JP2014153987A - タッチパネル基板、及び表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】位置検知用の透明電極のパターンを追加的な層を設けずに目立ち難くできるタッチパネル基板と表示装置を提供する。
【解決手段】タッチパネル基板１０は、透光性基板１の一方の面上に、位置検知用の透明電極２としてのＸ方向に延びる第１透明電極２ａ及びＹ方向に延びる第２透明電極２ｂを有し、さらにこれらの交差部２Ｃで層間に介在してこれらを互いに絶縁し、交差部以外の透明電極の形成部及び非形成部を含む位置検知領域の全域にわたって、（Ａ）交差部以外の透明電極と透光性基板との間に位置するように形成されるか、（Ｂ）交差部以外の透明電極上に位置するように形成されるか、又は（Ｃ）これら両方で形成され、透光性基板の屈折率ｎ１以上で且つ透明電極の屈折率ｎ２以下となる屈折率ｎ３の絶縁層兼屈折率調整層３を有する。表示装置は、このタッチパネル基板を用いる。
【選択図】図１

Description

本発明は、タッチパネル基板、及び表示装置に関する。特に、追加的な層を設けずに位置検知用の透明電極のパターンを目立ち難くできるタッチパネル基板と、これを備えた表示装置に関する。

近年、スマートフォン、タブレットＰＣ（パーソナルコンピュータ）など各種表示装置において、表示パネルと組み合わせて使用される位置入力装置として、タッチパネルが急速に普及してきている。タッチパネルは、以前から、電磁誘導方式、抵抗膜方式など各種方式のものが知られ、各種用途で使用されてきたが、最近その中でも特に注目されてきているのは、マルチタッチ（多点同時入力）が可能な静電容量式のタッチパネルである。

図１１（ａ）は、従来のタッチパネル基板２０を、裏側からみた平面図である。同図に示すタッチパネル基板２０は、位置検知用の電極が、静電容量式の場合である。
図１１（ｂ）の部分拡大平面図は、静電容量方式における電極のパターン形状の一例を模式的に示す図である。図１２は、静電容量方式における電極のパターン形状の一例の詳細を模式的に示し、図１２（ａ）は部分拡大平面図、図１２（ｂ）は図１２（ａ）中、Ｂ−Ｂ線での部分拡大断面図である。

一般に静電容量式タッチパネルでは、図１１〜図１２に例示するように、位置検知領域Ａｐに位置検知用の透明電極２として、図面で左右方向であるＸ方向に延びる複数の第１透明電極２ａと、Ｘ方向とは直交し図面で上下方向であるＹ方向に延びる複数の第２透明電極２ｂとを有する。Ｘ方向に延びる複数の第１透明電極２ａはＹ方向に配列し、Ｙ方向に延びる複数の第２透明電極２ｂはＸ方向に配列している。ここでは、Ｘ方向に延びる電極を第１透明電極２ａと呼び、Ｙ方向に延びる電極を第２透明電極２ｂと呼ぶことにする。
静電容量式タッチパネルとしては、第１透明電極２ａ及び第２透明電極２ｂは、それぞれが別の透光性基板に形成される形態もあるが、同一基板、それも、同一基板の同一面上に形成される形態とすることで、互いの相対的位置精度を向上できる利点がある。
同図に例示した従来のタッチパネル基板２０も、第１透明電極２ａ及び第２透明電極２ｂを、一つの透光性基板の同一面上に形成した形態である。

第１透明電極２ａ及び第２透明電極２ｂのパターンとしては、投影型静電容量方式では各種パターンが知られているが、同図に例示するパターンでは、一つの第１透明電極２ａは、図１２（ａ）に示すように、菱形形状の複数の第１透明電極要素２ａＥと、互いに隣接する第１透明電極要素２ａＥ同士を接続し第１透明電極要素２ａＥに比べて面積が小さい第１接続部２ａＣと、不図示の、位置検知領域Ａｐの外周部まで延びて配線５に第１透明電極要素２ａＥを電気的に接続する為の取出し部と、から構成される。同様に、一つの第２透明電極２ｂも、図１２（ａ）に示すように、菱形形状の複数の第２透明電極要素２ｂＥと、互いに隣接する第２透明電極要素２ｂＥ同士を接続し第１透明電極要素２ａＥに比べて面積が小さい第２接続部２ｂＣと、第２透明電極要素２ｂＥを配線５に電気的に接続する不図示の取出し部と、から構成される。

図１２（ｂ）の部分拡大断面図で示すように、延在方向が互いに交差する第１透明電極２ａ及び第２透明電極２ｂは、第１接続部２ａＣと第２接続部２ｂＣとが交差する交差部２Ｃの部分で、層間に絶縁層６を介するブリッジ構造によって、互いに絶縁されて形成されている。この絶縁層６は、その絶縁の必要性から交差部２Ｃのみに形成されている。

第１透明電極２ａ及び第２透明電極２ｂなどの透明電極２は、通常は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ；インジウム錫酸化物）などの層自体が透明な透明導電体膜でパターン形成されている。
しかし、透明電極２を層自体が透明な透明導電体膜でパターン形成しても、ＩＴＯなどの透明導電体膜は屈折率が通常１．８〜２．２程度と、透光性基板１として一般的なガラスの屈折率１．５前後に比べると大きく、透明電極２が形成されている形成部と、非形成部とでは、反射率が異なるために、透明電極２のパターンが目立ちやすい。
すなわち、図１１（ｂ）中、Ａ−Ａ線での部分拡大断面図である図１３に示すように、透明電極２の形成部からの光Ｌの反射光Ｌｒ１は、非形成部からの反射光Ｌｒ２よりも強い光となる。こうした、反射光の強度差は、物質界面での光反射が、界面を構成する２物質間の屈折率差が大きいほど、大きくなるからである。

