JP2014517087A - 高分子およびそれを含む感光性樹脂組成物{polymerandphotosensitiveresincompositioncomprisingthesame} - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
1)下記化学式1で表される繰り返し単位と、
2)下記化学式2で表される繰り返し単位と、
3)下記化学式3で表される繰り返し単位と、
4)下記化学式4、化学式5および化学式6で表される繰り返し単位のうち1種以上とを含む高分子を提供する。
<合成例1>
ベンジルメタクリレート18g、N−フェニルマレイミド3g、スチレン2g、メタクリル酸7g、n−デシルメタクリレート9g、1−アダマンチルメタクリレート10g、連鎖移動剤として3−メルカプトプロピオン酸0.3g、溶媒として酢酸3−メトキシエステル137gを機械攪拌器(mechanical stirrer)で、窒素雰囲気下で30分間混合した。窒素雰囲気下で反応器の温度を70℃に上げ、混合物の温度が70℃になった時、熱重合開始剤としてAIBN 1.3gを入れて15時間攪拌した(Mw:19,000g/mol、Av:100mgKOH/g)。
ベンジルメタクリレート18g、N−フェニルマレイミド3g、スチレン2g、メタクリル酸7g、n−オクチルメタクリレート9g、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート10g、連鎖移動剤として3−メルカプトプロピオン酸0.3g、溶媒として酢酸3−メトキシエステル137gを機械攪拌器(mechanical stirrer)で、窒素雰囲気下で30分間混合した。窒素雰囲気下で反応器の温度を70℃に上げ、混合物の温度が70℃になった時、熱重合開始剤としてAIBN 1.3gを入れて15時間攪拌した(Mw:21,000g/mol、Av:100mgKOH/g)。
ベンジルメタクリレート18g、N−フェニルマレイミド3g、メチルスチレン2g、アクリル酸7g、n−ラウリルメタクリレート9g、アダマンチルメタクリレート10g、連鎖移動剤として3−メルカプトプロピオン酸0.3g、溶媒として酢酸3−メトキシエステル137gを機械攪拌器(mechanical stirrer)で、窒素雰囲気下で30分間混合した。窒素雰囲気下で反応器の温度を70℃に上げ、混合物の温度が70℃になった時、熱重合開始剤としてAIBN 1.3gを入れて15時間攪拌した(Mw:21,000g/mol、Av:100mgKOH/g)。
ベンジルメタクリレート18g、N−フェニルマレイミド3g、メチルスチレン2g、アクリル酸7g、n−ラウリルメタクリレート9g、ジシクロペンテニルメタクリレート10g、連鎖移動剤として3−メルカプトプロピオン酸0.3g、溶媒として酢酸3−メトキシエステル137gを機械攪拌器(mechanical stirrer)で、窒素雰囲気下で30分間混合した。窒素雰囲気下で反応器の温度を70℃に上げ、混合物の温度が70℃になった時、熱重合開始剤としてAIBN 1.3gを入れて15時間攪拌した(Mw:21,000g/mol、Av:100mgKOH/g)。
ベンジルメタクリレート28g、N−フェニルマレイミド5g、スチレン3g、メタクリル酸7g、連鎖移動剤として3−メルカプトプロピオン酸0.3g、溶媒として酢酸3−メトキシエステル137gを機械攪拌器(mechanical stirrer)で、窒素雰囲気下で30分間混合した。窒素雰囲気下で反応器の温度を70℃に上げ、混合物の温度が70℃になった時、熱重合開始剤としてAIBN 1.3gを入れて15時間攪拌した(Mw:15,000g/mol、Av:100mgKOH/g)。
ベンジルメタクリレート31g、メタクリル酸18g、連鎖移動剤として3−メルカプトプロピオン酸0.3g、溶媒として酢酸3−メトキシエステル137gを機械攪拌器(mechanical stirrer)で、窒素雰囲気下で30分間混合した。窒素雰囲気下で反応器の温度を70℃に上げ、混合物の温度が70℃になった時、熱重合開始剤としてAIBN 1.3gを入れて15時間攪拌した。前記高分子を重合した反応器の温度を80℃に上げ、テトラブチルアンモニウムブロミド0.1gと熱重合禁止剤としてMEHQ 0.05gを入れて30分間攪拌した後、高分子溶液に10gのグリシジルメタクリレートを入れ、120℃で12時間さらに攪拌して、所望の樹脂の合成を完結した(Mw:17,000g/mol、Av:70mgKOH/g)。
バインダー樹脂の特性評価のために、ブラックマトリックス(Black matrix)用のミルベース53重量部、バインダーとして合成例1のアクリル系樹脂3重量部、重合性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3重量部、光重合開始剤として総1重量部および有機溶媒としてPGMEA 40重量部を、シェーカーを利用して3時間混合させた。
実施例1において、バインダーとして、合成例1のアクリル系樹脂の代わりに合成例2のアクリル系樹脂を用いたことを除いては、同様に実施した。
実施例1において、バインダーとして、合成例1のアクリル系樹脂の代わりに合成例3のアクリル系樹脂を用いたことを除いては、同様に実施した。
実施例1において、バインダーとして、合成例1のアクリル系樹脂の代わりに合成例4のアクリル系樹脂を用いたことを除いては、同様に実施した。
