JP2014519967A - ヒドロゲルの製造方法 - Google Patents
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- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 31
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 14
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 13
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 13
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 13
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 9
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 8
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 claims description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- -1 alkali metal aluminates Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910000318 alkali metal phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 claims description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 2
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000004964 aerogel Substances 0.000 abstract description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 19
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 11
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 238000000352 supercritical drying Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000002199 base oil Substances 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical group C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- 239000004965 Silica aerogel Substances 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000003889 chemical engineering Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 239000007863 gel particle Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/152—Preparation of hydrogels
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J13/00—Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
- B01J13/0091—Preparation of aerogels, e.g. xerogels
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
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Abstract
ヒドロゲルを製造するための方法を、回転軸の周りを回転する物体A及び計量供給システムを有する反応器中で実施する。i)酸性又は両性の酸素含有分子アニオンの可溶性塩の少なくとも1つを含む成分と、ii)沈澱剤を含む成分とを、計量供給システムによって、成分i)及びii)の混合物が回転体Aの表面上を回転体Aの表面の外側領域に流れるように、回転体Aの表面に適用し、その混合物は表面を離れ、回転体Aの表面を離れた後の混合物のpHは2〜12である。得られたヒドロゲルはエアロゲルの製造のために使用される。
Description
本発明は、酸性又は両性の酸素含有分子アニオンの可溶性塩を基礎とするヒドロゲルを製造するための方法に関する。さらに、エアロゲルの製造のためのヒドロゲルの使用が開示されている。
エアロゲルは、高い多孔質の固体であり、体積の99.98%までが孔からなる。エアロゲルは、種々の材料を基礎として製造されてよく、シリカエアロゲルが最もよく知られている。しかしながら、それらは、他の酸性又は両性の酸素含有分子アニオン、例えばチタネート又はアルミネートから形成されてもよい。エアロゲルは、この場合、特にゾル−ゲル法でヒドロゲルを形成して、続いて乾燥することによって得られてよい。エアロゲルの中間構造は、ゾル−ゲル合成中に不規則に互いに融合した一次粒子の三次元構造からなる。粒子間に存在する空洞は孔を形成する。
水ガラスを酸性化することによって製造されてよいヒドロゲル、特にシリカヒドロゲルを、超臨界条件下で乾燥させて、微孔質の三次元に架橋された生成物を形成することができることは公知である。超臨界乾燥によって得られたかかる製品は、ゲルの場合に、エアロゲルといわれる。超臨界乾燥は、完全に又は実質的に、微孔質の三次元に架橋されたゲル中に存在する流体の界面張力を無くす。ここでの目的は、乾燥の工程において微孔質の三次元に架橋されたゲルの収縮を実質的に妨げることであり、それというのも多孔質の三次元に架橋されたゲルの特性が、収縮の工程で完全に又は部分的に失われるからである。ゲルが大いに収縮し、かつキセロゲルを形成する、特定の条件のない従来の乾燥の場合と違い、臨界点に近い乾燥は、従って、体積における少ない収縮のみをもたらす(15体積%未満)。
超臨界乾燥によるエアロゲルの製造についての先行技術は、例えばReviews in Chemical Engineering, Volume 5, Nos. 1−4, pp. 157−198 (1988)において詳細に記載されており、Kistlerによる先駆的な研究も挙げられている。
WO−A−95 06 617号は、水ガラス溶液と酸とをpH7.5〜11で反応し、ヒドロゲルのpHを7.5〜11の範囲内で維持しながら水又は無機塩基の水溶液で洗浄することによってほとんどのイオン構成成分を形成されたヒドロゲルから実質的に除去し、ヒドロゲルに存在する水性相をアルコールによって取り出し、そして続いて得られたアルコゲルを超臨界的に乾燥することによって得られる疎水性シリカエアロゲルに関する。
WO−A−94 25 149号は、ゲルの乾燥前に疎水化剤でゲルを最初に処理することを開示している。結果として得られたゲルを、あらゆる重要な収縮を生じない臨界未満の条件下で乾燥させることができる。
エアロゲルの製造において、アルコキシメタレート、例えばテトラエチルオルトシリケート、チタンテトライソプロポキシドも、原料として非常に頻繁に使用されている。これは、後に取り除かれるべき塩がゲルの製造において得られない利点を有する。しかしながら、大きな欠点は、アルコキシメタレートが非常に効果であることである。本記載内容において、当業者は、アルコキシメタレートの場合におけるゾル−ゲル形成の機構が、根本的に、酸性又は両性の酸素含有分子アニオン、例えばケイ酸ナトリウムの可溶性塩の機構とは異なることを認識している(C. Jeffrey Brinker, George W. Scherer "Sol−Gel Science: The Physics and Chemistry of Sol−Gel Processing" Academic Press, 1990, page 97ff)。添加される水の量に従って、アルコキシメタレートは、最初に、後の工程で架橋する、低いレベルの分岐を有する連鎖した構造を形成する。反対に、例えばケイ酸ナトリウム及び酸から精製されたシリカは、直接重合して、さらなる重合の結果として大きくなる粒子を提供し、従って一次粒子を形成する。
エアロゲル、特に二酸化ケイ素を基礎とするエアロゲルは、それらの非常に良好な絶縁性によって外装の絶縁仕上げシステムにおいて既に使用され、かつ同様の絶縁性能で壁の幅における非常に少ない増加を導く利点を有する。標準圧力での空気中での二酸化ケイ素エアロゲルの熱伝導性についての典型的な値は、0.017〜0.021W/(m・K)である。二酸化ケイ素エアロゲルの熱伝導性における差は、製造方法に従った孔のサイズにおける差によって実質的に測定され、10〜100nmの範囲である。
工業規模で最小の費用でエアロゲルを製造するために、適した原料は、特に、有機酸又は無機酸と反応してヒドロゲルを形成する、酸性又は両性の酸素含有分子アニオンの可溶性塩、特にアルカリ金属シリケートであってよい。しかしながら、特に工業規模で、これらの適切な原料から、ヒドロゲルを、及び従って均一な一次粒径及びこれから得られる均一な孔直径を有するエアロゲルも得ることは難しく、かつ従って最適な熱伝導性を達成することも難しい。
均一な孔直径を有するヒドロゲルを得るために、DE 195 40 480号は、水性ケイ酸ナトリウム及び酸、例えば硫酸を、別々に互いに噴霧し、そして互いに混合し、そして得られた混合物を酸のさらなる添加によって所望のpHに調節することを開示している。しかしながら、この方法の欠点は、供給原料の急速な均質混合をこの方法によって達成することが出来ないため、非常に実質的に均一な一次粒径の目的が達成されないことである。
