ装置において、ターゲッ
トとしてシリコンターゲットを用い、Ａｒガスを200scc
mで流しながら、このＡｒガス中にＯ₂ガスを混入し、電
力2.0ｋＷで成膜する反応性スパッタ法で形成した。こ
こで、誘電体層３ｂの膜厚を２１３Å、誘電体層３ｄの
膜厚を９３１Åとした。

【００４１】炭素薄膜４は、ＤＣマグネトロンスパ
ッタ装置において、ターゲットとしてカーボンターゲッ
トを用い、Ａｒガスを200sccmで流すことにより、厚さ
４００Åに成膜した。

【００４２】撥水層６は、プラズマＣＶＤ法を用いてフ
ッ素化合物の膜として形成したものであり、反射防止膜
５の反射防止特性に影響しない程度の５０Åの膜厚に形
成した。

【００４３】〔実施例２〕上記実施例１と同様にして、
実施例１と同様の基板１上に実施例１と同様のハードコ
ート層２を、さらにその上に反射防止膜５を夫々形成し
た。この第２の実施形態では、反射防止膜５の最上部の
誘電体層３ｄの上に、中間層としての屈折率１．９、厚
さ５０Åの炭素薄膜７を介して、屈折率１．４３、厚さ
５０Åの撥水層６を形成し、図２に示す構造の実施例２
を得た。反射防止膜５や撥水層６の形成方法も、上記実
施例１と同様である。ここで、誘電体層３ａ〜３ｄ、炭
素薄膜４の屈折率は実施例１の場合と同様であるが、夫
々の膜厚は、誘電体層３ａが２１８Å、誘電体層３ｂが
２１８Å、誘電体層３ｃが５３６Å、誘電体層３ｄが８
１０Å、炭素薄膜４が４００Åとした。

【００４４】誘電体層３ｄと撥水層６とを結合する中間
層の炭素薄膜７も、反射防止層５での炭素薄膜４と同様
の方法で形成するが、反射防止膜５の反射防止特性に影
響しない程度の５０Åの膜厚に形成した。

【００４５】〔比較例〕上記実施例１，２と比較するた
めの比較例を、図３に示すような構成で作成した。かか
る比較例は、基板１上にハードコート層２を形成し、こ
のハードコート層２上に誘電体層３ａ，３ｂ，３ｃ，３
ｄを積層して反射防止膜５を形成したものである。かか
る反射防止層５では、誘電体層３ａ，３ｂ，３ｄは図１
及び図２での誘電体層３ａ，３ｂ，３ｄと同様である
が、誘電体層３ｃは、これのみで図１及び図２での誘電
体層３ｃ及び炭素薄膜４に対応する高屈折率層をなすも
のであって、その光路長（＝膜厚×屈折率）が誘電体層
３ｃ及び炭素薄膜４の光路長の合計と等しくなるように
膜厚に設定されている。

【００４６】なお、この比較例では、最上層の誘電体層
３ｄ上に撥水層を設けたものとしてもよいが、ここで
は、撥水層を設けていないものとする。

【００４７】以上の実施例１，２と比較例とについて、
次のような試験を行なった。

【００４８】擦傷性試験：これは、傷が付き易いかど
うかを試験するものである。その方法としては、加重2.
94Ｎ（ニュートン）で砂消しゴムを試験試料（即ち、上
記の実施例１，２及び比較例）に押しつけながら、この
砂消しゴムを移動距離17ｍｍ、移動測度3700ｍｍ／ｍｉ
ｎで往復運動させるものであり、試験試料に傷が付くま
での往復運動回数を調べるものである。

【００４９】鉛筆硬度試験：これは、試験試料の表面
硬度を試験するものであり、その方法としては、試験試
料の表面に45゜傾けて置いた鉛筆に4.9Ｎの加重を加え
た状態として、この鉛筆を移動測度30ｍｍ／ｍｉｎで試
験試料の表面を所定回数擦ることにより、どの程度の硬
度の鉛筆で傷が付くかを調べるものである。

【００５０】防汚性試験：これは、試験試料の表面の
濡れ具合を測定するものであり、その方法としては、こ
の表面に１．０ｃｃの水滴を落とし、その水接触角を測
定するものである。この水接触角は０゜〜１８０゜であ
って、その値が小さいほど濡れ易く、撥水性が劣ること
になる。

