JP2014516021A - イオン交換可能なアルカリアルミノケイ酸塩ガラス物品 - Google Patents
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Abstract
イオン交換可能なガラス物品が開示されている。1つの実施の形態において、ガラス物品は、Ga2O3、Al2O3、Na2O、SiO2、B2O3、P2O5およびその様々な組合せを含んでよいアルカリアルミノケイ酸塩ガラスから形成される。このガラス物品は、概して、約Xモル%のGa2O3および約Zモル%のAl2O3を含み、ここで、0≦X≦20、0≦Z≦25および10≦(X+Z)≦25である。このガラス物品は、約5モル%から約35モル%のNa2Oも含んでよい。SiO2は、約40モル%から約70モル%の量で存在してもよい。このガラス物品は、Yモル%のB2O3をさらに含んでよく、ここで、Yは0から約10である。このガラス物品は、(10−Y)モル%のP2O5をさらに含んでもよい。本発明により形成されるガラス物品は、イオン交換により強化されてもよい。その上、このガラス物品は、該ガラス物品を複雑な形状に容易に形成できるようにする低い液体CTEを有してよい。
Description
本出願は、その内容が依拠され、ここに全て引用される、2011年5月31日に出願された米国特許出願第13/118859号の米国法典第35編第120条の下で優先権の恩恵を主張するものである。
本明細書は、概して、ガラス物品に関し、より詳しくは、イオン交換可能なガラス物品に関する。
電子用途、自動車用途、さらには建築用途などの多種多様な消費財用途や商業用途に、ガラス物品が一般に利用されている。例えば、携帯電話、コンピュータ・モニタ、GPS装置、テレビなどの家電装置には一般に、ディスプレイの部品としてガラス基板が組み込まれている。これらの装置のいくつかで、ガラス基板は、ディスプレイがタッチスクリーンである場合などで、タッチ機能を可能にするためにも利用されている。これらの装置の多くは持ち運びでき、それゆえ、その内に組み込まれるガラス物品は、使用中と持ち運び中の両方で、かき傷などの、衝撃および/または破損に耐えるほど十分に頑丈である必要がある。
電子装置の外観デザインおよび機能性の両方が発達し続けるのに連れて、益々複雑な形状のガラス物品がそのような装置に組み込まれている。そのような複雑な形状には、ガラス物品が非平面である場合などの湾曲と輪郭が含まれるであろう。しかしながら、そのようなガラス物品を製造するために使用される現行のガラス組成物は、多くの場合、高い軟化温度および高い液体の熱膨張係数を有し、これにより、ガラス組成物を複雑な形状に成形することが難しくなっている。
さらに、そのようなガラス基板は、電子装置に組み込むための薄いガラス基板を製造するために、今日一般に使用されているダウンドロー法やスロットドロー法などの大規模板ガラス製造方法に適合する必要がある。
1つの実施の形態によれば、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスから形成されるガラス物品は、Ga2O3、Al2O3、Na2O、SiO2、B2O3、P2O5およびその様々な組合せを含む。このガラス物品は、約Xモル%のGa2O3を含んでよく、ここで、0≦X≦20である。このガラス物品は、約Zモル%のAl2O3を含み、ここで、0≦Z≦25である。XおよびZの合計は、10≦(X+Z)≦25となるようなものであってよい。このガラス物品は、約5モル%から約35モル%のNa2Oおよび約40モル%から約70モル%のSiO2をさらに含んでもよい。このガラス物品は、Yモル%のB2O3および(10−Y)モル%のP2O5をさらに含んでもよく、Yは0から約10である。
別の実施の形態において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスから形成されるガラス物品は、Ga2O3、Al2O3、Na2O、SiO2、B2O3、およびその様々な組合せを含み、P2O5は含まない。このガラス物品は、約Xモル%のGa2O3を含んでよく、ここで、0≦X≦20である。このガラス物品は、約Zモル%のAl2O3を含み、ここで、0≦Z≦25である。XおよびZの合計は、10≦(X+Z)≦25となるようなものであってよい。このガラス物品は、約5モル%から約35モル%のNa2Oおよび約40モル%から約70モル%のSiO2をさらに含んでもよい。このガラス物品は、約1モル%から約10モル%のB2O3をさらに含んでもよい。このアルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、875℃以下の軟化点を有してもよい。
別の実施の形態において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスから形成されるガラス物品は、Ga2O3、Al2O3、Na2O、SiO2、P2O5、およびその様々な組合せを含み、B2O3は含まない。このガラス物品は、約Xモル%のGa2O3を含んでよく、ここで、0≦X≦20である。このガラス物品は、約Zモル%のAl2O3を含み、ここで、0≦Z≦25である。XおよびZの合計は、10≦(X+Z)≦25となるようなものであってよい。このガラス物品は、約5モル%から約35モル%のNa2Oおよび約40モル%から約70モル%のSiO2をさらに含んでもよい。このガラス物品は、約1モル%から約10モル%のP2O5をさらに含んでもよい。このアルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、975℃以下の軟化点を有してもよい。
さらに別の実施の形態において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスから形成されるガラス物品は、約10モル%から約20モル%のAl2O3、約40モル%から約70モル%のSiO2、および約10モル%から約20モル%のNa2Oを含む。このアルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、Yモル%のB2O3および(5−Y)モル%のP2O5をさらに含んでもよく、Yは0から約5である。このガラスは、約1モル%から約6モル%のフッ素も含んでよい。
前記ガラス物品およびガラス組成物の追加の特徴および利点は、以下の詳細な説明に述べられており、一部は、その説明から当業者には容易に明白になるか、または以下の詳細な説明、特許請求の範囲、並びに添付図面を含む、ここに記載された実施の形態を実施することによって認識されるであろう。
先の一般的な説明および以下の詳細な説明は両方とも、様々な実施の形態を記載しており、請求項に記載された主題の性質および特徴を理解するための概要または骨子を提供することが意図されている。添付図面は、様々な実施の形態をさらに理解するために含まれており、本明細書に包含され、その一部を構成する。それらの図面は、ここに記載された様々な実施の形態を図解しており、説明と共に、請求項に記載された主題の原理および動作を説明する働きをする。