WO−A−99 33 554号は、ナトリウム水ガラスと塩酸とを、圧力下で混合容器中に導入して、それらを混合し、そして混合ノズルを介して噴霧させる、ヒドロゲルの製造方法を開示している。結果として、実質的に球状のゲル粒子を製造することができる。
この方法の著しい欠点は、混合ノズルの自己洗浄を欠いていることである。従って、生成物の付着物は、ノズルの狭窄及び最終的に閉塞を導き、かつ製造方法の安定性及び連続性を制限する。混合ノズルは、該方法のそれぞれの停止で、高価で不便な方法で洗浄される必要がある。さらに、高い機械応力が、一次粒子の成長に対する効果に反して、噴霧の工程で上昇する。
従って、本発明の課題は、均一な一次粒径、及びこれから生じる均一な孔直径を有するヒドロゲルの製造を確実にする、酸性又は両性の酸素含有分子アニオンの可溶性塩を基礎とするヒドロゲルを製造するための、手順上柔軟であり経済的に実施可能な方法を提供することである。
前記課題は、
α)回転軸の周りを回転する物体A及び
β)計量供給システム
を有する反応器中で、
a) i)酸性又は両性の酸素含有分子アニオンの可溶性塩の少なくとも1つを含む成分と、
ii)沈澱剤を含む成分と
を、計量供給システムによって、成分i)及びii)の混合物が回転体Aの表面上を回転体Aの表面の外側領域に流れるように、回転体Aの表面に適用し、
b)そしてその混合物が表面を離れる
ことによって実施され、回転体Aの表面を離れた後の混合物のpHが2〜12である、ヒドロゲルを製造するための方法によって達せられた。
α)回転軸の周りを回転する物体A及び
β)計量供給システム
を有する反応器中で、
a) i)酸性又は両性の酸素含有分子アニオンの可溶性塩の少なくとも1つを含む成分と、
ii)沈澱剤を含む成分と
を、計量供給システムによって、成分i)及びii)の混合物が回転体Aの表面上を回転体Aの表面の外側領域に流れるように、回転体Aの表面に適用し、
b)そしてその混合物が表面を離れる
ことによって実施され、回転体Aの表面を離れた後の混合物のpHが2〜12である、ヒドロゲルを製造するための方法によって達せられた。
驚くべきことに、本発明による方法は、全ての挙げられた課題を達成しただけでなく、一次粒径の非常に単純な調整も可能にすることが見出された。
少なくとも1つの酸性又は両性の酸素含有分子アニオンは、有利には、アルミニウム、ケイ素、リン、スズ、アンチモン、チタン、クロム、モリブデン、タングステン、鉛、ビスマス、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、ホウ素、ヒ素、マンガン、レニウム、亜鉛、ゲルマニウム、イットリウム、ベリリウム及び銅を基礎とするものである。
特に好ましい一実施態様において、酸性又は両性の酸素含有分子アニオンの塩は、アルカリ金属シリケート、アルカリ金属チタネート、アルカリ金属アルミネート及びアルカリ金属ホスフェートの群からの少なくとも1つの化合物であり、より特に、そのカチオンは、ナトリウム、カリウム及びアンモニウムの群からの少なくとも1つであってよい。特に好ましい一実施態様において、酸性又は両性の酸素含有分子アニオンの塩は、ケイ酸ナトリウムまたはケイ酸カリウムである。
選択される沈澱剤は、有利には、有機酸、無機酸、及び有機酸又は無機酸の多価カチオンの塩の群からの少なくとも1つであってよい。有機酸の中で、酢酸、クエン酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、カルボン酸及びメタンスルホン酸が好ましく、有機酸は、特に酢酸であってよい。使用される無機酸は、例えば、塩酸、硫酸、リン酸、ホウ酸及び硝酸であってよく、特に硫酸が好ましい。無機酸又は有機酸の多価カチオンの塩は、特に、塩化アルミニウム、塩化カルシウム及び硫酸アルミニウムであってよい。
表面を離れた後の成分i)及びii)の混合物のpHは、ヒドロゲル形成の速度に関する重要な役割を果たす。例えば、室温でのアルカリ金属シリケートと有機酸又は無機酸との反応において、一般にpH8〜9でのヒドロゲル形成は数秒〜数分の範囲で生じる一方で、pH2〜3の範囲でヒドロゲル形成は数時間〜数日かかる。本発明の記載内容において、表面を離れた後の成分i)及びii)の混合物のpHは、2.5〜8、有利には3.5〜7、及びより有利には4〜5の値を有してよい。pHも一次粒子のサイズに直接影響しうる。例えば、選択されたpHに従ったシリカを基礎とするヒドロゲル形成の場合における一次粒子は、特に2〜150nmであってよい。低いpH値は小さい一次粒子を導く。
使用される成分i)及びii)の温度によってヒドロゲル形成の速度及び一次粒径にも影響しうる。より特に、供給原料の温度は、10〜80℃、特に15〜30℃である。