そこで、透明電極２を目立ち難くさせる不可視化技術が各種提案されている（特許文献１、特許文献２、特許文献３など参照）。

特許文献１は、図１４の断面図で示すように、透光性基板１上に、透明電極２として導電性酸化物微粒子層を用いることで、透明電極２の屈折率を１．６０〜１．７５と低めにした上で、この透明電極２上に、透明電極２の非形成部も含めて、屈折率が透明電極２の屈折率よりも小さく１．５７〜１．６５の透明誘電体層７を設け、透明電極２の形成部と非形成部との光反射強度差を小さくする構成を提案している。
特許文献２は、図１５の断面図で示すように、透光性基板１上に、互いに導通され同じ
パターンの２層の透明電極２Ｕ及び透明電極２Ｌを、間にこれと同じパターンで透明電極２Ｕ及び透明電極２Ｌとは異なる屈折率の絶縁層６を介して積層した多層膜によって、透明電極２の形成部自体の光反射を小さくする構成を提案している。したがって、この構成は、透明電極２Ｕ及び透明電極２Ｌの２層で、一般的な１層の透明電極２を構成する。
特許文献３は、図示はしないが、透光性基板１の面を、エッチング処理或いは凹凸形成層付与により、光散乱性凹凸面としておくことで、透明電極２の面に光散乱性の凹凸を付与して、透明電極２からの光を散乱させることで、正反射成分の光反射を小さくした構成を提案している。

特開２０１２−８１６６３号公報 特許第４９９８９１９号公報 特開２００９−５３８９３号公報

しかしながら、特許文献１、特許文献２及び特許文献３のような従来の不可視化技術は、いずれも、追加の層或いは追加の処理が必要となるものであった。このため、工程数が増えてその分、コストを押し上げるという問題があった。

そこで、本発明の課題は、追加的な層を設けずに、位置検知用の透明電極のパターンを目立ち難くできるタッチパネル基板を提供することである。また、これを備えた表示装置を提供することである。

本発明では、次のような構成のタッチパネル基板、及び表示装置とした。
（１）第１面とこの第１面とは反対側の第２面とを有する透光性基板と、
前記透光性基板の第１面及び第２面のいずれか一方の面上に形成された位置検知用の透明電極として、第１方向に延びる第１透明電極と、この第１透明電極と絶縁され前記第１方向と交差する第２方向に延びる第２透明電極と、
前記透明電極の第１透明電極及び第２透明電極が互いに交差する交差部においては、前記第１透明電極及び第２透明電極を互いに絶縁し、前記交差部以外の前記透明電極の形成部及び非形成部を含む位置検知領域にわたって、
（Ａ）前記交差部以外の透明電極と前記透光性基板との間に位置するように形成されるか、
（Ｂ）前記交差部以外の透明電極上に位置するように形成されるか、又は、
（Ｃ）前記（Ａ）及び（Ｂ）の両方で形成され、
前記透光性基板の屈折率ｎ１以上で且つ前記透明電極の屈折率ｎ２以下となる屈折率ｎ３の絶縁層兼屈折率調整層と、
を有する、タッチパネル基板。
（２）前記透光性基板の一方の面上であって前記位置検知領域の外周部に、加飾部を形成する遮光層を有する、前記（１）のタッチパネル基板。
（３）前記透光性基板の一方の面上であって前記遮光層上に、不透明な配線を有し、
前記透明電極が前記配線に接続されるように延びている、前記（２）のタッチパネル基板。
（４）表示パネルと、この表示パネルの観察者側に配置された前記（１）〜（３）のいずれかのタッチパネル基板と、を含む、表示装置。

本発明のタッチパネル基板によれば、追加的な層を設けずに、位置検知用の透明電極のパターンを目立ち難くすることができる。
本発明の表示装置によれば、それが備えるタッチパネル基板が、前記効果を有する。

本発明によるタッチパネル基板の第１の実施形態（先形成のブリッジ接続部）を示す部分拡大平面図（ａ）と、平面図中Ｃ−Ｃ線での部分拡大断面図（ｂ）。 図１のタッチパネル基板に対する各層の積層順序を説明する部分拡大平面図。 本発明によるタッチパネル基板の第２の実施形態（後形成のブリッジ接続部２Ｂ）を示す部分拡大平面図（ａ）と、平面図中Ｃ−Ｃ線での部分拡大断面図（ｂ）。 図３のタッチパネル基板に対する各層の積層順序を説明する部分拡大平面図。 本発明によるタッチパネル基板の第３の実施形態（加飾部付き）の全体を示す裏側からみた平面図。 図５のタッチパネル基板の平面図中Ｃ−Ｃ線での部分拡大断面図。 本発明によるタッチパネル基板の第４の実施形態（ブリッジ接続部なしスルーホールなし）を示す部分拡大平面図（ａ）と、平面図中Ｃ−Ｃ線での部分拡大断面図（ｂ）。 図７のタッチパネル基板に対する各層の積層順序を説明する部分拡大平面図。 本発明による表示装置の一実施形態を説明する断面図。 本発明による表示装置の別の実施形態（前面保護板一体型タッチパネル基板）を説明する断面図。 従来のタッチパネル基板の一例を示す裏側からみた平面図（ａ）と、透明電極の電極パターンの一例を示す部分拡大平面図（ｂ）。 従来の透明電極の電極パターンの一例の詳細を示す部分拡大平面図（ａ）と、平面図（ａ）中Ｂ−Ｂ線での交差部周辺の部分拡大断面図。 従来のタッチパネル基板で透明電極が目立つ理由を説明する断面図。 従来のタッチパネル基板における透明電極の不可視化技術の一例（特許文献１）を示す断面図。 従来のタッチパネル基板における透明電極の不可視化技術の別の一例（特許文献２）を示す断面図。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、図面は概念図であり、説明上の都合に応じて適宜、構成要素の縮尺関係、縦横比等は誇張されていることがある。

〔Ａ〕用語の定義：
以下に、本発明において用いる主要な用語について、その定義をここで説明しておく。
「表側」とは、タッチパネル基板或いはその他の構成要素において、タッチパネル基板を表示パネルと組み合わせて使用したときに、表示パネルからの表示光が出光する側であり、表示パネルの表示を観察する観察者の側を意味する。
「裏側」とは、前記「表側」とは反対側を意味し、タッチパネル基板或いはその他の構成要素において、表示パネルからの表示光が入光する側を意味する。
「第１面」と「第２面」とは、何れかが前記「表側」となり、何れの面が前記「表側」となるかは任意である。
「第１面」と「第２面」とは、何れかが「一方の面」となり、何れの面が「他方の面」となるかは任意である。
ただし、本明細書においては、位置検知用の透明電極を必ず有する側の面を「一方の面」と呼ぶことにしており、この一方の面が裏側として使用される面となる。「一方の面」乃至は「裏側」の面を「第１面Ｓ１」とも呼び、「他方の面」乃至は「表側」の面を「第２面Ｓ２」とも呼ぶ。

