JP2018005975A - 荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構、及び荷電粒子線装置 - Google Patents
荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構、及び荷電粒子線装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018005975A JP2018005975A JP2016126168A JP2016126168A JP2018005975A JP 2018005975 A JP2018005975 A JP 2018005975A JP 2016126168 A JP2016126168 A JP 2016126168A JP 2016126168 A JP2016126168 A JP 2016126168A JP 2018005975 A JP2018005975 A JP 2018005975A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- piezoelectric element
- charged particle
- particle beam
- vibration
- arc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
- F16F15/00—Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion
- F16F15/02—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
- F16F15/03—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems using magnetic or electromagnetic means
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
- F16F15/00—Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion
- F16F15/02—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
- F16F7/00—Vibration-dampers; Shock-absorbers
- F16F7/10—Vibration-dampers; Shock-absorbers using inertia effect
- F16F7/1005—Vibration-dampers; Shock-absorbers using inertia effect characterised by active control of the mass
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/16—Vessels; Containers
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
- F16F2224/00—Materials; Material properties
- F16F2224/02—Materials; Material properties solids
- F16F2224/0283—Materials; Material properties solids piezoelectric; electro- or magnetostrictive
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/0216—Means for avoiding or correcting vibration effects
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3175—Lithography
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Aviation & Aerospace Engineering (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
本発明は、取り付け、取り外しを容易に行うことが可能な荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構の提供を目的とする。
【解決手段】
上記目的を達成するための一態様として、荷電粒子線装置の鏡筒の外壁に沿った形状の内壁面を有する第1の弧状部材(21a)と、前記荷電粒子線装置の鏡体の外壁に沿った形状の内壁面を有し、前記第1の弧状部材との接続によって、前記荷電粒子線装置鏡体の外壁を包囲する環状部材となる第2の弧状部材(21b)と、両者を締結する締結部材(21c)と、弧状部材に取り付けられる振動センサ(23)と、振動センサの出力に応じて動作するアクチュエータ(22)を備え、接続部材による接続を解除することによって取り外しが可能な振動抑制機構を提案する。
【選択図】図2
Description
以下に説明する実施例では、主に、荷電粒子線を照射するための荷電粒子源を備えたカラムと、前記カラムに設置された1つ以上の制振機構とを備えた荷電粒子線装置であって、前記制振機構は、前記カラムに設置された環状部材と、前記環状部材に設置された少なくとも2つ以上のアクチュエータと、前記環状部材に設置された少なくとも2つ以上の振動センサと、前記振動センサの信号に応じて前記アクチュエータを制御するコントローラとを備え、前記環状部材が前記カラムから着脱可能である荷電粒子線装置について説明する。
Claims (12)
- 荷電粒子線装置の鏡筒の外壁に沿った形状の内壁面を有する第1の弧状部材と、前記荷電粒子線装置の鏡体の外壁に沿った形状の内壁面を有し、前記第1の弧状部材との接続によって、前記荷電粒子線装置鏡体の外壁を包囲する環状部材となる第2の弧状部材と、前記第1の弧状部材と一端と、前記第2の弧状部材の一端とを締結する第1の接続部材と、前記第1の弧状部材の他端と前記第2の弧状部材の他端を接続するヒンジ、或いは当該第1の弧状部材の他端と当該第2の弧状部材の他端を接続する締結部材からなる第2の接続部材と、前記第1の弧状部材と前記第2の弧状部材のそれぞれに取り付けられる振動センサと、当該振動センサの出力に応じて動作する少なくとも2つのアクチュエータを備え、前記第1の接続部材による接続を解除することによって、前記第1の弧状部材の一端と前記第2の弧状部材の一端の接続が解除されるように構成されていることを特徴とする荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構。
- 請求項1において、
前記アクチュエータは、対向する第1の面と第2の面を有すると共に前記弧状部材に取り付けられる固定子と、当該第1の面と第2の面との間に配置される可動子と、前記第1の面と当該第1の面に対向する可動子の面との間を接続する第1の圧電素子と、前記第2の面と当該第2の面に対向する可動子の面との間を接続する第2の圧電素子を有することを特徴とする荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構。 - 請求項2において、
前記第1の圧電素子と前記第2の圧電素子に電圧を印加するコントローラを備え、当該コントローラは、前記アクチュエータによる前記弧状部材への加振を行う際に、前記第1の圧電素子によって前記可動子を押圧するときには、前記第2の圧電素子によって前記可動子を引っ張るような駆動信号を供給し、前記第2の圧電素子によって前記可動子を押圧するときには、前記第1の圧電素子によって前記可動子を引っ張るような駆動信号を供給することを特徴とする荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構。 - 請求項2において、
