JP2014237781A - 架橋剤、組成物および化合物 - Google Patents

Abstract

【課題】 ＰＶＡ等の水溶性ポリマーを架橋可能な、新たな水溶性の架橋剤の提供。【解決手段】 下記一般式（１）または一般式（２）で表される架橋剤。一般式（１）中、Ｘ1はそれぞれ−Ｏ−または−ＮＲ−を表し、Ｒは水素原子または置換基を表し、Ｘ2は窒素原子を表し、Ｒ1は水素原子または置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つのＸ1とＸ2を含んで環を形成している。一般式（２）中、Ｘ1はそれぞれ−Ｏ−または−ＮＲ−を表し、Ｒは水素原子または置換基を表し、Ｘ3は−ＯＲ22、または−ＮＲ23Ｒ24を表し、Ｒ22〜Ｒ24はそれぞれ水素原子または置換基を表す。Ｌは３価の連結基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つのＸ1とＬを含んで環を形成している。【選択図】なし

Description

本発明は、架橋剤に関する。特に、ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーの硬化に用いる架橋剤に関する。さらに、かかる架橋剤と水溶性ポリマーを含む組成物に関する。また、かかる架橋剤等に用いられる新規化合物に関する。

ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等の水溶性ポリマーの機械的性質や耐水性の向上を目的として少量のホウ酸を添加することが検討されている。ここで、ホウ酸は架橋剤として働き、この分子を介してポリマー同士が連結されることで、化学的・物理的性質が変化すると考えられている。
また、特許文献１には、下記式（Ｉ）で示される部分構造を分子内に３つ以上有する有機ホウ素化合物を含む架橋剤を開示している。
［式（Ｉ）中、ｍは０または１を表し、ｎは１〜３の整数を表し、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立して水素原子または置換されていてもよいアルキル基を表し、Ｒ¹とＲ²は互いに結合していてもよい。］

特開２０１２−１８４１９８号公報

ここで、例えば、支持体上に、ＰＶＡ等の水溶性ポリマーを塗布する場合、溶液にホウ酸を添加すると、水溶性ポリマー溶液がゲル化してしまい、必要な強度や耐水性を獲得することが困難であった。また、特許文献１では、かかる課題を解決するために、水溶性のユニットを有する多官能のボロン酸化合物の水溶性基を保護基で置換しておいて、膜中で反応させている。しかしながら、特許文献１に記載の多官能のボロン酸化合物は水溶性の観点で十分とはいえず、十分な強度や耐久性を獲得するためにはさらにその水溶性を高める必要があった。また、特許文献１に記載の多官能のボロン酸化合物はコストが高いため、工業的に実施するには現実的ではない。
本発明はこのような問題点を解決することを目的とするものであって、ＰＶＡ等の水溶性ポリマーを架橋可能な、新たな水溶性の架橋剤を提供することを目的とする。

かかる状況のもと、本願発明者が検討した結果、特定のホウ素原子含有化合物を用いることにより、上記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成させるに至った。いかなる理論にも拘泥されるものではないが、本発明で用いるホウ素原子含有化合物ではホウ素に共有結合した原子がホウ素上の空のｐ軌道に配位することで、イオン性になり水溶性を付与していると考えられる。

具体的には、以下の手段、＜１＞により、好ましくは＜２＞〜＜８＞により上記課題は解決された。
＜１＞下記一般式（１）または一般式（２）で表される構造を有する架橋剤。
一般式（１）
（一般式（１）中、Ｘ¹はそれぞれ−Ｏ−または−ＮＲ−を表し、Ｒは水素原子または置換基を表し、Ｘ²は窒素原子を表し、Ｒ¹は水素原子または置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つのＸ¹とＸ²を含んで環を形成している。）
一般式（２）
（一般式（２）中、Ｘ¹はそれぞれ−Ｏ−または−ＮＲ−を表し、Ｒは水素原子または置換基を表し、Ｘ³は−ＯＲ²²、または−ＮＲ²³Ｒ²⁴を表し、Ｒ²²〜Ｒ²⁴はそれぞれ水素原子または置換基を表す。Ｌは３価の連結基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つのＸ¹とＬを含んで環を形成している。）
＜２＞前記一般式（１）で表される構造が、下記一般式（１−２）で表される構造であり、前記一般式（２）で表される構造が、一般式（２−２）で表される構造である、＜１＞に記載の架橋剤。
一般式（１−２）
（一般式（１−２）中、Ｒ¹は水素原子または置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つの酸素原子と窒素原子を含んで環を形成している。）
一般式（２−２）
（一般式（２−２）中、Ｌは３価の連結基を表す。Ｒ⁴は、水素原子または置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つの酸素原子とＬを含んで環を形成している。）
＜３＞下記一般式（１−３）または一般式（２−３）で表される架橋剤。
一般式（１−３）
（一般式（１−３）中、Ｒ¹は水素原子または置換基を表し、Ｒ¹¹は置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つの酸素原子と窒素原子を含んで環を形成している。）
一般式（２−３）
（一般式（２−３）中、Ｌは３価の連結基を表し、Ｒ⁴は、水素原子または置換基を表す。Ｒ²¹は置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つの酸素原子とＬを含んで環を形成している。）
＜４＞前記一般式（１−３）で表される架橋剤が、下記一般式（１−４）で表される架橋剤、または下記一般式（１−５）で表される架橋剤であり、前記一般式（２−３）で表される架橋剤が、下記一般式（２−４）で表される架橋剤である、＜３＞に記載の架橋剤。
一般式（１−４）
（一般式（１−４）中、Ｒ¹は水素原子または置換基を表し、Ｒ¹¹は置換基を表す。）
一般式（１−５）
（一般式（１−５）中、Ｒ¹は水素原子または置換基を表し、Ｒ¹¹は置換基を表す。）
一般式（２−４）
（一般式（２−４）中、Ｒ²は水素原子または置換基を表し、Ｒ⁴は、水素原子または置換基を表す。Ｒ²¹は置換基を表す。）
＜５＞Ｒ¹¹またはＲ²¹が重合性基を有する、＜３＞または＜４＞に記載の架橋剤。
＜６＞＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の架橋剤と水溶性ポリマーを含む組成物。
＜７＞＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の架橋剤と重合性基を有する水溶性ポリマーを含む組成物。
＜８＞下記一般式（１−６）で表される化合物または一般式（２−５）で表される化合物。
一般式（１−６）
（一般式（１−６）中、Ｒ¹²はビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基または下記一般式（１−６−１）で表される基である。）
一般式（１−６−１）
一般式（２−５）
（一般式（２−５）中、Ｒ²¹はビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基または下記一般式（２−４−１）で表される基であり、Ｒ²は水素原子または置換基を表し、Ｒ⁴は、単結合、水素原子、または置換基を表す。）
一般式（２−４−１）

ＰＶＡ等の水溶性ポリマーを架橋可能な、新たな水溶性の架橋剤を提供可能になった。

本願実施例および比較例の粘弾性挙動を測定した結果である。

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
また、（メタ）アクリルとは、メタクリルとアクリルの両方を含むことを意味する。

架橋剤
本発明の架橋剤は、一般式（１）または一般式（２）で表される構造を有することを特徴とする。このような架橋剤は、ホウ素に共有結合した化合物がホウ素上の空のｐ軌道に配位することで、イオン性になり水溶性を付与することができる。また一見、アルコール類との反応性が低下するように思われたが、アルコール交換反応により、意外にもＰＶＡ等の水溶性ポリマー架橋することを見出し、架橋剤として有益であることを見出した。より具体的には、本発明の架橋剤を添加することで、ＰＶＡ等の水溶性ポリマーを塗布してもゲル化が抑制され、フィルムの強度や耐久性を向上させることが可能となった。以下、これらの詳細に説明する。