バインダー樹脂の特性評価のために、ブラックマトリックス(Black matrix)用のミルベース53重量部、バインダーとして比較合成例1のアクリル系樹脂3重量部、重合性化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3重量部、光重合開始剤として総1重量部および有機溶媒としてPGMEA 40重量部を、シェーカーを利用して3時間混合させた。
比較例1において、バインダーとして、比較合成例1のアクリル系樹脂の代わりに比較合成例2のアクリル系樹脂を用いたことを除いては、同様に実施した。
1)PCT接着力
ガラス(glass)上にフォトレジストをコーティング、VCD、プリベーク(prebake)、露光、ポストベーク(postbake)通じてブラックマトリックスフィルムを製造した。製作されたフィルムをHASTEST PC−IIIに入れ、120℃、100%の湿度、2気圧の圧力下で8時間処理した後、テープ剥離テスト(フィルムに格子模様のスクラッチを作った後、24mmのニチバンテープを貼り付けてから一定角度で剥離する)を通じて、高温多湿な環境におけるフィルムの接着力を確認した。前記接着力テストの結果を下記図1〜6に示す。前記実験を通じて、実施例1〜4の方が比較例1〜2の方より高温多湿な環境における接着力が遥かに優れるということを確認することができる。
ガラス(glass)上にフォトレジストをコーティング、VCD、プリベーク、露光を行った後、現像時間を異ならせてパターンを形成し、ポストベークを通じてブラックマトリックスパターンを製造した。このパターンの形状を、SEMを利用して測定し、その結果を下記図7〜12に示す。
Claims (10)
- 1)下記化学式1で表される繰り返し単位と、
2)下記化学式2で表される繰り返し単位と、
3)下記化学式3で表される繰り返し単位と、
4)下記化学式4、化学式5および化学式6で表される繰り返し単位のうち1種以上と、
を含む高分子。
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R8、R9、R10、R12、R13、R14、R17、R18およびR19は、互いに同一であるかまたは異なり、各々独立して水素またはC1〜C12のアルキル基であり、
R7は、C8〜C18のアルキル基であり、
R11は、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンテニルオキシエチル基、アダマンチル基またはイソボルニル基であり、
R15は、ハロゲン、C6〜C20のアリール基またはC1〜C12のアルコキシ基で置換もしくは非置換されたC1〜C12のアルキル基;C1〜C3のアルコキシポリ(n=2〜30)アルキレングリコール基;またはハロゲン、C1〜C12のアルキル基またはC1〜C12のアルコキシ基で置換もしくは非置換されたC6〜C20のアリール基であり、
R16は、ハロゲン、C6〜C20のアリール基またはC1〜C12のアルコキシ基で置換もしくは非置換されたC1〜C12のアルキル基;C1〜C12のアルキルエステル基;またはハロゲン、C1〜C12のアルキル基、C6〜C20のアリール基またはC1〜C12のアルコキシ基で置換もしくは非置換されたC6〜C20のアリール基であり、
R20は、ハロゲン、C1〜C12のアルキル基、C6〜C20のアリール基またはC1〜C12のアルコキシ基で置換もしくは非置換されたC6〜C20のアリール基であり、
aは10〜60、bは10〜60、cは10〜60、dは0〜90、eは0〜30、およびfは0〜30であり、d、eおよびfのうち少なくとも1つは0超過である。 - 前記高分子は、下記化学式7で表されることを特徴とする、請求項1に記載の高分子。
- 前記高分子の酸価は、30〜300 KOH mg/g範囲であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の高分子。
- 前記高分子の重量平均分子量は、5,000〜50,000の範囲であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の高分子。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の高分子を含むバインダー樹脂、エチレン性不飽和結合を含む重合性化合物、光開始剤、および溶媒を含む感光性樹脂組成物。
- 前記バインダー樹脂の含量は、感光性樹脂組成物の総重量を基準に1〜20重量%であることを特徴とする、請求項5に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物の総重量を基準に、前記エチレン性不飽和結合を含む重合性化合物の含量は1〜30重量%、前記光開始剤の含量は0.1〜5重量%、および前記溶媒の含量は45〜95重量%であることを特徴とする、請求項5又は6に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物は、着色剤、硬化促進剤、熱重合抑制剤、界面活性剤、光増感剤、可塑剤、接着促進剤、充填剤および接着助剤からなる群から選択される1種以上をさらに含むことを特徴とする、請求項5〜7のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項5〜8のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物を含む感光材。
