JP6236793B2 - カラーフィルタ形成基板とカラーフィルタ形成基板の製造方法、および有機el表示装置 - Google Patents
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Description
また、図9(b)に示すように、上記白色発光タイプの有機EL表示装置の前面(観察者側)に円偏光板130を設け、外部入射光の反射を低減する形態も採られている。
あるいはまた、図9(c)に示すように、WHITE画素に相当する領域に着色材が分散された感光性樹脂からなる層を配し、これを透過率調整部113WAとして、外光の入射や、入射された外光の、有機EL素子が有する電極及び金属配線での反射を調整する形態も採られている。(特許文献3参照)
図9(a)に示す有機EL表示装置の場合、前面(観察者側)から入射される外光の反射率は、通常、97%程度である。
図9(b)に示す有機EL表示装置の場合、前面(観察者側)から入射される外光の反射率は、通常、0.1%程度で、表示の明るさは、図9(a)に示す形態の有機EL表示装置の40%程度である。
図9(b)に示す有機EL表示装置の場合、透過率調整部113WAにより、外光の入射や、入射された外光の、有機EL素子が有する電極及び金属配線での反射を調整することができるが、外光の反射低減が不十分であり、反射ムラが見え易い。
尚、高光透過画素には、通常、着色していない樹脂層や、R、G、Bの各色を併せた色に合わせて若干着色してある樹脂層を配しているが、このような高光透過画素をWHITE画素と言い、WHITE画素に配置されている樹脂層をWHITE層と言う。
また、有機EL表示装置は、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ装置、有機ELディスプレイ装置とも言われ、表示装置は、表示パネルとも言われる。
これは、有機EL素子からの光が、全て、カラーフィルタ形成基板に対して、その基材面に直交する方向に入射するのではなく、入射する角度に広がりをもって入射するために起こるのである。
尚、WHITE画素を対象としない場合には、ある画素を表示するための有機EL素子からの白色光が、該画素のカラーフィルタ用の着色層を通過して、隣接する画素の着色層に入り込むと、2つの着色層の可視領域での透過特性により、ほとんど吸収される。
そのため、特に、ある画素を表示するための有機EL素子からの白色光が、直接、隣接する画素の着色層に入り込むことが、表示される画像の色シフトや混色に大きく影響をしている。
そして、表示の高精細、高品質化の要求に伴い、各画素については、隣接する画素の有機EL素子から光の入り込みが、品質上、無視できなくなってきた。
本発明は、これに対応するもので、各画素について、隣接する画素の有機EL素子からの光の入り込みを防止でき、且つ、観察者側への出射光の量を大きくでき、視野角を大きくすることができる白色発光タイプの有機EL表示装置を提供しようとするものであり、そのような有機EL表示装置の作製を可能とすることができるカラーフィルタ形成基板を提供しようとするものである。
そして、上記のカラーフィルタ形成基板であって、前記遮光性材料が、色材を分散させて含有する樹脂材からなることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかのカラーフィルタ形成基板であって、前記遮光性材料が、クロムを主材とする金属化合物からなることを特徴とするものである。
また、上記いずれかのカラーフィルタ形成基板であって、前記画素領域に光吸収層が積層して形成されていることを特徴とするものであり、前記光吸収層は、樹脂中に色材としてカーボンブラックを分散して含有しているものであることを特徴とするものであり、更に、前記光吸収層のC光源における平均透過率が45%〜95%であることを特徴とするものである。
ここでの、「着色層同士が離間した部分を埋めて」とは、着色層同士が離間した部分を完全に埋め尽くしていない場合も含むものである。(図4、図5参照)
また、ここでは、前記画素区分用遮光領域に配される遮光性材料は、いずれの箇所においても、可視光領域での光学濃度が2. 0以上、好ましくは4. 0以上である。
また、ここでは、WHITE画素を設けてWHITE層を配設する形態のカラーフィルタ形成基板とした場合には、WHITE層もカラーフィルタ用の各色の着色層に含むものとする。