ここで、ガラス物品の形成に使用できるアルカリアルミノケイ酸塩ガラスの実施の形態を詳しく参照する。アルカリアルミノケイ酸塩ガラスから形成されたガラス物品の1つの実施の形態が、図1に概略的に示されている。このアルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、概して、Ga2O3、Al2O3、Na2O、SiO2、B2O3、P2O5、またはその様々な組合せを含む。ここに記載されたいくつかの実施の形態において、このアルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、イオン交換可能であり、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスを複雑な形状に容易に成形できるような比較的低い液体の熱膨張係数(液体CTE)を有する。このアルカリアルミノケイ酸塩ガラスおよびそのアルカリアルミノケイ酸塩ガラスから形成されたガラス物品を、ここにより詳しく説明する。
アルカリアルミノケイ酸塩ガラスを説明するために、以下の用語が使用される:
ここに用いた「軟化点」という用語は、ガラスの粘度が1×107.6ポアズである温度を称する。
ここに用いた「軟化点」という用語は、ガラスの粘度が1×107.6ポアズである温度を称する。
ここに用いた「徐冷点」という用語は、ガラスの粘度が1×1013ポアズである温度を称する。
ここに用いた「融点」という用語は、ガラスの粘度が200ポアズである温度を称する。
ここに用いた「歪み点」という用語は、ガラスの粘度が3×1014ポアズである温度を称する。
軟化点、徐冷点、融点および歪み点に関する上述した値は、約2.5g/cm3の密度および300ダイン/cm(0.3N/m)の表面張力を有するガラスに関する。
ここに別記しない限り、値の範囲は、その範囲の上限と下限の両方を含む。例えば、1〜モル%の範囲は、1モル%および10モル%の値を含む。
図1を参照すると、ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物から形成されたガラス物品100が示されている。このガラス物品100は、デジタル・ミュージック・プレーヤー、スマートフォンなどの携帯用電子装置のためのカバーガラスとして使用してよい。あるいは、このガラス物品100は、LCDテレビ、LCDコンピュータ・モニタ、および類似のディスプレイ装置などのディスプレイ装置に使用してよい。そのようなガラス物品は、自動車用途およびさらには建築用途に利用してもよい。このガラス物品100を形成するアルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、イオン交換により強化されてもよく、このアルカリアルミノケイ酸塩ガラスから形成されるガラス物品を複雑な形状に成形できるほど、十分に低い軟化点および十分に低い熱膨張係数を有する。
ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、特に、約10μm以上の層の深さおよび少なくとも500MPaの圧縮応力を達成するようにイオン交換により強化してもよい。
ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物は、概して、Ga2O3、Al2O3、Na2O、SiO2、B2O3、およびP2O5の組合せを含み、これにより、ガラスを複雑な形状に容易に成形できるほど、十分に低い軟化点および十分に低い熱膨張係数を有するイオン交換可能なガラスの形成が可能になる。他の実施の形態において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、Ga2O3、Al2O3、Na2O、SiO2、およびP2O5の組合せ、またはGa2O3、Al2O3、Na2O、SiO2、およびB2O3の組合せを含む。さらに他の実施の形態において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、Al2O3、Na2O、SiO2、B2O3、P2O5、およびフッ素の組合せを含む。
ここに記載したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の実施の形態において、Na+と相互作用し、結果として得られたガラスの性質を変える、荷電種をガラスの網目構造中に形成するために、Ga2O3、B2O3、P2O5、Al2O3、およびフッ素の添加が利用される。図2および3は、Ga2O3、B2O3、P2O5、およびAl2O3を添加した結果としてのこれらのガラス組成物中に存在する網目構造元素のいくつかを示している。
詳しくは、図2を参照すると、構造(A)はGaO4 -四面体を示し、構造(B)はAlO4 -四面体を示し、構造(C)は三角形BO3を示し、構造(D)は四面体BO3 -を示し、構造(E)は非対称三角形BO3 -を示す。構造(A)、(B)および(D)の全ては、四面体に非局在化された負の電荷を有する。構造(C)は、中性であり、Na+の電荷を平衡化させる役割に寄与しない。構造(E)は、特定のケイ酸塩におけるケイ素上の非架橋酸素に似た、非結合酸素をホウ素上に1つ有する。
Na+とこれらの種との間の相互作用は、電荷の局在性(すなわち、四面体要素上の負の電荷の広がり、または非架橋酸素での高度に局在化した電荷)、並びに中央の陽イオンの電気陰性度によってある程度制御される、2つの荷電種の間のイオン相互作用の程度に基づいて、異なる。例えば、構造(A)、(B)および(D)における金属中心は、全て異なり、それゆえ、これらの一価に帯電した四面体とNa+との間の相互作用は、わずかに異なる。ガラス組成物をこれらの種により変えて、Na+との相互作用のために好ましい環境を形成することによって、ガラス組成物のイオン交換性能を改善することができる。
図3を参照すると、同様の様式で、P2O5の導入によって、Na+の追加の電荷を平衡化させる役割が作り出される。詳しくは、リン酸基のいくつかは、高く荷電されており、ガラスの網目構造中の適切な電荷の平衡化のために2以上のNa+イオンを必要とする。P2O5を含有する、ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物において、リンの添加により、図3のP(0)基およびP(1)基などの高荷電リン含有基が形成される。これらの基の高度の解重合により、ガラスの網目構造中に三価または二価に帯電した四面体が提供され、その両方とも、Na+との相互作用のための高電荷密度の部位として働く。これらの高荷電種(AlO4 -、BO4 -、またはさらにはSi上の非架橋酸素に対して)は、Na+と異なって相互作用し、イオン交換ダイナミクスが改善される。
さらに、ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物のいくつかの実施の形態においてフッ素を添加すると、末端フッ素基によって、ガラスの網目構造中にAl−F環境が形成される。これらの環境により、網目構造の解重合の機構が形成され、アルカリ(すなわち、Na+)および他の改質陽イオンとの相互作用のための部位がより多く提供される。フッ素の添加によっても、Na+(または交換された陽イオン)との電荷の平衡化を必要とするAl−F環境も形成されるであろうし、これにより、イオン交換プロセスの速度論が変わる。
ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の実施の形態において、SiO2は、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の最も多い成分であり、それゆえ、ガラスマトリクスを形成する。SiO2は、一般に、ガラスの成形性を促進させ、かつガラスに化学的耐久性を与える増粘剤として働く。SiO2は、一般に、ここに記載されたガラス組成物中に、約40モル%から約70モル%に及ぶ濃度で存在する。SiO2の濃度が約70モル%を超えると、そのガラスの溶融温度が非常に高くなってしまう。いくつかの実施の形態において、SiO2は、約50モル%から約65モル%、またはさらには約50モル%から約55モル%に及ぶ濃度で存在するであろう。
ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物はAl2O3をさらに含んでよい。Al2O3はZモル%の濃度を有してよく、ここで、Zは約0から約25である。いくつかの実施の形態において、Al2O3は、約5モル%から約15モル%までの濃度でガラス中に存在してよい(すなわち、Zは約5から15である)。さらに他の実施の形態において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物中のAl2O3の濃度は、約10モル%から約20モル%であってよい(すなわち、Zは約10から約20である)。
ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物のいくつかは、Ga2O3をさらに含んでよい。このアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物中のAl2O3の全てまたは一部をGa2O3と置換すると、ガラスの軟化点が、Ga2O3の1モル%当たり約5.5℃から約12℃減少し、それによって、ガラスの粘度を減少させることによりガラスの成形性が改善されることが判明した。ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の実施の形態において、ガラスの軟化点は、一般に、865℃以下であり、かつ約450℃超である。Ga2O3は、このアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物中にXモル%の濃度で存在してよく、ここで、Xは、約0から約20、またはさらには約1から約20である。いくつかの実施の形態において、Xは、約0から約15、またはさらには約1から約15であってよい。他のいくつかの実施の形態において、Xは、約1から約12、またはさらには約2から約10であってよい。
上述したように、Ga2O3は、Al2O3の置換の際に加えてよい。したがって、前記アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物のいくつかにおいて、Al2O3の濃度とGa2O3の濃度は、X+Zが約10から約25であるようなものであってよい。他の実施の形態において、Al2O3の濃度とGa2O3の濃度は、ガラスの軟化点の所望の減少を促進し、それによって、ガラスの成形性を改善するために、X+Zが約17から約24であるようなものであってよい。
前記アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の特定の実施の形態は、Ga2O3を含むものとしてここに記載されているが、ガラスの軟化点を低下させるために、他の成分材料が利用される場合などの、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の他の実施の形態は、Ga2O3を添加せずに形成してもよいことを理解すべきである。
例えば、フュージョン・ダウンドローガラス成形プロセスやスロットドローガラス成形プロセスなどの、連続製造プロセスに適したガラス溶融温度を得るために、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物に融剤が加えられる。ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物はNa2Oを含み、これは融剤として働く。詳しくは、Na2Oを添加して、ガラス組成物の溶融温度を減少させ、ガラス組成物の液相線温度を減少させる。その両方により、ガラス製造がより容易になる。Na2Oを添加することにより、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物のイオン交換も可能になり、それによって、成形後のイオン交換によって、ガラスの強化が促進される。
ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の実施の形態において、Na2Oは、ガラス組成物中に約5モル%から約35モル%の濃度で存在してよい。いくつかの実施の形態において、Na2Oの濃度は約15モル%から約25モル%であってよい。一般に、Na2Oの総濃度は、Al2O3、Ga2O3およびSiO2の濃度の合計以下である(すなわち、Na2Oのモル%≦(Al2O3+Ga2O3+SiO2)のモル%)。いくつかの実施の形態において、Na2Oのモル%/(Al2O3のモル%+Ga2O3のモル%)のモル%≒1である。
ここに記載されたいくつかの実施の形態において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは組成成分としてB2O3も含んでよい。Ga2O3のように、B2O3は、ガラスの軟化点を低下させるためにガラスに加えてよい。いくつかの実施の形態において、B2O3は、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物中にYモル%の濃度で存在し、ここで、Yは約0から約10である。他のいくつかの実施の形態において、Yは約0から約5であってよい。他の実施の形態において、Yは、約1から約10、またはさらには約1から約5であってよい。
ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物は、P2O5も含んでよい。P2O5は、ガラスのイオン交換性能を改善するためにガラス組成物中に加えられる。詳しくは、イオン交換プロセスにおける所定の塩浴温度について、ガラス組成物にP2O5を添加すると、対応する層の深さを著しく減少させずに、目的の圧縮応力を得るのに必要な時間が著しく短縮されることが分かった。あるいは、所定の塩浴温度について、ガラス組成物にP2O5を添加すると、同じ処理時間で、P2O5を含まないガラス組成物に対して達成される層の深さが著しく増加する。