＜一般式（１）で表される構造を有する架橋剤＞
本発明の架橋剤の第一の実施形態は、一般式（１）で表される構造を有する架橋剤である。
一般式（１）
（一般式（１）中、Ｘ¹はそれぞれ−Ｏ−または−ＮＲ−を表し、Ｒは水素原子または置換基を表し、Ｘ²は窒素原子を表し、Ｒ¹は水素原子または置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つのＸ¹とＸ²を含んで環を形成している。）

一般式（１）中、Ｘ¹はそれぞれ−Ｏ−または−ＮＲ−を表し、−Ｏ−が好ましい。Ｒは水素原子または置換基を表し、Ｒは、水素原子が好ましい。
置換基としては、炭素数１〜１０のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子などが挙げられる。
一般式（１）中、Ｒ¹は、水素原子または置換基を表す。Ｒ¹が表す置換基としては、炭素数１〜１０のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子などが挙げられる。Ｒ¹は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基がより好ましく、水素原子、メチル基がさらに好ましく、水素原子が特に好ましい。

一般式（１）では、ホウ素原子と、２つのＸ¹とＸ²を含んで環を形成している。環を構成する原子数は６〜１２が好ましい。このような環構造を形成すると、得られる架橋剤の熱的安定性が向上するため、架橋剤としての取り扱い性に優れたものとなる。また、Ｘ²である窒素原子とホウ素原子とは電気的に結合してもよい。電気的に結合するとは、ホウ素の空のｐ軌道に対して窒素原子の非共有電子対が配位することを意味する。このとき、ホウ素原子における結合価数が４価となり、ホウ素原子が電荷を有することとなるので、化合物としては水溶性を示す。

一般式（１）で表される構造を有する架橋剤の分子量は、１５０〜１０００であることが好ましく、２００〜５００であることがより好ましい。

一般式（１）で表される構造は、下記一般式（１−２）で表される構造であることが好ましい。
一般式（１−２）
（一般式（１−２）中、Ｒ¹は水素原子または置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つの酸素原子と窒素原子を含んで環を形成している。）

式中、Ｒ¹は、水素原子または置換基を表し、一般式（１）中のＲ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。

一般式（１）で表される構造は、下記一般式（１−６−１）で表される構造であることが好ましい。
一般式（１−６−１）

一般式（１）で表される構造を有する架橋剤は、下記一般式（１−３）で表される架橋剤であることが好ましい。
一般式（１−３）
（一般式（１−３）中、Ｒ¹は水素原子または置換基を表し、Ｒ¹¹は置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つの酸素原子と窒素原子を含んで環を形成している。）

一般式（１−３）中、Ｒ¹は、一般式（１）中のＲ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒ¹¹は、重合性基、炭素数１〜１０のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、上述の一般式（１−６−１）で表される基が挙げられ、重合性基、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、下記式（１−６−１）で表される基が好ましい。また、本発明の架橋剤を添加することで耐熱性を付与する場合は、重合性基であることが好ましい。

重合性基としては、付加重合反応又は縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。

更に、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては重合性エチレン性不飽和基又は開環重合性基が好ましい。
重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。

式（Ｍ−３）、（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、水素原子又はメチル基が好ましい。
上記式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中、（Ｍ−１）又は（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。

一般式（１−３）における、Ｒ¹¹および一般式（１）で表される構造のフェニル基への結合位置は、特に限定されないが、１，３置換、１，４置換であることが好ましく、１，４置換であることがより好ましい。

一般式（１−３）で表される構造を有する架橋剤は、下記一般式（１−４）で表される架橋剤または一般式（１−５）で表される架橋剤であることが好ましい。
一般式（１−４）
（一般式（１−４）中、Ｒ¹は水素原子または置換基を表し、Ｒ¹¹は置換基を表す。）
一般式（１−４）中、Ｒ¹およびＲ¹¹は、ぞれぞれ、一般式（１−３）中のＲ¹およびＲ¹¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。

一般式（１−５）
（一般式（１−５）中、Ｒ¹は水素原子または置換基を表し、Ｒ¹¹は置換基を表す。）
一般式（１−５）中、Ｒ¹およびＲ¹¹は、ぞれぞれ、一般式（１−３）中のＲ¹およびＲ¹¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。

一般式（１−３）で表される構造を有する架橋剤は、下記一般式（１−６）で表される架橋剤であることがさらに好ましい。
一般式（１−６）
（一般式（１−６）中、Ｒ¹²はビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基または一般式（１−６−１）で表される基である。）

以下、一般式（１）で表される構造を有する架橋剤の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。下記では、イオン化した状態で示しているが、イオン化していない状態のものも本発明の範囲に含まれることは言うまでもない。

＜一般式（２）で表される構造を有する架橋剤＞
本発明の架橋剤の第二の実施形態は、一般式（２）で表される構造を有する架橋剤である。
一般式（２）
（一般式（２）中、Ｘ¹はそれぞれ−Ｏ−または−ＮＲ−を表し、Ｒは水素原子または置換基を表し、Ｘ³は−ＯＲ²²、または−ＮＲ²³Ｒ²⁴を表し、Ｒ²²〜Ｒ²⁴はそれぞれ水素原子または置換基を表す。Ｌは３価の連結基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つのＸ¹とＬを含んで環を形成している。）

一般式（２）中、Ｘ¹はそれぞれ−Ｏ−または−ＮＲ−を表し、Ｒは水素原子または置換基を表す。一般式（２）中のＸ¹およびＲは、それぞれ、一般式（１）中のＸ¹およびＲと同義であり、好ましい範囲も同様である。

一般式（２）中、Ｘ³は−ＯＲ²²、または−ＮＲ²³Ｒ²⁴を表し、Ｒ²²〜Ｒ²⁴はそれぞれ水素原子または置換基を表す。Ｒ²²〜Ｒ²⁴が表す置換基は、それぞれ、炭素数１〜１０のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子などが挙げられる。Ｒ²²〜Ｒ²⁴は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基がより好ましく、水素原子、メチル基がさらに好ましい。
一般式（２）では、ホウ素原子と、２つのＸ¹とＬを含んで環を形成している。環を構成する原子数は６〜１０が好ましい。このような環構造を形成すると、得られる架橋剤の熱的安定性が向上するため、取り扱い性に優れたものとなる。Ｘ³に含まれる酸素原子または窒素原子は、ホウ素原子と電気的に結合していてもよい。このとき、ホウ素原子における結合価数が４価となり、ホウ素原子が電荷を有することとなるので、化合物としては水溶性を示す。この場合、ホウ素化合物のアルカリ金属塩（リチウム、ナトリウム、カリウムなど）であってもよい。
一般式（２）中、Ｌは、３価の連結基を表し、置換または無置換の炭化水素基が好ましく、飽和炭化水素基がより好ましい。

一般式（２）で表される構造を有する架橋剤の分子量は、１５０〜１０００であることが好ましく、２００〜５００であることがより好ましい。

一般式（２）で表される構造は、下記一般式（２−２）で表される構造であることが好ましい。
一般式（２−２）
（一般式（２−２）中、Ｌは３価の連結基を表す。Ｒ⁴は、水素原子または置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つの酸素原子とＬを含んで環を形成している。）

Ｒ⁴が表す置換基は、一般式（２）中のＲ²²が表す置換基と同義であり、好ましい範囲も同様である。

Ｌは、３価の連結基を表し、一般式（２）中のＬと同義であり、好ましい範囲も同様である。

一般式（２−２）で表される構造は、下記一般式（２−４−１）で表される構造であることが好ましい。
一般式（２−４−１）

一般式（２）で表される構造を有する架橋剤は、下記一般式（２−３）で表される架橋剤であることが好ましい。
一般式（２−３）
（一般式（２−３）中、Ｌは３価の連結基を表し、Ｒ⁴は、水素原子または置換基を表す。Ｒ²¹は置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つの酸素原子とＬを含んで環を形成している。）