前記第1の圧電素子と前記第2の圧電素子に電圧を印加するコントローラを備え、当該コントローラは、前記第1の圧電素子と前記第2の圧電素子にバイアス電圧を印加した状態で、それぞれ逆相の電圧を前記第1の圧電素子と前記第2の圧電素子に印加することを特徴とする荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構。 - 請求項2において、
前記固定子は、前記第1の面と前記第2の面との間隔を維持する支持部を有することを特徴とする荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構。 - 請求項5において、
前記第1の圧電素子と前記第2の圧電素子は、前記支持部を包囲する筒状、或いは筒状の支持部によって包囲されるものであることを特徴とする荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構。 - 請求項1において、
前記アクチュエータは、対向する第1の面と第2の面を有する可動子と、当該第1の面と第2の面との間に配置されると共に前記弧状部材に取り付けられる固定子と、前記第1の面と当該第1の面に対向する固定子の面との間を接続する第1の圧電素子と、前記第2の面と当該第2の面に対向する固定子の面との間を接続する第2の圧電素子を有することを特徴とする荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構。 - 請求項7において、
前記第1の圧電素子と前記第2の圧電素子に電圧を印加するコントローラを備え、当該コントローラは、前記アクチュエータによる前記弧状部材への加振を行う際に、前記第1の圧電素子によって前記可動子を押圧するときには、前記第2の圧電素子によって前記可動子を引っ張るような駆動信号を供給し、前記第2の圧電素子によって前記可動子を押圧するときには、前記第1の圧電素子によって前記可動子を引っ張るような駆動信号を供給することを特徴とする荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構。 - 請求項7において、
前記第1の圧電素子と前記第2の圧電素子に電圧を印加するコントローラを備え、当該コントローラは、前記第1の圧電素子と前記第2の圧電素子にバイアス電圧を印加した状態で、それぞれ逆相の電圧を前記第1の圧電素子と前記第2の圧電素子に印加することを特徴とする荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構。 - 請求項7において、
前記可動子は、前記第1の面と前記第2の面との間隔を維持する支持部を有することを特徴とする荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構。 - 請求項10において、
前記第1の圧電素子と前記第2の圧電素子は、前記支持部を包囲する筒状、或いは筒状の支持部によって包囲されるものであることを特徴とする荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構。 - 荷電粒子源を有する荷電粒子線カラムを備えた荷電粒子線装置において、
荷電粒子線カラムの外壁に沿った形状の内壁面を有する第1の弧状部材と、前記荷電粒子線装置の鏡体の外壁に沿った形状の内壁面を有し、前記第1の弧状部材との接続によって、前記荷電粒子線装置鏡体の外壁を包囲する環状部材となる第2の弧状部材と、前記第1の弧状部材と一端と、前記第2の弧状部材の一端とを締結する第1の接続部材と、前記第1の弧状部材の他端と前記第2の弧状部材の他端を接続するヒンジ、或いは当該第1の弧状部材の他端と当該第2の弧状部材の他端を接続する締結部材からなる第2の接続部材と、前記第1の弧状部材と前記第2の弧状部材のそれぞれに取り付けられる振動センサと、当該振動センサの出力に応じて動作する少なくとも2つのアクチュエータを備え、前記第1の接続部材による接続を解除することによって、前記第1の弧状部材の一端と前記第2の弧状部材の一端の接続が解除されるように構成されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016126168A JP2018005975A (ja) | 2016-06-27 | 2016-06-27 | 荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構、及び荷電粒子線装置 |
PCT/JP2017/021906 WO2018003494A1 (ja) | 2016-06-27 | 2017-06-14 | 荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構、及び荷電粒子線装置 |
US16/099,449 US10591018B2 (en) | 2016-06-27 | 2017-06-14 | Vibration-suppressing mechanism to be attached to charged particle beam device, and charged particle beam device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016126168A JP2018005975A (ja) | 2016-06-27 | 2016-06-27 | 荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構、及び荷電粒子線装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018005975A true JP2018005975A (ja) | 2018-01-11 |
Family
ID=60786309
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016126168A Pending JP2018005975A (ja) | 2016-06-27 | 2016-06-27 | 荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構、及び荷電粒子線装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10591018B2 (ja) |
JP (1) | JP2018005975A (ja) |
WO (1) | WO2018003494A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220092779A (ko) * | 2020-12-25 | 2022-07-04 | 주식회사 히타치하이테크 | 하전 입자선 장치의 제진 시스템 |
DE112020005518T5 (de) | 2020-01-30 | 2022-09-01 | Hitachi High-Tech Corporation | Ladungsträgerstrahlvorrichtung und schwingungsunterdrückungsmechanismus |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP4310360A1 (de) * | 2022-07-18 | 2024-01-24 | Robert Bosch GmbH | Schwingungskompensatorvorrichtung |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6313929A (ja) * | 1986-07-03 | 1988-01-21 | Meiritsu Seiki Kk | 除振装置 |