さらに、回転体Aの温度、特に適用される成分に面する表面の温度は、広い範囲内で変動してよく、かつ使用される成分に、回転体A上の滞留時間に、及び所望の一次粒径に依存する。回転体の温度は、有利には5〜150℃、特に15〜70℃、及びより有利には20〜50℃である。物体A及び/又は回転体Aに適用される成分は、例えば、電気的に、熱キャリヤー流体で、蒸気で、レーザーで、マイクロ波放射で、超音波で、又は赤外線によって加熱されてよい。
回転体Aは、ディスク、壺、リング又は球体の形状を有してよく、かつ水平回転ディスク、又は水平面から45°までだけ偏向しているものが、好ましいと考えられる。通常、物体Aは、0.02m〜3.0m、有利には0.10m〜2.0m及びより有利には0.20m〜1.0mの直径を有する。その表面は、平滑、波形、及び/又は凸形もしくは凹形であってよく、又は、例えば混合及び反応混合物の滞留時間に影響する溝又は螺旋の形での凹みを有してよい。物体Aは、有利には、金属、ガラス、プラスチック又はセラミックであってよい。適切に、物体Aは、本発明の方法の条件に関して安定である容器に取り付けられる。好ましい一実施態様において、回転体Aは、回転ディスクの形である。
回転体Aの回転速度及び成分の計量供給速度は、変動する。典型的に、毎分回転数での回転速度は、1〜20000、有利には100〜5000、及びより有利には200〜2000である。表面の単位面積あたりの回転体A上に存在する反応混合物の体積は、典型的に、0.01〜20ml/dm2、有利には0.1〜10ml/dm2、より有利には1.0〜5.0ml/dm2である。回転体Aの表面上の成分i)及びii)の混合物は、1μm〜2.0mm、有利には60〜1000μm、より有利には100〜500μmの平均厚さを有する被膜の形であることが好ましいと考えられる。
成分の平均滞留時間(滞留時間スペクトルの平均周波数)は、表面のサイズ、成分のタイプ、表面の温度及び回転体Aの回転速度を含む要因に依存する。回転体の表面上での成分i)及び成分ii)の混合物の好ましい平均滞留時間は、0.01〜100秒、より有利には0.1〜10秒、特に0.5〜3秒であり、かつ従って極めて短いと考えられる。
本発明の他の一実施態様において、物体Aの表面は、他の回転体に伸び、その結果反応混合物は、回転体Aの表面から少なくとも1つの他の回転体の表面へ通過する。他の回転体は、適切に物体Aに対応する。典型的に、この場合における物体Aは、反応混合物を有する他の物体を"与える"。反応混合物は、この少なくとも1つの他の物体を離れ、そして収集される。
本発明の好ましい一実施態様は、回転体Aが、回転ディスクの形であり、この場合、出発成分i)及びii)が、個々に適用され、及び/又は混合物として、有利には連続して、計量供給システムによって回転ディスクに適用される。特定の一実施態様において、疎水化剤を含む成分iii)を、さらに、計量供給システムによって回転体Aの表面に適用することができる。非常に実質的に均一な一次粒径を得るために、前記成分を、有利には物体A上に計量供給することができ、成分i)及びii)の混合は、最大の剪断作用点で実施する。剪断作用は、物体Aの幾何学に依存し、かつ当業者に容易に決定されうる。他の一実施態様において、前記成分は、回転ディスクの内部領域に計量供給されうる。回転ディスクの内部領域は、回転の中心軸から生じる半径の35%の距離を意味すると解される。
特に、回転ディスクは、スピニングディスク反応器の回転ディスクであり、かかる反応器は、例えば文献WO00/48728号、WO00/48729号、WO00/48730号、WO00/48731号及びWO00/48732号において詳細に記載されている。
有利には連続方法のスループットは、成分i)、ii)及び場合により疎水化剤iii)の計量供給の調整によって調整されうる。スループットは、電子的に可能である、又は手動で操作可能な出口弁又は調節弁によって調整されうる。この場合、ポンプ、圧力ライン又は吸い込みラインは、反応物の粘度に対するだけでなく、設置された調節弁の特に一定の自由に調節可能な圧力に対して運搬しなければならない。流量調節のこの方法は特に好ましい。
成分i)及びii)は、個々に及び/又は混合物として回転体Aに適用されてよい。記載された計量供給システムは、成分i)、ii)及び場合により疎水化剤iii)の非常に変動する添加を、回転体Aの異なる位置で可能にする。しかしながら、成分i)及びii)の一部又は全体は前混合されてもよく、かつ計量供給システムによってのみ回転体Aの表面に適用されてよい。しかしながら、有利には、成分i)及びii)は、個々に回転体Aに適用される。
変法に従って、反応生成物は、直接、回転体A上で疎水化剤iii)と接触されてよく、又は最初に収集されて、そして疎水化剤iii)と共に有利には連続装置中に導入されてよい。双方の変法における疎水化剤iii)は、有利には、計量供給システムによって連続して導入されてよい。
代わりの好ましい一実施態様において、成分i)及びii)から形成されたヒドロゲルは、最初に、有機溶媒、特にアルコールに対する溶剤交換を受け、そして疎水化剤iii)が続いて得られたゲルと接触される。