一般式（２−３）中、Ｌは、３価の連結基を表し、一般式（２）中のＬと同義であり、好ましい範囲も同様である。

一般式（２−３）中、Ｒ⁴は、一般式（２−２）中のＲ⁴と同義であり、好ましい範囲も同様である。

Ｒ²¹は、置換基を表す。置換基としては、重合性基、炭素数１〜１０のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等のアリール基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、上述の一般式（２−４−１）で表される基が挙げられ、重合性基、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、一般式（２−４−１）で表される基が好ましい。また、本発明の架橋剤を添加することで耐熱性を付与する場合は、重合性基であることが好ましい。重合性基の詳細は、上記第一の実施形態で述べた重合性基と同義であり、好ましい範囲も同義である。

一般式（２−３）における、Ｒ²¹および一般式（２−１）で表される構造のフェニル基への結合位置は、特に限定されないが、１，３置換、１，４置換であることが好ましく、１，４置換であることがより好ましい。

一般式（２−３）で表される架橋剤は、一般式（２−４）で表される架橋剤であることが好ましい。
一般式（２−４）
（一般式（２−４）中、Ｒ²は水素原子または置換基を表し、Ｒ⁴は、水素原子または置換基を表す。Ｒ²¹は置換基を表す。）

一般式（２−４）中、Ｒ²は、炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
一般式（２−４）中、Ｒ⁴は、一般式（２−２）中のＲ⁴と同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式（２−４）中、Ｒ²¹は、一般式（２−３）中のＲ²¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。

一般式（２−４）で表される架橋剤は、一般式（２−５）で表される架橋剤であることが好ましい。
一般式（２−５）
（一般式（２−５）中、Ｒ²¹はビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基または一般式（２−４−１）で表される基である。）

以下、一般式（２）で表される構造を有する架橋剤の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。下記では、イオン化した状態で示しているが、イオン化していない状態のものも本発明の範囲に含まれることは言うまでもない。また、カリウム塩として表されているが、これらのナトリウム塩も本発明の好ましい架橋剤に該当する。

＜本発明の架橋剤の合成方法＞
本発明の架橋剤の合成方法は特に制限されず、公知の反応を適用して適宜製造することができる。例えば、ボロン酸にアミン化合物などと反応させることで本発明の架橋剤を合成することができる。

＜新規化合物＞
本発明は、上記一般式（１−６）で表される化合物および上記一般式（２−５）で表される化合物も開示する。

＜組成物＞
本発明の組成物は、上記架橋剤と水溶性ポリマーを含み、好ましくは、上記架橋剤と重合性基を有する水溶性ポリマーを含む。以下これらの詳細について説明する。

＜＜水溶性ポリマー＞＞
水溶性ポリマーとしては、特に制限はないが、例えば、特開２００２−９８８３６号公報段落［００２４］〜［０２０７］に記載のコポリマー、特開２００５−９９２２８号公報段落［００１６］〜［００３６］に記載の構造単位、特開２００６−２７６２０３号公報段落［０１３０］〜［０１５７］に記載の繰り返し単位、特開２０１２−３２６６１号公報段落［００２２］〜［００７８］に記載の構造単位、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール等が含まれる。中でも、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが好ましい。

水溶性ポリマーは重合性基を有していてもよい。重合性基としては、上記重合性基と同義であり、好ましい範囲も同様である。

重合性基を有する水溶性ポリマーは、組成物の固形分中、３０〜９９質量％有することが好ましく、４０〜９８質量％有することがより好ましい。

＜＜架橋剤＞＞
前記架橋剤は、水溶性ポリマーに１００質量部に対し、１〜５０質量部含むことが好ましく、３〜３０質量部含むことがより好ましく、５〜２５質量部含むことがさらに好ましい。

＜＜他の添加剤＞＞
本発明の組成物は、水溶性ポリマーと架橋剤の他に、他の添加剤を含んでいてもよい。
他の添加剤としては、例えば、界面活性剤、塩基性化合物（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミンなど）や、酸性化合物（例えば、塩酸、酢酸、コハク酸等）等が挙げられる。具体的には、特許３８９０３６８号公報に記載の二官能アルデヒド等を参酌できる。

＜光学補償フィルム＞
本発明の組成物は、光学補償フィルムを形成する際の配向膜用組成物として好ましくもちいることができる。具体的には、支持体上に、配向膜と、液晶性化合物を含む光学異方性層とを該順に有する光学補償フィルムにおいて、配向膜に本発明の組成物を用いることができる。
本発明の光学補償フィルムは、配向膜に本発明の組成物を用いることで、フィルムの表面状態が良好で、かつ、湿熱耐久性に優れる。
以下、各部材について詳細に説明する。

＜＜支持体＞＞
光学補償フィルムに用いられる支持体としては、厚みが２０〜４５μｍであり特に制限なく公知の配向膜用透明支持体を用いることができる。
支持体の厚みは、２０〜４５μｍであり、２５〜４５μｍがより好ましい。
前記支持体としては、面内及び厚み方向の位相差がほとんどないフィルムを用いることが望ましい態様である。本発明の光学補償フィルムは、前記支持体のＲｅ（５５０）が、０〜１０ｎｍであることが好ましい。

本明細書中、「ＭＤ」は、セルロースエステルフィルムの送り出し方向、及び「ＴＤ」はそれに直交する方向を意味し、長尺状のセルロースエステルフィルムでは、「ＭＤ」は長手方向と一致し、「ＴＤ」は幅方向と一致する。「ＭＤ」及び「ＴＤ」が特定困難な場合もあるが、その場合は矩形状のフィルムの長辺・短辺の一方をＭＤ及び他方をＴＤとして任意に決定し、引張り弾性率を算出するものとする。
また、光学補償フィルムに用いられる支持体としては、支持体フィルムのＭＤ及びＴＤの双方の引張り弾性率が４．０〜６．０ＧＰａであることが好ましい。
本発明者らが鋭意検討した結果、本発明では、ＭＤ及びＴＤの方向の平均値が高い引張り弾性率を有する支持体フィルムを用いることで、支持体フィルムの膜厚が薄い場合でもシワなどの面状故障を生じることなく搬送、光学異方性層の積層を行うことが出来る。さらに、支持体フィルム上への光学異方性層積層の際に支持体フィルム端部の膜厚を中央部に対して厚くすることで、光学異方性層の均一性、傷等の面状故障を抑制することが出来る。
引張り弾性率は、ストログラフ−Ｒ２（東洋精機社製）で測定することができる。

前記支持体を形成する材料としては、光学性能透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるポリマーであればどのような材料を用いてもよい。例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマーなどがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は前記ポリマーを混合したポリマーも例としてあげられる。また、支持体は、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。

また、前記支持体を形成する材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用いることが出来る。熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等があげられる。

また、前記支持体を形成する材料としては、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきた、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）を好ましく用いることが出来る。以下に、本発明で用いる支持体の例として、主にセルロースアシレートについて詳細を説明するが、その技術的事項は、他の高分子フィルムについても同様に適用できることは明らかである。

＜＜＜セルロースエステル＞＞＞
セルロースエステルフィルムは、セルロースアシレートを主成分として含有するのが好ましい。本発明で用いるセルロースアシレートは、特に制限はない。その中でも、アセチル置換度が２．７０〜２．９５のセルロースアシレートを用いることが好ましい。アセチル置換度が２．７以上であると、後述する条件を満たす糖エステル（例えば、特定の置換度のスクロースベンゾエートなど）との相溶性が良好であり、フィルムのヘイズが抑制されるため好ましい。さらに、透明性に加えて、透湿度や含水率が良好となるため好ましい。また、偏光板耐久性やフィルム自体の湿熱耐久性も良好となるため好ましい。一方、置換度が２．９５以下であることが光学性能の観点で好ましい。

