JP2014195104A - 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 露光装置100は、投影光学系PLの射出面と対向する位置にあるとき投影光学系PLとの間で液体Lqを保持可能な微動ステージWFS1と、微動ステージWFS1が投影光学系PLとの間で液体Lqを保持しているとき、微動ステージWFS1に所定距離以内に近接し、該近接状態を維持して微動ステージWFS1と共に移動し、その移動後に投影光学系PLとの間で液体Lqを保持するブレードBLを備えている。従って、投影光学系の直下に複数のステージを交換的に配置する必要がなく、露光装置のフットプリントの大型化を抑制することができる。
【選択図】図20
Description
Claims (42)
- 投影光学系と液体とを介して照明光で基板を露光する露光装置であって、
前記液体と接する前記投影光学系の光学部材を囲んで設けられるノズル部材を有し、前記ノズル部材を介して前記投影光学系の下に供給される液体によって液浸領域を形成するとともに、前記ノズル部材を介して前記液浸領域の液体を回収する局所液浸装置と、
前記投影光学系の下方に配置され、表面が、前記投影光学系の光軸と直交する所定面と実質的に平行に配置されるベース部材と、
前記基板の載置領域が上面側に設けられるとともに、格子を有する計測面が下面側に設けられる保持部材と、前記計測面と前記ベース部材の表面との間に空間が形成されるように前記保持部材を支持する本体部と、を有し、前記ベース部材上に配置される基板ステージと、
前記基板ステージを駆動する電磁モータを有する駆動システムと、
前記投影光学系の下方で前記計測面よりも低く配置されるヘッド部を有し、前記基板ステージが前記投影光学系と対向して位置付けられることによって前記空間内に配置される前記ヘッド部を介して、前記計測面に対して下方から計測ビームを照射して、前記基板ステージの位置情報を計測する計測システムと、
前記ベース部材上に配置され、上面を有する可動部材と、
前記計測システムの計測情報に基づいて、前記電磁モータによる前記基板ステージの駆動を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、一方が前記投影光学系と対向して配置される前記基板ステージと前記可動部材が互いに接近するように、前記基板ステージと前記可動部材との他方を前記基板ステージと前記可動部材との一方に対して相対移動するとともに、前記基板ステージと前記可動部材との一方の代わりに前記基板ステージと前記可動部材との他方が前記投影光学系と対向して配置されるように、前記接近した基板ステージと可動部材を前記ノズル部材に対して相対移動する露光装置。 - 請求項1に記載の露光装置において、
前記投影光学系を支持するフレーム部材と、
前記フレーム部材に接続され、前記ヘッド部が設けられる計測部材と、をさらに備える露光装置。 - 投影光学系と液体とを介して照明光で基板を露光する露光装置であって、
前記液体と接する前記投影光学系の光学部材を囲んで設けられるノズル部材を有し、前記ノズル部材を介して前記投影光学系の下に供給される液体によって液浸領域を形成するとともに、前記ノズル部材を介して前記液浸領域の液体を回収する局所液浸装置と、
前記投影光学系を支持するフレーム部材と、
前記フレーム部材に支持される前記投影光学系の下方に配置され、表面が、前記投影光学系の光軸と直交する所定面と実質的に平行に配置されるベース部材と、
前記基板の載置領域と、前記載置領域よりも低く配置される、格子を有する計測面と、を有し、前記ベース部材上に配置される基板ステージと、
前記基板ステージを駆動する電磁モータを有する駆動システムと、
前記フレーム部材に接続され、一部が前記投影光学系の下方に配置される計測部材と、
前記計測部材の一部に設けられ、前記計測面よりも低く配置されるヘッド部を有し、前記基板ステージが前記投影光学系と対向して位置付けられることによって前記計測面と対向する前記ヘッド部を介して、前記計測面に対して下方から計測ビームを照射して、前記基板ステージの位置情報を計測する計測システムと、
前記ベース部材上に配置され、上面を有する可動部材と、
前記計測システムの計測情報に基づいて、前記電磁モータによる前記基板ステージの駆動を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、一方が前記投影光学系と対向して配置される前記基板ステージと前記可動部材が互いに接近するように、前記基板ステージと前記可動部材との他方を前記基板ステージと前記可動部材との一方に対して相対移動するとともに、前記基板ステージと前記可動部材との一方の代わりに前記基板ステージと前記可動部材との他方が前記投影光学系と対向して配置されるように、前記接近した基板ステージと可動部材を前記ノズル部材に対して相対移動する露光装置。 - 請求項3に記載の露光装置において、
前記ヘッド部は、前記投影光学系と対向して配置される前記基板ステージの前記計測面と前記ベース部材の表面との間に配置される露光装置。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測システムは、前記ヘッド部と前記計測部材の内部とを介して、前記計測面で反射される前記計測ビームを検出する露光装置。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測部材は、前記ヘッド部が設けられ、前記投影光学系の下方に配置される第1部と、前記フレーム部材に接続され、前記第1部を支持する第2部と、を有する露光装置。 - 請求項6に記載の露光装置において、
