JP2014153519A - カラーフィルタ形成基板とカラーフィルタ形成基板の製造方法、および有機ｅｌ表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 表示の際、各画素について、隣接する画素の有機ＥＬ素子からの光の入り込みを防止でき、且つ、観察者側への出射光の量を大きくでき、視野角を大きくすることができる白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置を提供しようとするものであり、そのような有機ＥＬ表示装置の作製を可能とすることができるカラーフィルタ形成基板を提供する。
【解決手段】 基材の一面上に、各画素領域のカラーフィルタ用の着色層を、該画素領域の全周にわたり、隣接する外側の画素区分用遮光領域内にまで達して延設し、各画素領域から延設された着色層同士を、画素区分用遮光領域内において離間して配しているものであり、且つ、前記各画素領域から延設された着色層同士が離間した部分を埋めて、着色層を覆うようにして、前記画素区分用遮光領域全体に、遮光性材料を配している。
【選択図】 図１

Description

本発明は、有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板と、該基板を用いた有機ＥＬ表示装置に関し、特に、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板に関する。

近年、有機ＥＬ表示装置は、自己発光性であるために視認性が優れ、バックライトが不要なため、薄く、軽くでき、構造が簡単で低コスト化が期待でき、動画表示にも適していることから、液晶ディスプレイ装置やプラズマディスプレイ装置に続くフラットなディスプレイ装置（フラットパネルとも言う）として、研究開発、商品化が進められている。

そして、通常、白色発光の有機ＥＬ素子（有機発光素子、有機ＥＬ発光素子とも言う）を用いた白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置としては、図９（ａ）に示すように、表示の高色純度と高輝度を両立するために、カラーフィルタ用のＲ、Ｇ、Ｂの各色の着色層を配した画素（着色画素とも言う）のほかに、高い光透過性の高光透過画素を備えた形態が採られている。
また、図９（ｂ）に示すように、上記白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置の前面（観察者側）に円偏光板１３０を設け、外部入射光の反射を低減する形態も採られている。
あるいはまた、図９（ｃ）に示すように、ＷＨＩＴＥ画素に相当する領域に着色材が分散された感光性樹脂からなる層を配し、これを透過率調整部１１３ＷＡとして、外光の入射や、入射された外光の、有機ＥＬ素子が有する電極及び金属配線での反射を調整する形態も採られている。（特許文献３参照）
図９（ａ）に示す有機ＥＬ表示装置の場合、前面（観察者側）から入射される外光の反射率は、通常、９７％程度である。
図９（ｂ）に示す有機ＥＬ表示装置の場合、前面（観察者側）から入射される外光の反射率は、通常、０．１％程度で、表示の明るさは、図９（ａ）に示す形態の有機ＥＬ表示装置の４０％程度である。
図９（ｂ）に示す有機ＥＬ表示装置の場合、透過率調整部１１３ＷＡにより、外光の入射や、入射された外光の、有機ＥＬ素子が有する電極及び金属配線での反射を調整することができるが、外光の反射低減が不十分であり、反射ムラが見え易い。
尚、高光透過画素には、通常、着色していない樹脂層や、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色を併せた色に合わせて若干着色してある樹脂層を配しているが、このような高光透過画素をＷＨＩＴＥ画素と言い、ＷＨＩＴＥ画素に配置されている樹脂層をＷＨＩＴＥ層と言う。
また、有機ＥＬ表示装置は、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ装置、有機ＥＬディスプレイ装置とも言われ、表示装置は、表示パネルとも言われる。

このように、白色発光の有機ＥＬ素子を用いた白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置には種々の形態があり、いずれの形態も、各画素毎にＴＦＴ素子により制御駆動して白色発光の有機ＥＬ素子を対応して配しているが、いずれの形態の場合も、ある画素領域についてみると、その画素領域の着色層に、隣接する画素を表示するための有機ＥＬ素子からの白色光が直接入り込み、あるいは、隣接する画素を表示するための有機ＥＬ素子からの白色光が該隣接する画素のカラーフィルタ用の着色層を通過して入り込み、これらが原因で、見る方向によって、表示される画像の色シフトや混色が発生していた。
これは、有機ＥＬ素子からの光が、全て、カラーフィルタ形成基板に対して、その基材面に直交する方向に入射するのではなく、入射する角度に広がりをもって入射するために起こるのである。
尚、ＷＨＩＴＥ画素を対象としない場合には、ある画素を表示するための有機ＥＬ素子からの白色光が、該画素のカラーフィルタ用の着色層を通過して、隣接する画素の着色層に入り込むと、２つの着色層の可視領域での透過特性により、ほとんど吸収される。
そのため、特に、ある画素を表示するための有機ＥＬ素子からの白色光が、直接、隣接する画素の着色層に入り込むことが、表示される画像の色シフトや混色に大きく影響をしている。
そして、表示の高精細、高品質化の要求に伴い、各画素については、隣接する画素の有機ＥＬ素子から光の入り込みが、品質上、無視できなくなってきた。

特開２００８−４７３４０号公報 特開２００２−３７７７７６号公報 特願２０１１−０４７９２４

上記のように、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置においては、特に、表示の高精細、高品質化の要求に伴い、品質上、各画素については、隣接する画素の有機ＥＬ素子からの光の入り込みが、無視できなくなってきて、この対応が求められていた。
本発明は、これに対応するもので、各画素について、隣接する画素の有機ＥＬ素子からの光の入り込みを防止でき、且つ、観察者側への出射光の量を大きくでき、視野角を大きくすることができる白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置を提供しようとするものであり、そのような有機ＥＬ表示装置の作製を可能とすることができるカラーフィルタ形成基板を提供しようとするものである。

本発明のカラーフィルタ形成基板は、透明基板からなる基材の一面上に、画素区分用遮光領域を配して画素領域を区分けし、カラーフィルタ用の各色の着色層を、それぞれ、所定の画素領域に配している、白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であって、前記基材の一面上に、各画素領域のカラーフィルタ用の着色層を、該画素領域の全周にわたり、隣接する外側の画素区分用遮光領域内にまで達して延設し、各画素領域から延設された着色層同士を、画素区分用遮光領域内において離間して配しているものであり、前記画素区分用遮光領域には、前記各画素領域から延設された着色層同士が離間した部分を埋めて、着色層を覆うようにして、領域全体にわたり、遮光性材料が配されていることを特徴とするものである。
そして、上記のカラーフィルタ形成基板であって、前記遮光性材料が、色材を分散させて含有する樹脂材からなることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかのカラーフィルタ形成基板であって、前記遮光性材料が、クロムを主材とする金属化合物からなることを特徴とするものである。
また、上記いずれかのカラーフィルタ形成基板であって、前記画素領域に光吸収層が積層して形成されていることを特徴とするものであり、前記光吸収層は、樹脂中に色材としてカーボンブラックを分散して含有しているものであることを特徴とするものであり、更に、前記光吸収層のＣ光源における平均透過率が４５％〜９５％であることを特徴とするものである。
ここでの、「着色層同士が離間した部分を埋めて」とは、着色層同士が離間した部分を完全に埋め尽くしていない場合も含むものである。（図４、図５参照）
また、ここでは、前記画素区分用遮光領域に配される遮光性材料は、いずれの箇所においても、可視光領域での光学濃度が２. ０以上、好ましくは４. ０以上である。
また、ここでは、ＷＨＩＴＥ画素を設けてＷＨＩＴＥ層を配設する形態のカラーフィルタ形成基板とした場合には、ＷＨＩＴＥ層もカラーフィルタ用の各色の着色層に含むものとする。

