JP2014218749A - 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 367
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 61
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 188
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 188
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 76
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 50
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 claims description 23
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 73
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 39
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 29
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 24
- 239000010408 film Substances 0.000 description 20
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 13
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 8
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 7
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
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Abstract
Description
複数の貫通孔が形成された有効領域と、前記有効領域の周囲に位置する周囲領域と、を備える蒸着マスクを製造する方法であって、
互いに対向する第1面および第2面を有する金属板の第1面上に配置されたレジストパターンをマスクとして前記第1面の側から前記金属板をエッチングし、前記有効領域をなすようになる前記金属板の領域内に、前記貫通孔を画成するようになる凹部を第1面の側から形成する工程を備え、前記凹部を形成する工程において、エッチングによる浸食が金属板の板面に沿った方向にも進み、前記レジストパターン下にて隣り合う二つの凹部が合流し、さらに、少なくとも一つの凹部の壁面が、その全周に亘って、当該一つの凹部の周囲に位置する他のいずれかの凹部の壁面と合流する。
前記凹部と前記第2凹部が接続して前記貫通孔が形成されるように、前記凹部及び前記第2凹部が形成されるようにしてもよい。
前記凹部と前記第2凹部が接続して前記貫通孔が形成されるように、前記凹部及び前記第2凹部が形成されるようにしてもよい。
複数の貫通孔が形成された有効領域と、
前記有効領域の周囲に位置する周囲領域と、を備え、
前記有効領域において、前記蒸着マスクの法線方向に沿った一方の側に、当該一方の側へ向けて幅が広くなっていく複数の凹部が設けられ、且つ、この凹部が貫通孔を画成し、
少なくとも一つの凹部の壁面が、その全周に亘って、当該凹部の周囲に位置する他のいずれかの凹部の壁面と合流している。
20a 蒸着マスクの第1面
20b 蒸着マスクの第2面
21 金属板
21a 金属板の第1面
21b 金属板の第2面
22 有効領域
23 周囲領域
25 貫通孔
30 第1凹部
31 壁面
35 第2凹部
36 壁面
64 長尺金属板
64a 長尺金属板の第1面
64b 長尺金属板の第2面
Claims (16)
- 複数の貫通孔が形成された有効領域と、前記有効領域の周囲に位置する周囲領域と、を備える蒸着マスクを製造する方法であって、
互いに対向する第1面および第2面を有する金属板の第1面上に配置されたレジストパターンをマスクとして前記第1面の側から前記金属板をエッチングし、前記有効領域をなすようになる前記金属板の領域内に、前記貫通孔を画成するようになる凹部を第1面の側から形成する工程を備え、
前記凹部を形成する工程において、エッチングによる浸食が金属板の板面に沿った方向にも進み、前記レジストパターン下にて隣り合う二つの凹部が合流し、さらに、少なくとも一つの凹部の壁面が、その全周に亘って、当該一つの凹部の周囲に位置する他のいずれかの凹部の壁面と合流する、蒸着マスクの製造方法。 - 前記凹部の壁面が、その全周に亘って当該凹部の周囲に位置する他のいずれかの凹部の壁面と合流する、或いは、その全周のうちの一部分において当該凹部の周囲に位置する他のいずれかの凹部の壁面と合流し且つその全周のうちの他の部分において前記周囲領域をなすようになる領域内に延びて前記金属板の前記第1面と接続する、請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記凹部を形成する工程において、前記レジストパターンが、前記有効領域をなすようになる前記金属板の全領域内で、前記金属板から離間する、請求項1または2に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記凹部を形成する工程において、エッチングによる前記第1面の浸食が、前記有効領域をなすようになる前記金属板の全領域内で、進む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記凹部を形成する工程において、前記隣り合う二つの凹部が合流してなる合流部分が前記レジストパターンから離間して、前記レジストパターン下となる当該合流部分において、エッチングによる浸食が金属板の法線方向にも進み、前記合流部分が面取される、請求項1〜4のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。
- 前記金属板の前記第2面上に配置されたレジストパターンをマスクとして前記第2面の側から前記金属板をエッチングし、第2凹部を前記第2面の側から形成する工程を、さらに備え、
前記凹部と前記第2凹部が接続して前記貫通孔が形成されるように、前記凹部及び前記第2凹部が形成される、請求項1〜5のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。 - 前記金属板を貫通しないように前記第1面の側から形成された各凹部内にレーザー光を照射して、当該凹部の内部から前記金属板の前記第2面まで到達する第2凹部を形成する工程を、さらに備え、
前記凹部と前記第2凹部が接続して前記貫通孔が形成されるように、前記凹部及び前記第2凹部が形成される、請求項1〜5のいずれか一項に記載の蒸着マスクの製造方法。 - 複数の貫通孔が形成された有効領域と、
前記有効領域の周囲に位置する周囲領域と、を備え、
前記有効領域において、前記蒸着マスクの法線方向に沿った一方の側に、当該一方の側へ向けて幅が広くなっていく複数の凹部が設けられ、且つ、この凹部が貫通孔を画成し、
少なくとも一つの凹部の壁面が、その全周に亘って、当該凹部の周囲に位置する他のいずれかの凹部の壁面と合流している、蒸着マスク。 - 前記凹部の前記壁面が、その全周に亘って当該凹部の周囲に位置する他のいずれかの凹部の壁面と合流している、或いは、その全周のうちの一部分において当該凹部の周囲に位置する他のいずれかの凹部の壁面と合流し且つその全周のうちの他の部分において前記周囲領域内に延びている、請求項8に記載の蒸着マスク。
- 前記有効領域内の全領域において、前記蒸着マスクの一方の側の面は、凹凸面となっている、請求項8または9に記載の蒸着マスク。
- 前記凹部の前記壁面と前記他の凹部の前記壁面とが合流することによって稜線が形成され、前記蒸着マスクの法線方向に沿った前記稜線の高さは変動する、請求項8〜10のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
- 前記他の凹部の前記壁面に合流する前記凹部の前記壁面の、前記蒸着マスクの法線方向に沿った高さは、当該凹部によって画成される貫通孔の貫通部からの前記蒸着マスクの板面に沿った距離が長くなると、高くなる、請求項8〜11のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