ここでは、顕微分光装置(OSP−SP2000、OLYMPUS(株)社製)を用いて透過スペクトルを測定しており、測定により得られた透過スペクトルより下記(1)式より、XYZ表色系のYの値が求められるが、実質的には、これに相当する。
尚、式(1)においては、P(λ)は、光源の分光組成、y(λ)は、XYZ表示系における等色関数の1つ、τ(λ)は、ここでは、物体の分光透過率、kは定数である。
あるいは、本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法は、上記いずれかのカラーフィルタ形成基板を作製するカラーフィルタ形成基板の作製方法であって、基材の一面上にカラーフィルタ用の全着色層を配設した後、順に、前記全着色層を覆うように全面にクロムを主材とする金属化合物からなる膜を形成し、該膜を覆うようにフォトレジスト層を形成し、該フォトレジスト層をフォトリソ法によりパターニングして、フォトレジスト層に覆われていない領域の前記膜をエッチングにより除去して、画素区分用遮光領域に遮光性材料を配することを特徴とするものである。
尚、先にも述べましたように、ここでは、WHITE画素を設けてWHITE層を配設する形態のカラーフィルタ形成基板とした場合には、WHITE層もカラーフィルタ用の各色の着色層に含むものとする。
本発明のカラーフィルタ形成基板は、このような構成にすることにより、特に、表示の高精細、高品質化の要求に対応して、各画素について、隣接する画素の有機EL素子から光の入り込みを防止でき、且つ、観察者側への出射光の量を大きくでき、視野角を大きくすることができる白色発光タイプの有機EL表示装置の作製を可能とすることができるカラーフィルタ形成基板の提供を可能としている。
具体的には、基材の一面上に、各画素領域のカラーフィルタ用の着色層を、該画素領域の全周にわたり、隣接する外側の画素区分用遮光領域内にまで達して延設し、各画素領域から延設された着色層同士を、画素区分用遮光領域内において離間して配しているものであり、前記画素区分用遮光領域には、前記各画素領域から延設された着色層同士が離間した部分を埋めて、着色層を覆うようにして、領域全体にわたり、遮光性材料が配されていることにより、これを達成している。
まず、従来のカラーフィルタ形成基板10Aを用いた白色光源タイプの有機EL表示装置の場合、図2(a)に示すように、有機EL素子22の画素領域17aの中心位置L01からの白色光は、大半は、光線L11のように、カラーフィルタ形成基板10Aの基材11の面11Sに直交する方向に進み、画素領域17aの第1の着色層13aを通過して観察者側に到達するが、一部は、光線L13のように、画素領域17aに配される第1の着色層13aを通過して隣接する画素領域17bの第2着色層13bに入射され通過して、観察者側に到達、あるいは、光線L12のように、直接、隣接する画素領域17bに配される第2の着色層13bに入射されて通過して、観察者側に到達する。
例えば、第1の着色層13aが赤色の着色層13R、第2の着色層13bが緑色の着色層13Gである場合、光線L13は、赤色の着色層13R、緑色の着色層13Gを通過するため、赤色の着色層13R、緑色の着色層13Gの透過特性からほとんどがカットされて観察者側に出射されるが、光線L12は、緑色の着色層13Gのみを通過するため、本来出射されるべきでない光が緑色の着色層13Gの透過特性で観察者側に出射されることとなる。
また、例えば、図2(a)における第1の着色層13aを配した画素位置がWHITE画素である場合、光線L13に相当する光線は、WHITE画素側に入射され通過して、隣接する第2の着色層13bへ入射され、第2の着色層13bの透過特性で観察者側に出射されることとなり、このような光線も、見る方向によっては、表示される画像の色シフトや混色を発生させる。
このため、このような光線L12、L13が原因で、見る方向によっては、表示される画像の色シフトや混色が発生していた。
一方、図2(b)に示すように、本発明のカラーフィルタ形成基板10においては、基材11の一方の面11S上に、各画素領域のカラーフィルタ用の着色層を、該画素領域の全周にわたり、隣接する外側の画素区分用遮光領域18内にまで達して延設し、各画素領域から延設された着色層同士を、画素区分用遮光領域内において離間して配しているものであり、且つ、前記各画素領域から延設された着色層同士が離間した部分(図1(c)の着色層離間部13Mに相当)を埋めて、着色層を覆うようにして、前記画素区分用遮光領域全体に、遮光性材料を配している。