また、ここでの「平均透過率」とは、光吸収層の透過率を可視光領域全域にわたる透過率が略フラットで、可視光領域全域にわたる透過率を平均することにより得られる値である。
ここでは、顕微分光装置（ＯＳＰ−ＳＰ２０００、ＯＬＹＭＰＵＳ（株）社製）を用いて透過スペクトルを測定しており、測定により得られた透過スペクトルより下記（１）式より、ＸＹＺ表色系のＹの値が求められるが、実質的には、これに相当する。
尚、式（１）においては、Ｐ（λ）は、光源の分光組成、ｙ（λ）は、ＸＹＺ表示系における等色関数の１つ、τ（λ）は、ここでは、物体の分光透過率、ｋは定数である。

また、本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法は、上記いずれかのカラーフィルタ形成基板を作製するカラーフィルタ形成基板の作製方法であって、基材の一面上にカラーフィルタ用の全着色層を配設した後、前記全着色層を覆うように全面に感光性の色材を分散させて含有する遮光性の樹脂組成物からなる膜を形成し、該膜をフォトリソ法によりパターニングして、画素区分用遮光領域に遮光性材料を配することを特徴とするものである。
あるいは、本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法は、上記いずれかのカラーフィルタ形成基板を作製するカラーフィルタ形成基板の作製方法であって、基材の一面上にカラーフィルタ用の全着色層を配設した後、順に、前記全着色層を覆うように全面にクロムを主材とする金属化合物からなる膜を形成し、該膜を覆うようにフォトレジスト層を形成し、該フォトレジスト層をフォトリソ法によりパターニングして、フォトレジスト層に覆われていない領域の前記膜をエッチングにより除去して、画素区分用遮光領域に遮光性材料を配することを特徴とするものである。
尚、先にも述べましたように、ここでは、ＷＨＩＴＥ画素を設けてＷＨＩＴＥ層を配設する形態のカラーフィルタ形成基板とした場合には、ＷＨＩＴＥ層もカラーフィルタ用の各色の着色層に含むものとする。

本発明の表示装置は、有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを積層した構造の、白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置であって、上記いずれかのカラーフィルタ形成基板を用いていることを特徴とするものである。

（作用）
本発明のカラーフィルタ形成基板は、このような構成にすることにより、特に、表示の高精細、高品質化の要求に対応して、各画素について、隣接する画素の有機ＥＬ素子から光の入り込みを防止でき、且つ、観察者側への出射光の量を大きくでき、視野角を大きくすることができる白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置の作製を可能とすることができるカラーフィルタ形成基板の提供を可能としている。
具体的には、基材の一面上に、各画素領域のカラーフィルタ用の着色層を、該画素領域の全周にわたり、隣接する外側の画素区分用遮光領域内にまで達して延設し、各画素領域から延設された着色層同士を、画素区分用遮光領域内において離間して配しているものであり、前記画素区分用遮光領域には、前記各画素領域から延設された着色層同士が離間した部分を埋めて、着色層を覆うようにして、領域全体にわたり、遮光性材料が配されていることにより、これを達成している。

ここで、本発明のカラーフィルタ形成基板を用いた白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置における各画素について、該画素が隣接する画素領域に配された有機ＥＬ素子から光の入り込みを防止できることを、図２に基づいて簡単に説明する。
まず、従来のカラーフィルタ形成基板１０Ａを用いた白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置の場合、図２（ａ）に示すように、有機ＥＬ素子２２の画素領域１７ａの中心位置Ｌ０１からの白色光は、大半は、光線Ｌ１１のように、カラーフィルタ形成基板１０Ａの基材１１の面１１Ｓに直交する方向に進み、画素領域１７ａの第１の着色層１３ａを通過して観察者側に到達するが、一部は、光線Ｌ１３のように、画素領域１７ａに配される第１の着色層１３ａを通過して隣接する画素領域１７ｂの第２着色層１３ｂに入射され通過して、観察者側に到達、あるいは、光線Ｌ１２のように、直接、隣接する画素領域１７ｂに配される第２の着色層１３ｂに入射されて通過して、観察者側に到達する。
例えば、第１の着色層１３ａが赤色の着色層１３Ｒ、第２の着色層１３ｂが緑色の着色層１３Ｇである場合、光線Ｌ１３は、赤色の着色層１３Ｒ、緑色の着色層１３Ｇを通過するため、赤色の着色層１３Ｒ、緑色の着色層１３Ｇの透過特性からほとんどがカットされて観察者側に出射されるが、光線Ｌ１２は、緑色の着色層１３Ｇのみを通過するため、本来出射されるべきでない光が緑色の着色層１３Ｇの透過特性で観察者側に出射されることとなる。
また、例えば、図２（ａ）における第１の着色層１３ａを配した画素位置がＷＨＩＴＥ画素である場合、光線Ｌ１３に相当する光線は、ＷＨＩＴＥ画素側に入射され通過して、隣接する第２の着色層１３ｂへ入射され、第２の着色層１３ｂの透過特性で観察者側に出射されることとなり、このような光線も、見る方向によっては、表示される画像の色シフトや混色を発生させる。
このため、このような光線Ｌ１２、Ｌ１３が原因で、見る方向によっては、表示される画像の色シフトや混色が発生していた。
一方、図２（ｂ）に示すように、本発明のカラーフィルタ形成基板１０においては、基材１１の一方の面１１Ｓ上に、各画素領域のカラーフィルタ用の着色層を、該画素領域の全周にわたり、隣接する外側の画素区分用遮光領域１８内にまで達して延設し、各画素領域から延設された着色層同士を、画素区分用遮光領域内において離間して配しているものであり、且つ、前記各画素領域から延設された着色層同士が離間した部分（図１（ｃ）の着色層離間部１３Ｍに相当）を埋めて、着色層を覆うようにして、前記画素区分用遮光領域全体に、遮光性材料を配している。
このような遮光性材料にて形成される画素区分用の遮光部を、以下、画素区分用遮光部１２と言うが、その断面形状は略Ｔ字であり、ここでは、図１（ａ）に示すように、画素区分用遮光部１２の基板１１と接する側の幅をｄ２とし、画素区分用遮光部１２の着色上にある最大幅となる部分の幅をｄ１とした場合、ｄ１＞ｄ２である。
本発明のカラーフィルタ形成基板１０は、このような構造であるため、本発明のカラーフィルタ形成基板１０を用いた有機ＥＬ表示装置の場合は、図２（ａ）に示す従来の表示装置における光線Ｌ１２、Ｌ１３に相当する光線Ｌ２２、Ｌ２３を画素分割用遮光部１２でカットしている。
このため、このような光線に起因する、見る方向による、表示される画像の色シフトや混色は発生しない。
また、本発明の場合は、画素中心位置Ｌ０１から観察者側に出射される出射光の出射角は、従来の表示装置の角度Θ１に対して、角度Θ２と大きくなるため、従来の表示装置に比べて、出射光の量を大きくすることができ、視野角を大きくすることができる。

また、前記遮光性材料としては、前記遮光性材料が、色材を分散させて含有する樹脂材からなるものや、クロムを主材とするクロム系遮光層からなるものが挙げられるが、これらに限定はされない。
上記色材としては、カーボンブラック粒子等の無機粒子が挙げられる。
尚、遮光性材料が導電性材料にて形成されている場合には、静電気等に起因する放電破壊等の不具合を防止できる。