本発明による方法によって得られた生成物は、種々の方法で処理されてよい。この目的のために、成分i)及びii)並びに場合によりiii)の混合物は、回転体Aの表面を離れた後に収集され、そしてエイジングプロセスを受けてよい。この場合、得られた混合物は、モノリス又は粒子懸濁液の形でのヒドロゲルの製造に適している。
好ましい一実施態様において、混合物は、10〜80℃、有利には25〜50℃で、エイジングプロセス中に貯蔵されてよく、その結果シリカ含有ヒドロゲルが、モノリスの形で得られる。本記載内容において、モノリスの形状は、実質的に自由に選択されてよく、かつ貯蔵を行う容器の形状によって決定されてよい。
他の好ましい一実施態様において、エイジングプロセス中の混合物は、10〜80℃、有利には25〜50℃の温度でアルカリ溶液に撹拌しながら添加されてよく、その結果ヒドロゲルは、粒子懸濁液の形で得られる。アルカリ溶液は、有利には、pH11.5を有し、アンモニア溶液が適している。この場合における粒子は、特に、平均粒子直径120〜460nm(乾燥後に1〜10μm)を有する。粒子懸濁液の製造は、連続して実施されてもよく、この場合可能な装置は、特に撹拌タンクカスケード又は静的ミキサーである。
本発明による方法によって得られたヒドロゲルは、特にエアロゲルの製造に適している。本記載内容において、ヒドロゲルからのエアロゲルの製造のための当業者に公知の全ての方法を使用することができる。より特に、ヒドロゲルを、場合により有機溶媒、例えばアルコール又はヘキサンについて水の交換後に、疎水化することができる。そして続く乾燥を標準圧力で実施することができる。
本発明を、以下で実施例に関して詳細に記載される。
実施例
次の実施例を、平滑なディスクとして形成し、かつ銅からなる回転体A(表面をクロムメッキした)上で実施した。そのディスクは、軸上にあり、かつ金属の囲いによって覆われ、かつ直径20cmを有する。そのディスクを、熱キャリヤー油で内側から加熱する。比較可能な反応器は、文献WO00/48728号、WO00/48729号、WO00/48730号、WO00/48731号及びWO00/48732号において詳細に記載されている。
次の実施例を、平滑なディスクとして形成し、かつ銅からなる回転体A(表面をクロムメッキした)上で実施した。そのディスクは、軸上にあり、かつ金属の囲いによって覆われ、かつ直径20cmを有する。そのディスクを、熱キャリヤー油で内側から加熱する。比較可能な反応器は、文献WO00/48728号、WO00/48729号、WO00/48730号、WO00/48731号及びWO00/48732号において詳細に記載されている。
出発化合物の濃度変化でのシリカヒドロゲルの製造:
実施例1
水ガラス溶液30質量%を、20℃の温度で、ディスクの中心上に、流量93.75ml/分で計量供給する。同時に、20℃の温度で酢酸溶液30質量%を、ディスク上に中心から1センチの半径距離で流量112.5ml/分で計量供給する。ディスクは毎分回転数500の速度で回転子、かつ23℃の調整温度である。その混合物を、ディスクを離れた後に収集する。
得られた混合物のpH:4.7
平均一次粒径:57.4nm。
実施例1
水ガラス溶液30質量%を、20℃の温度で、ディスクの中心上に、流量93.75ml/分で計量供給する。同時に、20℃の温度で酢酸溶液30質量%を、ディスク上に中心から1センチの半径距離で流量112.5ml/分で計量供給する。ディスクは毎分回転数500の速度で回転子、かつ23℃の調整温度である。その混合物を、ディスクを離れた後に収集する。
得られた混合物のpH:4.7
平均一次粒径:57.4nm。
実施例2
水ガラス溶液20質量%を、20℃の温度で、ディスクの中心上に、流量93.75ml/分で計量供給する。同時に、20℃の温度で酢酸溶液20質量%を、ディスク上に中心から1センチの半径距離で流量112.5ml/分で計量供給する。ディスクは毎分回転数500の速度で回転子、かつ23℃の調整温度である。その混合物を、ディスクを離れた後に収集する。
得られた混合物のpH:4.7
ゲル形成時間:45分
平均一次粒径:46.5nm。
水ガラス溶液20質量%を、20℃の温度で、ディスクの中心上に、流量93.75ml/分で計量供給する。同時に、20℃の温度で酢酸溶液20質量%を、ディスク上に中心から1センチの半径距離で流量112.5ml/分で計量供給する。ディスクは毎分回転数500の速度で回転子、かつ23℃の調整温度である。その混合物を、ディスクを離れた後に収集する。
得られた混合物のpH:4.7
ゲル形成時間:45分
平均一次粒径:46.5nm。
実施例3
水ガラス溶液10質量%を、20℃の温度で、ディスクの中心上に、流量93.75ml/分で計量供給する。同時に、20℃の温度で酢酸溶液10質量%を、ディスク上に中心から1センチの半径距離で流量112.5ml/分で計量供給する。ディスクは毎分回転数500の速度で回転子、かつ23℃の調整温度である。その混合物を、ディスクを離れた後に収集する。
得られた混合物のpH:4.7
平均一次粒径:36.6nm。