このような遮光性材料にて形成される画素区分用の遮光部を、以下、画素区分用遮光部12と言うが、その断面形状は略T字であり、ここでは、図1(a)に示すように、画素区分用遮光部12の基板11と接する側の幅をd2とし、画素区分用遮光部12の着色上にある最大幅となる部分の幅をd1とした場合、d1>d2である。
本発明のカラーフィルタ形成基板10は、このような構造であるため、本発明のカラーフィルタ形成基板10を用いた有機EL表示装置の場合は、図2(a)に示す従来の表示装置における光線L12、L13に相当する光線L22、L23を画素分割用遮光部12でカットしている。
このため、このような光線に起因する、見る方向による、表示される画像の色シフトや混色は発生しない。
また、本発明の場合は、画素中心位置L01から観察者側に出射される出射光の出射角は、従来の表示装置の角度Θ1に対して、角度Θ2と大きくなるため、従来の表示装置に比べて、出射光の量を大きくすることができ、視野角を大きくすることができる。
上記色材としては、カーボンブラック粒子等の無機粒子が挙げられる。
尚、遮光性材料が導電性材料にて形成されている場合には、静電気等に起因する放電破壊等の不具合を防止できる。
光吸収層としては、具体的には、樹脂中に色材としてカーボンブラックを分散して含有しているものが挙げられるが、これに限定はされない。
この形態において、光吸収層のC光源における平均透過率が45%〜95%である場合、特に、外光反射の低減効果に加えて、表示の際の輝度を、円偏光板を用いた図11(b)に示す形態よりも、大きくできる。
尚、ここでの「平均透過率」とは、光吸収層の透過率を可視光領域全域にわたる透過率が略フラットで、可視光領域全域にわたる透過率を平均することにより得られる値である。
ここでは、顕微分光装置(OSP−SP2000、OLYMPUS(株)社製)を用いて透過スペクトルを測定しており、測定により得られた透過スペクトルより下記(1)式より、XYZ表色系のYの値が求められるが、実質的には、これに相当する。
尚、式(1)においては、P(λ)は、光源の分光組成、y(λ)は、XYZ表示系における等色関数の1つ、τ(λ)は、ここでは、物体の分光透過率、kは定数である。
本例のカラーフィルタ形成基板10は、透明基板からなる基材11の一方の面11S上に、画素区分用遮光領域18を配して画素領域17を区分けし、カラーフィルタ用のR(赤色)、G(緑色)、B(青色)の各色の着色層を、それぞれ、所定の画素領域17に配している、白色光源タイプの有機EL表示装置用のカラーフィルタ形成基板である。
そして、特に、本例のカラーフィルタ形成基板10は、図1(a)に示すように、基材11の一方の面11S上に、各画素領域のカラーフィルタ用の着色層を、該画素領域の全周にわたり、隣接する外側の画素区分用遮光領域18内にまで達して延設し、各画素領域から延設された着色層同士を、画素区分用遮光領域内において離間して配しているものであり、且つ、前記各画素領域から延設された着色層同士が離間した部分(図1(c)の着色層離間部13Mに相当)を埋めて、着色層を覆うようにして、前記画素区分用遮光領域18全体に、遮光性材料を配している。
このような遮光性材料にて形成される画素区分用の遮光部を、ここでは、画素区分用遮光部12と言うが、その断面形状は略T字であり、図1(a)に示すように、画素区分用遮光部12の基板11と接する側の幅をd2とし、画素区分用遮光部12の着色上にある最大幅となる部分の幅をd1とした場合、d1>d2である。
尚、図1(a)では、WHITE画素を明示していないが、WHITE画素の領域も、画素区分用遮光部12にて区分けしている。
第1の例のカラーフィルタ形成基板10は、白色発光の有機EL素子を各画素毎に形成した有機EL素子形成基板30と、絶縁性の樹脂層14を間に挟んで、所定の間隔で積層されて、図1(b)に示すように、有機EL表示装置となる。
上記有機EL表示装置としては、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器(高機能端末機器とも言う)等のモバイル電子機器用が挙げられるが、これらに限定はされない。
このため、第1の例のカラーフィルタ形成基板10は、図2(a)に示す従来の有機EL表示装置における、光線L12、光線L13に起因する、見る方向により、表示される画像の色シフトや混色を発生しなくできる。