上記いずれかの形態において、前記画素領域に光吸収層を積層して形成されている形態とすることにより、混色防止作用の他に、外光反射の低減と表示輝度の低下防止を達成できる表示装置の作製を可能としている。
光吸収層としては、具体的には、樹脂中に色材としてカーボンブラックを分散して含有しているものが挙げられるが、これに限定はされない。
この形態において、光吸収層のＣ光源における平均透過率が４５％〜９５％である場合、特に、外光反射の低減効果に加えて、表示の際の輝度を、円偏光板を用いた図１１（ｂ）に示す形態よりも、大きくできる。
尚、ここでの「平均透過率」とは、光吸収層の透過率を可視光領域全域にわたる透過率が略フラットで、可視光領域全域にわたる透過率を平均することにより得られる値である。
ここでは、顕微分光装置（ＯＳＰ−ＳＰ２０００、ＯＬＹＭＰＵＳ（株）社製）を用いて透過スペクトルを測定しており、測定により得られた透過スペクトルより下記（１）式より、ＸＹＺ表色系のＹの値が求められるが、実質的には、これに相当する。
尚、式（１）においては、Ｐ（λ）は、光源の分光組成、ｙ（λ）は、ＸＹＺ表示系における等色関数の１つ、τ（λ）は、ここでは、物体の分光透過率、ｋは定数である。

特に、表示の際の可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ波長領域）全体にわたり光吸収層の光透過率のバラツキが少ないフラットである場合、光吸収層を設けたことによる表示の際の色ずれを少ないものとできる。

本発明は、このように、特に、表示の高精細、高品質化の要求に対応して、各画素について、隣接する画素の有機ＥＬ素子から光の入り込みを防止でき、且つ、観察者側への出射光の量を大きくでき、視野角を大きくすることができる白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置の作製を可能とし、同時に、そのような有機ＥＬ表示装置の作製を可能とすることができるカラーフィルタ形成基板の提供を可能とした。

図１（ａ）は、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施の形態の第１の例の一部断面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示すカラーフィルタ形成基板を用いた有機ＥＬ表示装置の一部断面図であり、図１（ｃ）は、着色層離間部１３Ｍを分かり易くするために、図１（ａ）において画素区分用遮光部を省いて示した一部断面図である。 図２（ａ）は、従来のカラーフィルタ形成基板１０Ａを用いた有機ＥＬ表示装置における有機ＥＬ素子からの光線を示した一部断面図で、図２（ｂ）は、図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０を用いた有機ＥＬ表示装置における有機ＥＬ素子からの光線を示した一部断面図である。 図３（ａ）、図３（ｂ）は、それぞれ、本発明のカラーフィルタ形成基板の第２の例、第３の例のカラーフィルタ形成基板を用いた有機ＥＬ表示装置の一部断面図である。 図４（ａ）〜図４（ｄ）は、図１（ａ）に示すカラーフィルタ形成基板の作製方法の１例を示した工程断面図である。 図５（ａ）〜図５（ｄ）は、図１（ａ）に示すカラーフィルタ形成基板の作製方法の別の例を示した工程断面図である。 有機ＥＬ素子の構成例を示した概略層構成図である。 光吸収層の分光透過率特性を示した図である。 光吸収層の透過率と光吸収層を２回通過した外光の透過率との関係を示した図である。 図９（ａ）は、従来のＷＨＩＴＥ層を配した有機ＥＬ表示装置の一部断面図であり、図９（ｂ）は、図９（ａ）に示す表示装置の前面（観察者側）に円偏光板を配した有機ＥＬ表示装置の一部断面図であり、図９（ｃ）は、図９（ａ）に示す表示装置において、従来のＷＨＩＴＥ層形成領域に透過率調整部を配した有機ＥＬ表示装置の一部断面図である。

先ず、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第１の例を、図１（ａ）に基づいて説明する。
本例のカラーフィルタ形成基板１０は、透明基板からなる基材１１の一方の面１１Ｓ上に、画素区分用遮光領域１８を配して画素領域１７を区分けし、カラーフィルタ用のＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の各色の着色層を、それぞれ、所定の画素領域１７に配している、白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板である。
そして、特に、本例のカラーフィルタ形成基板１０は、図１（ａ）に示すように、基材１１の一方の面１１Ｓ上に、各画素領域のカラーフィルタ用の着色層を、該画素領域の全周にわたり、隣接する外側の画素区分用遮光領域１８内にまで達して延設し、各画素領域から延設された着色層同士を、画素区分用遮光領域内において離間して配しているものであり、且つ、前記各画素領域から延設された着色層同士が離間した部分（図１（ｃ）の着色層離間部１３Ｍに相当）を埋めて、着色層を覆うようにして、前記画素区分用遮光領域１８全体に、遮光性材料を配している。
このような遮光性材料にて形成される画素区分用の遮光部を、ここでは、画素区分用遮光部１２と言うが、その断面形状は略Ｔ字であり、図１（ａ）に示すように、画素区分用遮光部１２の基板１１と接する側の幅をｄ２とし、画素区分用遮光部１２の着色上にある最大幅となる部分の幅をｄ１とした場合、ｄ１＞ｄ２である。
尚、図１（ａ）では、ＷＨＩＴＥ画素を明示していないが、ＷＨＩＴＥ画素の領域も、画素区分用遮光部１２にて区分けしている。
第１の例のカラーフィルタ形成基板１０は、白色発光の有機ＥＬ素子を各画素毎に形成した有機ＥＬ素子形成基板３０と、絶縁性の樹脂層１４を間に挟んで、所定の間隔で積層されて、図１（ｂ）に示すように、有機ＥＬ表示装置となる。
上記有機ＥＬ表示装置としては、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器用が挙げられるが、これらに限定はされない。

第１の例のカラーフィルタ形成基板１０は、このような形態とすることにより、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置に用いられた場合、図２（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１２、光線Ｌ１３に相当する、ある画素１７の有機ＥＬ素子から発光された光が隣接する画素の領域の着色層に入るそれぞれの光線を、カットすることができるものとしている。
このため、第１の例のカラーフィルタ形成基板１０は、図２（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における、光線Ｌ１２、光線Ｌ１３に起因する、見る方向により、表示される画像の色シフトや混色を発生しなくできる。

また、本例のカラーフィルタ形成基板１０においては、図１（ａ）に示すように、画素区分用遮光部１２の断面はＴ字形状であり、画素区分用遮光部１２の基板１１と接する側の幅ｄ２とし、画素区分用遮光部１２の着色上にある最大幅となる部分の幅をｄ１とした場合、ｄ１＞ｄ２であるため、画素中心位置の光源Ｌ０１から観察者側に出射される出射光の出射角は、図２（ａ）に示す従来の表示装置の角度Θ１に対して、図２（ｂ）に示すように、角度Θ２と大きくなり、図２（ａ）に示す従来の表示装置の場合に比べて、出射光の量を大きくすることができ、視野角を大きくすることができるものとしている。

図１（ａ）に示すカラーフィルタ形成基板１０と図１（ｂ）に示す有機ＥＬ表示装置の、各部材について説明する。
＜基板１１＞
第１の例に用いられる透明基板からなる基材１１としては、従来よりカラーフィルタに用いられているものを用いることができ、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明な無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明な樹脂基板等を挙げることができるが、特に、無機基板を用いることが好ましく、無機基板のなかでもガラス基板を用いることが好ましい。
さらには、上記ガラス基板のなかでも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。
無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、表示装置用のカラーフィルタに好適に用いることができるからである。
上記基板は、通常、透明な透明基板が用いられている。