ここに記載されたいくつかの実施の形態において、P2O5は、B2O3の一部、またはB2O3の全ての置換の際に、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物に加えてよい。例えば、ガラス組成物中のB2O3の濃度がYモル%であり、Yが約0から約10である実施の形態において、P2O5は、ガラス組成物中に(10−Y)モル%の濃度で存在してよい。あるいは、ガラス組成物中のB2O3の濃度がYモル%であり、Yが約0から約5である実施の形態において、P2O5は、ガラス組成物中に(5−Y)モル%の濃度で存在してよい。したがって、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物において、B2O3の全てまたは一部がP2O5と置換されている実施の形態において、P2O5の濃度は、約0モル%から約10モル%、またはさらには約0モル%から約5モル%であってよい。
他のいくつかの実施の形態において、P2O5は、B2O3が存在しない(すなわち、B2O3の濃度は0モル%である)アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物中に含まれてもよい。そのような実施の形態において、ガラス中のP2O5の濃度は、約1モル%から約10モル%、またはさらには約1モル%から約5モル%であってよい。
アルカリアルミノケイ酸塩ガラスが、Al2O3、Na2O、SiO2、B2O3、およびP2O5の組合せから形成されている(すなわち、Ga2O3が存在しないガラス)実施の形態において、このアルカリアルミノケイ酸塩ガラスはフッ素も含んでよい。フッ素は、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスの軟化点を減少させる軟化剤としてこれらのガラス組成物に加えられる。アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物にフッ素が加えられる実施の形態において、フッ素は約1モル%から約6モル%の量で存在してよい。いくつかの実施の形態において、フッ素の濃度は約2.5モル%から約6モル%であってよい。一般に、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物にフッ素を添加すると、そのガラス組成物の軟化点が、フッ素の1モル%当たり20℃、減少するであろう。
上述したことに基づいて、ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の成分材料は、そのガラス組成物から形成されるガラス物品を複雑な形状に容易に成形できるようにする、より低い軟化点および減少した液体の熱膨張係数を有するガラスを製造するために変えられてよいことを理解すべきである。これらの同じ組成物は、比較的大きい層の深さおよび比較的大きい残留圧縮応力を達成するために、イオン交換により強化してもよい。ここで、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスの特定の例示の組成物を説明する。
ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラスの実施の形態は、SiO2およびNa2Oを含む。ここに記載された例示のアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物において、SiO2はガラス組成物中に約40モル%から約70モル%の濃度で存在する。Na2Oは、これらの例示のガラス組成物中に約5モル%から約35モル%、または約10モル%から約20モル%の濃度で存在する。しかしながら、ガラス組成物は、上述したように、他の濃度でSiO2およびNa2Oを含んでもよいことを理解すべきである。
第1の例示の組成物において、ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物は、Xモル%のGa2O3およびZモル%のAl2O3をさらに含み、ここで、0≦X≦20、0≦Z≦25、および10≦(X+Z)≦25である。1つの特別な実施の形態において、17≦(X+Z)≦24である。この例示の組成物は、Yモル%のB2O3および(10−Y)モル%のP2O5をさらに含んでよく、ここで、Yは約0から約10である。
1つの特別な実施の形態において、P2O5の濃度に対するB2O3の濃度の比は、Y/(10−Y)が1.6以下となるようなものである。この比を満たすガラス組成物は、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスを複雑な形状に成形することを可能にする十分に低い軟化点を有する。別の実施の形態において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物中のB2O3の濃度は、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスが、そのアルカリアルミノケイ酸塩ガラスを複雑な形状に成形できるほど十分に低い軟化点を有するように、約6.2モル%未満である。一般に、この例示の組成物におけるガラスの軟化点は、約900℃未満、またはさらには約870℃未満である。同様に、この例示の組成物におけるアルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスのガラス転移温度より高い温度で約30ppm/℃以下の液体の熱膨張係数を有する。この比較的低い液体CTEは、低い軟化点と関連して、この例示の組成物におけるガラスを複雑な形状に成形できるようにする。この例示のガラス組成物により記載されるガラスは、一般に、1050℃以下、1000℃以下、またはさらには980℃以下の液相線温度を有する。
さらに、この例示の組成物により記載されるガラスは、イオン交換により強化してもよい。例えば、いくつかの実施の形態において、この例示のガラス組成物から形成されたガラス物品を、約625MPa超の圧縮応力および約30μm超の層の深さを有するように、イオン交換により強化してもよい。他の実施の形態において、圧縮応力は約700MPa超であってよい。さらに他の実施の形態において、層の深さは約45μm超であってよい。
この例示のアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の1つの特別な実施の形態において、このガラス組成物はGa2O3を含有しない(すなわち、X=0)。この実施の形態において、Al2O3の濃度に対するNa2Oの濃度の比は、約1.5以上、またはさらには約2.0超であってよい。さらに、この実施の形態において、前記ガラス組成物は、Y/(10−Y)が、ガラス組成物から形成される物品を、80μm超、またはさらには100μm超の層の深さまでイオン交換により強化できるようにする約0.2から約3.0であるような、十分な量のB2O3およびP2O5を含んでよい。いくつかの実施の形態において、前記ガラス組成物から形成された物品を110μm以上の層の深さまでイオン交換により強化してもよい。Ga2O3を含有しないガラス組成物のいくつかの実施の形態において、そのガラス組成物から形成された物品は、約10μm超の層の深さおよび約500MPa超の圧縮応力を達成するようにイオン交換により強化してもよい。