<基板11>
第1の例に用いられる透明基板からなる基材11としては、従来よりカラーフィルタに用いられているものを用いることができ、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明な無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明な樹脂基板等を挙げることができるが、特に、無機基板を用いることが好ましく、無機基板のなかでもガラス基板を用いることが好ましい。
さらには、上記ガラス基板のなかでも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。
無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、表示装置用のカラーフィルタに好適に用いることができるからである。
上記基板は、通常、透明な透明基板が用いられている。
カラーフィルタ用の各色の着色層の画素領域17を区分けする画素区分用遮光部12を形成するための遮光性材料の素材として、遮光性の着色層を用いている。
遮光性の着色層としては、例えば、ここでは、エポキシ樹脂等の樹脂で被覆したカーボンブラックをピグメント(顔料)としてバインダ樹脂中に分散させたものが用いられている。
カーボンブラックをピグメント(顔料)としてバインダ樹脂中に分散させたものは、膜厚を比較的薄くして遮光性の樹脂層を形成することができる。
ここでは、画素区分用遮光部12用の遮光性の着色層の形成をフォトリソグラフィー法を用いているが、この場合、バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合、黒色着色剤および感光性樹脂を含有する画素区分用遮光領域の遮光層12形成用の感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
尚、画素区分用遮光部12形成用の遮光性の着色層を、印刷法やインクジェット法を用いて形成する場合もあるが、この場合には、バインダ樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
尚、画素区分用遮光部12の開口パターン形状や各色の着色層の配列は、限定はされない。
画素区分用遮光部12の開口パターン形状がストライプ状の形状のものや、くの字形状、デルタ配列などの様に着色層の配列を変えたものも挙げられる。
また、ここでは、画素区分用遮光部12の各部は、可視光領域での光学濃度が2. 0以上、好ましくは4. 0以上のものを用いる。
本例では、カラーフィルタ形成用の各色の着色層は、赤色の着色層13R、緑色の着色層13G、青色の着色層13Bの3色の着色層である。
各色の着色層は、各色の顔料や染料等の着色材(色材ともいう)をバインダ樹脂中に分散または溶解させた着色部形成用の樹脂組成物を用いて、フォトリソ法(フォトリソグラフィー法とも言う)により形成されるものである。
上記着色層に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合、着色材および感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
上記各色の着色層の膜厚は、通常、1μm〜5μm程度で設定される。
着色層の色としては、赤色、緑色、青色の3色を少なくとも含むものであれば特に限定されるものではなく、例えば、赤色、緑色、青色の3色、または、赤色、緑色、青色、黄色の4色、または、赤色、緑色、青色、黄色、シアンの5色等とすることもできる。
尚、赤色(Rとも記載)の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
緑色(Gとも記載)の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
青色(Bとも記載)の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
図1(a)では、明示していないが、上記の画素区分用遮光層12や着色層13R、13G、13Bを形成する樹脂組成物等から着色材(色材)を除いた組成の樹脂が用いられ、フォトリソ法により形成されるが、形成方法はこれに限定はされない。
絶縁性の樹脂層14の材料としては、熱硬化性樹脂組成物と光硬化性樹脂組成物が挙げられる。