＜画素区分用遮光部１２＞
カラーフィルタ用の各色の着色層の画素領域１７を区分けする画素区分用遮光部１２を形成するための遮光性材料の素材として、遮光性の着色層を用いている。
遮光性の着色層としては、例えば、ここでは、エポキシ樹脂等の樹脂で被覆したカーボンブラックをピグメント（顔料）としてバインダ樹脂中に分散させたものが用いられている。
カーボンブラックをピグメント（顔料）としてバインダ樹脂中に分散させたものは、膜厚を比較的薄くして遮光性の樹脂層を形成することができる。
ここでは、画素区分用遮光部１２用の遮光性の着色層の形成をフォトリソグラフィー法を用いているが、この場合、バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合、黒色着色剤および感光性樹脂を含有する画素区分用遮光領域の遮光層１２形成用の感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
尚、画素区分用遮光部１２形成用の遮光性の着色層を、印刷法やインクジェット法を用いて形成する場合もあるが、この場合には、バインダ樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
尚、画素区分用遮光部１２の開口パターン形状や各色の着色層の配列は、限定はされない。
画素区分用遮光部１２の開口パターン形状がストライプ状の形状のものや、くの字形状、デルタ配列などの様に着色層の配列を変えたものも挙げられる。
また、ここでは、画素区分用遮光部１２の各部は、可視光領域での光学濃度が２. ０以上、好ましくは４. ０以上のものを用いる。

＜着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ＞
本例では、カラーフィルタ形成用の各色の着色層は、赤色の着色層１３Ｒ、緑色の着色層１３Ｇ、青色の着色層１３Ｂの３色の着色層である。
各色の着色層は、各色の顔料や染料等の着色材（色材ともいう）をバインダ樹脂中に分散または溶解させた着色部形成用の樹脂組成物を用いて、フォトリソ法（フォトリソグラフィー法とも言う）により形成されるものである。
上記着色層に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合、着色材および感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
上記各色の着色層の膜厚は、通常、１μｍ〜５μｍ程度で設定される。
着色層の色としては、赤色、緑色、青色の３色を少なくとも含むものであれば特に限定されるものではなく、例えば、赤色、緑色、青色の３色、または、赤色、緑色、青色、黄色の４色、または、赤色、緑色、青色、黄色、シアンの５色等とすることもできる。
尚、赤色（Ｒとも記載）の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
緑色（Ｇとも記載）の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
青色（Ｂとも記載）の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。

＜ＷＨＩＴＥ層＞
図１（ａ）では、明示していないが、上記の画素区分用遮光層１２や着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを形成する樹脂組成物等から着色材（色材）を除いた組成の樹脂が用いられ、フォトリソ法により形成されるが、形成方法はこれに限定はされない。

＜絶縁性の樹脂層１４＞
絶縁性の樹脂層１４の材料としては、熱硬化性樹脂組成物と光硬化性樹脂組成物が挙げられる。
光硬化性樹脂組成物としては、上記カラーフィルタ形成用の各色の着色層に用いられるバインダ樹脂と同様のもの、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合も、感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
熱硬化性樹脂組成物としては、エポキシ化合物を用いたもの、熱ラジカル発生剤をもちいたものがあげられる。
エポキシ化合物としては、カルボン酸やアミン系化合物などにより硬化しうる公知の多価エポキシ化合物を挙げることができ、このようなエポキシ化合物は、例えば、新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社刊（昭和６２年）等に広く開示されており、これらを用いることが可能である。
熱ラジカル発生剤としては過硫酸塩、ヨウ素等のハロゲン、アゾ化合物、および有機過酸化物からなる群から選択される少なくとも一種であり、より好ましくは、アゾ化合物または有機過酸化物である。
アゾ化合物としては、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’−アゾビス−［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、および２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）などが挙げられ、有機過酸化物としては、ジ（４−メチルゼンゾイル）ペーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルエキサネート、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカルボネート、ｔ−ブチル−４，４−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタネート、およびジクミルパーオキサイドなどが挙げられる。

＜有機ＥＬ素子形成基板３０＞
（１） 基材３１
基材３１としては、基本的に、基材１１と同様の材質が用いることができるが、第１の例のカラーフィルタを用いた図１（ｂ）に示す表示装置の場合は、基材１１側から外側に出射して表示するため、透明である必要はない。

（２） 有機ＥＬ素子３２
図１（ｂ）に示す白色発光の有機ＥＬ素子３２については、図１（ｂ）では明示していないが、例えば、図６に示すような材料構成とする。
図６に示す有機ＥＬ素子３２は、赤、緑、青に発光する３つの材料を用いて、併せて白色発光とするものです。
勿論、所望の白色発光ができれば、上記の３つの材料の組み合わせに限らない。
（有機ＥＬ層３６）
有機ＥＬ素子３２を形成する有機ＥＬ層３６は、少なくとも発光層３７を含む１層もしくは複数層の有機層から構成されるものである。
発光層以外の有機ＥＬ層３６を構成する有機層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層等を挙げることができる。
この正孔輸送層は、正孔注入層に正孔輸送の機能を付与することにより、正孔注入層と一体化される場合が多い。
また、有機ＥＬ層を構成する有機層としては、正孔ブロック層や電子ブロック層のような正孔もしくは電子の突き抜けを防止し、さらに励起子の拡散を防止して発光層内に励起子を閉じ込めることにより、再結合効率を高めるための層等を挙げることができる。
有機ＥＬ層の構成としては、一般的な構成であればよく、発光層のみ、正孔注入層／発光層、正孔注入層／発光層／電子注入層、正孔注入層／正孔ブロック層／発光層／電子注入層、正孔注入層／発光層／電子輸送層などを例示することができる。
白色発光の有機ＥＬ素子３２における、発光材料は、単一の化合物で構成されることはほとんどなく、一般的には、２つないし３つの色の異なる発光材料を用いている。
発光スペクトルは、各色の発光材料のスペクトルを併せた形となる。
（陽極３５、陰極３８）
陽極３５、陰極３８の電極層を形成する導電性材料としては、一般に金属材料が用いられるが、有機物や無機化合物を用いてもよく、複数の材料を混合して用いてもよい。
また、陽極、陰極の電極層は、光の取り出し面に応じて、透明性を有するか否かを適宜選択される。
陽極３５には、正孔が注入し易いように仕事関数の大きい導電性材料が好ましく用いられ、陰極３８には、電子が注入し易いように仕事関数の小さな導電性材料が好ましく用いられる。
前記導電性材料としては、透明性を要求される場合には、Ｉｎ−Ｚｎ−Ｏ（ＩＺＯ）、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｏ（ＩＴＯ）、Ｚｎ−Ｏ−Ａｌ、Ｚｎ−Ｓｎ−Ｏ等が挙げられ、透明性が要求されない場合には、金属を用いることができ、具体的にはＡｕ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｐｄ、Ｃｒ、あるいは、Ａｌ合金、Ｎｉ合金、Ｃｒ合金等を挙げることができる。
陽極３５および陰極３８のいずれの電極層も、抵抗が比較的小さいことが好ましい。
電極層の成膜方法としては、一般的な電極の成膜方法を用いることができ、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、印刷法等を挙げることができる。
また、電極層のパターニング方法としては、フォトリソグラフィー法を挙げることができる。