〔Ｂ〕タッチパネル基板１０：
本発明によるタッチパネル基板１０を、実施形態ごとに説明する。

《第１の実施形態：ブリッジ接続部２Ｂ先形成》
本実施形態は、透明電極が投影型静電容量方式用の場合で、透明電極２のうちブリッジ接続部２Ｂは他の部分の透明電極２よりも先に形成する形態である。

図１（ａ）は、本実施形態のタッチパネル基板１０における透明電極２のパターンを示す裏側からみた部分拡大平面図である。図１（ｂ）は、図１（ａ）中のＣ−Ｃ線での部分拡大断面図である。
図２は、図１のタッチパネル基板１０に対する各層の積層順序を説明する部分拡大平面図である。

図１（ａ）、図１（ｂ）、及び図２は、互いに、左右方向などの各構成要素間の寸法の大小関係は、維持されていない。
これらの図面表記に関することは、本発明に係る他の実施形態における図面についても同様である。

図１に示す実施形態のタッチパネル基板１０は、
第１面Ｓ１とこの第１面Ｓ１とは反対側の第２面Ｓ２とを有する透光性基板１と、
透光性基板１の第１面Ｓ及び第２面Ｓ２のいずれか一方の面として、第１面Ｓ１の面上に形成された位置検知用の透明電極２とを有し、この透明電極２は、第１方向に延びる第１透明電極２ａと、第１透明電極２ａと絶縁され第１方向と交差する第２方向に延びる第２透明電極２ｂとを有する。
さらに、タッチパネル基板１０は、第１透明電極２ａ及び第２透明電極２ｂが互いに交差する交差部２Ｃにおいては、第１透明電極２ａ及び第２透明電極２ｂを互いに絶縁し、交差部２Ｃ以外の透明電極２の部分においては、当該透明電極２と透光性基板１との層間に位置するように当該透明電極２及び透光性基板１に接して形成され、透光性基板１の屈折率ｎ１以上で且つ透明電極２の屈折率ｎ２以下となる屈折率ｎ３の絶縁層兼屈折率調整層３を有する、構成となっている。

本実施形態においては、透光性基板１の一方の面となる第１面Ｓ１は、図１（ｂ）の断面図において図面上方の面である。したがって、タッチパネル基板１０は、この断面図において、図面下側の第２面Ｓ２を、表側として、タッチパネルの操作者でもある表示パネルの観察者Ｖに向けて、用いられることを想定した形態である。

本実施形態においては、位置検知用の透明電極２は、投影型静電容量方式のパターンの例である。透明電極２のパターンは、図１（ａ）に示す、第１方向としてＸ方向に延びる複数の第１透明電極２ａと、第２方向としてＹ方向に延びる複数の第２透明電極２ｂとが、互いに絶縁されて交差するように形成されている。
図１では、ＸＹ直交座標系において、第１方向であるＸ方向が図面左右方向であり、第２方向であるＹ方向が図面上下方向である。

一つの第１透明電極２ａは、図１（ａ）に示すように、菱形形状の複数の第１透明電極要素２ａＥと、互いに隣接する第１透明電極要素２ａＥ同士を接続し第１透明電極要素２ａＥに比べて面積が小さい第１接続部２ａＣと、不図示の、位置検知領域の外周部まで延びて配線５（後述図５参照）に第１透明電極要素２ａＥを電気的に接続する為の取出し部と、から構成される。同様に、一つの第２透明電極２ｂも、図１（ａ）に示すように、菱形形状の複数の第２透明電極要素２ｂＥと、互いに隣接する第２透明電極要素２ｂＥ同士を接続し第１透明電極要素２ａＥに比べて面積が小さい第２接続部２ｂＣと、第２透明電極要素２ｂＥを配線５に電気的に接続する不図示の取出し部と、から構成される。
前記取出し部については、後述第３の実施形態を説明する部分拡大断面図である図６中の符号２Ｄが、それである。

本実施形態においては、タッチパネルの位置検知方式は投影型静電容量方式の例であるが、本発明においては、位置検知方式は投影型静電容量方式に限定されず、その他の位置検知方式であってもよい。

本実施形態においては、第１透明電極２ａを構成する第１透明電極要素２ａＥ、第１接続部２ａＣ、及び取出し部の全ては、ＩＴＯで形成された透明導電体膜から構成され、同様に第２透明電極２ｂを構成する、第２透明電極要素２ｂＥ、第２接続部２ｂＣ、及び取出し部も、全てＩＴＯで形成された透明導電体膜から構成されている。

〔交差部２Ｃとブリッジ構造〕
本実施形態においては、互いに異なる方向に延びる第１透明電極２ａと第２透明電極２ｂとを、その第１透明電極要素２ａＥと第２透明電極要素２ｂＥとを同一面に形成する形態例である関係上、第１透明電極２ａと第２透明電極２ｂとが交差する交差部２Ｃは、絶縁層兼屈折率調整層３を層間に介して互いに絶縁されるブリッジ構造を有する。
交差部２Ｃは、本実施形態の透明電極２は、図１及び図２に示すパターンであるので、第１接続部２ａＣ及び第２接続部２ｂＣによって形成される。
本実施形態においては、交差部２Ｃを形成する第１接続部２ａＣが、絶縁層兼屈折率調整層３の下をくぐりぬけるブリッジ接続部２Ｂを形成している。したがって、ブリッジ接続部２Ｂを形成する第１接続部２ａＣは、互いに離間して形成される第１透明電極要素２ａＥ同士を接続する。

［ブリッジ接続部２Ｂ］
本発明においては、「ブリッジ接続部２Ｂ」とは、ブリッジ構造を有する交差部２Ｃにおいて、交差部２Ｃ以外の部分と連続層として形成されてなく、互いに離間して形成されている電極部分を接続する部分を意味する。
本発明においては、ブリッジ接続部２Ｂは、ブリッジ構造において、厚み方向で絶縁層兼屈折率調整層３の上を跨ぐ構造となる形態と、絶縁層兼屈折率調整層３の下をくぐりぬける形態がある。絶縁層兼屈折率調整層３の上とは、絶縁層兼屈折率調整層３よりも透光性基板１から遠い位置を意味し、絶縁層兼屈折率調整層３の下とは絶縁層兼屈折率調整層３と透光性基板１との間の位置を意味する。
本実施形態は、ブリッジ接続部２Ｂは、絶縁層兼屈折率調整層３の下をくぐりぬける形態例である。換言すると、ブリッジ構造において、ブリッジ接続部２Ｂは、絶縁層兼屈折率調整層３を形成する前に形成する形態である。