光硬化性樹脂組成物としては、上記カラーフィルタ形成用の各色の着色層に用いられるバインダ樹脂と同様のもの、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合も、感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
熱硬化性樹脂組成物としては、エポキシ化合物を用いたもの、熱ラジカル発生剤をもちいたものがあげられる。
エポキシ化合物としては、カルボン酸やアミン系化合物などにより硬化しうる公知の多価エポキシ化合物を挙げることができ、このようなエポキシ化合物は、例えば、新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社刊(昭和62年)等に広く開示されており、これらを用いることが可能である。
熱ラジカル発生剤としては過硫酸塩、ヨウ素等のハロゲン、アゾ化合物、および有機過酸化物からなる群から選択される少なくとも一種であり、より好ましくは、アゾ化合物または有機過酸化物である。
アゾ化合物としては、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル、1−[(1−シアノ−1−メチルエチル)アゾ]ホルムアミド、2,2’−アゾビス−[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、および2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)などが挙げられ、有機過酸化物としては、ジ(4−メチルゼンゾイル)ペーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルエキサネート、1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、t−ブチルパーオキシベンゾネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカルボネート、t−ブチル−4,4−ジ−(t−ブチルパーオキシ)ブタネート、およびジクミルパーオキサイドなどが挙げられる。
(1) 基材31
基材31としては、基本的に、基材11と同様の材質が用いることができるが、第1の例のカラーフィルタを用いた図1(b)に示す表示装置の場合は、基材11側から外側に出射して表示するため、透明である必要はない。
図1(b)に示す白色発光の有機EL素子32については、図1(b)では明示していないが、例えば、図6に示すような材料構成とする。
図6に示す有機EL素子32は、赤、緑、青に発光する3つの材料を用いて、併せて白色発光とするものです。
勿論、所望の白色発光ができれば、上記の3つの材料の組み合わせに限らない。
(有機EL層36)
有機EL素子32を形成する有機EL層36は、少なくとも発光層37を含む1層もしくは複数層の有機層から構成されるものである。
発光層以外の有機EL層36を構成する有機層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層等を挙げることができる。
この正孔輸送層は、正孔注入層に正孔輸送の機能を付与することにより、正孔注入層と一体化される場合が多い。
また、有機EL層を構成する有機層としては、正孔ブロック層や電子ブロック層のような正孔もしくは電子の突き抜けを防止し、さらに励起子の拡散を防止して発光層内に励起子を閉じ込めることにより、再結合効率を高めるための層等を挙げることができる。
有機EL層の構成としては、一般的な構成であればよく、発光層のみ、正孔注入層/発光層、正孔注入層/発光層/電子注入層、正孔注入層/正孔ブロック層/発光層/電子注入層、正孔注入層/発光層/電子輸送層などを例示することができる。
白色発光の有機EL素子32における、発光材料は、単一の化合物で構成されることはほとんどなく、一般的には、2つないし3つの色の異なる発光材料を用いている。
発光スペクトルは、各色の発光材料のスペクトルを併せた形となる。
(陽極35、陰極38)
陽極35、陰極38の電極層を形成する導電性材料としては、一般に金属材料が用いられるが、有機物や無機化合物を用いてもよく、複数の材料を混合して用いてもよい。
また、陽極、陰極の電極層は、光の取り出し面に応じて、透明性を有するか否かを適宜選択される。