次に、図３（ａ）に基づいて、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第２の例と該第２の例のカラーフィルタ形成基板を用いた表示装置を説明する。
第２の例のカラーフィルタ形成基板（図３（ａ）の１０ａに相当）は、図１（ａ）に示すカラーフィルタ形成基板１０において、基材１１の一面１１Ｓ上、該一面１１Ｓと各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ、画素区分け用遮光部１２との間に、光吸収層１５を設けたものであり、他は、図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０と同じである。
第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａも、白色発光の有機ＥＬ素子を各画素毎に形成した有機ＥＬ素子形成基板３０と、絶縁性の樹脂層１４を間に挟んで、所定の間隔で積層されて、図３（ａ）に示すように、有機ＥＬ表示装置となり、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器用の白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置として適用されるが、用途は、これらに限定はされない。
第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａは、このような形態とすることにより、第１の例と同様に、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置に用いられた場合、図２（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１２、Ｌ１３に相当する光線を、カットすることができ、このような光線に起因する、見る方向により、表示される画像の色シフトや混色を発生しなくできるものとしている。
また、第１の例の場合と同様、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置に用いられた場合、画素中心位置の光源Ｌ０から観察者側に出射される出射光の出射角を、図２（ａ）に示す従来の表示装置の場合に比べて大きくでき、これより、図２（ａ）に示す従来の表示装置の場合に比べて、出射光の量を大きくすることができ、視野角を大きくすることができる。
更に、第２の例は、光吸収層１５を設けていることにより、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置に用いられた場合、外光反射の低減と表示輝度の低下防止を達成できる表示装置の作製を可能としている。
各部材としては、光吸収層１５以外は、図１（ａ）に示すカラーフィルタ形成基板１０と同様のものを適用する。

＜光吸収層１５＞
光吸収層１５を形成する材料としては、樹脂中に、色材としてカーボンブラックを含有し、色調整用にＢＬＵＥ顔料等含有し、これらを分散させたものが用いられるが、上記樹脂としては、画素区分用遮光層１２や着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを形成する樹脂組成物等から色材を除いた組成の樹脂が用いられて、塗膜される。
塗膜方法としては、フォトリソグラフィー（ダイコート法、スピンコート法）、インクジェット法等が挙げられるが、通常は、フォトリソグラフィーにて塗膜する。
塗膜性や外光反射低減の面からは、光吸収層１５の膜厚は０．３μｍ以上であることが好ましい。
主な色材の濃度調整により、光吸収層を透過する光の強度を調整でき、また、色調整用の顔料を適宜含有させることにより、表示の際の可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ波長領域）全体にわたり光吸収層の光透過率のバラツキが少ないフラットな透過率特性を容易に得ることができる。
主な色材としてのカーボンブラックの濃度を調整することにより、図８に示すように、種々の透過率を容易に得ることができる。
尚、図８では、光吸収層の透過率の値を横軸で表し、光吸収層の透過率の値に対応した光吸収層を２回通過した場合の透過率を縦軸で表しており、図８における三角印は、カーボンブラック濃度を調整して測定して得た光吸収層の透過率（横軸）と、対応する該吸収層を２回通過した場合の透過率（縦軸）を示している。
また、色調整用の顔料を含有量を調整することにより、可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲）にわたりフラットに近い透過率特性を容易に得ることができる。
光吸収層は、可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲）において、フラットに近い光透過特性の方が光吸収層を設けたことによる色ずれは小さく、表示の際の透過光の色ずれ、外光反射の色ずれを小さくすることができる。
例えば、図７に示すフラットに近い透過率特性を有する光吸収層を用いた場合、光吸収層を設けたことによる色ずれの問題はない。

例えば、可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲）において、光吸収層１５の透過率特性をフラットで６０％とした場合、２回光吸収層１５を通過する光は、実質６０％の６０％で３６％となる。
また、表示する際の光は、光吸収層１５を１回通過して出射されるため、光吸収層１５による透過光の低下は１回で済み、例えば、光吸収層１５の透過率を６０％とすれば、１回光吸収層１５を通過による透過光の低下は、実質６０％となる。
したがって、第５の例のカラーフィルタを用いた場合、光吸収層１５の透過率特性が、可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲）においてフラットで６０％とすれば、図１１（ａ）に示す有機ＥＬ表示装置に比べて、前面（観察者側）から外光が入射して、内部の電極や配線で反射して出射する、外光の反射光を３６％に低減することができ、表示の際の通過光を６０％とでき、表示の際の通過光については、図１１（ａ）に示す有機ＥＬ表示装置の４０％程度である図１１（ｂ）に示す円偏光板を用いた有機ＥＬ表示装置に比べて、表示の際の通過光を多くすることができる。
尚、光吸収層１５の透過率としては、従来の図１１（ａ）に示す有機ＥＬ表示装置に比べて、前面（観察者側）から外光が入射して、内部の電極や配線で反射して出射する、外光の反射光を低減でき、且つ、図１１（ｂ）に示す円偏光板を用いた有機ＥＬ表示装置に比べて、表示の際の透過光を多くすることからは、Ｃ光源の場合、平均透過率が４５％〜９５％であることが好ましい。
ここでの「平均透過率」とは、光吸収層の透過率を可視光領域全域にわたる透過率が略フラットで、可視光領域全域にわたる透過率を平均することにより得られる値である。
ここでは、顕微分光装置（ＯＳＰ−ＳＰ２０００、ＯＬＹＭＰＵＳ（株）社製）を用いて透過スペクトルを測定しており、測定により得られた透過スペクトルより下記（１）式より、ＸＹＺ表色系のＹの値が求められるが、実質的には、これに相当する。
尚、式（１）においては、Ｐ（λ）は、光源の分光組成、ｙ（λ）は、ＸＹＺ表示系における等色関数の１つ、τ（λ）は、ここでは、物体の分光透過率、ｋは定数である。

特に、表示の際の可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ波長領域）全体にわたり光吸収層の光透過率のバラツキが少ないフラットである場合、光吸収層を設けたことによる表示の際の色ずれを少ないものとできる。

次に、図３（ｂ）に基づいて、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第３の例と該第３の例のカラーフィルタ形成基板を用いた表示装置を説明する。
第３の例のカラーフィルタ形成基板（図３（ｂ）の１０ｂに相当）は、図１（ａ）に示すカラーフィルタ形成基板１０において、更に、各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ、画素区分け用遮光部１２を覆うように、光吸収層１５を設けたものであり、他は、図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０と同じである。
第３の例のカラーフィルタ形成基板１０ｂは、このような構造であるため、第１の例と同様、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置に用いられた場合、表示される画像の色シフトや混色を発生しなくでき、また、図２（ａ）に示す従来の表示装置の場合に比べて、出射光の量を大きくすることができ、視野角を大きくすることができる。
そして、更に、光吸収層１５を設けていることにより、第２の例と同様、外光反射の低減と表示輝度の低下防止を達成できる表示装置の作製を可能としている。
各部材としては、光吸収層１５以外は、図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０と同様のものを適用する。