水ガラス溶液10質量%を、20℃の温度で、ディスクの中心上に、流量93.75ml/分で計量供給する。同時に、20℃の温度で酢酸溶液10質量%を、ディスク上に中心から1センチの半径距離で流量112.5ml/分で計量供給する。ディスクは毎分回転数500の速度で回転子、かつ23℃の調整温度である。その混合物を、ディスクを離れた後に収集する。
得られた混合物のpH:4.7
平均一次粒径:36.6nm。
実施例4
水ガラス溶液5質量%を、20℃の温度で、ディスクの中心上に、流量93.75ml/分で計量供給する。同時に、20℃の温度で酢酸溶液5質量%を、ディスク上に中心から1センチの半径距離で流量112.5ml/分で計量供給する。ディスクは毎分回転数500の速度で回転子、かつ23℃の調整温度である。その混合物を、ディスクを離れた後に収集する。
得られた混合物のpH:4.7
平均一次粒径:28.1nm。
水ガラス溶液5質量%を、20℃の温度で、ディスクの中心上に、流量93.75ml/分で計量供給する。同時に、20℃の温度で酢酸溶液5質量%を、ディスク上に中心から1センチの半径距離で流量112.5ml/分で計量供給する。ディスクは毎分回転数500の速度で回転子、かつ23℃の調整温度である。その混合物を、ディスクを離れた後に収集する。
得られた混合物のpH:4.7
平均一次粒径:28.1nm。
ディスク速度の変化でのシリカヒドロゲルの製造:
実施例5
水ガラス溶液20質量%を、20℃の温度で、ディスクの中心上に、流量93.75ml/分で計量供給する。同時に、20℃の温度で酢酸溶液20質量%を、ディスク上に中心から1センチの半径距離で流量112.5ml/分で計量供給する。ディスクは毎分回転数500の速度で回転子、かつ23℃の調整温度である。その混合物を、ディスクを離れた後に収集する。
得られた混合物のpH:4.7
平均一次粒径:34.8nm。
実施例5
水ガラス溶液20質量%を、20℃の温度で、ディスクの中心上に、流量93.75ml/分で計量供給する。同時に、20℃の温度で酢酸溶液20質量%を、ディスク上に中心から1センチの半径距離で流量112.5ml/分で計量供給する。ディスクは毎分回転数500の速度で回転子、かつ23℃の調整温度である。その混合物を、ディスクを離れた後に収集する。
得られた混合物のpH:4.7
平均一次粒径:34.8nm。
流量の変化でのシリカヒドロゲルの製造:
実施例6
水ガラス溶液20質量%を、20℃の温度で、ディスクの中心上に、流量281.25ml/分で計量供給する。同時に、20℃の温度で酢酸溶液20質量%を、ディスク上に中心から1センチの半径距離で流量337.5ml/分で計量供給する。ディスクは毎分回転数1000の速度で回転子、かつ23℃の調整温度である。その混合物を、ディスクを離れた後に収集する。
得られた混合物のpH:4.7
平均一次粒径:40.2nm。
実施例6
水ガラス溶液20質量%を、20℃の温度で、ディスクの中心上に、流量281.25ml/分で計量供給する。同時に、20℃の温度で酢酸溶液20質量%を、ディスク上に中心から1センチの半径距離で流量337.5ml/分で計量供給する。ディスクは毎分回転数1000の速度で回転子、かつ23℃の調整温度である。その混合物を、ディスクを離れた後に収集する。
得られた混合物のpH:4.7
平均一次粒径:40.2nm。
ディスク温度の変化でのシリカヒドロゲルの製造:
実施例7
水ガラス溶液20質量%を、20℃の温度で、ディスクの中心上に、流量93.75ml/分で計量供給する。同時に、20℃の温度で酢酸溶液20質量%を、ディスク上に中心から1センチの半径距離で流量112.5ml/分で計量供給する。ディスクは毎分回転数500の速度で回転子、かつ50℃の調整温度である。その混合物を、ディスクを離れた後に収集する。
得られた混合物のpH:4.7
ゲル形成時間:12分。
実施例7
水ガラス溶液20質量%を、20℃の温度で、ディスクの中心上に、流量93.75ml/分で計量供給する。同時に、20℃の温度で酢酸溶液20質量%を、ディスク上に中心から1センチの半径距離で流量112.5ml/分で計量供給する。ディスクは毎分回転数500の速度で回転子、かつ50℃の調整温度である。その混合物を、ディスクを離れた後に収集する。
得られた混合物のpH:4.7
ゲル形成時間:12分。
一次粒子のサイズを、試料の乾燥後に、電界放射型走査電子顕微鏡(LEO 1525 Gemini)で測定した。乾燥前に、得られた液体アクアゲルの全ての試料を、2.5%アンモニア溶液500ml中で撹拌した。得られたエアロゲルフレークを塩及びアンモニアがなくなるまで(H2O 750mlで6回)、約2msの伝導性まで洗浄した。続いて、それらを、イソプロピルアルコール250mlで3回洗浄し、そしてゲルをヘキサメチルジシラザンで改質し(濾過ケーク5質量%=8.2g)、そしてイソプロピルアルコール750mlで再度処理した。