- 前記感光材は、カラーフィルター製造用の顔料分散型感光材、ブラックマトリックス形成用感光材、オーバーコート層形成用感光材、カラムスペーサー感光材およびプリント配線板用感光材からなる群から選択されることを特徴とする、請求項9に記載の感光材。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013117716A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-06-13 | Hitachi Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
JP2016079371A (ja) * | 2014-10-22 | 2016-05-16 | 株式会社日本触媒 | アルカリ可溶性樹脂ならびにそれを含む硬化性樹脂組成物 |
JP6777275B1 (ja) * | 2019-05-08 | 2020-10-28 | 住友ベークライト株式会社 | 感光性樹脂組成物、樹脂膜および電子装置 |
WO2020226052A1 (ja) * | 2019-05-08 | 2020-11-12 | 住友ベークライト株式会社 | 感光性樹脂組成物、樹脂膜および電子装置 |
WO2022149524A1 (ja) * | 2021-01-08 | 2022-07-14 | 三菱ケミカル株式会社 | ビニル系重合体、硬化性組成物、及び硬化物 |
WO2023022010A1 (ja) * | 2021-08-17 | 2023-02-23 | ダイキン工業株式会社 | 共重合体、及び樹脂組成物 |
JP2023027753A (ja) * | 2021-08-17 | 2023-03-02 | ダイキン工業株式会社 | 共重合体、及び樹脂組成物 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101384457B1 (ko) * | 2011-08-04 | 2014-04-14 | 주식회사 엘지화학 | 실란계 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 |
JP6163876B2 (ja) * | 2013-05-24 | 2017-07-19 | 株式会社村田製作所 | 感光性ペースト |
KR101970724B1 (ko) | 2016-06-14 | 2019-04-22 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막 및 이를 이용한 컬러필터 |
TWI805617B (zh) * | 2017-09-15 | 2023-06-21 | 南韓商Lg化學股份有限公司 | 層壓板 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008013140A1 (fr) * | 2006-07-25 | 2008-01-31 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Composition de résine pour matériau optique, film à base de résine pour matériau optique, et guide d'ondes optique |
JP2009244368A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Sekisui Chem Co Ltd | カラムスペーサ用硬化性樹脂組成物、カラムスペーサ、及び、液晶表示素子 |
JP2010002912A (ja) * | 2007-11-20 | 2010-01-07 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂硬化物、感光性樹脂フィルム、感光性樹脂フィルム硬化物及びこれらを用いて得られる光導波路 |
JP2010515784A (ja) * | 2007-01-15 | 2010-05-13 | エルジー・ケム・リミテッド | 新規な高分子樹脂化合物およびそれを含む感光性樹脂組成物 |
JP2010185067A (ja) * | 2009-01-13 | 2010-08-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 接着剤組成物および接着フィルム |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4322205B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2009-08-26 | 東京応化工業株式会社 | レジスト保護膜形成用材料およびこれを用いたレジストパターン形成方法 |
TW200836002A (en) * | 2006-12-19 | 2008-09-01 | Cheil Ind Inc | Photosensitive resin composition and organic insulating film produced using the same |