本発明のカラーフィルタ形成基板は、上記の形態に限定はされない。
例えば、第１の例〜第３の例の各例の変形例として、カラーフィルタ用の各色の着色層を覆う保護層を配している形態も挙げられる。
また、第１の例〜第３の例では、ＷＨＩＴＥ画素を有し、カラーフィルタ形成用の各色の着色層を、赤色の着色層１３Ｒ、緑色の着色層１３Ｇ、青色の着色層１３Ｂの３色の着色層としたが、これに限定はされない。
また、カラーフィルタ形成用の各色の着色層の配列は、第１の例〜第３の例の配列に限定はされない。
例えば、赤色の着色層１３Ｒ、緑色の着色層１３Ｇ、青色の着色層１３Ｂの各色の画素とＷＨＩＴＥ画素とを、２行２列の画素に収めて、これを１単位として、配列する形態も挙げられる。
これらの形態の場合も、第１の例と同様、見る方向により、表示される画像の色シフトや混色を発生しなくできる。
また、着色層を最も外側に配した形態例の着色層上に、あるいは、光吸収層を最も外側に配した形態例の光吸収層上に、更に、散乱機能を有する層（散乱層とも言う）を形成した形態のものも挙げられる。
散乱層を配した形態とすることにより、散乱層を設けない場合に比べて、観察者の見る方向による視差を改善できる。

次に、本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法の例を簡単に説明しておく。
先ず、図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の作製方法の１例を、図４に挙げて説明する。
便宜上、図４（ａ）〜図４（ｄ）では、赤色の着色層１３Ｒを配した画素領域と緑色の着色層を配した画素領域間に画素区分用遮光部１２（図１（ａ）参照）を形成する工程断面図を示すが、他の画素領域間についても同じ工程で一緒に画素区分用遮光部１２は形成される。
予め、透明な基材１１を用意しておき、先ず、該基材１１の一方の面上に、カラーフィルタ用の各色の着色層、ＷＨＩＴＥ層（図示していない）を、順次、一般的なフォトリソ法により、それぞれ、所定の形成領域に形成する。（図４（ａ））
通常、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂは、各色の顔料や染料等の着色材をバインダ樹脂中に分散または溶解させた着色部形成用の樹脂組成物を用いて、フォトリソ法（フォトリソグラフィー法とも言う）により形成するが、これに限定はされない。
印刷法や、インクジェット法にて形成することもできる。
ＷＨＩＴＥ層は、上記の画素区分用遮光領域の遮光層１２や着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを形成する樹脂組成物等から着色材（色材）を除いた組成の樹脂が用いられ、フォトリソ法により形成されるが、形成方法はこれに限定はされない。
印刷法や、インクジェット法にて形成することもできる。
次いで、着色層離間部１３Ｍを埋めて、カラーフィルタ用の各色の着色層、ＷＨＩＴＥ層（図示していない）を覆うように、光硬化型の遮光性の樹脂組成物１２ａを塗膜する。（図４（ｂ））
樹脂組成物１２ａとしては、カーボンブラック等の黒色の色材をバインダ樹脂中に分散または溶解させた光硬化型の樹脂組成物を用いる。
次いで、着色層離間部１３Ｍ領域と隣接する両方の着色層に跨る領域を選択的に露光した（図４（ｃ））後、現像して、断面略Ｔ字上に遮光性材料を配して、画素区分用遮光部１２を形成する。（図４（ｄ））
このようにして、図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０が作製される。

次に、図１（ａ）に示すカラーフィルタ形成基板１０の作製方法の別の例を、図５に挙げて説明する。
図４に示す作製方法と同様にして、基材の一面上に、カラーフィルタ用の各色の着色層、ＷＨＩＴＥ層（図示していない）を、順次、一般的なフォトリソ法により、それぞれ、所定の形成領域に形成する。（図５（ａ））
次いで、着色層離間部１３Ｍを埋めて、カラーフィルタ用の各色の着色層、ＷＨＩＴＥ層（図示していない）を覆うように、全面に、遮光性の金属膜１２ｂを成膜する。（図５（ｂ））
遮光性の金属膜１２ｂとしては、通常、クロムを主成分とする１層以上の膜で、スパッタリング法や蒸着法により成膜される。
クロムを主成分とする膜としては、ピュアクロムの単層や、ピュアクロムとクロムの酸化窒化膜（ＣｒｘＮｙＯｚ膜）の多層膜等が用いられるが、これらには限定されない。
上記酸化窒化膜（ＣｒｘＮｙＯｚ膜）膜の作成方法は、ＣｒｘＮｙＯｚの組成のターゲツトを用いるスパツタリング法、Ｎ２ ガス、Ｏ２ ガス雰囲気を用いる反応性スパツタリング法、ＣｒｘＮｙＯｚ試料を用いた真空蒸着法、Ｎ２ ガス、Ｏ２ ガス雰囲気を用いた反応性蒸着法等を適用することが可能であり、それぞれ最適のｘ、ｙ、ｚ値を選択することによって、同一方法で、一度も大気中に取り出すことなく成膜できる。
尚、ターゲツト組成は膜の作成条件にもよるが、同膜をＣｒｘＮｙＯｚと表現した場合、通常、ｘ＝１、ｙ＝０．１〜０．３、ｚ＝０．８〜１．４の範囲が適当である。
次いで、遮光性の金属膜１２ｂを全面に覆うように、ポジ型のフォトレジストを塗布した後に、画素区分用遮光部１２形成領域以外の領域を露光して、画素区分用遮光部１２形成領域にフォトレジストを残存して、それ以外の領域のフォトレジスト１９を除去する。（図５（ｃ））
ポジ型のフォトレジスト１９としては、特に限定はされず、周知の市販のものが適用できる。
ここで、ポジ型のフォトレジスト１９を用いている理由は、一般的にネガ型のフォトレジストよりもレジストの除去が容易で残渣が残りずらいからであるが、ネガ型のフォトレジストでも、除去が容易で残渣が残りずらければ用いることができる。
次いで、露出した遮光性の金属膜１２ｂをエッチングした後、全面露光にて残存しているフォトレジスト１９露光し、現像することにより、フォトレジスト１９が除去されて、断面略Ｔ字上に遮光性の金属膜１２ｂからなる遮光性材料を配した、画素区分用遮光部１２が形成されて、図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０が作製される。（図５（ｄ））

図３（ａ）に示す第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａの作製は、予め基材１１の一面上に光吸収層を形成して、該光吸収層が形成された基材に対して、それぞれ、図４、図５に示す作製方法を適用して行う。
また、図３（ｂ）に示す第３の例のカラーフィルタ形成基板１０ｂの作製は、図４、図５に示す作製方法において、それぞれ、図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０を形成した後、該第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の画素区分用遮光部１２、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ、ＷＨＩＴＥ層を覆うように、光吸収層を塗膜形成する。
光吸収層の形成は、フォトリソ法やインクジェット法等にて行うことができる。

［実施例］
実施例を挙げて、本発明を更に説明する。
（実施例１）
図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０を、図４に示すカラーフィルタ形成基板の作製方法により形成したもので、以下のように、光硬化性の硬化性樹脂組成物Ａを調製して作製し、作製された硬化性樹脂組成物Ａを用いて、カラーフィルタ形成用の赤色硬化性樹脂組成物、緑色硬化性樹脂組成物、青色硬化性樹脂組成物、ＷＨＩＴＥ層（図示していない）形成用の硬化性樹脂組成物、画素区分用遮光部１２形成用の硬化性樹脂組成物を作製し、これらの硬化性樹脂組成物を用いて、それぞれ、フォトリソ法を行うことにより、カラーフィルタ用の各色着色層、ＷＨＩＴＥ層、画素区分用遮光部１２を形成した。
尚、図１（ａ）に示す画素区分用遮光領域１８の幅（画素区分用遮光部１２のｄ１に相当）を７μｍ、画素領域１７の幅を２０μｍとした。