US5310157A (en) * | 1989-08-16 | 1994-05-10 | Minus K Technology, Inc. | Vibration isolation system |
JP3726207B2 (ja) | 1999-07-14 | 2005-12-14 | 株式会社日立製作所 | アクティブ除振装置 |
JP3993094B2 (ja) * | 2000-07-27 | 2007-10-17 | 株式会社荏原製作所 | シートビーム式検査装置 |
JP2003318080A (ja) * | 2002-04-22 | 2003-11-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子ビーム描画装置 |
NL1036160A1 (nl) | 2007-11-20 | 2009-05-25 | Asml Netherlands Bv | Combination of structure and two or more active damping systems, lithographic apparatus, and projection assembly. |
US8760629B2 (en) * | 2008-12-19 | 2014-06-24 | Nikon Corporation | Exposure apparatus including positional measurement system of movable body, exposure method of exposing object including measuring positional information of movable body, and device manufacturing method that includes exposure method of exposing object, including measuring positional information of movable body |
JP5420601B2 (ja) * | 2011-07-25 | 2014-02-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子装置 |
JP2016039686A (ja) * | 2014-08-07 | 2016-03-22 | 株式会社日立製作所 | 加振器及びそれを用いたアクティブ制振装置 |
JP6364282B2 (ja) * | 2014-08-29 | 2018-07-25 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
-
2016
- 2016-06-27 JP JP2016126168A patent/JP2018005975A/ja active Pending
-
2017
- 2017-06-14 US US16/099,449 patent/US10591018B2/en active Active
- 2017-06-14 WO PCT/JP2017/021906 patent/WO2018003494A1/ja active Application Filing
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112020005518T5 (de) | 2020-01-30 | 2022-09-01 | Hitachi High-Tech Corporation | Ladungsträgerstrahlvorrichtung und schwingungsunterdrückungsmechanismus |
KR20220092779A (ko) * | 2020-12-25 | 2022-07-04 | 주식회사 히타치하이테크 | 하전 입자선 장치의 제진 시스템 |
KR102709184B1 (ko) | 2020-12-25 | 2024-09-25 | 주식회사 히타치하이테크 | 하전 입자선 장치의 제진 시스템 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20190145490A1 (en) | 2019-05-16 |
WO2018003494A1 (ja) | 2018-01-04 |
US10591018B2 (en) | 2020-03-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2018003494A1 (ja) | 荷電粒子線装置に取り付けられる振動抑制機構、及び荷電粒子線装置 | |
JP3726207B2 (ja) | アクティブ除振装置 | |
JP2007315590A (ja) | 能動型振動絶縁システム | |
WO2018020625A1 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5947128B2 (ja) | 帯電粒子を用いて試料を結像、検査又は処理する装置及び方法 | |
JP2000249185A (ja) | アクティブ型除振装置 | |
JP2022009132A (ja) | 電子ビーム検査装置のステージ位置決め | |
JP2001050334A (ja) | アクティブ型除振装置 | |
WO2021152793A1 (ja) | 荷電粒子線装置及び振動抑制機構 | |
JP6362941B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
TWI744591B (zh) | 制振系統以及具備該制振系統的光學裝置 | |
JPWO2017099087A1 (ja) | 露光装置及び露光装置の制御方法、並びにデバイス製造方法 | |
EP1451848B1 (en) | Device and method for reducing the impact of distortions in a microscope | |
US20200105499A1 (en) | Charged particle beam irradiation apparatus | |
JPH08195179A (ja) | 電子顕微鏡のアクティブ除振装置 | |
WO2019138656A1 (ja) | アクティブ除振装置 | |
JP2004138523A (ja) | アクティブ防振システムの加速度検出装置 | |
JP2016114141A (ja) | アクティブ除振装置 | |
JP2000012435A (ja) | 除振装置および露光装置 | |
JP2005166538A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
JPH1194014A (ja) | 免震性能を有する除振台 | |
JP6118169B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JPH11204406A (ja) | 位置決め装置、位置決め方法および露光装置 | |
EP4012219A1 (en) | Active vibration isolation system | |
JP2006286503A (ja) | 荷電粒子線装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160629 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170120 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170126 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20180718 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20180720 |