陽極35には、正孔が注入し易いように仕事関数の大きい導電性材料が好ましく用いられ、陰極38には、電子が注入し易いように仕事関数の小さな導電性材料が好ましく用いられる。
前記導電性材料としては、透明性を要求される場合には、In−Zn−O(IZO)、In−Sn−O(ITO)、Zn−O−Al、Zn−Sn−O等が挙げられ、透明性が要求されない場合には、金属を用いることができ、具体的にはAu、Ta、W、Pt、Ni、Al、Pd、Cr、あるいは、Al合金、Ni合金、Cr合金等を挙げることができる。
陽極35および陰極38のいずれの電極層も、抵抗が比較的小さいことが好ましい。
電極層の成膜方法としては、一般的な電極の成膜方法を用いることができ、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、CVD法、印刷法等を挙げることができる。
また、電極層のパターニング方法としては、フォトリソグラフィー法を挙げることができる。
第2の例のカラーフィルタ形成基板(図3(a)の10aに相当)は、図1(a)に示すカラーフィルタ形成基板10において、基材11の一面11S上、該一面11Sと各色の着色層13R、13G、13B、画素区分け用遮光部12との間に、光吸収層15を設けたものであり、他は、図1(a)に示す第1の例のカラーフィルタ形成基板10と同じである。
第2の例のカラーフィルタ形成基板10aも、白色発光の有機EL素子を各画素毎に形成した有機EL素子形成基板30と、絶縁性の樹脂層14を間に挟んで、所定の間隔で積層されて、図3(a)に示すように、有機EL表示装置となり、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器(高機能端末機器とも言う)等のモバイル電子機器用の白色光源タイプの有機EL表示装置として適用されるが、用途は、これらに限定はされない。
第2の例のカラーフィルタ形成基板10aは、このような形態とすることにより、第1の例と同様に、白色発光タイプの有機EL表示装置に用いられた場合、図2(a)に示す従来の有機EL表示装置における光線L12、L13に相当する光線を、カットすることができ、このような光線に起因する、見る方向により、表示される画像の色シフトや混色を発生しなくできるものとしている。
また、第1の例の場合と同様、白色発光タイプの有機EL表示装置に用いられた場合、画素中心位置の光源L0から観察者側に出射される出射光の出射角を、図2(a)に示す従来の表示装置の場合に比べて大きくでき、これより、図2(a)に示す従来の表示装置の場合に比べて、出射光の量を大きくすることができ、視野角を大きくすることができる。
更に、第2の例は、光吸収層15を設けていることにより、白色発光タイプの有機EL表示装置に用いられた場合、外光反射の低減と表示輝度の低下防止を達成できる表示装置の作製を可能としている。
各部材としては、光吸収層15以外は、図1(a)に示すカラーフィルタ形成基板10と同様のものを適用する。
光吸収層15を形成する材料としては、樹脂中に、色材としてカーボンブラックを含有し、色調整用にBLUE顔料等含有し、これらを分散させたものが用いられるが、上記樹脂としては、画素区分用遮光層12や着色層13R、13G、13Bを形成する樹脂組成物等から色材を除いた組成の樹脂が用いられて、塗膜される。
塗膜方法としては、フォトリソグラフィー(ダイコート法、スピンコート法)、インクジェット法等が挙げられるが、通常は、フォトリソグラフィーにて塗膜する。
塗膜性や外光反射低減の面からは、光吸収層15の膜厚は0.3μm以上であることが好ましい。
主な色材の濃度調整により、光吸収層を透過する光の強度を調整でき、また、色調整用の顔料を適宜含有させることにより、表示の際の可視光領域(400nm〜700nm波長領域)全体にわたり光吸収層の光透過率のバラツキが少ないフラットな透過率特性を容易に得ることができる。
主な色材としてのカーボンブラックの濃度を調整することにより、図8に示すように、種々の透過率を容易に得ることができる。
尚、図8では、光吸収層の透過率の値を横軸で表し、光吸収層の透過率の値に対応した光吸収層を2回通過した場合の透過率を縦軸で表しており、図8における三角印は、カーボンブラック濃度を調整して測定して得た光吸収層の透過率(横軸)と、対応する該吸収層を2回通過した場合の透過率(縦軸)を示している。