前記第1部は、前記ヘッド部が露光領域の下方に位置付けられるように前記第1方向に関して延びて設けられる露光装置。 - 請求項6又は7に記載の露光装置において、
前記第1部は、前記第3方向に関して前記計測面と前記ベース部材の表面との間に配置されるように前記第2部によって支持される露光装置。 - 請求項6〜8のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1部は、前記第1方向に関して一側に前記ヘッド部が設けられるとともに、前記第1方向に関して他側で前記第2部によって支持される露光装置。 - 請求項9に記載の露光装置において、
前記第1部は、前記第1方向に関して前記他側のみで前記第2部によって支持される露光装置。 - 請求項9又は10に記載の露光装置において、
前記投影光学系の下方に移動される前記基板ステージに対して、前記第1方向に関して前記一側から前記計測面の下方に進入する露光装置。 - 請求項1〜11のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測面は、反射型の2次元格子が形成され、
前記計測システムは、前記ヘッド部を介して、前記計測面で反射される前記計測ビームを検出する露光装置。 - 請求項12に記載の露光装置において、
前記2次元格子の形成領域はそのサイズが前記基板ステージに保持される基板のサイズよりも大きい露光装置。 - 請求項12又は13に記載の露光装置において、
前記保持部材は、前記2次元格子の形成領域を覆う保護部材を有し、
前記計測システムは、前記保護部材を介して前記2次元格子に前記計測ビームを照射する露光装置。 - 請求項1〜14のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測システムは、前記所定面内で互いに直交する第1、第2方向に関して、前記投影光学系を介して前記照明光が照射される露光領域内に、前記計測ビームを照射する検出点を有する露光装置。 - 請求項15に記載の露光装置において、
前記検出点は、前記露光領域内でその中心と実質的に一致する露光装置。 - 請求項1〜16のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測システムは、前記第1、第2方向、及び前記第1、第2方向と直交する第3方向を含む6自由度方向に関して前記基板ステージの位置情報を計測する露光装置。 - 請求項1〜17のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測システムは、前記計測ビームを含む複数の計測ビームを前記計測面に照射し、
前記複数の計測ビームは、前記露光領域内で前記第1、第2方向の少なくとも一方に関して位置が異なる複数の検出点にそれぞれ照射される露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記複数の検出点の1つは、前記露光領域内でその中心と実質的に一致する露光装置。 - 請求項18又は19に記載の露光装置において、
前記複数の検出点は、前記露光領域内でその中心に関して実質的に対称に配置される一対の検出点を含む露光装置。 - 投影光学系と液体とを介して照明光で基板を露光する露光方法であって、
表面が前記投影光学系の光軸と直交する所定面と実質的に平行に配置されるベース部材上で移動可能であり、上面側に前記基板の載置領域が設けられ、下面側に格子を有する計測面が設けられる保持部材と、前記計測面と前記ベース部材の表面との間に空間が形成されるように前記保持部材を支持する本体部と、を有する基板ステージを、前記投影光学系と対向して配置することと、
前記投影光学系と対向して配置される前記基板ステージの前記空間内に配置されるヘッド部を介して、前記計測面に対して下方から計測ビームを照射する計測システムによって、前記基板ステージの位置情報を計測することと、
前記液体と接する前記投影光学系の光学部材を囲んで設けられるノズル部材を介して前記投影光学系の下に供給される液体によって形成される液浸領域に対して前記基板が相対移動されるように、前記計測システムの計測情報に基づいて、前記基板ステージを駆動する電磁モータを制御することと、
前記基板ステージと、前記ベース部材上に配置される可動部材とが互いに接近するように、前記可動部材を、前記投影光学系と対向して配置される前記基板ステージに対して相対移動することと、
前記基板ステージの代わりに前記可動部材が前記投影光学系と対向して配置されるように、前記接近した基板ステージと可動部材を前記ノズル部材に対して相対移動することと、を含み、
前記液浸領域は、前記ノズル部材に対する前記接近した基板ステージと可動部材の相対移動において、前記投影光学系の下に実質的に維持される露光方法。 - 請求項21に記載の露光方法において、
前記ヘッド部は、前記投影光学系の下方で前記計測面よりも低く配置されるように、前記投影光学系を支持するフレーム部材に接続される計測部材に設けられる露光方法。 - 投影光学系と液体とを介して照明光で基板を露光する露光方法であって、
表面が前記投影光学系の光軸と直交する所定面と実質的に平行に配置されるベース部材上で移動可能であり、前記基板の載置領域と、前記載置領域よりも低く配置される、格子を有する計測面と、を有する基板ステージを、前記投影光学系と対向して配置することと、