前記セルロースアシレートのアセチル置換度は、２．７５〜２．９０であることがさらに好ましく、２．８２〜２．８７であることが特に好ましい。
なお、総アシル置換度の好ましい範囲も、前記アセチル置換度の好ましい範囲と同様である。
なお、アシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法に準じて測定することができる。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。

セルロースの水酸基に置換する炭素原子数２〜２２のアシル基のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でもよく特に限定されず、単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。
本発明に使用されるセルロースアシレートは、置換基がアセチル基であるものが好ましい。

また、混合脂肪酸セルロースアシレートを用いてもよく、該混合脂肪酸セルロースアシレートとしては、具体的には、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが挙げられる。

セルロースアシレートの合成方法の基本的な原理は、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。
前記セルロースアシレートを得るには、具体的には、綿花リンタや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位および６位のアシル置換度の合計が、ほぼ３．００）を合成する。上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸および触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロースおよび系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。エステル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解およびエステル化触媒の一部の中和のために、中和剤（例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウムまたは亜鉛の炭酸塩、酢酸塩または酸化物）の水溶液を添加する。次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒（一般には、残存する硫酸）の存在下で、５０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度および重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水または希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入（あるいは、セルロースアシレート溶液中に、水または希硫酸を投入）してセルロースアシレートを分離し、洗浄および安定化処理を行う等して、前記の特定のセルロースアシレートを得ることができる。

前記セルロースアシレートの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で４００００〜２０００００のものが好ましく、１０００００〜２０００００のものが更に好ましい。本発明で用いられるセルロースアシレートはＭｗ／Ｍｎ比が４．０以下であることが好ましく、更に好ましくは１．４〜２．３である。
本発明において、セルロースアシレート等の平均分子量及び分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(ＧＰＣ)を用いて数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）を算出し、国際公開ＷＯ２００８−１２６５３５号公報に記載の方法により、その比を計算することができる。

＜＜＜可塑剤＞＞＞
前記セルロースエステルフィルムは、主成分であるセルロースアシレートとともに、少なくとも１種の可塑剤を含有していてもよい。本発明に用いられる可塑剤としては、セルロースアシレートの可塑剤として知られる多くの化合物も有用に使用することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステル、糖エステル、重縮合エステル等が用いられる。
本発明に利用可能なリン酸エステルまたはカルボン酸エステルは、例えば特開２０１３−０３２４２０号公報の段落００７８に記載されており、これらの内容は本明細書に取り込まれる。
本発明に利用可能な重縮合エステルは、例えば特開２０１１−０１２１８６号公報の段落００１５〜００３０に記載されており、これらの内容は本明細書に取り込まれる。
本発明に利用可能な糖エステルは、例えば特開２０１２−２１５８１２号公報の段落００２２〜００５０に記載されており、これらの内容は本明細書に取り込まれる。 本発明では、以下の糖エステルを添加することが好ましい。
糖エステル１：平均エステル置換度７１％

糖エステル２：平均エステル置換度１００％（単一化合物）
Ｒ＝アセチル基／ｉ−ブチリル基（２／６）

本発明に用いられる可塑剤の含有量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して、１〜４０質量部であることが好ましく、１〜２０質量部であることがさらに好ましい。このような範囲とすることで、透明性に優れたセルロースエステルフィルムを得ることができる。
２種類以上の可塑剤を併用する場合は、含有量の合計が上記の範囲とすることが好ましい。

＜＜＜ＵＶ吸収剤＞＞＞
前記セルロースエステルフィルムは、主成分であるセルロースアシレートとともに、ＵＶ（紫外線）吸収剤を含有していてもよい。本発明に使用可能なＵＶ吸収剤については特に制限はない。従来セルロースエステルに使用されているＵＶ吸収剤はいずれも用いることができる。前記ＵＶ吸収剤としては、特開２００６−１８４８７４号公報に記載の化合物を挙げることができる。高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることが出来、特に特開平６−１４８４３０号公報に記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
例としてＵＶ−１〜３を挙げるが、添加する紫外線吸収剤はこれらに限定されない。

前記ＵＶ吸収剤の添加量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して０．１〜１０質量部であることが好ましく、０．５〜５質量部であることがさらに好ましい。

＜＜＜レターデーション発現剤＞＞＞
セルロースエステルフィルムは、主成分セルロースアシレートとともに、少なくとも１種のレターデーション発現剤を含有することが好ましい。すなわち、本発明ではレターデーション発現剤を用いても用いなくてもよいが、レターデーション値を発現するため、レターデーション発現剤を用いるのが好ましい。本発明において用いることができるレターデーション発現剤としては、棒状または円盤状化合物、正の複屈折性化合物からなるものを挙げることができる。前記棒状または円盤状化合物としては、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物をレターデーション発現剤として好ましく用いることができる。前記棒状化合物からなるレターデーション発現剤の添加量は、セルロースアシレートを含むポリマー成分１００質量部に対して０．１〜１０質量部であることが好ましく、０．５〜５質量部であることがさらに好ましい。前記円盤状のレターデーション発現剤は、前記セルロースアシレート樹脂１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましく、０．５〜５質量部の範囲で使用することがより好ましい。
前記円盤状化合物はＲｔｈレターデーション発現性において前記棒状化合物よりも優れているため、特に大きなＲｔｈレターデーションを必要とする場合には好ましく使用される。２種類以上のレターデーション発現剤を併用してもよい。
前記レターデーション発現剤は、２５０〜３２０ｎｍの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。

前記円盤状化合物について説明する。円盤状化合物としては少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。
本明細書において、「芳香族環」は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。本発明に用いることができる前記円盤状化合物としては、例えば、特開２００８−１８１１０５号公報の［００３８］〜［００４６］に記載される化合物を挙げることができる。

本発明では前述の円盤状化合物の他に直線的な分子構造を有する棒状化合物も好ましく用いることができる。本発明に用いることができる前記棒状化合物としては、例えば、特開２００７−２６８８９８号公報の［００５３］〜［００９５］に記載される化合物を挙げることができる。

＜＜セルロースエステルフィルムの製造方法＞＞
前記セルロースエステルフィルムを製造する方法は、特に制限はなく、公知の方法を用いて製膜することができる。例えば、溶液流延製膜法及び溶融製膜法のいずれを利用して製膜してもよい。フィルムの面状を改善する観点から、前記セルロースエステルフィルムは、溶液流涎製膜法を利用して製造するのが好ましい。セルロースエステルフィルムを製造する方法は、例えば、特開２０１２−２１５８１２号公報の段落００５６〜００８３記載されており、これらの内容は本明細書に取り込まれる。

（層構成）
本発明で使用するセルロースエステルフィルムは単層フィルムであっても、２層以上の積層構造を有していてもよい。例えば、コア層と表層の２層からなる積層構造であって、共流延によって製膜された態様であることも好ましい。

＜＜セルロースエステルフィルムの物性＞＞
膜厚分布はフィルム幅方向（ＴＤ）の最大膜厚と最小膜厚の差であり、膜厚差が２μｍ以上あるのが好ましい。一方で膜厚差が大きいとフィルム物性の均一性が悪化し、さらにロール保管時に膜厚の大きなところに応力が集中するため、故障が生じやすくなるため、膜厚差の範囲として２μｍ以上５μｍの範囲が好ましい。さらに、光学異方性層は幅方向中央部に積層されるため、膜厚最大部の幅方向位置としてはフィルム幅方向（ＴＤ）の中心部から６００ｍｍ以上外側にあることが好ましい。