第2の例示の組成物において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、上述したように、約40モル%から約70モル%の濃度のSiO2、および少なくとも5モル%から約35モル%の濃度のNa2Oを含む。いくつかの実施の形態において、SiO2の濃度は約50モル%から約65モル%であってよい。他の実施の形態において、Na2Oの濃度は約15モル%から約25モル%であってよい。この例示の組成物のアルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、上述したように、Xモル%のGa2O3およびZモル%のAl2O3も含み、ここで、0≦X≦20、0≦Z≦25、および10≦(X+Z)≦25である。1つの特別な実施の形態において、Al2O3とGa2O3の濃度の合計に対するNa2Oの濃度の比(すなわち、Na2Oのモル%/(Al2O3のモル%+Ga2O3のモル%))は、ガラスの軟化点が十分に低くなるように約1である。この例示のガラス組成物は、約1モル%から約10モル%のB2O3も含む。しかしながら、この例示の組成物のガラスは、P2O5を含まずに形成される。
これらの実施の形態において、前記ガラスは、そのガラスが900℃以下、またはさらには875℃以下の軟化点を有するように十分な量のB2O3およびGa2O3を含有する。いくつかの実施の形態において、このガラスの軟化点は850℃以下であってよい。
さらに、この例示のガラス組成物から形成されたガラス物品は、そのガラス物品が30μm以上、またはさらには35μm以上の層の深さを有するように、イオン交換により強化してもよい。いくつかの実施の形態において、この層の深さは40μm以上であってよい。さらに、この例示のガラス組成物から形成されたガラス物品は、そのガラス物品が750MPa以上、またはさらには800MPa以上の圧縮応力を有するように、イオン交換により強化してもよい。いくつかの実施の形態において、この圧縮応力は850MPa以上である。
この例示のガラス組成物のいくつかの実施の形態において、この例示のアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物から形成されたガラスの液体の熱膨張係数は、30ppm/℃以下、またはさらには28ppm/℃以下である。いくつかの実施の形態において、この液体の熱膨張係数は26ppm/℃以下である。
この例示のガラス組成物のいくつかの実施の形態において、Ga2O3の濃度は、1≦X≦12となるようなものであってよい。この例示のガラス組成物のいくつかの実施の形態において、Ga2O3の濃度はX≧4となるようなものであってよく、Al2O3の濃度はZ≧7となるようなものであってよい。
第3の例示の組成物において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物は、上述したように、約40モル%から約70モル%の濃度のSiO2、および少なくとも約5モル%から約35モル%の濃度のNa2Oを含む。いくつかの実施の形態において、SiO2の濃度は約50モル%から約65モル%であってよい。他の実施の形態において、Na2Oの濃度は約15モル%から約25モル%であってよい。この例示の組成物のガラスは、上述したように、Xモル%のGa2O3およびZモル%のAl2O3も含み、ここで、0≦X≦20、0≦Z≦25、および10≦(X+Z)≦25である。この例示のガラス組成物は、約1モル%から約10モル%のP2O5、またはさらには約1モル%から約10モル%のP2O5も含む。しかしながら、この例示の組成物のガラスは、B2O3を含まずに形成される。これらの実施の形態において、前記ガラスは、そのガラスが975℃以下、またはさらには850℃以下の軟化点を有するように十分な量のGa2O3を含有する。いくつかの実施の形態において、このガラスの軟化点は900℃以下であってよい。
この例示の組成物のいくつかの実施の形態において、P2O5は約4モル%以上の量で存在してもよい。この例示のガラス組成物の他の実施の形態において、Ga2O3の濃度はX≧2となるようなものであってよく、Al2O3の濃度はZ≧10となるようなものであってよい。この例示のガラス組成物の他のいくつかの実施の形態において、Ga2O3の濃度はX≦10となるようなものであってよく、Al2O3の濃度はZ≦18となるようなものであってよい。
さらに、この例示のガラス組成物から形成されたガラス物品をイオン交換により強化してもよい。いくつかの実施の形態において、ガラスを410℃の温度で4時間に亘りKNO3浴中でイオン交換した後、そのガラス物品は55μm以上、またはさらには60μm以上の層の深さを有する。いくつかの実施の形態において、層の深さは、上述した条件下での4時間に亘るイオン交換による強化後、65μm以上であってよい。さらに、この例示のガラス組成物から形成されたガラス物品は、そのガラス物品が750MPa以上、またはさらには800MPa以上の圧縮応力を有するように、上述した条件下でイオン交換により強化してもよい。いくつかの実施の形態において、この圧縮応力は850MPa以上、またはさらには900MPa以上であってよい。
この例示のガラス組成物のいくつかの実施の形態において、この例示のアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物から形成されたガラスの液体の熱膨張係数は、25ppm/℃以下、またはさらには23ppm/℃以下である。いくつかの実施の形態において、この液体の熱膨張係数は20ppm/℃以下である。
第4の例示の組成物において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、約40モル%から約70モル%の濃度のSiO2、および少なくとも約10モル%から約20モル%の濃度のNa2Oを含む。この例示の組成物のガラスは、約10モル%から約20モル%の濃度のAl2O3も含む。この例示の組成物は、約Yモル%のB2O3および(5−Y)モル%のP2O5をさらに含んでよく、ここで、Yは約0から約5である。この例示の組成物は、軟化剤として機能するフッ素も含む。フッ素は、この組成物中に、約1モル%から約6モル%、またはさらには約2.5モル%から約6モル%の量で存在する。この例示の組成物において、B2O3およびフッ素は、このガラス組成物中に、ガラスの軟化点を約935℃以下、またはさらには約900℃以下に低下させるほど十分な量で存在してよい。いくつかの実施の形態において、この組成物から形成されたガラスの軟化点は、890℃以下、またはさらには約850℃以下である。さらに、この例示の組成物から形成されたガラス物品は、約40μmの層の深さおよび約1000MPaの圧縮応力に、イオン交換により強化してもよい。