ゲルの乾燥を、アクアゲルの製造のためにも使用されるスピニングディスク反応器で実施した。スピニングディスク反応器のディスクは、平滑であり、かつ銅からなり、表面はクロムメッキされている。そのディスクは、軸上にあり、かつ金属の囲いによって覆われ、直径20cmを有し、かつ熱キャリヤー油で内側から加熱される。比較可能な反応器は、文献WO00/48728号、WO00/48729号、WO00/48730号、WO00/48731号及びWO00/48732号において詳細に記載されている。
Claims (15)
- ヒドロゲルの製造方法であって、
α)回転軸の周りを回転する物体A及び
β)計量供給システム
を有する反応器中で、
a) i)酸性又は両性の酸素含有分子アニオンの少なくとも1つの可溶性塩を含む成分と、
ii)沈澱剤を含む成分と
を、計量供給システムによって、成分i)及びii)の混合物が回転体Aの表面上を回転体Aの表面の外側領域に流れるように、回転体Aの表面に適用し、
b)そしてその混合物が表面を離れる
ことによって実施され、物体Aの表面を離れた後の混合物のpHが2〜12であることを特徴とする、前記方法。 - 前記回転体Aが、回転ディスクの形であることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記回転体Aの表面上の成分i)及びii)の混合物が、1μm〜2mmの平均厚さを有する被膜の形であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記回転体の表面上での成分i)及びii)の混合物の平均滞留時間が、0.01〜100秒であることを特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。
- 前記回転体の温度が、5〜150℃であることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法。
- 酸性又は両性の酸素含有分子アニオンの少なくとも1つが、アルミニウム、ケイ素、リン、スズ、アンチモン、チタン、クロム、モリブデン、タングステン、鉛、ビスマス、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、ホウ素、ヒ素、マンガン、レニウム、亜鉛、ゲルマニウム、イットリウム、ベリリウム及び銅を基礎とするものであることを特徴とする、請求項1から5までのいずれか1項に記載の方法。
- 前記酸性又は両性の酸素含有分子アニオンの塩が、アルカリ金属シリケート、アルカリ金属チタネート、アルカリ金属アルミネート及びアルカリ金属ホスフェートの群からの少なくとも1つの化合物であることを特徴とする、請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法。
- 前記沈澱剤が、有機酸、無機酸、及び有機酸又は無機酸の多価カチオンの塩の群からの少なくとも1つであることを特徴とする、請求項1から7までのいずれか1項に記載の方法。
- 成分i)及びii)の混合物が、表面を離れた後に、pH2.5〜8を有することを特徴とする、請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法。
- 成分i)及びii)が、個々に及び/又は混合物として回転体Aに適用されることを特徴とする、請求項1から9までのいずれか1項に記載の方法。
- iii)疎水化剤を含む成分を、計量供給システムによって回転体Aの表面に適用することを特徴とする、請求項1から10までのいずれか1項に記載の方法。
- 成分i)及びii)並びに場合によりiii)の混合物が、物体Aの表面を離れた後に収集され、そしてエイジングプロセスを受けることを特徴とする、請求項1から11までのいずれか1項に記載の方法。
- 前記混合物を、10〜80℃の温度でエイジングプロセス中に供給して、シリカ含有ヒドロゲルをモノリスの形で得ることを特徴とする、請求項12に記載の方法。
- エイジングプロセス中の混合物を、10〜80℃の温度でアルカリ溶液に撹拌しながら添加して、ヒドロゲルが粒子懸濁液の形で得られることを特徴とする、請求項12に記載の方法。
- エアロゲルの製造のための、請求項1から14までのいずれか1項に記載の方法によって得られたヒドロゲルの使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP11164250.0 | 2011-04-29 | ||
EP11164250 | 2011-04-29 | ||
PCT/IB2012/051813 WO2012147002A1 (en) | 2011-04-29 | 2012-04-13 | Process for producing hydrogels |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014519967A true JP2014519967A (ja) | 2014-08-21 |
Family
ID=47071652