（硬化性樹脂組成物Ａの調製）
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３重量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２重量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２、２’ーアゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７重量部添加し、均一に溶解させた。
その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。
得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７重量部、トリエチルアミンを０．４重量部、及びハイドロキノンを０．２重量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
次に下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物Ａとした。
・ 上記共重合樹脂溶液（固形分５０％） ：１６重量部
・ ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社 ＳＲ３９９）
：２４重量部
・ オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社 エピコート１８０Ｓ７０） ：４重量部
・ ２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン ：４重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル ：５２重量部

ここでは、先に、基材１１の一面上にカラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ、ＷＨＩＴＥ層（図示していない）を形成した後に、画素区分用遮光部１２を形成したが、以下のように、順に行った。
（赤色の着色層１３Ｒの形成）
先ず、ガラス基板（旭硝子社製、ＡＮ材）上に、下記組成の赤色硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布し、その後、７０℃のオーブン中で３分間乾燥した。
次いで、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋｗの超高圧水銀ランプを用いて着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を１０秒間照射した。
次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後、基板を２３０℃の雰囲気下に15分間放置することにより、加熱処理を施して赤色画素パターンを表示用領域に形成した。
形成膜厚は２．４μｍとなった。
＜赤色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７ ：３重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４ ：４重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２３重量部
・ 酢酸−３−メトキシブチル ：６７重量部

（緑色の着色層１３Ｇの形成）
次に、下記組成の緑色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が２．４μｍとなるようにして、緑色画素を表示領域に緑色の着色層からなるレリーフパターンを形成した。
＜緑色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７ ：６重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０ ：２重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２２重量部
・ 酢酸ー３−メトキシブチル ：６７重量部

（青色の着色層１３Ｂの形成）
更に、下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が２．４μｍとなるようにして、表示領域に青色のレリーフパターンを形成した。
＜青色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６ ：５重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２５重量部
・ 酢酸−３−メトキシブチル ：６７重量部

（ＷＨＩＴＥ層（図示していない）の形成）
本例では、更に、下記組成のＷＨＩＴＥ層形成用の硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が２．０μｍとなるようにして、表示領域にＷＨＩＴＥ層のレリーフパターンを形成した。
＜ＷＨＩＴＥ層形成用の硬化性樹脂組成物の組成＞
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２５重量部
・ 酢酸−３−メトキシブチル ：６７重量部

（画素区分用遮光部１２の形成）
上記のようにして、図４（ａ）に示すように、カラーフィルタ用の各色の着色層、ＷＨＩＴＥ層を、各画素から画素区分用遮光領域１８へ延設して配し、且つ、隣接する画素から延設された両方の着色層同士が該両方の画素を区分けする画素区分用遮光領域１８で離間するように、着色層離間部１３Ｍを設けて配したが、この後、前記着色層離間部１３Ｍを埋め、且つ、着色層離間部１３Ｍを形成する着色層離間部１３Ｍ両側の着色層の上に跨る画素区分用遮光部１２を以下のようにして形成した。
着色層離間部１３Ｍの幅は３μｍとした。
尚、以下、ＷＨＩＴＥ層も着色層として扱っている。
まず、下記分量の成分を混合し、ビーズミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調整した。
・ 樹脂被覆カーボンブラック（三菱化学社製ＭＳ１８Ｅ） ：２０重量部
・ 高分子分散材（ビックケミー・ジャパン株式会社 Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ １６３） ：５重量部
・ 溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル） ：７５重量部
次に、下記分量の成分を十分混合して、遮光性の着色組成物を得た。
・ 上記黒色顔料分散液 ：４３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：１９重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル ：３８重量部
各着色層を覆うように、上記遮光性の着色組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させた。
次いで、当該遮光性の着色組成物１２ａの塗布膜面から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより、２．０ｋＷの超高圧水銀ランプで遮光パターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して、画素区分用遮光部１２を形成した。
加熱処理後の形成膜厚は、カラーフィルタ用の着色層上で、２．０μｍ程度となった。 本例では、同じフォトリソ工程で、同時に、額縁部（図示していない）用の遮光部を形成した。
尚、上記の樹脂被覆カーボンブラック（三菱化学社製ＭＳ１８Ｅ）は、平均粒径２５ｎｍである。
粒径は、例えば、日機装社製のレーザードップラー散乱光解析粒度分析計（商品名「Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ９３４ＵＰＡ」）を用い、通常は、着色組成物に含まれる溶剤（希釈溶剤と呼ぶ）で希釈し、着色組成物の顔料粒径の累積が５０％を占める粒径を５０％平均粒径とし、その値を測定して求める。
上記のようにして、実施例１のカラーフィルタ形成基板を作製した。

次いで、作製された実施例１のカラーフィルタ形成基板と、有機ＥＬ素子形成板とを、絶縁性の樹脂層１４を挟んで所定の間隔（１．２ｍｍ程度）で積層して、図１（ｂ）に示す有機ＥＬ表示装置を作製したが、作製された有機ＥＬ表示装置においては、図２（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における、光線Ｌ１２、光線Ｌ１３に起因する、見る方向により、表示される画像の色シフトや混色の発生は見られなかった。
また、画素区分用遮光部１２の断面はＴ字形状であり、図２（ａ）に示す従来の表示装置の場合に比べて、視野角度を大きくし、出射光の量を大きくすることができた。