再び図1を参照すると、フュージョン・ダウンドロープロセス、スロットドロープロセスまたはガラス原材料のバッチからガラス基板を形成するために使用される任意の他の適切なプロセスを使用して、電子装置のためのカバーガラスなどの、ガラス物品100を形成するために、ここに記載されたガラス組成物を使用してよい。例えば、ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物を、フュージョン・ダウンドロープロセスを使用してガラス基板に成形してもよい。このフュージョン・ダウンドロープロセスでは、溶融ガラス原材料を受け入れるための通路を有する延伸タンクを利用する。この通路は、通路の両側に通路の長手方向に沿って上部で開いた堰を有する。通路が溶融ガラスで満たされたときに、溶融ガラスが堰から溢れて、重力のために、その溶融ガラスが延伸タンクの外面を流下する。これらの外面は、延伸タンクの下の縁で接合するように、下方かつ内向きに延在している。流動する2つのガラス表面はその縁で接合し、融合して、溶融ガラスの1枚の流動する板を形成し、この板は所望の厚さまでさらに延伸される。このフュージョン・ドロー法により、結果として形成されるガラス板のどの表面も溶融装置のどの部分とも接触しないので、非常に均一で平滑な表面を有するガラス板が製造される。
あるいは、ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物は、フュージョン・ダウンドロープロセスとは異なるスロットドロープロセスを使用して形成してもよい。スロットドロープロセスにおいて、溶融ガラスが延伸タンクに供給される。この延伸タンクの底にはスロットが開いており、このスロットは、スロットの長手方向に延在するノズルを有する。溶融ガラスは、スロット/ノズルを通って流れ、連続板として徐冷領域へと下方に延伸される。
いくつかの実施の形態において、ガラス基板が形成された後、そのガラス基板は、例えば、凹面形状、凸面形状または別の所望の形状(geometry)などの複雑な三次元形状にさらに加工し、成形してもよい。上述した複雑な形状を有するガラス物品へのガラス基板の成形は、ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の比較的低い軟化点および低い液体の熱膨張係数によって可能になる。
さらに、ガラス基板および/または成形ガラス物品などの、ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物から形成されたガラス物品は、イオン交換により強化してもよい。ここに用いたように、「イオン交換により強化される」という用語は、ガラスが、ガラス製造の当該技術分野に公知のイオン交換プロセスによって強化されることを意味する。そのようなイオン交換プロセスは、以下に限られないが、ガラス表面に存在するイオンよりもイオン半径が大きいイオンを含有する加熱溶液でアルカリアルミノケイ酸塩ガラス物品を処理し、それゆえ、より小さいイオンをより大きいイオンと置き換える各工程を含む。例えば、カリウムイオンが、ガラス中のナトリウムイオンを置き換えることができる。あるいは、ルビジウムやセシウムなどの、原子半径がより大きい他のアルカリ金属イオンが、ガラス中のより小さいアルカリ金属イオンを置き換えることができる。同様に、以下に限られないが、硫酸塩、ハロゲン化物などの他のアルカリ金属塩をイオン交換プロセスに使用してもよい。1つの実施の形態において、ガラスは、そのガラスを、イオン交換を行うための所定の期間に亘り、KNO3を含む溶融塩浴中に配置することによって、化学強化される。1つの実施の形態において、溶融塩浴の温度は約430℃であるが、他の温度を使用してもよい(すなわち、410℃、420℃など)。溶融塩浴中のガラス物品の滞在時間は、残留圧縮応力および層の深さの所望の大きさに応じて、様々であろう。
上述したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の組成および性質を、以下の実施例を参照してさらに明白にする。
以下の実施例に記載されたガラスにおいて、Siは砂として、Alはアルミナとして、Baはソーダ灰および硝酸ナトリウムの両方として、Bはホウ酸として、Pはメタリン酸アルミニウムとして、Gaは酸化ガリウムとして、Fはフッ化アルミニウムとして、バッチ配合した。これらのバッチ材料を4時間に亘り1600℃で溶融し、次いで、注ぎ、550℃と650℃の間で徐冷した。各組成物中の成分材料のモル%を決定するために、誘導結合プラズマおよび/または原子吸光技法によって、ガラス組成物を分析した。次いで、軟化点、徐冷点、歪み点、液体CTEおよび密度などの物理的性質を測定した。ガラスは、400℃と430℃の間の温度で8から16時間に亘りKNO3塩浴中でイオン交換により強化した。次いで、層の深さおよぴ圧縮応力を決定した。層の深さ(DOL)および圧縮応力(CS)の値は、それぞれ、μmおよびMPaで報告されている。
下記の表1は、ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス中のAl2O3をGa2O3で置き換えたときの軟化点の減少を示すデータを含んでいる。この例において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、一般に、上述したように、約40モル%から約70モル%のSiO2、約5モル%から約35モル%のNa2O、Xモル%のGa2O3およびZモル%のAl2O3(ここで、0≦X≦20、0≦Z≦25、および10≦(X+Z)≦25)、および約1モル%から約10モル%のB2O3を含む組成を有した。ガラスの特定の組成特徴が表1に列挙されている。
表1に列挙された例示の組成に関する軟化点のデータが、図4にGa2O3の濃度の関数としてプロットされている。図4に示されるように、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物中でAl2O3をGa2O3で置き換えると、一般に、Ga2O3の1モル%当たり約5.5℃、ガラスの軟化点が減少する。
下記の表2は、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス中のP2O5をB2O3で置き換えたときの、軟化点の減少を示すデータを含んでいる。この実施例において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、一般に、約40モル%から約70モル%のSiO2、約5モル%から約35モル%のNa2O、Xモル%のGa2O3およびZモル%のAl2O3(ここで、0≦X≦20、0≦Z≦25、および10≦(X+Z)≦25)、およびYモル%のB2O3および(10−Y)モル%のP2O5(ここで、Yは約0から約10である)を含む組成を有した。
図5は、5モル%(実線)および0モル%(点線)のGa2O3濃度に関する、P2O5をB2O3で置き換えたときの、B2O3の濃度の関数としてプロットされた軟化点をグラフで示している。図5に示されるように、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の軟化点は、5モル%および0モル%のGa2O3濃度に関して、P2O5をB2O3で置き換えるにつれて、一般に減少する。垂線は、Ga2O3も含有するガラス組成物のほうが、軟化点が一般により低い組成を線引きしている。この領域(すなわち、この垂線の左側の領域)において、P2O5の濃度に対するB2O3の濃度の比(すなわち、Y/(10−Y))は、一般に、1.6未満である。同様に、この領域におけるB2O3の濃度は6.2モル%未満である。