【００５１】反射率測定試験：波長５５０ｎｍの光を
撥水層６側（比較例では、最上層の誘電体層３ｄ側）か
ら照射し、同じ側に配置した分光光度計で反射率を測定
した。

【００５２】以上の試験の結果を、次の表１に示す。

【表１】表１で示されるように、比較例に比べ、実施例１，２で
は、擦傷性試験において、ほぼ１桁程度以上の往復回数
が得られた。最上層の誘電体層３ｄの上に炭素薄膜７を
介して撥水層６を設けた実施例２は勿論のこと、この誘
電体層３ｄ上に直接撥水層６を設けた実施例１において
も、耐擦傷性に優れたものとなり、擦りに対して傷が付
きにくいものとなっている。また、この試験結果は、撥
水膜６が剥がれにくくなっていることも示している。

【００５３】また、上記の鉛筆硬度試験によると、表面
強度は実施形態１，２と比較例とは同程度であり、さら
に詳しくみると、最上層の誘電体層３ｄの上に、膜厚が
薄いといっても、さらに、炭素薄膜７を設けている分、
実施例２の表面強度が実施例１や比較例と比べて優れて
いる。

【００５４】さらに、上記の防汚性試験によると、実施
形態１，２は、比較例に比べて、水接触角が非常に大き
いことが明らかである。これは、比較例では、落とされ
た水滴が表面上で広がってしまうのに対し、実施例１，
２では、表面で玉状になることを示しており、水滴が内
部に滲み込んでいかないことになる。従って、実施例
１，２では、比較例に比べて、撥水性，撥油性，防汚性
に優れたものであるが、これは実施例１，２で撥水層６
を設けたことによるものである。従って、比較例におい
ても、撥水層を設けることにより、撥水性，撥油性，防
汚性に優れたものとなるが、上記の擦傷性試験の結果か
ら、耐擦傷性が劣るものであるから、この撥水層は剥が
れ易く、実施例１，２に比べて、優れた撥水性，撥油
性，防汚性を長く維持することはできない。

【００５５】さらに、上記の反射率測定試験によると、
実施例１，２の反射率は比較例と変わりがない。このこ
とは、実施例１，２が反射防止膜内に炭素薄膜が設けら
れていても、これが反射特性に影響していないことを示
している。

【００５６】なお、以上の実施形態では、反射防止膜５
として、高屈折率の誘電体層と低屈折率の誘電体層との
対が２つ積層された構造としたが、３以上の対が積層さ
れた構造としてもよいし、また、これに伴って、反射防
止膜内に２以上の層の炭素薄膜を高屈折率の誘電体層と
ともに設けるようにしてもよい。

【００５７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
炭素薄膜を高屈折率層として利用し、誘電体層の積層体
内に設けるものであるから、良好な反射防止特性を発揮
しながら、耐擦傷性を向上させることができる。

【００５８】また、本発明によると、反射防止特性を低
下させることなく、撥水層を形成することができ、優れ
た撥水性，撥油性，防汚性をも実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による多層構造の反射防止膜の第１の実
施形態の構成を示す断面図である。

【図２】本発明による多層構造の反射防止膜の第２の実
施形態の構成を示す断面図である。

【図３】図１，図２に示す実施形態の具体的な実施例に
対する比較例の構成を示す断面図である。

【図４】従来の多層構造の反射防止膜の一例の構成を示
す断面図である。

【図５】従来の多層構造の反射防止膜の他の例の構成を
示す断面図である。

【符号の説明】

１基板２ハードコート層３ａ〜３ｄ誘電体層４炭素薄膜５反射防止膜６撥水層７炭素薄膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H091 FA37X FB06 FD06 GA01 LA02 2K009 AA02 AA15 CC03 CC26 DD02 DD03 DD04 DD07 EE02 5C058 DA01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明な光学部材の表面に設けられ、複数
の誘電体層の積層体からなる多層構造の反射防止膜であ
って、該積層体内の該誘電体層間に透明な炭素薄膜を設けたこ
とを特徴とする多層構造の反射防止膜。
【請求項２】透明な光学部材の表面に設けられ、高屈
折率の層と低屈折率の層とが交互に複数層積層された積
層体からなる多層構造の反射防止膜であって、該積層体での少なくとも１つの対での低屈折率の層を誘
電体層のみの構成とし、該対での高屈折率の層を誘電体
層と透明な炭素薄膜とを積層した構成とし、該対以外の
対での高屈折率の層及び低屈折率の層をともに誘電体層
でのみ構成したことを特徴とする多層構造の反射防止
膜。
【請求項３】請求項１または２において、前記積層体上に、前記積層体内での前記誘電体層や前記
炭素薄膜よりも薄い膜厚の炭素薄膜を介して、該炭素薄
膜と化学反応して結合する撥水層を設けたことを特徴と
する多層構造の反射防止膜。