セルロースアシレートフィルムは、フィルムの両表面における動摩擦係数が０．３〜３．５であることが好ましい。前記動摩擦係数が０．３以上であればフィルム搬送時のキシミを改善でき、ハンドリング適性を改善することができる。また、前記動摩擦係数が３．５以下であればフィルム搬送時の滑り性を改善でき、ハンドリング適性を改善することができる。
前記動摩擦係数は、０．３〜３．０以下であることが好ましく、０．３〜２．０であることがより好ましい。特に動摩擦係数が３．０以下であると、顕著にハンドリング適性が改善されるため好ましい。
本明細書中、動摩擦係数は、フィルム試料１００ｍｍ×２００ｍｍ及び７５mm×１００ｍｍの試料を２３℃、相対湿度６５％、２時間調湿し、テンシロン引張試験機（ＲＴＡ−１００、オリエンテック（株）製）にて大きいフィルムを台の上に固定し、２００ｇの重りを付けた小さいフィルムを載せた。重りを水平方向に引張り、動いている時の力Ｆを測定し、下記式より動摩擦係数μkを算出した。
Ｆ＝μk×Ｗ（Ｗ：重りの重さ（Ｋｇｆ））

セルロースアシレートフィルムの試料４０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで分光光度計（ＵＶ−３１５０、商品名、島津製作所社製）にて、波長２００〜４５０ｎｍにおける吸光度を測定する。ここで、吸光度が０．１以下となる最低波長を吸収端吸光度と定義し、λaewと標記する。λaewは３５０ｎｍ以下が好ましく、３３０ｎｍ以下がより好ましい。

＜＜配向膜＞＞
光学補償フィルムにおける配向膜は、前記支持体上に形成され、前記本発明の組成物を有する。配向膜は、前記支持体上に前記組成物含有塗布液を塗布、加熱乾燥することにより形成可能である。

光学補償フィルムを形成する際、光学異方性層中の液晶化合物の配向の固定化、および配向膜の硬膜化のため、紫外線を照射しながら加熱する必要がある。膜厚が薄い支持体を用いた場合、前記加熱の際に支持体が発熱温度により変形し、光学補償フィルムが変形してしまうことがわかった。また、加熱の温度を低温にすると、配向膜層の硬膜化が十分に進行しないため、湿熱耐久性が悪化し、液晶表示装置の品位を損なわせることがわかった。この点について、本発明の組成物を有する配向膜を用いることで、これらの問題を解決できる。即ち、本発明の組成物中の架橋剤により配向膜が硬膜化するので、前記加熱温度が低温であっても配向膜が硬膜化され、光学異方性層中の液晶化合物の配向性を維持することができる。このため、支持体の厚みを薄くしても、光学補償フィルムが変形することがない。

配向膜の厚さとしては、特に定めるものでないが、例えば、２００ｎｍ〜１μｍとすることができる。また、本発明で用いる配向膜の場合、薄さを、２００〜３５０ｎｍ程度としても、十分な配向性を確保できる。

＜＜光学異方性層＞＞
光学補償フィルムにおける光学異方性層は、上述のとおり、配向膜上に形成され、液晶性化合物を含む。

液晶性化合物としては、光学補償フィルムの光学特性の観点から、棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物を主成分として含む組成物を固定してなる層が好ましい。

本発明にて使用可能な棒状液晶性化合物については、例えば、特開２００９−２１７２５６号公報の［００４５］〜［００６６］に記載があり、これらの内容は本明細書に取り込まれる。
また、本発明にて使用可能なディスコティック（円盤状）液晶性化合物については、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落００２０〜０１２２や特開２０１０−２４４０３８号公報の段落００１２〜０１０８に記載があり、これらの内容は本明細書に取り込まれる。

これらの液晶性化合物は、光学異方性層中では、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応により液晶性化合物が固定されていることが最も好ましい。

前記光学異方性層は、液晶性化合物、好ましくは前記円盤状液晶性化合物、及び所望により下記の重合開始剤、他の添加剤等を含む塗布液を、配向膜上に塗布することにより形成するのが好ましい。以下、塗布液中に添加可能な液晶性化合物以外の材料について説明する。

液晶性分子は、配向状態を維持して固定することが好ましく、固定化は、液晶性分子に導入した重合性基の重合反応により実施することが好ましい。そのためには、前記塗布液中には、重合開始剤を含有させるのが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応、及び電子線を用いるＥＢ硬化が含まれる。このうち、光重合反応（光硬化）及びＥＢ硬化が好ましい。光の作用によりラジカルを発生させる重合開始剤の例としては、特開２０１３−００７８０９号公報の段落番号００６９の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。このような芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤の中でも、アセトフェノン系化合物及びベンジル系化合物が、硬化特性、保存安定性、臭気等の面で特に好ましい。これらの芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤は、１種あるいは２種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、及びチオキサントン等が含まれる。

光重合開始剤は複数種を組み合わせてもよく、使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜５質量％であることが更に好ましい。液晶性分子の重合のための光照射は紫外線を用いることが好ましい。

前記光学異方性層形成用塗布液中には、上記光重合開始剤以外にも適宜添加剤を添加してもよい。例えば、可塑剤、モノマー、界面活性剤、セルロースエステル、配向制御剤及びカイラル剤等が挙げられる。以下に配向制御剤について詳細に説明する。本発明における配向制御剤とは、液晶性化合物の塗布液に添加され、塗布後に液晶性化合物の層の表面、つまり、空気界面側に偏在することによって、空気界面側での液晶性化合物の配向を制御することができる化合物を表す。この配向制御剤の構造によっては、液晶性化合物を空気界面側で略垂直に配向させたり、逆に略水平に配向させる事もできる。例えば、ディスコティック液晶性化合物の場合には、特開２０００−３４４７３４号公報、特開２００２−１２９６１２号公報等に記載の一般式（VI）で表されるような化合物を添加してもよい。

また、配向制御剤は、以下に示すような高分子化合物であってもよい。添加される高分子配向制御剤は、光学異方性層形成用の塗布液中に溶解し得るポリマーであれば特に制限はない。好ましい高分子配向制御剤としては、例えば、ポリプロピレンオキシド、ポリテトラメチレンオキシド、ポリ−ε−カプロラクトン、ポリ−ε−カプロラクトン ジオール、ポリ−ε−カプロラクトン トリオール、ポリビニルアセテート、ポリメラミン、ポリ（エチレン アジペート）、ポリ（１，４−ブチレン アジペート）、ポリ（１，４−ブチレン グルタレート）、ポリ（１，２−ブチレングリコール）、ポリ（１，４−ブチレンスクシネート）、ポリ（１，４−ブチレンテレフタレート）、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロピレンアジペート）、ポリ（２−メチル−１，３−プロピレン グルタレート）、ポリ（ネオペンチルグリコールアジペート）、ポリ（ネオペンチルグリコール セバケート）、ポリ（１，３−プロピレンアジペート）、ポリ（１，３−プロピレングルタレート）、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール、ポリビニルプロパナール、ポリビニルヘキサナール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリ（３−ヒドロキシブチリックアシッド）等が挙げられる。

また、本発明における光学異方性層には、垂直配向剤を含有してもよい。垂直配向剤としては、ピリジニウム化合物やオニウム化合物を使用することが好ましく、これら化合物を含有させることで、液晶化合物の配向膜界面におけるホメオトロピック配向を促進する垂直配向剤として作用するとともに、液晶化合物の配向状態を固定した位相差層（位相差層）とアクリル樹脂層との界面の密着性改善にも寄与する。液晶化合物の配向状態を固定した位相差層（位相差層）は、必要に応じて、空気界面側の配向を制御する空気界面側配向制御剤（例えば、フルオロ脂肪族基を有する繰り返し単位を含む共重合体）を含有していてもよい。ピリジニウム化合物については、例えば、特開２００７−０９３８６４号公報の［００３０］〜［００５２］、オニウム化合物については、例えば、特開２０１２−２０８３９７号公報の［００２７］〜［００５８］に記載があり、これらの内容は本明細書に取り込まれる。

垂直配向剤が配向膜側へ偏在しやすい観点から、光学異方性層中にボロン酸化合物、フッ化ホウ素、臭素、ホウ素、及び珪素から選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、ボロン酸、フッ化ホウ素、から選択される少なくとも１種が、前記配向膜に近い側に多く偏在していることがより好ましい。