また、色調整用の顔料を含有量を調整することにより、可視光領域(400nm〜700nmの波長範囲)にわたりフラットに近い透過率特性を容易に得ることができる。
光吸収層は、可視光領域(400nm〜700nmの波長範囲)において、フラットに近い光透過特性の方が光吸収層を設けたことによる色ずれは小さく、表示の際の透過光の色ずれ、外光反射の色ずれを小さくすることができる。
例えば、図7に示すフラットに近い透過率特性を有する光吸収層を用いた場合、光吸収層を設けたことによる色ずれの問題はない。
また、表示する際の光は、光吸収層15を1回通過して出射されるため、光吸収層15による透過光の低下は1回で済み、例えば、光吸収層15の透過率を60%とすれば、1回光吸収層15を通過による透過光の低下は、実質60%となる。
したがって、第5の例のカラーフィルタを用いた場合、光吸収層15の透過率特性が、可視光領域(400nm〜700nmの波長範囲)においてフラットで60%とすれば、図11(a)に示す有機EL表示装置に比べて、前面(観察者側)から外光が入射して、内部の電極や配線で反射して出射する、外光の反射光を36%に低減することができ、表示の際の通過光を60%とでき、表示の際の通過光については、図11(a)に示す有機EL表示装置の40%程度である図11(b)に示す円偏光板を用いた有機EL表示装置に比べて、表示の際の通過光を多くすることができる。
尚、光吸収層15の透過率としては、従来の図11(a)に示す有機EL表示装置に比べて、前面(観察者側)から外光が入射して、内部の電極や配線で反射して出射する、外光の反射光を低減でき、且つ、図11(b)に示す円偏光板を用いた有機EL表示装置に比べて、表示の際の透過光を多くすることからは、C光源の場合、平均透過率が45%〜95%であることが好ましい。
ここでの「平均透過率」とは、光吸収層の透過率を可視光領域全域にわたる透過率が略フラットで、可視光領域全域にわたる透過率を平均することにより得られる値である。
ここでは、顕微分光装置(OSP−SP2000、OLYMPUS(株)社製)を用いて透過スペクトルを測定しており、測定により得られた透過スペクトルより下記(1)式より、XYZ表色系のYの値が求められるが、実質的には、これに相当する。
尚、式(1)においては、P(λ)は、光源の分光組成、y(λ)は、XYZ表示系における等色関数の1つ、τ(λ)は、ここでは、物体の分光透過率、kは定数である。
第3の例のカラーフィルタ形成基板(図3(b)の10bに相当)は、図1(a)に示すカラーフィルタ形成基板10において、更に、各色の着色層13R、13G、13B、画素区分け用遮光部12を覆うように、光吸収層15を設けたものであり、他は、図1(a)に示す第1の例のカラーフィルタ形成基板10と同じである。
第3の例のカラーフィルタ形成基板10bは、このような構造であるため、第1の例と同様、白色発光タイプの有機EL表示装置に用いられた場合、表示される画像の色シフトや混色を発生しなくでき、また、図2(a)に示す従来の表示装置の場合に比べて、出射光の量を大きくすることができ、視野角を大きくすることができる。
そして、更に、光吸収層15を設けていることにより、第2の例と同様、外光反射の低減と表示輝度の低下防止を達成できる表示装置の作製を可能としている。
各部材としては、光吸収層15以外は、図1(a)に示す第1の例のカラーフィルタ形成基板10と同様のものを適用する。
例えば、第1の例〜第3の例の各例の変形例として、カラーフィルタ用の各色の着色層を覆う保護層を配している形態も挙げられる。
また、第1の例〜第3の例では、WHITE画素を有し、カラーフィルタ形成用の各色の着色層を、赤色の着色層13R、緑色の着色層13G、青色の着色層13Bの3色の着色層としたが、これに限定はされない。
また、カラーフィルタ形成用の各色の着色層の配列は、第1の例〜第3の例の配列に限定はされない。
例えば、赤色の着色層13R、緑色の着色層13G、青色の着色層13Bの各色の画素とWHITE画素とを、2行2列の画素に収めて、これを1単位として、配列する形態も挙げられる。
これらの形態の場合も、第1の例と同様、見る方向により、表示される画像の色シフトや混色を発生しなくできる。
また、着色層を最も外側に配した形態例の着色層上に、あるいは、光吸収層を最も外側に配した形態例の光吸収層上に、更に、散乱機能を有する層(散乱層とも言う)を形成した形態のものも挙げられる。