下記の表3は、上記の表2に列挙された組成を有するガラスに関するイオン交換後の層の深さおよび圧縮応力に関するデータを含んでいる。各ガラス組成のサンプルを、4、6、8および16時間に亘り410℃で100%のKNO3浴中でイオン交換により強化した。各サンプルをイオン交換により強化して、40μm以上の層の深さおよび800MPa以上の圧縮応力を生じるであろう最短かつ最も低い温度の条件を決定した。従来の(すなわち、本発明ではない)アルミノケイ酸塩ガラスは、一般に、少なくとも40μmの層の深さおよび800MPa以上の圧縮応力を達成するために、これらの条件下で8時間に亘りイオン交換で強化される。
図6は、5モル%および0モル%のガリウム濃度に関するB2O3の濃度の関数として、ガラスサンプル中に生じた層の深さおよび圧縮応力(y軸)をグラフで表している。圧縮応力に関する値は、各組成の応力光学係数(SOC)を説明するように補正されている。図6に示されるように、層の深さおよび圧縮応力は、一般に逆の関係を有する。すなわち、層の深さが増加すると、圧縮応力は減少する。圧縮応力は、層の深さを対応して減少させずに、Ga2O3を含まないガラスに関するよりも、Ga2O3を含有するガラスのほうが著しく高い。例えば、サンプルJは、5モル%のGa2O3、および8時間に亘りイオン交換による強化後に、901MPaの対応する圧縮応力および45μmの層の深さを有した。その一方、サンプルOは、0モル%のGa2O3、および同じイオン交換条件下での、747MPaの対応する圧縮応力および51μmの層の深さを有した。一般に、表3に提示されたデータは、ここに記載されたGa2O3を含有するアルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、従来のアルカリアルミノケイ酸塩ガラスと比べて、40μm超の層の深さおよび/または800MPa超の残留圧縮応力を達成するためにより急激にイオン交換されるであろう。
表4は、上記の表2に列挙されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の液相線温度および高温CTEに関するデータを含んでいる。
表4に含まれたデータは、Ga2O3を含有するアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物は、一般に、Ga2O3を含まない組成施物よりも低い液相線温度を有することを示している。全ての場合、ガラス組成物の液相線温度は、フュージョン・ダウンドロープロセスおよびスロットドロープロセスなどのダウンドロープロセスを使用して、ガラス組成物を成形できるように十分に低かった。
さらに、表4のデータは、ガラス転移温度より高い温度でのガラス組成物の液体CTEは、一般に30ppm/℃未満であり、Ga2O3を含有するガラスは、Ga2O3を含まないガラスよりも低い値を一般に有したことも示している。これらの液体CTE値は、このガラス組成物は、より低い液体CTEが望ましい三次元成形プロセスに使用するのにうまく適しているであろうことを示している。
表5は、フッ素を含有するアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の組成および性質に関するデータを含んでいる。この実施例において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、一般に、上述したように、約40モル%から約70モル%のSiO2、約10モル%から約20モル%のNa2O、約10モル%から約20モル%のAl2O3、Yモル%のB2O3および(5−Y)モル%のP2O5(ここで、0≦Y≦5)、並びに約1モル%から約6モル%のフッ素を含む組成を有した。
図7は、表5に列挙されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラスに関するフッ素の濃度の関数としてプロットされた軟化点をグラフで表している。図7に示されるように、ガラスの軟化点は、一般に、フッ素の1モル%当たり約20℃、減少する。さらに、表5のデータは、フッ素の添加は、ガラスに与えられる圧縮応力の大きさに非常にわずかしか影響を与えず、得られた層の深さをわずかしか減少させないことも示している。
表6は、B2O3を含有するアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の性質に関するデータを含んでいる。この実施例において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、一般に、約40モル%から約70モル%のSiO2、約5モル%から約35モル%のNa2O、約10モル%から約20モル%のAl2O3、および約2モル%から約5%のB2O3を含む組成を有した。Na2OおよびAl2O3の量は、Al2O3の濃度に対するNa2Oの濃度の比が約0.5から約2.6までであるように変えられた。
図8を参照すると、異なるイオン交換条件(すなわち、時間と温度)の結果としてガラスに導入される圧縮応力の量が、表6のガラス組成物に関するAl2O3の濃度に対するNa2Oの濃度の比の関数としてグラフで示されている。図8に示されるように、圧縮応力は、その比が約1であるときに最大である。
対照として図9を参照すると、同じイオン交換条件(すなわち、時間と温度)の結果としてガラスの層の深さが、表6のガラス組成物に関するAl2O3の濃度に対するNa2Oの濃度の比の関数としてグラフで示されている。図9に示されるように、層の深さは、その比が、概して、10μm超の層の深さおよび500MPa超の圧縮応力(図8)に相当する約1.5以上であるときに増加する。
表7は、B2O3を含有するアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の性質に関するデータを含んでいる。この実施例において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、一般に、約40モル%から約70モル%のSiO2、約5モル%から約35モル%のNa2O、約10モル%から約25モル%のAl2O3、および約8モル%から約10%のB2O3を含む組成を有した。Na2OおよびAl2O3の量は、Al2O3の濃度に対するNa2Oの濃度の比が約0.5から約3.5までであるように変えられた。
図10を参照すると、異なるイオン交換条件(すなわち、時間と温度)の結果としてガラスに導入される圧縮応力の量が、表7のガラス組成物に関するAl2O3の濃度に対するNa2Oの濃度の比の関数としてグラフで示されている。図10に示されるように、圧縮応力は、表6に記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物と同様に、その比が約1であるときに最大である。