配向制御剤の添加量は、液晶性化合物に対し０．０１質量％〜１０質量％であるのが好ましく、０．０５質量％〜５質量％であるのがより好ましい。

光学異方性層形成用の塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、トルエン、ヘキサン）アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例：酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例：アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）などが含まれる。この中でアルキルハライド、ケトンが好ましい。２種類以上の有機溶剤を併用してもよい。

塗布液中の液晶性化合物及びその他の添加剤の固形分濃度としては、０．１質量％〜６０質量％が好ましく、０．５質量％〜５０質量％がより好ましく、２質量％〜４０質量％がさらに好ましい。また、塗布液の粘度は、０．０１ｃｐ〜１００ｃｐが好ましく、０．１ｃｐ〜５０ｃｐがより好ましい。

前記光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物もしくは棒状液晶性化合物を可溶できる溶媒に溶解して調製した塗布液を、上記の様に支持体上に形成され、且つ、配向性が付与された配向膜上に塗布することによって作製することができる。また、可能であれば蒸着による形成でも良いが、塗布による形成が好適に用いられる。塗布方法としてはカーテンコーティング、ディップコーティング、スピンコーティング、印刷コーティング、スプレーコーティング、スロットコーティング、ロールコーティング、スライドコーテティング、ブレードコーティング、グラビアコーティング、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。
温度を上げ、用いた溶媒を乾燥すると同時に、液晶性化合物を配向させ、更に、紫外線照射等によって固定化することによって、液晶性化合物による光学異方性層が形成される。この時の温度は、６０〜９０℃が好ましく、７０〜９０℃がより好ましく、７５〜９０℃がさらに好ましい。重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜５０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。このようにして形成された光学異方性層の厚さは、光学補償等の用途によって、最適なレターデーションの値によって異なるが、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましい。

光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）は、３０〜６０ｎｍが好ましく、３５〜５５ｎｍがより好ましく、４０〜５０ｎｍが更に好ましい。
光学異方性層のＲｔｈ（５５０）は、１００〜１３０ｎｍが好ましく、１０５〜１２５ｎｍがより好ましく、１１０〜１２０ｎｍが更に好ましい。

＜＜光学補償フィルムの用途＞＞
本発明の組成物を用いて得られる光学補償フィルムは、視野角拡大に寄与するため、視野角拡大フィルムとして適用可能である。また、光学異方性層が、Ｒｅがそれぞれλ／４程度であり、遅相軸方向が互いに異なる２つの位相差領域（第一位相差領域、第二位相差領域）を有するパターン光学異方性層を有するパターンドリターダーフィルムとしても利用可能である。

（視野角拡大フィルム）
本発明の組成物を用いて得られる光学補償フィルムは、後述する偏光板と貼合して用いられる視野角拡大フィルムとして利用可能である。また、視野角拡大フィルムは、後述する偏光膜の透明保護膜の一方も兼ねて使用されることが薄膜化の観点から好ましい。

（パターンドリターダーフィルム）
本発明のパターンドリターダーフィルムは、支持体、配向膜、およびパターン光学異方性層の順で積層されており、光学補償フィルムと同様の支持体および配向膜を使用することができる。
配向膜上に形成されるパターン光学異方性層は、前記配向膜上に、第１位相差領域及び第２位相差領域を有し、第１及び第２位相差領域の間に境界部を有し、第１及び第２位相差領域の面内遅相軸が互いに直交するとともに、Ｒｅがλ／４であるパターンλ／４層である。この態様のパターン光学異方性層を偏光膜と組み合わせると、第１及び第２位相差領域のそれぞれを通過した光は互いに逆向きの円偏光状態になり、それぞれ右眼及び左眼用の円偏光画像を形成する。

パターンドリターダーフィルムは、立体画像表示装置、特にパッシブ方式の立体画像表示装置の部材として有用である。この態様では、第１及び第２位相差領域のそれぞれを通過した偏光画像は、偏光眼鏡等を介して右眼用又は左眼用の画像として、認識される。従って、左右画像が不均一とならないように、第１及び第２位相差領域は、互いに等しい形状であるのが好ましく、また、それぞれの配置は、均等且つ対称的であるのが好ましい。

前記パターン光学異方性層は、上記態様に限定されるものではない。第１及び第２位相差領域の一方の面内レターデーションがλ／４であり、且つ他方の面内レターデーションが３λ／４である表示画素領域を利用することができる。さらに、第１及び第２位相差領域の一方の面内レターデーションがλ／２であり、且つ他方の面内レターデーションが０である位相差領域を利用することもできる。

＜偏光板＞
本発明は、本発明の光学補償フィルムと、偏光膜とを有する偏光板に関する。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の透過軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。ディスコティック液晶性化合物を光学異方性層に用いた場合には、偏光膜の透過軸は、配向膜側のディスコティック液晶性分子の面に対し、実質的に平行になるように配置される。また、棒状液晶性化合物を用いた場合、偏光膜の透過軸は、棒状液晶性分子の長軸方向（遅相軸）と、実質的に平行になるように配置する。通常は、位相差板の支持体側に貼り合せるのが好ましいが、必要によっては、光学異方性層側と貼り合せてもよい。

また、本発明の光学補償フィルムを貼り合せた偏光膜の面の反対側、および／または光学異方性層側に透明保護膜を貼り合せてもよい。該透明保護膜としては、透明なポリマーフィルムが好ましい。保護膜が透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフィルム、好ましくはトリアセチルセルロースフィルムが用いられる。セルロースエステルフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。

＜平面画像表示装置＞
本発明は、本発明の偏光板を有する平面画像表示装置にも関する。本発明の平面画像表示装置は、ＴＮ型液晶表示装置に適している。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置とについては、従来からよく知られている。液晶セルのΔｎ・ｄは３００〜５００ｎｍ程度である。本発明の偏光板は、本発明の光学フィルムを、液晶セル側にして配置されるのが好ましい。

＜立体画像表示装置＞
本発明は、本発明の偏光板を有する立体画像表示装置にも関する。本発明の立体画像表示装置は、本発明の立体画像表示装置の偏光板の外側に配置される第三の偏光板とを少なくとも備え、第三の偏光板を通じて立体画像を視認させる立体画像表示システムとして好ましく用いられる。本発明は、特に立体映像とよばれる立体画像を視認者に認識させるため、前記第三の偏光板として眼鏡形状の偏光板を通して画像を認識することが好ましい。

本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。なお、この測定方法は、後述する光学異方性層中のディスコティック液晶分子の配向膜側の平均チルト角、その反対側の平均チルト角の測定においても一部利用される。
Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、及び式（ＩＩＩ）よりＲｔｈを算出することもできる。
式（Ａ）：

なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ・・・・・・・・式（ＩＩＩ）

測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。

なお、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味し、更に屈折率の測定波長は、特別な記述がない限り、可視光域（λ＝５５０ｎｍ）での値である。
また、本明細書において、光学フィルム及び液晶層等の各部材の光学特性を示す数値、数値範囲、及び定性的な表現（例えば、「同等」、「等しい」等の表現）については、液晶表示装置やそれに用いられる部材について一般的に許容される誤差を含む数値、数値範囲及び性質を示していると解釈されるものとする。
また、本明細書において、各軸・方向間の配置や交差角の角度の説明で、範囲を示さずに単に「平行」「直交」「０°」「９０°」「４５°」等という場合には、「おおよそ平行」「おおよそ直交」「おおよそ０°」「おおよそ９０°」「おおよそ４５°」の意であり、厳密なものではない。それぞれの目的を達成する範囲内での、多少のズレは許容される。例えば「平行」「０°」とは、交差角がおおよそ０°ということであり、−１０°〜１０°、好ましくは−５°〜５°、より好ましくは−３°〜３°である。「直交」「９０°」とは、交差角がおおよそ９０°ということであり、８０°〜１００°、好ましくは８５°〜９５°、より好ましくは８７°〜９３°である。「４５°」とは、交差角がおおよそ４５°ということであり、３５°〜５５°、好ましくは４０°〜５０°、より好ましくは４２°〜４８°である。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