ブリッジ接続部２Ｂの外形形状の寸法は、例えば、図１に示す本実施形態においては、幅５〜２００μｍ、長さ２０〜５００μｍの長方形である。前記幅とは、第２方向（図面Ｙ方向）の寸法であり、前記長さとは、第１方向（図面Ｘ方向）の寸法である。

本実施形態においては、透明電極２は、交差部２Ｃのブリッジ構造において、絶縁層兼屈折率調整層３の下を通るブリッジ下側部（第１接続部２ａＣ）も、絶縁層兼屈折率調整層３の上を通るブリッジ上側部（第２接続部２ｂＣ）も、共に、ＩＴＯで形成された透明導電体膜を用いてある。

ただ、本発明においては、交差部２Ｃ以外の部分と連続層として形成されていないブリッジ接続部２Ｂについては、透明電極２全体の面積からすれば小さいので、ブリッジ接続部２Ｂを構成する第１接続部２ａＣ又は第２接続部２ｂＣは、配線５を構成する金属層などを用いてもよい。
このように、本発明においては、透明電極２は、第１透明電極２ａ或いは第２透明電極２ｂは、その全ての部分が透明である必要はない。

〔絶縁層兼屈折率調整層３〕
透明電極２の電極パターンが本実施形態のようなパターンであるとき、図１２に示した従来の構成例のように、交差部２Ｃのブリッジ構造を絶縁するための絶縁層６は、交差部２Ｃのみに形成されればよく、したがって、透明電極２のパターン中、その主要な面積を占める第１透明電極要素２ａＥ及び第２透明電極要素２ｂＥの部分には形成される必要がない。
一方、本実施形態においては、交差部２Ｃの絶縁を兼ねる絶縁層兼屈折率調整層３は、交差部２Ｃに形成されると共に、透明電極２のパターン中、第１透明電極要素２ａＥ及び第２透明電極要素２ｂＥの部分、及びこれらの透明電極２の非形成部の部分も含めて位置検知領域Ａｐの全面にわたって形成される。絶縁層兼屈折率調整層３は、とりわけ、交差部２Ｃ以外の部分、換言すると位置検知領域Ａｐ内で面積的に主要な部分においては、物質界面での光反射が減るように屈折率差を調整する機能を有する。しかも、絶縁層兼屈折率調整層３は、交差部２Ｃの部分と交差部２Ｃ以外の部分とが連続した連続層として同時に形成されている。したがって、本実施形態においては、絶縁層兼屈折率調整層３が、交差部２Ｃ以外の部分にまで形成されても、追加の層が必要になることもなく、また、追加の工程が必要になることもなく、位置検知用の透明電極２のパターンを目立ち難くすることができることになる。

〔製造方法〕
図１に示す本実施形態のタッチパネル基板１０に対する製造方法について、図２の部分拡大平面図で示す各層の積層順序で説明する。
図２（Ａ）に示すように先ず、透光性基板１にブリッジ接続部２Ｂを形成する。
次に、図２（Ｂ）に示すように、ブリッジ接続部２Ｂ上も含めて位置検知領域Ａｐの全面に、ブリッジ接続のためのスルーホール３ｈを有する絶縁層兼屈折率調整層３を形成する。位置検知領域Ａｐは、同図では明示していないが、後述する図５を参照されたい。
次に、図２（Ｃ）に示すように、ブリッジ接続部２Ｂ以外の透明電極２を形成して、スルーホール３ｈ部分でブリッジ接続を完成させて、本実施形態のタッチパネル基板１０が得られる。

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル基板１０では、交差部２Ｃのブリッジ構造の絶縁を兼ねる絶縁層兼屈折率調整層３が、交差部２Ｃ以外の部分での透明電極２の形成部と共に非形成部にも形成されているので、透明電極２の形成部と非形成部との光反射の強度差を小さくすることができる。その結果、追加的な層を設けずに、位置検知用の透明電極２のパターンを目立ち難くすることができる。

＜材料及び形成法＞
以下、本実施形態で用いられる各層ごとに材料及び形成法を説明する。

〔透光性基板１〕
前記透光性基板１は、公知の材料を用いることができ、代表的にはガラス板であるが、
ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂などの樹脂材料でもよい。

透光性基板１の屈折率ｎ１は、ガラスを用いた場合、通常、１．４５〜１．６５程度であり、樹脂を用いた場合、通常、１．４５〜１．６０程度である。屈折率ｎ１の具体例を挙げれば、ガラスでは１．５２、樹脂では、アクリル系樹脂は１．４９、ポリカーボネート系樹脂は１．５９、ポリエステル系樹脂は１．５８である。

〔透明電極２〕
透明電極２には、層自体が透明である透明導電体膜を用いることができる。
透明導電体膜からなる透明電極２としては、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ；インジウム錫酸化物）、ＩＺＯ（登録商標；出光興産株式会社）（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ；インジウム亜鉛化物）、ＡＺＯ（Ａｌｕｍｉｎｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ；アルミニウム亜鉛酸化物）、ＩＧＺＯ（登録商標；シャープ株式会社）（Ｉｎｄｉｕｍ Ｇａｌｌｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ、インジウムガリウム亜鉛酸化物）、等の透明導電体膜をパターン形成したものを用いることができる。
透明電極２の厚みは、例えば、１０〜２００ｎｍである。

透明電極２の屈折率ｎ２は、具体例を挙げれば、ＩＴＯは１．７〜２．２、通常は１．８〜１．９であり、ＩＺＯは１．９〜２．４であり、ＡＺＯは１．９である。

〔絶縁層兼屈折率調整層３〕
絶縁層兼屈折率調整層３は、透明で絶縁性の層であると共に、その屈折率ｎ３が，透光性基板１の屈折率ｎ１以上で透明電極２の屈折率ｎ２以下となる層である。
絶縁層兼屈折率調整層３には、透明で絶縁性であり、且つ前記屈折率関係を満たすことができるものであれば、公知の材料及び形成法を採用することができる。
なお、本明細書において、「絶縁」及び「接続する」とは、いずれも電気的な意味での用語として用いる。
絶縁層兼屈折率調整層３は、透明であるが、これは、タッチパネル基板１０の透明性を低下させないためである。