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014506953A Pending JP2014519967A (ja) | 2011-04-29 | 2012-04-13 | ヒドロゲルの製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140319418A1 (ja) |
EP (1) | EP2701835A4 (ja) |
JP (1) | JP2014519967A (ja) |
KR (1) | KR20140028041A (ja) |
CN (1) | CN103517756A (ja) |
CA (1) | CA2833430A1 (ja) |
WO (1) | WO2012147002A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR3018207B1 (fr) * | 2014-03-07 | 2016-03-18 | Enersens | Procede de fabrication d'aerogels par chauffage dielectrique |
CN103951800B (zh) * | 2014-05-21 | 2016-02-03 | 泉州三欣新材料科技有限公司 | 一种两性离子/石墨烯复合水凝胶的制备方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5565142A (en) * | 1992-04-01 | 1996-10-15 | Deshpande; Ravindra | Preparation of high porosity xerogels by chemical surface modification. |
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CN1031749C (zh) * | 1993-01-04 | 1996-05-08 | 青岛海洋化工厂 | 硅胶的生产工艺方法及其硅胶产品 |
AU7655594A (en) * | 1993-08-31 | 1995-03-22 | Basf Aktiengesellschaft | Hydrophobic silicic acid aerogels |
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CN2300446Y (zh) * | 1997-12-30 | 1998-12-16 | 天津利恒化工有限公司 | 涡流混合式球形硅胶造粒装置 |
JP2001139320A (ja) * | 1999-11-05 | 2001-05-22 | Asahi Glass Co Ltd | 球状シリカゲルの製造方法 |
CN1114473C (zh) * | 2000-06-19 | 2003-07-16 | 乔辛姆·霍尔兹 | 制备固体-水混合物的装置和方法 |
-
2012
- 2012-04-13 CN CN201280020808.5A patent/CN103517756A/zh active Pending
- 2012-04-13 EP EP12777278.8A patent/EP2701835A4/en not_active Withdrawn
- 2012-04-13 JP JP2014506953A patent/JP2014519967A/ja active Pending
- 2012-04-13 KR KR1020137031588A patent/KR20140028041A/ko not_active Application Discontinuation
- 2012-04-13 US US14/008,757 patent/US20140319418A1/en not_active Abandoned
- 2012-04-13 CA CA2833430A patent/CA2833430A1/en not_active Abandoned
- 2012-04-13 WO PCT/IB2012/051813 patent/WO2012147002A1/en active Application Filing
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2012147002A1 (en) | 2012-11-01 |
EP2701835A1 (en) | 2014-03-05 |
CN103517756A (zh) | 2014-01-15 |
CA2833430A1 (en) | 2012-11-01 |
KR20140028041A (ko) | 2014-03-07 |
US20140319418A1 (en) | 2014-10-30 |
EP2701835A4 (en) | 2015-05-20 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
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