＜合成例１：化合物Ａの合成＞
２−（ｐ-ヒドロキシフェニル）−１，３，２−ジオキサボリナン（２０ｇ）のジメチルアセトアミド（１５０ｍｌ）溶液に、氷冷下でアクリル酸クロリド（１０．９ｍｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（１．３７ｇ）を添加し、トリエチルアミン（１８．７ｍｌ）を滴下後、室温まで放冷し終夜攪拌した。反応液を酢酸エチル、希塩酸で抽出後、水洗を３回おこなった。硫酸ナトリウムで乾燥後ろ過した。溶媒を除去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製して目的化合物Ａ（３．０ｇ）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒重ＤＭＳＯ）：δ６．１（ｄ,１Ｈ）、６．４（ｍ,１Ｈ）、６．５（ｄ,１Ｈ）、７．１（ｄ，２Ｈ）、７．８（ｄ,２Ｈ）、８．１（ｂｒ,２Ｈ）

＜合成例２：化合物Ｂの合成＞
２−（ｐ-ヒドロキシフェニル）−１，３，２−ジオキサボリナン（２０ｇ）のジメチルアセトアミド（１５０ｍｌ）溶液に、氷冷下でメタクリル酸クロリド（１３ｍｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（１．３７ｇ）を添加し、トリエチルアミン（１８．７ｍｌ）を滴下後、室温まで放冷し終夜攪拌した。反応液を酢酸エチル、希塩酸で抽出後、水洗を３回おこなった。硫酸ナトリウムで乾燥後ろ過した。溶媒を除去して目的化合物Ｂ（１４．０ｇ）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒重ＤＭＳＯ）：δ２．０（ｓ，３Ｈ）、５．９（ｓ,１Ｈ）、６．３（ｓ，１Ｈ）、７．１（ｄ，２Ｈ）、７．８（ｄ，２Ｈ）、８．１（ｂｒ，２Ｈ）

＜実施例１＞
＜＜化合物１の合成＞＞
下記４−ビニルフェニルボロン酸（０．７４ｇ）とジエタノールアミン（０．５３ｇ）をアセトン（５ｇ）中で還流下１時間攪拌したところ不溶の白色固体が生成した。濾過してアセトン洗浄して、化合物１を０．６１ｇ得た。
化合物１
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒重ＤＭＳＯ）：δ２．８５（ｍ、２Ｈ）、３．１（ｍ、２Ｈ）、３．８（ｍ、４Ｈ）、５．１５（ｄ、１Ｈ）、５．７５（ｄ、１Ｈ）、６．６８（ｑ、１Ｈ）、６．８５（ｓ,１Ｈ）、７．２８（ｄ、２Ｈ）、７．４（ｄ,２Ｈ）

４−ビニルフェニルボロン酸（和光純薬社製、製品番号３２５−８４４０３）

＜＜薄膜の形成＞＞
下記構造のポリビニルアルコールに化合物１の添加量を変えて調整した溶液２．５ｇをガラスシャーレの上で一晩乾燥させ、その後にオーブンで１０５℃・５分間乾燥させて０．０２５ｍｍの薄膜を作製した。適切な薄膜を形成できることを確認した。

・下記一般式（ＶＩ）に示す変性ポリビニルアルコール・・・・・・１０質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３７１質量部
・メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１１９質量部
・化合物１・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１．０質量部

＜実施例２＞
＜＜化合物２の合成＞＞
化合物Ａ（０．６２ｇ）とジエタノールアミン（０．３４ｇ）をアセトン（１０ｇ）中で還流下１時間攪拌したところ不溶の白色固体が生成した。濾過してアセトン洗浄して、化合物２を０．５５ｇ得た。
化合物２
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒重ＤＭＳＯ）：２．８５（ｍ、２Ｈ）、３．１（ｍ、２Ｈ）、３．８５（ｍ、４Ｈ）、６．１（ｄ、２Ｈ）、６．４（ｑ、１Ｈ）、６．５（ｄ、１Ｈ）、６．９５（ｄ、３Ｈ）、７．４５（ｄ,２Ｈ）

＜＜薄膜の形成＞＞
実施例１において、化合物１を化合物２に変え、他は同様に行って薄膜を形成した。適切な薄膜を形成できることを確認した。

＜実施例３＞
＜＜化合物３の合成＞＞
化合物Ｂ（０．９６ｇ）とジエタノールアミン（０．４９ｇ）をアセトン（８．５ｇ）中で還流下１時間攪拌したところ不溶の白色固体が生成した。濾過してアセトン洗浄して、化合物３を０．９１ｇ得た。
化合物３
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒重ＤＭＳＯ）：δ２．０（ｓ，３Ｈ）、２．８５（ｍ、２Ｈ）、３．１（ｍ、２Ｈ）、３．８５（ｍ、４Ｈ）、５．８８（ｓ、１Ｈ）、６．２５（ｓ、１Ｈ）、６．９５（ｄ、２Ｈ）、７．４５（ｄ,２Ｈ）

＜＜薄膜の形成＞＞
実施例１において、化合物１を化合物３に変え、他は同様に行って薄膜を形成した。適切な薄膜を形成できることを確認した。

＜実施例４＞
＜＜化合物４の合成＞＞
下記ｐ−フェニレンジボロン酸（０．３５ｇ）とジエタノールアミン（０．４４ｇ）をアセトン（２５ｇ）中で還流下１時間攪拌したところ不溶の白色固体が生成した。濾過してアセトン洗浄して、化合物４を０．５６ｇ得た。
化合物４
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒重水）：δ３．００（ｍ、２Ｈ）、３．４５（ｍ、２Ｈ）、４．０（ｍ、４Ｈ）、７．４（ｄ,２Ｈ）、７．６（ｄ,２Ｈ）

ｐ−フェニレンジボロン酸（和光純薬社製、製品番号３２３−６７３４３）

＜＜薄膜の形成＞＞
下記構造のポリビニルアルコールに化合物４の添加量を変えて調整した溶液１１〜１２および架橋剤を配合しない溶液１３について、各２．５ｇをガラスシャーレの上で一晩乾燥させ、その後にオーブンで１０５℃・５分間乾燥させて０．０２５ｍｍ〜０．０４２ｍｍの薄膜を作製した。

＜＜＜溶液１２＞＞＞
・下記一般式（ＶＩ）に示す変性ポリビニルアルコール・・・・・・１０質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３７１質量部
・メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１１９質量部
・化合物４・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・０．５質量部

＜＜＜溶液１３＞＞＞
・下記一般式（ＶＩ）に示す変性ポリビニルアルコール・・・・・・１０質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３７１質量部
・メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１１９質量部
・化合物４・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・２.５質量部

＜＜＜溶液１４＞＞＞
・下記一般式（ＶＩ）に示す変性ポリビニルアルコール・・・・・・１０質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３７１質量部
・メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１１９質量部

上記で得られた薄膜をそれぞれバイブロン（アイティー計測制御（株）製）にて粘弾性挙動測定を０℃〜２００℃の範囲で測定したところ、溶液１２〜１３（実施例１２〜１３）については、図１に示すように、添加量が増大するに従い、１５０℃から２００℃にかけての高温ゴム状領域での貯蔵弾性率の低下が小さく、目的の架橋反応が進行していることがわかった。配向膜として十分な性能を有していることを確認した。
また、溶液１２〜１３の溶液は１晩経時してもゲル化せずに保存安定性も良好であった。
一方、架橋剤を配合しない溶液１４（比較例１）は、保存安定性は良好であった。

＜実施例５＞
＜＜薄膜の形成＞＞
実施例１において、化合物１を化合物５に変え、他は同様に行って薄膜を形成した。適切な薄膜を形成できることを確認した。
下記化合物５（シグマアルドリッチ社製、製品番号７０１８９０）
化合物５