絶縁層兼屈折率調整層３には、樹脂中に、屈折率が透光性基板１の屈折率ｎ１以上の高屈折率粒子を含有させた高屈折率粒子含有樹脂層、或いは、物質自体が透光性基板１の屈折率ｎ１以上の屈折率を示す高屈折率無機化合物層を用いることができる。
絶縁層兼屈折率調整層３の厚みは、例えば、０．０５〜２μｍである。

高屈折率粒子含有樹脂層の樹脂としては、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂などの硬化性樹脂を用いることができる。硬化性樹脂としては、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂、光硬化性のアクリル系の感光性樹脂などを用いることができる。高屈折率粒子含有樹脂層の樹脂として、感光性樹脂を用いるときは、フォトリソグラフィ法を利用して、スルーホール３ｈを非形成部としてパターン形成することができる。例えば、高屈折率粒子含有樹脂層は、感光性樹脂として紫外線硬化型アクリル系樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。

高屈折率粒子含有樹脂層の高屈折率粒子としては、その屈折率が透光性基板１の屈折率ｎ１以上となる粒子であればよく、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウムなどの粒子を用いることができる。これら粒子は、１種単独使用又は２種以上を併用することができる。
屈折率は、例えば、酸化チタンは２．５〜２．７、酸化ジルコニウムは２．１である。

前記高屈折率無機化合物層を形成する無機化合物としては、例えば、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素、五酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、などを用いることができる。これらは、単独で或いは２種以上の混合層として形成することができる。屈折率は、例えば、酸窒化ケイ素は１．５〜２．０、窒化ケイ素は１．８〜２．１、五酸化ニオブは２．３である。
こうした、高屈折率無機化合物層は、エッチングレジスト及びフォトリソグラフィ法を利用して、スルーホール３ｈを非形成部としてパターン形成することができる。

絶縁層兼屈折率調整層３の屈折率ｎ３は、透光性基板１の屈折率ｎ１以上、透明電極２の屈折率ｎ２以下である。すなわち、ｎ１≦ｎ３≦ｎ２である。
絶縁層兼屈折率調整層３の屈折率ｎ３を、透光性基板１及び透明電極２の屈折率に対して前記関係とすることによって、透明電極２と他の物質との界面での屈折率差を小さくすることができる結果、当該界面で生じる光反射量を減らすことができる。
本発明において、各屈折率は、波長５５０ｎｍにおける屈折率とする。屈折率は、市販の屈折率計を用いて測定することができる。

〔材料及び屈折率の組み合わせ例〕
本実施形態において、透光性基板１、透明電極２、及び絶縁層兼屈折率調整層３の各層の材料及び屈折率の組み合わせの例を以下に示す。
・透光性基板１：ガラス板、屈折率ｎ１は１．５２。
・透明電極２：ＩＴＯ、屈折率ｎ２は１．８０。
・絶縁層兼屈折率調整層３：酸化ジルコニウム粒子を含むアクリル系感光性樹脂で形成した高屈折率粒子含有樹脂層、屈折率ｎ３は１．６２。
・屈折率関係：ｎ１＜ｎ３＜ｎ２。
透光性基板１の屈折率ｎ１よりも大きく且つ透明電極２の屈折率ｎ２よりも小さい屈折率ｎ３の絶縁層兼屈折率調整層３となっている。
・厚みは、例えば、透明電極２は３５ｎｍ、絶縁層兼屈折率調整層３は１μｍである。

《第２の実施形態：ブリッジ接続部２Ｂ後形成》
図３に示す本実施形態は、交差部２Ｃにおけるブリッジ構造のブリッジ接続部２Ｂの上下関係を、前記図１及び図２に示した第１の実施形態に対して、逆構造とした形態である。
図３（ａ）は、本実施形態のタッチパネル基板１０における透明電極２のパターンを示す裏側からみた部分拡大平面図である。図３（ｂ）は、図３（ａ）中のＣ−Ｃ線での部分拡大断面図である。
図４は、図３のタッチパネル基板１０に対する各層の積層順序を説明する部分拡大平面図である。

本実施形態は、前記した第１の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
ａ）交差部２Ｃにおけるブリッジ構造が、絶縁層兼屈折率調整層３の上下で逆構造となっている点。この結果、ブリッジ接続部２Ｂは、絶縁層兼屈折率調整層３よりも後に形成される点。
ｂ）上記ａ）に関連して、交差部２Ｃ以外の透明電極２の部分では、絶縁層兼屈折率調整層３はこの透明電極２と透光性基板１との間ではなく、この透明電極２上に形成される点。

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル基板１０は、次のようにして製造することができる。
図４（Ａ）に示すように先ず、透光性基板１にブリッジ接続部２Ｂとなる部分を除く透明電極２を形成する。
次に、図４（Ｂ）に示すように、位置検知領域Ａｐの全面に、ブリッジ接続のためのスルーホール３ｈを有する絶縁層兼屈折率調整層３を形成する。位置検知領域Ａｐは、同図では明示していないが、後述する図５を参照されたい。
次に、図４（Ｃ）に示すように、ブリッジ接続部２Ｂを形成して、スルーホール３ｈ部分でブリッジ接続を完成させて、本実施形態のタッチパネル基板１０が得られる。

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル基板１０では、交差部２Ｃのブリッジ構造の絶縁を兼ねる絶縁層兼屈折率調整層３が、交差部２Ｃ以外の部分での透明電極２の形成部と共に非形成部にも形成されているので、透明電極２の形成部と非形成部との光反射の強度差を小さくすることができる。その結果、追加的な層を設けずに、位置検知用の透明電極２のパターンを目立ち難くすることができる。

なお、本実施形態においては、絶縁層兼屈折率調整層３は交差部２Ｃ以外の部分で透明電極２上に形成されるが、透明電極２と空気との界面での屈折率差を小さくする意味では、絶縁層兼屈折率調整層３の屈折率ｎ３は、透光性基板１の屈折率ｎ１よりも小さくてもよいことになる。透光性基板１の屈折率ｎ１よりも小さいものを用いることも可能ではあるが、実用上、コスト、入手の容易さなどを考慮すると、絶縁層兼屈折率調整層３の下限は、透光性基板１の屈折率ｎ１とするのが好ましい。
また、タッチパネル基板１０を表示装置などに適用したときに、絶縁層兼屈折率調整層３と表示パネルなど他の構成部材との間に空隙を設けずに、他の構成部材との間を樹脂層で埋め尽くして空気層との界面での光反射を抑える構成に適用することを考慮すると、樹脂層の屈折率は樹脂製の透光性基板１と同程度とみなすこともできる。
よって、本実施形態においても、絶縁層兼屈折率調整層３の屈折率ｎ３は透光性基板１の屈折率ｎ１以上となっている。