前記計測面よりも低く配置されるように前記投影光学系を支持するフレーム部材に接続される計測部材に設けられ、前記投影光学系と対向して位置付けられる前記基板ステージの前記計測面と対向するヘッド部材を介して、前記計測面に対して下方から計測ビームを照射する計測システムによって、前記基板ステージの位置情報を計測することと、
前記液体と接する前記投影光学系の光学部材を囲んで設けられるノズル部材を介して前記投影光学系の下に供給される液体によって形成される液浸領域に対して前記基板が相対移動されるように、前記計測システムの計測情報に基づいて、前記基板ステージを駆動する電磁モータを制御することと、
前記基板ステージと、前記ベース部材上に配置される可動部材とが互いに接近するように、前記可動部材を、前記投影光学系と対向して配置される前記基板ステージに対して相対移動することと、
前記基板ステージの代わりに前記可動部材が前記投影光学系と対向して配置されるように、前記接近した基板ステージと可動部材を前記ノズル部材に対して相対移動することと、を含み、
前記液浸領域は、前記ノズル部材に対する前記接近した基板ステージと可動部材の相対移動において、前記投影光学系の下に実質的に維持される露光方法。 - 請求項23に記載の露光方法において、
前記ヘッド部は、前記投影光学系と対向して配置される前記基板ステージの前記計測面と前記ベース部材の表面との間に配置される露光方法。 - 請求項21〜24のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測面で反射される前記計測ビームは、前記ヘッド部と前記計測部材の内部とを介して検出される露光方法。 - 請求項21〜25のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測部材は、前記ヘッド部が設けられ、前記投影光学系の下方に配置される第1部と、前記フレーム部材に接続され、前記第1部を支持する第2部と、を有する露光方法。 - 請求項26に記載の露光方法において、
前記第1部は、前記ヘッド部が前記露光領域の下方に位置付けられるように前記第1方向に関して延びて設けられる露光方法。 - 請求項26又は27に記載の露光方法において、
前記第1部は、前記第3方向に関して前記計測面と前記ベース部材の表面との間に配置されるように前記第2部によって支持される露光方法。 - 請求項26〜28のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1部は、前記第1方向に関して一側に前記ヘッド部が設けられるとともに、前記第1方向に関して他側で前記第2部によって支持される露光方法。 - 請求項29に記載の露光方法において、
前記第1部は、前記第1方向に関して前記他側のみで前記第2部によって支持される露光方法。 - 請求項29又は30に記載の露光方法において、
前記投影光学系の下方に移動される前記基板ステージに対して、前記第1方向に関して前記一側から前記計測面の下方に進入する露光方法。 - 請求項21〜31のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測面は、反射型の2次元格子が形成され、
前記計測面で反射される前記計測ビームは、前記ヘッド部を介して検出される露光方法。 - 請求項32に記載の露光方法において、
前記2次元格子の形成領域はそのサイズが前記基板ステージに保持される基板のサイズよりも大きい露光方法。 - 請求項32又は33に記載の露光方法において、
前記計測ビームは、前記2次元格子の形成領域を覆う保護部材を介して前記2次元格子に照射される露光方法。 - 請求項21〜34のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測ビームは、前記所定面内で互いに直交する第1、第2方向に関して、前記投影光学系を介して前記照明光が照射される露光領域内の検出点に照射される露光方法。 - 請求項35に記載の露光方法において、
前記検出点は、前記露光領域内でその中心と実質的に一致する露光方法。 - 請求項21〜36のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2方向、及び前記第1、第2方向と直交する第3方向を含む6自由度方向に関して前記基板ステージの位置情報が計測される露光方法。 - 請求項21〜37のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測ビームを含む複数の計測ビームが、前記露光領域内で前記第1、第2方向の少なくとも一方に関して位置が異なる複数の検出点にそれぞれ照射される露光方法。 - 請求項38に記載の露光方法において、
前記複数の検出点の1つは、前記露光領域内でその中心と実質的に一致する露光方法。 - 請求項38又は39に記載の露光方法において、
前記複数の検出点は、前記露光領域内でその中心に関して実質的に対称に配置される一対の検出点を含む露光方法。 - デバイス製造方法であって、
請求項1〜20のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。 - デバイス製造方法であって、
請求項21〜40のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
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