- 前記蒸着マスクの法線方向に沿った断面において、二つの凹部の壁面が合流する合流部分の外輪郭は、面取された形状となっている、請求項8〜12のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
- 前記蒸着マスクの法線方向に沿った断面において、二つの凹部の壁面が合流する合流部分の外輪郭は、前記蒸着マスクの法線方向に沿った一方の側へ向けて凸な曲線状である、請求項8〜13のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
- 前記有効領域において、前記蒸着マスクの法線方向に沿った他方の側に、当該他方の側へ向けて幅が広くなっていく第2凹部が設けられ、前記凹部と前記第2凹部が接続して前記貫通孔が形成されている、請求項8〜14のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
- 前記有効領域において、前記蒸着マスクの法線方向に沿った他方の側に、当該他方の側へ向けて幅が狭くなっていく第2凹部が設けられ、前記凹部と前記第2凹部が接続して前記貫通孔が形成されている、請求項8〜14のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014135110A JP6498392B2 (ja) | 2013-01-08 | 2014-06-30 | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク |
JP2019003648A JP6895129B2 (ja) | 2013-01-08 | 2019-01-11 | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013001201 | 2013-01-08 | ||
JP2013001201 | 2013-01-08 | ||
JP2014135110A JP6498392B2 (ja) | 2013-01-08 | 2014-06-30 | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013185713A Division JP5614665B2 (ja) | 2013-01-08 | 2013-09-06 | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019003648A Division JP6895129B2 (ja) | 2013-01-08 | 2019-01-11 | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014218749A true JP2014218749A (ja) | 2014-11-20 |
JP6498392B2 JP6498392B2 (ja) | 2019-04-10 |
Family
ID=50619290
Family Applications (5)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013185713A Active JP5614665B2 (ja) | 2013-01-08 | 2013-09-06 | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク |
JP2013185698A Active JP5459632B1 (ja) | 2013-01-08 | 2013-09-06 | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク |
JP2014135110A Active JP6498392B2 (ja) | 2013-01-08 | 2014-06-30 | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク |
JP2019003648A Active JP6895129B2 (ja) | 2013-01-08 | 2019-01-11 | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク |
JP2020210478A Active JP7125678B2 (ja) | 2013-01-08 | 2020-12-18 | 蒸着マスク、有機el基板の製造方法および有機el基板 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013185713A Active JP5614665B2 (ja) | 2013-01-08 | 2013-09-06 | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク |
JP2013185698A Active JP5459632B1 (ja) | 2013-01-08 | 2013-09-06 | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019003648A Active JP6895129B2 (ja) | 2013-01-08 | 2019-01-11 | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク |
JP2020210478A Active JP7125678B2 (ja) | 2013-01-08 | 2020-12-18 | 蒸着マスク、有機el基板の製造方法および有機el基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (5) | JP5614665B2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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JP5516816B1 (ja) | 2013-10-15 | 2014-06-11 | 大日本印刷株式会社 | 金属板、金属板の製造方法、および金属板を用いて蒸着マスクを製造する方法 |
JP6468480B2 (ja) * | 2014-01-31 | 2019-02-13 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク |
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- 2013-09-06 JP JP2013185713A patent/JP5614665B2/ja active Active
- 2013-09-06 JP JP2013185698A patent/JP5459632B1/ja active Active
-
2014
- 2014-06-30 JP JP2014135110A patent/JP6498392B2/ja active Active
-
2019
- 2019-01-11 JP JP2019003648A patent/JP6895129B2/ja active Active
-
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- 2020-12-18 JP JP2020210478A patent/JP7125678B2/ja active Active
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---|---|
JP5614665B2 (ja) | 2014-10-29 |
JP7125678B2 (ja) | 2022-08-25 |
JP5459632B1 (ja) | 2014-04-02 |
JP2019060028A (ja) | 2019-04-18 |
JP6895129B2 (ja) | 2021-06-30 |
JP2014148744A (ja) | 2014-08-21 |
JP6498392B2 (ja) | 2019-04-10 |
JP2021050419A (ja) | 2021-04-01 |
JP2014148745A (ja) | 2014-08-21 |
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Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
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