《第３の実施形態：加飾部付加；前面保護板一体型タッチパネル基板》
図５に示す本実施形態は、タッチパネル基板１０が、表示装置用前面保護板も兼用する形態であり、位置検知領域Ａｐの外周部に加飾部４を有し、さらに加飾部４上に透明電極２に接続されている不透明な配線５を有する形態である。
図５は、本実施形態によるタッチパネル基板１０の全体を裏側からみた平面図であり、図６は、図５中、Ｃ−Ｃ線での部分拡大断面図である。
本実施形態では、前記図１及び図２で説明した第１の実施形態に対する変形形態として、加飾部４及び配線５も有する形態例である。

本実施形態は、前記第１の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
ａ）位置検知領域Ａｐの外周部に加飾部４として遮光層４ａが形成されている点。
ｂ）加飾部４の遮光層４ａ上に、配線５を有し、この配線５に接続するように、透明電極２が位置検知領域Ａｐから延びている点。

〔加飾部４の付加と、表示装置用前面保護板との兼用〕
本実施形態で例示するように、本発明において、タッチパネル基板１０は、位置検知領域Ａｐの外周部に加飾部４を有することができる。加飾部４は、配線５などを隠すために、遮光性を有する遮光層４ａを少なくとも有する。換言すると、加飾部４は、少なくとも遮光層４ａから形成されている。

加飾部４は、タッチパネル基板１０を含むタッチパネル、このタッチパネルを用いた表示装置において、位置検知領域Ａｐの外周部に位置する配線５や制御回路などを、表示装置の観察者Ｖ乃至はタッチパネルの操作者から、見えないように隠して、外観が損なわれないようにすると共に、任意の意匠を表現する部分である。
タッチパネル基板１０は、位置検知領域Ａｐの外周部に加飾部４を有することで、カバーガラスなど表示装置用前面保護板としての機能を担うことができ、表示装置用前面保護板と兼用させることができる。
表示装置用前面保護板を兼用した構成のタッチパネル基板１０は、「前面保護板一体型タッチパネル基板」ということもできる。
タッチパネル基板１０は、表示装置用前面保護板を兼用し一体化することで、さらに、部品点数の低減、薄型化の効果が得られる。

［遮光層４ａ］
遮光層４ａそれ自体としての遮光性は、要求仕様、表現色にもよるが、透過率で言えば大きくても３％以下（光学濃度ＯＤにて１．５以上）、より好ましくは透過率で１％以下（光学濃度ＯＤ２．０以上）、さらに好ましくは透過率で０．０１％以下（光学濃度ＯＤ４．０以上）が望ましい。透過率が上記値を超えると、隠すべき部品などが見えてしまうことがあるからである。

遮光層４ａは、公知の材料及び形成法で形成することができる。例えば、遮光層４ａは、着色顔料を硬化性樹脂の硬化物からなる樹脂バインダ中に含む層から形成することができる。硬化性樹脂としては紫外線硬化型アクリル系樹脂などの感光性樹脂を用いることができる。

遮光層４ａに用いる着色顔料としては、遮光層４ａで表現する色に応じたものを用いればよく、特に制限はない。例えば、着色顔料としては、黒色顔料、白色顔料、赤色顔料、黄色顔料、青色顔料、緑色顔料、紫色顔料などを用いることができる。着色顔料は、１種単独で用いてもよいし、同種類の色、或いは異なる色の着色顔料を複数種類用いてもよい。

〔配線５〕
配線５には、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、配線５には、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウム、パラジウム、モリブデンなどの金属（含むその合金）などを用いることができる。配線５は、例えば、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金（ＡＰＣとも言う）の金属層としてスパッタ法により製膜後、フォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。
配線５には、モリブデン（Ｍｏ）／アルミニウム（Ａｌ）／モリブデン（Ｍｏ）と３層積層構造の導電性層（ＭＡＭと呼ばれている）を用いることもできる。
本実施形態においては、配線５は、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金（ＡＰＣとも言う）によって、導電性金属層として形成されている。
配線５の形成法としては、特に制限はなく、フォトリソグラフィ法以外に、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法などの印刷法によって形成してもよい。

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル基板１０は、次のようにして製造することができる。
先ず、透光性基板１に加飾部４の遮光層４ａを形成し、次いで配線５を形成する。
後は、第１の実施形態の場合と同様にして、透明電極２、絶縁層兼屈折率調整層３を形成する。
こうして、本実施形態のタッチパネル基板１０が得られる。

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることでも、本実施形態におけるタッチパネル基板１０は、交差部２Ｃのブリッジ構造の絶縁を兼ねる絶縁層兼屈折率調整層３が、交差部２Ｃ以外の部分での透明電極２の形成部と共にその非形成部にも形成されているので、透明電極２の形成部と非形成部との光反射の強度差を小さくすることができる。その結果、追加的な層を設けずに、位置検知用の透明電極２のパターンを目立ち難くすることができる。
しかも、こうした前記第１の実施形態で説明した効果に加えて、加飾部４を設けて表示装置用前面保護板を兼用するタッチパネル基板１０としてあるので、部品点数の低減、薄型化の効果が得られる。

《第４の実施形態：ブリッジ接続部２Ｂなしスルーホール３ｈなし》
図７に示す本実施形態は、交差部２Ｃにおけるブリッジ構造がなく、したがってブリッジ接続部２Ｂ及びスルーホール３ｈがない形態である。
図７（ａ）は、本実施形態のタッチパネル基板１０における透明電極２のパターンを示す裏側からみた部分拡大平面図である。図７（ｂ）は、図７（ａ）中のＣ−Ｃ線での部分拡大断面図である。
図８は、図７のタッチパネル基板１０に対する各層の積層順序を説明する部分拡大平面図である。