対照として図11を参照すると、同じイオン交換条件(すなわち、時間と温度)の結果としてガラスの層の深さが、表7のガラス組成物に関するAl2O3の濃度に対するNa2Oの濃度の比の関数としてグラフで示されている。図11に示されるように、層の深さは、その比が、概して、50μm超の層の深さおよび800MPa超の圧縮応力(図10)に相当する約1.5であるときに最大である。しかしながら、1.5超の比について、層の深さは次第に減少する。
表8は、B2O3およびP2O5を含有するアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の性質に関するデータを含んでいる。この実施例において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、一般に、約40モル%から約70モル%のSiO2、約5モル%から約35モル%のNa2O、約10モル%のAl2O3、Yモル%のB2O3および(10−Y)モル%のP2O5(ここで、Yは約0から約10である)を含む組成を有した。P2O5の濃度に対するB2O3の濃度の比は、約0.3から約2.2まで変えられた。同様に、Na2OおよびAl2O3の量は、Al2O3の濃度に対するNa2Oの濃度の比が約0.5から約3.5までであるように変えられた。表8のデータは、P2O5の添加により、16時間に亘る410℃でのイオン交換による強化後の層の深さが著しく増加することを示している。
表9は、B2O3を含まずに、P2O5を含有するアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の性質に関するデータを含んでいる。いくつかの組成物において、Al2O3がGa2O3によって置き換えられていた。この実施例において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、一般に、約40モル%から約70モル%のSiO2、約5モル%から約35モル%のNa2O、Xモル%のGa2O3、約Zモル%のAl2O3(ここで、0≦X≦20、0≦Z≦25、および10≦(X+Z)≦25)、および約1モル%から約10モル%のP2O5を含む組成を有した。表9のデータは、概して、P2O5の添加により、全てのイオン交換条件について、イオン交換による強化によって得られる層の深さが著しく増加することを示している。
表10は、P2O5を含まずに、B2O3を含有するアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物の性質に関するデータを含んでいる。いくつかの組成物において、Al2O3がGa2O3によって置き換えられていた。この実施例において、アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、一般に、約40モル%から約70モル%のSiO2、約5モル%から約35モル%のNa2O、Xモル%のGa2O3、約Zモル%のAl2O3(ここで、0≦X≦20、0≦Z≦25、および10≦(X+Z)≦25)、および約1モル%から約10モル%のB2O3を含む組成を有した。表10のデータは、概して、B2O3の添加により、ガラスの軟化点が875℃未満に減少することを示している。
上述したことに基づいて、今では、ここに記載された実施の形態は、イオン交換により強化できるアルカリアルミノケイ酸塩ガラスから形成されたガラス物品に関することを理解すべきである。いくつかの実施の形態において、ここに記載されたガラス物品は、比較的低い軟化温度、比較的低い液相線温度、およびガラス転移温度より高い温度での比較的低いCTEを有し、その全てのために、ガラスを、ダウンドロープロセスにより容易に形成でき、複雑な形状に成形できる。特に、Ga2O3を含有する、ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物は、概して、Ga2O3を含有しないそれらのガラス組成物よりも低い、軟化温度、液相線温度およびCTEを有し、それゆえ、これらのガラスは、ガラスを複雑な三次元形状に成形する必要のある用途およびダウンドロープロセスに使用するのに特に適している。さらに、ここに記載されたガラス組成物にB2O3および/またはフッ素を添加することによって、ガラスの軟化点が低下し、それによって、ガラスを複雑な三次元形状に成形する能力が改善される。
ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、層の深さを著しく損なわずに、高い圧縮応力を達成するために、イオン交換により強化することができる。特に、P2O5を添加すると、一般に、イオン交換による強化で得られる層の深さが増加する。さらに、ここに記載されたアルカリアルミノケイ酸塩ガラス組成物は、従来のアルカリアルミノケイ酸塩ガラスと比べて、目的の層の深さおよび圧縮応力の値に到達するために、ずっと迅速にイオン交換でき、それによって、加工時間と加工費を減少させることができる。
請求項に記載された主題の精神および範囲から逸脱せずに、ここに記載された実施の形態に様々な改変および変更を行って差し支えないことが、当業者には明白となる。それゆえ、本明細書は、ここに記載された様々な実施の形態の改変および変更を、そのような改変および変更が付随の特許請求の範囲およびその同等物の範囲に入るという条件で、含むことが意図されている。
100 ガラス物品
Claims (10)
- アルカリアルミノケイ酸塩ガラスから形成されるガラス物品において、該アルカリアルミノケイ酸塩ガラスが、
約Xモル%のGa2O3、ここで、0≦X≦20である、
約Zモル%のAl2O3、ここで、0≦Z≦25であり、10≦(X+Z)≦25となる、
約5モル%から約35モル%のNa2O、
約40モル%から約70モル%のSiO2、
Yモル%のB2O3、ここで、Yは0から約10である、および
(10−Y)モル%のP2O5、
を含む、ガラス物品。 - 17≦(X+Z)≦24である、請求項1記載のガラス物品。
- Y/(10−Y)<1.6、またはY<6.2である、請求項1記載のガラス物品。
- 前記アルカリアルミノケイ酸塩ガラスの軟化点が約870℃未満である、請求項1から3いずれか1項記載のガラス物品。
- 前記ガラス物品が約625MPa超の圧縮応力および約30μm超の層の深さを有するように、該ガラス物品がイオン交換により強化されている、請求項1から4いずれか1項記載のガラス物品。
- 前記層の深さが約45μm超である、請求項5記載のガラス物品。
- 前記圧縮応力が約700MPa超である、請求項5または6記載のガラス物品。
- 前記アルカリアルミノケイ酸塩ガラスが、該アルカリアルミノケイ酸塩ガラスのガラス転移温度より高い温度で30ppm/℃未満の液体CTEを有する、請求項1から7いずれか1項記載のガラス物品。
- X=0およびAl2O3の濃度(モル%)に対するNa2Oの濃度(モル%)の比が1.5以上である、請求項1から8いずれか1項記載のガラス物品。
- Y/(10−Y)が約0.2から約3.0であり、前記ガラス物品が約500MPa超の圧縮応力および約10μm超の層の深さを有するように、該ガラス物品がイオン交換により強化されている、請求項9記載のガラス物品。
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