（実施例２）
図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０を、図５に示すカラーフィルタ形成基板の作製方法により形成したものである。
ここでも、図１（ａ）に示す画素区分用遮光領域１８の幅（画素区分用遮光部１２のｄ１に相当）を７μｍ、画素領域１７の幅を２０μｍとした。
先ず、実施例１と同様にして、光硬化性の硬化性樹脂組成物Ａを調製して作製し、作製された硬化性樹脂組成物Ａを用いて、カラーフィルタ形成用の赤色硬化性樹脂組成物、緑色硬化性樹脂組成物、青色硬化性樹脂組成物、ＷＨＩＴＥ層（図示していない）形成用の硬化性樹脂組成物を作製し、これらの硬化性樹脂組成物を用いて、それぞれ、フォトリソ法を行うことにより、カラーフィルタ用の各色着色層、ＷＨＩＴＥ層を形成した。（図５（ａ））
次いで、全面に基材１１側から順にピュアクロム、酸化窒化クロム（ＣｒｘＮｙＯｚ）を積層した遮光性のクロム系金属膜１２ｂをスパッタリング形成した。（図５（ｂ））
ここでは、先ず、アルゴンガスとクロムターゲツトを用いた不活性スパツタリング法によりピュアクロムを、カラーフィルタ用の着色層上で厚さ１２００Åに成膜し、次いで、同じアルゴンガスと酸化クロム、窒化クロム混合組成ターゲツトを用いて、酸化窒化クロム（ＣｒｘＮｙＯｚ）を厚さ３００Åにスパツタリングによって成膜した。
ピュアクロムの成膜時のガス圧は１×１０^-2ｔｏｒｒ、基板−ターゲツト間距離は５cm、スパツタリング速度は１００Å／ｍｉｎであつた。
また、酸化窒化クロム（ＣｒｘＮｙＯｚ）の成膜時のガス圧は同じく１×１０^-2ｔｏｒｒ、基板−ターゲツト間距離は５cm、ターゲツト組成はＣｒｘＮｙＯｚでｘ：ｙ：ｚ＝１：0.3 ：1.3 、スパツタリング速度は４０Å／ｍｉｎであつた。
次いで、スパッタリングによ形成されたクロム系金属膜１２ｂ上に、市販のポジ型のフォトレジストＡｚー１３５０（シツプレー社製）を塗布し、画素区分用遮光部１２形成領域以外の領域を露光して、画素区分用遮光部１２形成領域にフォトレジストを残存して、それ以外の領域のフォトレジスト１９を除去し（図５（ｃ））、更に、露出した遮光性の金属膜１２ｂを所定の汎用のエッチング液（硝酸第２セリウムアンモン液）を用いてエッチングした後、全面露光にて残存しているフォトレジスト１９露光し、現像して、フォトレジスト１９を除去した。（図５（ｄ））
フォトレジスト１９の膜厚は０．５μｍであり、ピュアクロム、酸化窒化クロム（ＣｒｘＮｙＯｚ）のエツチング液は、
（ＮＨ４ ）２ Ｃｅ（ＮＯ３ ）６ ：硝酸第二セリウムアンモニウム １６５ｇ
ＨＣｌＯ４ ：過塩素酸 ４３ｃｃ
Ｈ２ Ｏ：脱イオン水 １０００ｃｃ
からなる液で、液温は２０℃とし、エツチング時間は約４０秒であつた。
上記のようにして、実施例２のカラーフィルタ形成基板を作製した。
尚、ターゲツト組成は膜の作成条件にもよるが、同膜をＣｒｘＮｙＯｚと表現した場合、通常、ｘ＝１、ｙ＝０．１〜０．３、ｚ＝０．８〜１．４の範囲が適当である。

次いで、作製された実施例２のカラーフィルタ形成基板と、有機ＥＬ素子形成板とを、絶縁性の樹脂層１４を挟んで所定の間隔（１．２ｍｍ程度）で積層して、図１（ｂ）に示す有機ＥＬ表示装置を作製したが、作製された有機ＥＬ表示装置においては、図２（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における、光線Ｌ１２、光線Ｌ１３に起因する、見る方向により、表示される画像の色シフトや混色の発生は見られなかった。
また、画素区分用遮光部１２の断面はＴ字形状であり、図２（ａ）に示す従来の表示装置の場合に比べて、視野角度を大きくし、出射光の量を大きくすることができた。

１０、１０ａ、１０ｂ、１０Ａ カラーフィルタ形成基板
１１ 基材（透明基板とも言う）
１１Ｓ 基材面
１２ 画素区分用遮光部（ブラックマトリクスとも言う）
１２ａ （遮光性の）樹脂組成物
１２ｂ 遮光性の金属膜
１３ａ 第１の着色層
１３ｂ 第２の着色層
１３ｃ 第３の着色層
１３Ｒ 赤色の着色層（赤色着色層とも言う）
１３Ｇ 緑色の着色層（緑色着色層とも言う）
１３Ｂ 青色の着色層（青色着色層とも言う）
１３Ｍ 着色層離間部
１４ 絶縁性の樹脂層
１５ 光吸収層
１７ 画素領域
１７ａ〜１７ｄ 画素領域
１８ 画素区分用遮光領域
１９ （ポジ型の）フォトレジスト
２０ 露光光
３０ 有機ＥＬ素子形成基板
３１ 基材（透明基板とも言う）
３２ 有機ＥＬ素子
３２Ａ 有機ＥＬ素子層
３５ 陽極
３６ 有機ＥＬ層
３７ 発光層
３８ 陰極
Ｌ１１、Ｌ１１ａ、Ｌ１１ｂ、Ｌ１２、Ｌ１３ 光線
Ｌ２１、Ｌ２１ａ、Ｌ２１ｂ、Ｌ２２、Ｌ２３ 光線
１１０、１１０ａ、１１０ｂ、 カラーフィルタ形成基板
１１１ 基材（透明基板とも言う）
１１２ ブラックマトリックス
１１３Ｒ 赤色の着色層（赤色着色層とも言う）
１１３Ｇ 緑色の着色層（緑色着色層とも言う）
１１３Ｂ 青色の着色層（青色着色層とも言う）
１１３Ｗ ＷＨＩＴＥ層
１１３ＷＡ 透過率調整部
１１３ＲＬ１、１１３ＲＬ２、１１３ＲＬ３ 赤色の表示色
１１３ＧＬ１、１１３ＧＬ２、１１３ＧＬ３ 緑色の表示色
１１３ＢＬ１、１１３ＢＬ２、１１３ＢＬ３ 青色の表示色
１１４ 絶縁性の樹脂層
１２０ 有機ＥＬ素子形成基板
１２１ 基材（透明基板とも言う）
１２２ 有機ＥＬ素子
１２２Ｗ 白色光

Claims (10)

1. 透明基板からなる基材の一面上に、画素区分用遮光領域を配して画素領域を区分けし、カラーフィルタ用の各色の着色層を、それぞれ、所定の画素領域に配している、白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であって、前記基材の一面上に、各画素領域のカラーフィルタ用の着色層を、該画素領域の全周にわたり、隣接する外側の画素区分用遮光領域内にまで達して延設し、各画素領域から延設された着色層同士を、画素区分用遮光領域内において離間して配しているものであり、前記画素区分用遮光領域には、前記各画素領域から延設された着色層同士が離間した部分を埋めて、着色層を覆うようにして、領域全体にわたり、遮光性材料が配されていることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
2. 請求項１に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記遮光性材料が、色材を分散させて含有する樹脂材からなることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
3. 請求項１ないし２のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記遮光性材料が、クロムを主材とする金属化合物からなることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
4. 請求項１ないし３のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記画素領域に光吸収層が積層して形成されていることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
5. 請求項４に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記光吸収層は、樹脂中に色材としてカーボンブラックを分散して含有しているものであることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
6. 請求項４ないし５のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記光吸収層のＣ光源における平均透過率が４５％〜９５％であることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
7. 請求項１ないし６のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板を作製するカラーフィルタ形成基板の作製方法であって、基材の一面上にカラーフィルタ用の全着色層を配設した後、前記全着色層を覆うように全面に感光性の色材を分散させて含有する遮光性の樹脂組成物からなる膜を形成し、該膜をフォトリソ法によりパターニングして、画素区分用遮光領域に遮光性材料を配することを特徴とするカラーフィルタ形成基板の製造方法。
8. 請求項１ないし６のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板を作製するカラーフィルタ形成基板の作製方法であって、基材の一面上にカラーフィルタ用の全着色層を配設した後、順に、前記全着色層を覆うように全面にクロムを主材とする金属化合物からなる膜を形成し、該膜を覆うようにフォトレジスト層を形成し、該フォトレジスト層をフォトリソ法によりパターニングして、フォトレジスト層に覆われていない領域の前記膜をエッチングにより除去して、画素区分用遮光領域に遮光性材料を配することを特徴とするカラーフィルタ形成基板の製造方法。
9. 請求項１ないし６のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板を用いて、表示部を形成していることを特徴とする表示装置。
10. 有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを積層した構造の、白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置であって、請求項１ないし６のいずれかに記載のカラーフィルタ形成基板を用いていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。

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