本実施形態は、前記した第１の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
ａ）交差部２Ｃにおけるブリッジ構造がない点。この結果、透明電極２はブリッジ接続部２Ｂを有さず、絶縁層兼屈折率調整層３はスルーホール３ｈを有さない点。
ｂ）上記ａ）に関連して、第１透明電極２ａと第２透明電極２ｂの形成面は、共に透光性基板１の第１面Ｓ１上ではあるが異なる面であり、具体的には第１透明電極２ａは絶縁層兼屈折率調整層３の面、第２透明電極２ｂは透光性基板１の面である点。換言すると、常に絶縁層兼屈折率調整層３の面上（表側）に第１透明電極２ａがあり、常に絶縁層兼屈折率調整層３の透光性基板１側（裏側）に第２透明電極２ｂがある点。さらに換言すると、絶縁層兼屈折率調整層３は、（Ａ）交差部２Ｃ以外の透明電極２として第１透明電極２ａと透光性基板１との間に位置するように形成される部分を有し、（Ｂ）交差部２Ｃ以外の透明電極２として第２透明電極２ｂ上に位置するように形成される部分を有し、結局、（Ｃ）前記（Ａ）及び（Ｂ）の両方で形成され、交差部２Ｃにおいても、第１透明電極２ａ或いは第２透明電極２ｂに対して同様に形成される。

〔透明電極２の完全層間に位置する絶縁層兼屈折率調整層３〕
本実施形態では、絶縁層兼屈折率調整層３は、第１透明電極２ａに対しては、常に第１透明電極２ａと透光性基板１との間に位置し、第２透明電極２ｂに対しては、常に第２透明電極２ｂの面上に位置する。

本実施形態のように、透光性基板１の一方の面上に形成する透明電極２として、その第１透明電極２ａと第２透明電極２ｂとの形成面を前記一方の面上ではあるが、全ての部分で完全に異なる面に形成する形態は、以前から知られている。ただ、従来は、第１透明電極２ａと第２透明電極２ｂとを互いに絶縁するために、これらの間に介在する絶縁層は、単なる樹脂層で形成するなど、その屈折率まで考慮されているとは言えない。
一方、本実施形態では、前記〔材料及び屈折率の組み合わせ例〕欄で示したような樹脂中に高屈折率粒子を含有する高屈折率粒子含有樹脂層を、絶縁層兼屈折率調整層３として用いている。
このため、本実施形態では、透明電極２のパターンを目立ち難くすることが可能となる。

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル基板１０は、次のようにして製造することができる。
図８（Ａ）に示すように先ず、透光性基板１に第２透明電極２ｂを形成する。
次に、図８（Ｂ）に示すように、位置検知領域Ａｐの全面に、絶縁層兼屈折率調整層３を形成する。位置検知領域Ａｐは、同図では明示していないが、前述した図５を参照されたい。この絶縁層兼屈折率調整層３にはスルーホール３ｈがない。
次に、図８（Ｃ）に示すように、第１透明電極２ａを形成して、本実施形態のタッチパネル基板１０が得られる。

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル基板１０では、交差部２Ｃにブリッジ構造を用いずに、交差部２Ｃの絶縁を兼ねる絶縁層兼屈折率調整層３が、全域の形成部と共にその非形成部にも形成されているので、透明電極２の形成部と非形成部との光反射の強度差を小さくすることができる。その結果、追加的な層を設けずに、位置検知用の透明電極２のパターンを目立ち難くすることができる。
しかも、この絶縁層兼屈折率調整層３によって、追加的な層を設けずに、位置検知用の透明電極２のパターンを目立ち難くすることができる。

《変形形態》
本発明のタッチパネル基板１０は、上記した形態以外のその他の形態をとり得る。以下、その一部を説明する。

［配線５付きのタッチパネル基板１０］
前記第３の実施形態のタッチパネル基板１０では、配線５は、位置検知領域Ａｐの外周部の加飾部４を構成する遮光層４ａ上に形成された例であった。
しかし、本発明においては、透明電極２に接続される配線５は、加飾部４を有さない形態においても、位置検知領域Ａｐの外周部に形成されていてもよい。こうした形態のタッチパネル基板１０は、表示装置用前面保護板を兼用しない、配線５付きのタッチパネル基板１０である。
配線５付きのタッチパネル基板１０に、例えば、コネクタ、制御回路なとのタッチパネルとして必要な機能の全部を一体化させれば、このタッチパネル基板１０は、タッチパネルと言うこともできる。こうした形態により、部品点数の低減、薄型化の効果も得られる。或いは、タッチパネルとして必要な機能の一部を一体化する形態としても、その分に応じた部品点数の低減、薄型化の効果は得られる。

〔オーバーコート層〕
本発明においては、図示はしないが、例えば配線５及び透明電極２が形成された後の面上など、透明電極２が形成される側である第１面Ｓ１側の最表層として、オーバーコート層が形成されていてもよい。オーバーコート層は位置検知領域Ａｐ及びその外周部にわたって形成されていてもよい。この場合、オーバーコート層は、表示に支障を来たさないように、透明な層として形成される。透明電極２に接して形成されるオーバーコート層は絶縁性とする。
オーバーコート層によって、絶縁性、耐傷付き性など信頼性を向上させることができる。
オーバーコート層は、遮光層４ａ上にまで透明電極２を延長して形成する際に、遮光層４ａの段差部分での断線を減らすために、設けることもできる。

オーバーコート層には、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、オーバーコート層は、透明な樹脂、それも耐熱性の点で硬化性樹脂が好ましく、熱硬化型エポキシ樹脂、紫外線硬化型アクリル系樹脂などを用いることができる。パターン形成する場合は、フォトリソグラフィ法で形成することができる。

〔加飾部４：可視情報〕
本発明においては、図示はしないが、加飾部４が形成されている部分に、可視情報が形成されていてもよい。可視情報は、加飾部４の領域内において、製品ロゴマーク、操作説明用の文字や記号、模様などの任意の目視可能な情報である。可視情報には、公知の材料及び形成法を採用することができる。

〔加飾部４：通知窓〕
本発明においては、図示はしないが、加飾部４が形成されている部分に、通知窓が形成されていてもよい。通知窓は、タッチパネル基板１０を適用する表示装置が携帯電話の場合で言えば、着信や電池の充電状態などの各種動作状態を、光の点滅、点灯、及び色などにより、使用者に通知する部分である。通知窓には、公知の構成、材料及び形成法を採用することができる。