＜実施例６＞
＜＜化合物６の合成＞＞
ｐ−フェニレンジボロン酸（０．８３ｇ）とイミノ二酢酸（１．３３ｇ）をジメチルスルホキサイド（１０ｇ）中で５０℃、１時間攪拌したところ不溶の白色固体が生成した。濾過してアセトン洗浄して、化合物６を３．１１ｇ得た。
化合物６
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒重ＤＭＳＯ）：δ３．８５（ｄ、４Ｈ）、４．１５（ｄ、４Ｈ）、７．３５（ｓ,４Ｈ）、７．８５（ｓ,２Ｈ）

＜＜薄膜の形成＞＞
実施例１において、化合物１を化合物６に変え、他は同様に行って薄膜を形成した。適切な薄膜を形成できることを確認した。

＜実施例７＞
＜＜薄膜の形成＞＞
実施例１において、化合物１を化合物７に変え、他は同様に行って薄膜を形成した。適切な薄膜を形成できることを確認した。
下記化合物７（和光純薬社製、製品番号２２０−０１８４３）
化合物７

＜実施例８＞
＜＜化合物８の合成＞＞
下記化合物Ａ（０．６ｇ）、トリメチロールエタン（０．３８ｇ）のトルエン（６ｍＬ）溶液に、ｐ−メトキシフェノールを少量加え、還流下で４時間攪拌した。溶媒を留去後、水酸化カリウム（０．１６ｇ）、ｐ−メトキシフェノール少量、トルエン（６ｍＬ）を加え、還流下１時間攪拌した。反応液をろ過し、アセトンで洗浄して、目的化合物８（０．６３ｇ）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒重ＤＭＳＯ）：δ０．５（ｓ,３Ｈ）、３．６（ｓ,６Ｈ）、６．１（ｄ,１Ｈ）、６．３−６．５（ｍ,２Ｈ）、６．７（ｄ,２Ｈ）、７．４（ｄ,２Ｈ）
化合物８

＜＜薄膜の形成＞＞
実施例１において、化合物１を化合物８に変え、他は同様に行って薄膜を形成した。適切な薄膜を形成できることを確認した。

＜実施例９＞
＜＜化合物９の合成＞＞
下記化合物Ｂ（１．０ｇ）、トリメチロールエタン（０．５８ｇ）のトルエン（１０ｍＬ）溶液に、ｐ−メトキシフェノールを少量加え、還流下で４時間攪拌した。溶媒を留去後、水酸化カリウム（０．２４ｇ）、ｐ−メトキシフェノール少量、トルエン（１０ｍＬ）を加え、還流下３時間攪拌した。反応液をろ過し、アセトンで洗浄して、目的化合物９（１．０７ｇ）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒重ＤＭＳＯ）：δ０．５（ｓ,３Ｈ）、２．０（ｓ,３Ｈ）、３．６（ｓ,６Ｈ）、５．８（ｓ,１Ｈ）、６．２（ｓ,１Ｈ）、６．７（ｄ,２Ｈ）、７．３（ｄ,２Ｈ）
化合物９

＜＜薄膜の形成＞＞
実施例１において、化合物１を化合物９に変え、他は同様に行って薄膜を形成した。適切な薄膜を形成できることを確認した。

＜実施例１０＞
＜＜化合物１０の合成＞＞
ｐ−フェニレンジボロン酸（０．６ｇ）、トリメチロールエタン（０．８６ｇ）のトルエン（６ｍＬ）溶液を、還流下で５時間攪拌した。反応液をろ過し、中間体(１０−a)を１．１７ｇ得た。この化合物９（０．５ｇ）と水酸化カリウム（０．１６ｇ）のＴＨＦ（５ｍＬ）溶液を還流下攪拌した。反応液にＴＨＦ（１３ｍＬ）、水（数滴）を加え、室温まで冷却後反応液をろ過し、目的化合物１０（０．３６ｇ）を得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒重ＤＭＳＯ）：δ０．５（ｓ,６Ｈ）、３．６（ｓ,１２Ｈ）、７．０（ｓ,４Ｈ）
化合物１０

＜＜薄膜の形成＞＞
実施例１において、化合物１を化合物１０に変え、他は同様に行って薄膜を形成した。適切な薄膜を形成できることを確認した。

Claims (8)

1. 下記一般式（１）または一般式（２）で表される構造を有する架橋剤。
   一般式（１）
   （一般式（１）中、Ｘ¹はそれぞれ−Ｏ−または−ＮＲ−を表し、Ｒは水素原子または置換基を表し、Ｘ²は窒素原子を表し、Ｒ¹は水素原子または置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つのＸ¹とＸ²を含んで環を形成している。）
   一般式（２）
   （一般式（２）中、Ｘ¹はそれぞれ−Ｏ−または−ＮＲ−を表し、Ｒは水素原子または置換基を表し、Ｘ³は−ＯＲ²²、または−ＮＲ²³Ｒ²⁴を表し、Ｒ²²〜Ｒ²⁴はそれぞれ水素原子または置換基を表す。Ｌは３価の連結基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つのＸ¹とＬを含んで環を形成している。）
2. 前記一般式（１）で表される構造が、下記一般式（１−２）で表される構造であり、前記一般式（２）で表される構造が、一般式（２−２）で表される構造である、請求項１に記載の架橋剤。
   一般式（１−２）
   （一般式（１−２）中、Ｒ¹は水素原子または置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つの酸素原子と窒素原子を含んで環を形成している。）
   一般式（２−２）
   （一般式（２−２）中、Ｌは３価の連結基を表す。Ｒ⁴は、水素原子または置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つの酸素原子とＬを含んで環を形成している。）
3. 下記一般式（１−３）または一般式（２−３）で表される架橋剤。
   一般式（１−３）
   （一般式（１−３）中、Ｒ¹は水素原子または置換基を表し、Ｒ¹¹は置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つの酸素原子と窒素原子を含んで環を形成している。）
   一般式（２−３）
   （一般式（２−３）中、Ｌは３価の連結基を表し、Ｒ⁴は、水素原子または置換基を表す。Ｒ²¹は置換基を表す。点線部分は、ホウ素原子と、２つの酸素原子とＬを含んで環を形成している。）
4. 前記一般式（１−３）で表される架橋剤が、下記一般式（１−４）で表される架橋剤、または下記一般式（１−５）で表される架橋剤であり、前記一般式（２−３）で表される架橋剤が、下記一般式（２−４）で表される架橋剤である、請求項３に記載の架橋剤。
   一般式（１−４）
   （一般式（１−４）中、Ｒ¹は水素原子または置換基を表し、Ｒ¹¹は置換基を表す。）
   一般式（１−５）
   （一般式（１−５）中、Ｒ¹は水素原子または置換基を表し、Ｒ¹¹は置換基を表す。）
   一般式（２−４）
   （一般式（２−４）中、Ｒ²は水素原子または置換基を表し、Ｒ⁴は、水素原子または置換基を表す。Ｒ²¹は置換基を表す。）
5. Ｒ¹¹またはＲ²¹が重合性基を有する、請求項３または４に記載の架橋剤。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の架橋剤と水溶性ポリマーを含む組成物。
7. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の架橋剤と重合性基を有する水溶性ポリマーを含む組成物。
8. 下記一般式（１−６）で表される化合物または一般式（２−５）で表される化合物。
   一般式（１−６）
   （一般式（１−６）中、Ｒ¹²はビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基または下記一般式（１−６−１）で表される基である。）
   一般式（１−６−１）
   一般式（２−５）
   （一般式（２−５）中、Ｒ²¹はビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基または下記一般式（２−４−１）で表される基であり、Ｒ²は水素原子または置換基を表し、Ｒ⁴は、単結合、水素原子、または置換基を表す。）
   一般式（２−４−１）