KR100918691B1 (ko) * | 2007-12-07 | 2009-09-22 | 제일모직주식회사 | 패드 보호막 형성용 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용하는이미지 센서의 제조 방법 |
KR101249681B1 (ko) * | 2008-01-23 | 2013-04-05 | 주식회사 엘지화학 | 바인더 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지조성물과, 이감광성 수지조성물에 의해 제조된 컬럼스페이서 |
KR101285161B1 (ko) * | 2008-10-15 | 2013-07-11 | 주식회사 엘지화학 | 내열성이 우수한 감광성 수지, 및 이를 포함하는 감광성 조성물 |
KR101146179B1 (ko) * | 2009-04-03 | 2012-05-24 | 주식회사 이그잭스 | 엘시디 스페이서 제조용 감광성 수지 조성물 |
-
2012
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- 2012-04-20 US US13/452,456 patent/US8829068B2/en active Active
- 2012-04-20 TW TW101114167A patent/TWI458742B/zh active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008013140A1 (fr) * | 2006-07-25 | 2008-01-31 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Composition de résine pour matériau optique, film à base de résine pour matériau optique, et guide d'ondes optique |
JP2010515784A (ja) * | 2007-01-15 | 2010-05-13 | エルジー・ケム・リミテッド | 新規な高分子樹脂化合物およびそれを含む感光性樹脂組成物 |
JP2010002912A (ja) * | 2007-11-20 | 2010-01-07 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂硬化物、感光性樹脂フィルム、感光性樹脂フィルム硬化物及びこれらを用いて得られる光導波路 |
JP2009244368A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Sekisui Chem Co Ltd | カラムスペーサ用硬化性樹脂組成物、カラムスペーサ、及び、液晶表示素子 |
JP2010185067A (ja) * | 2009-01-13 | 2010-08-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 接着剤組成物および接着フィルム |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013117716A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-06-13 | Hitachi Chemical Co Ltd | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
JP2016079371A (ja) * | 2014-10-22 | 2016-05-16 | 株式会社日本触媒 | アルカリ可溶性樹脂ならびにそれを含む硬化性樹脂組成物 |
JP6777275B1 (ja) * | 2019-05-08 | 2020-10-28 | 住友ベークライト株式会社 | 感光性樹脂組成物、樹脂膜および電子装置 |
WO2020226052A1 (ja) * | 2019-05-08 | 2020-11-12 | 住友ベークライト株式会社 | 感光性樹脂組成物、樹脂膜および電子装置 |
WO2022149524A1 (ja) * | 2021-01-08 | 2022-07-14 | 三菱ケミカル株式会社 | ビニル系重合体、硬化性組成物、及び硬化物 |
JPWO2022149524A1 (ja) * | 2021-01-08 | 2022-07-14 | ||
WO2023022010A1 (ja) * | 2021-08-17 | 2023-02-23 | ダイキン工業株式会社 | 共重合体、及び樹脂組成物 |
JP2023027753A (ja) * | 2021-08-17 | 2023-03-02 | ダイキン工業株式会社 | 共重合体、及び樹脂組成物 |
JP7339576B2 (ja) | 2021-08-17 | 2023-09-06 | ダイキン工業株式会社 | 共重合体、及び樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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