〔加飾部４：赤外透過窓〕
本発明においては、図示はしないが、加飾部４が形成されている部分に、赤外透過窓が形成されていてもよい。赤外透過窓は、タッチパネル基板１０を適用する表示装置が携帯電話の場合で言えば、通話時に携帯電話を耳にあてがったときに、タッチパネルの誤作動を防ぐ必要から、また、表示パネルの表示を消して電池寿命を長くする観点などから、人肌の接近を感知する人感センサとして設ける赤外線センサの前方の部分に設けられる。赤外透過窓は、可視光に対しては遮光性を示すと共に赤外光に対しては透過性を示す。赤外透過窓には、公知の構成、材料及び形成法を採用することができる。

〔Ｃ〕表示装置：
本発明による表示装置は、表示パネルと、この表示パネルの観察者側に配置された上記したタッチパネル基板１０と、を少なくとも含む表示装置である。以下、代表的な２形態を例に説明する。

《第１の実施形態》
図９に例示する本発明による表示装置１００は、表示パネル４０と、この表示パネル４０の観察者Ｖ側に、前記したタッチパネル基板１０を含むタッチパネル３０と、カバーガラスなど表示装置用前面保護板５０とを少なくとも、この順に備える構成例である。
表示パネル４０は、液晶表示パネル、電界発光（ＥＬ）パネルが代表的であるが、この他、電子ペーパーパネル、ブラウン管でもよく、公知の各種表示パネルでよい。
タッチパネル３０は、タッチパネル基板１０を含み、さらに、タッチパネル機能を実現する為の制御回路、コネクタなどの公知の必要な部品を含む。

表示装置用前面保護板５０には、公知のものを採用することができ、例えば、化学強化ガラスなどのガラス板、アクリル樹脂などの樹脂板を透明な基材として用い、この基材の中央部は表示用領域として、この表示用領域の外周部に不透明な加飾部４を黒色など任意の色及び模様で加飾したものを採用することができる。
表示装置用前面保護板５０としては、タッチパネル基板１０を含むタッチパネル３０が、位置検知領域Ａｐの外周部に加飾部４を含む場合には、加飾部４は省略する構成もあり得る。

このような構成とすることで、タッチパネル３０が備えるタッチパネル基板１０における透明電極２のパターンを、追加的な層を設けずに目立ち難くした表示装置とすることができる。

《第２の実施形態》
図１０に例示する本発明による表示装置１００は、表示パネル４０と、この表示パネル４０の観察者Ｖ側に、カバーガラスなど表示装置用前面保護板５０を兼用する形態の前記したタッチパネル基板１０を含むタッチパネル３０を少なくとも備える構成例である。
このような構成とすることで、前記表示装置としての第１の実施形態による効果であるタッチパネル基板１０における透明電極２のパターンを、追加的な層を設けずに目立ち難くした表示装置とすることができる効果に加えて、部品点数の低減、薄型化の効果が得られる。

《変形形態》
本発明の表示装置１００は、上記した形態以外のその他の形態をとり得る。以下、その一部を説明する。

〔粘着シートなどの樹脂層の介在〕
例えば、図９で例示した実施形態による表示装置１００では、タッチパネル基板１０を含むタッチパネル３０と表示パネル４０との間、及び前記タッチパネル３０と表示装置用前面保護板５０との間は、空隙を有し空気層が存在する構造となっているが、本発明においては、各構成部材の間は、粘着剤層など公知の樹脂層で埋め尽くしてもよい。樹脂層によって部材表面での光反射が減ることで、表示をより見易くすることができる。

〔Ｄ〕用途：
本発明によるタッチパネル基板１０、及び表示装置１００の用途は、特に限定されない。例えば、スマートフォンなどの携帯電話、タブレットＰＣなどの携帯情報端末、パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、デジタルカメラ、電子手帳、電子書籍端末、電子看板、電子黒板、ゲーム機器、自動券売機、ＡＴＭ端末、ＰＯＳ端末、自販機、などである。

１ 透光性基板
２ 透明電極
２ａ 第１透明電極
２ａＣ 第１接続部
２ａＥ 第１透明電極要素
２ｂ 第２透明電極
２ｂＣ 第２接続部
２ｂＥ 第２透明電極要素
２Ｂ ブリッジ接続部
２Ｃ 交差部
２Ｄ 取出し部
３ 絶縁層兼屈折率調整層
４ 加飾部
４ａ 遮光層
５ 配線
６ 絶縁層
７ 透明誘電体層
１０ タッチパネル基板
２０ 従来のタッチパネル基板
３０ タッチパネル
４０ 表示パネル
５０ 表示装置用前面保護板
１００ 表示装置
Ａｐ 位置検知領域
Ｌ 光
Ｌｒ１、Ｌｒ２ 反射光
ｎ１ 透光性基板の屈折率
ｎ２ 透明電極の屈折率
ｎ３ 絶縁層兼屈折率調整層の屈折率
Ｓ１ 第１面
Ｓ２ 第２面
Ｖ 観察者

Claims (4)

1. 第１面とこの第１面とは反対側の第２面とを有する透光性基板と、
   前記透光性基板の第１面及び第２面のいずれか一方の面上に形成された位置検知用の透明電極として、第１方向に延びる第１透明電極と、この第１透明電極と絶縁され前記第１方向と交差する第２方向に延びる第２透明電極と、
   前記透明電極の第１透明電極及び第２透明電極が互いに交差する交差部においては、前記第１透明電極及び第２透明電極を互いに絶縁し、前記交差部以外の前記透明電極の形成部及び非形成部を含む位置検知領域にわたって、
   （Ａ）前記交差部以外の透明電極と前記透光性基板との間に位置するように形成されるか、
   （Ｂ）前記交差部以外の透明電極上に位置するように形成されるか、又は、
   （Ｃ）前記（Ａ）及び（Ｂ）の両方で形成され、
   前記透光性基板の屈折率ｎ１以上で且つ前記透明電極の屈折率ｎ２以下となる屈折率ｎ３の絶縁層兼屈折率調整層と、
   を有する、タッチパネル基板。
2. 前記透光性基板の一方の面上であって前記位置検知領域の外周部に、加飾部を形成する遮光層を有する、請求項１に記載のタッチパネル基板。
3. 前記透光性基板の一方の面上であって前記遮光層上に、不透明な配線を有し、
   前記透明電極が前記配線に接続されるように延びている、請求項２に記載のタッチパネル基板。
4. 表示パネルと、この表示パネルの観察者側に配置された請求項１〜３のいずれかに記載のタッチパネル基板と、を含む、表示装置。