JP2014505369A - 基板テーブル、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図4
Description
[0001] 本出願は、2011年2月1日に出願された米国仮出願第61/438,480号の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
ここで、λは、使用される放射の波長であり、NAは、パターンを印刷するために使用される投影システムの開口数である。k1は、レイリー定数とも呼ばれるプロセス依存調整係数であり、CDは、印刷されたフィーチャのフィーチャサイズ(またはクリティカルディメンジョン)である。式(1)から、フィーチャの最小印刷可能サイズの縮小は、3つの方法、すなわち露光波長λを短くすること、開口数NAを大きくすること、またはk1の値を小さくすること、によって達成可能であるということになる。
Claims (20)
- 基部と該基部から突出する複数のバールとを備える基板テーブルあって、前記バールの上面は多層コーティングを備える、基板テーブル。
- 前記多層コーティングは、少なくとも1つのTi層と少なくとも1つのTiN層とを含む、請求項1に記載の基板テーブル。
- 前記多層コーティングの上層は、TiNから形成される、請求項2に記載の基板テーブル。
- 前記多層コーティングは、少なくとも1つのCr層と少なくとも1つのCrN層とを含む、請求項1に記載の基板テーブル。
- 前記多層コーティングの上層は、CrNから形成される、請求項4に記載の基板テーブル。
- 前記多層コーティングは、10以上の層を含む、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の基板テーブル。
- 前記多層コーティングは、100nmを超える厚さを有する、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の基板テーブル。
- 前記多層コーティングは、パルスレーザ蒸着を用いて形成される、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の基板テーブル。
- 前記多層コーティングは、原子層堆積を用いて形成される、請求項1乃至7のいずれか1項に記載の基板テーブル。
- 前記バール上に設けられることに加えて、前記多層コーティングは、前記バール間に位置する、前記基板テーブルの領域上に設けられる、請求項1乃至9のいずれか1項に記載の基板テーブル。
- 前記バールは、前記多層コーティングによって形成される、請求項1乃至9のいずれか1項に記載の基板テーブル。
- ラフネスが、プラズマエッチングを用いて前記多層コーティングの上面に付与される、請求項1乃至11のいずれか1項に記載の基板テーブル。
- 前記プラズマエッチングは、プラズマ利用化学エッチングである、請求項12に記載の基板テーブル。
- 請求項1乃至13のいずれか1項に記載の基板テーブルを備えるリソグラフィ装置。
- パターン形成された放射ビームを、請求項1乃至13のいずれか1項に記載の基板テーブル上に保持された基板上に投影することを含む、デバイス製造方法。
- 多層コーティングを基板テーブル上に形成する方法であって、
原子層堆積を用いて第1材料層を前記基板テーブル上に形成することと、次に、原子層堆積を用いて第2材料層を前記第1材料層の上に形成することと、次に、任意に原子層堆積を用いて追加の材料層を前記基板テーブル上に形成することと、を含む、
方法。 - プラズマエッチングを用いて前記多層コーティングの上面をエッチングして、該上面に実質的に均一なラフネスを付与する、請求項16に記載の方法。
- 前記材料のうちの1つはTiであり、かつ他の材料はTiNであり、または、前記材料のうちの1つはCrであり、かつ他の材料はCrNである、請求項16または17に記載の方法。
- バールを基板テーブル上に形成する方法であって、
原子層堆積中に材料を受けとる部分を形成することであって、該部分は原子層堆積中に材料を受け取らない領域によって囲まれることと、次に、原子層堆積を用いて多層コーティングを前記部分上に形成し、それによってバールを前記基板テーブル上に形成することと、を含む、
方法。 - 基板テーブルのバール上のコーティングの上面にラフネスを付与する方法であって、プラズマエッチングを用いて前記コーティングをエッチングすることを含む、方法。
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