散乱層を配した形態とすることにより、散乱層を設けない場合に比べて、観察者の見る方向による視差を改善できる。
先ず、図1(a)に示す第1の例のカラーフィルタ形成基板10の作製方法の1例を、図4に挙げて説明する。
便宜上、図4(a)〜図4(d)では、赤色の着色層13Rを配した画素領域と緑色の着色層を配した画素領域間に画素区分用遮光部12(図1(a)参照)を形成する工程断面図を示すが、他の画素領域間についても同じ工程で一緒に画素区分用遮光部12は形成される。
予め、透明な基材11を用意しておき、先ず、該基材11の一方の面上に、カラーフィルタ用の各色の着色層、WHITE層(図示していない)を、順次、一般的なフォトリソ法により、それぞれ、所定の形成領域に形成する。(図4(a))
通常、カラーフィルタ用の各色の着色層13R、13G、13Bは、各色の顔料や染料等の着色材をバインダ樹脂中に分散または溶解させた着色部形成用の樹脂組成物を用いて、フォトリソ法(フォトリソグラフィー法とも言う)により形成するが、これに限定はされない。
印刷法や、インクジェット法にて形成することもできる。
WHITE層は、上記の画素区分用遮光領域の遮光層12や着色層13R、13G、13Bを形成する樹脂組成物等から着色材(色材)を除いた組成の樹脂が用いられ、フォトリソ法により形成されるが、形成方法はこれに限定はされない。
印刷法や、インクジェット法にて形成することもできる。
次いで、着色層離間部13Mを埋めて、カラーフィルタ用の各色の着色層、WHITE層(図示していない)を覆うように、光硬化型の遮光性の樹脂組成物12aを塗膜する。(図4(b))
樹脂組成物12aとしては、カーボンブラック等の黒色の色材をバインダ樹脂中に分散または溶解させた光硬化型の樹脂組成物を用いる。
次いで、着色層離間部13M領域と隣接する両方の着色層に跨る領域を選択的に露光した(図4(c))後、現像して、断面略T字上に遮光性材料を配して、画素区分用遮光部12を形成する。(図4(d))
このようにして、図1(a)に示す第1の例のカラーフィルタ形成基板10が作製される。
図4に示す作製方法と同様にして、基材の一面上に、カラーフィルタ用の各色の着色層、WHITE層(図示していない)を、順次、一般的なフォトリソ法により、それぞれ、所定の形成領域に形成する。(図5(a))
次いで、着色層離間部13Mを埋めて、カラーフィルタ用の各色の着色層、WHITE層(図示していない)を覆うように、全面に、遮光性の金属膜12bを成膜する。(図5(b))
遮光性の金属膜12bとしては、通常、クロムを主成分とする1層以上の膜で、スパッタリング法や蒸着法により成膜される。
クロムを主成分とする膜としては、ピュアクロムの単層や、ピュアクロムとクロムの酸化窒化膜(CrxNyOz膜)の多層膜等が用いられるが、これらには限定されない。
上記酸化窒化膜(CrxNyOz膜)膜の作成方法は、CrxNyOzの組成のターゲツトを用いるスパツタリング法、N2 ガス、O2 ガス雰囲気を用いる反応性スパツタリング法、CrxNyOz試料を用いた真空蒸着法、N2 ガス、O2 ガス雰囲気を用いた反応性蒸着法等を適用することが可能であり、それぞれ最適のx、y、z値を選択することによって、同一方法で、一度も大気中に取り出すことなく成膜できる。
尚、ターゲツト組成は膜の作成条件にもよるが、同膜をCrxNyOzと表現した場合、通常、x=1、y=0.1〜0.3、z=0.8〜1.4の範囲が適当である。
次いで、遮光性の金属膜12bを全面に覆うように、ポジ型のフォトレジストを塗布した後に、画素区分用遮光部12形成領域以外の領域を露光して、画素区分用遮光部12形成領域にフォトレジストを残存して、それ以外の領域のフォトレジスト19を除去する。(図5(c))
ポジ型のフォトレジスト19としては、特に限定はされず、周知の市販のものが適用できる。
ここで、ポジ型のフォトレジスト19を用いている理由は、一般的にネガ型のフォトレジストよりもレジストの除去が容易で残渣が残りずらいからであるが、ネガ型のフォトレジストでも、除去が容易で残渣が残りずらければ用いることができる。
次いで、露出した遮光性の金属膜12bをエッチングした後、全面露光にて残存しているフォトレジスト19露光し、現像することにより、フォトレジスト19が除去されて、断面略T字上に遮光性の金属膜12bからなる遮光性材料を配した、画素区分用遮光部12が形成されて、図1(a)に示す第1の例のカラーフィルタ形成基板10が作製される。(図5(d))
また、図3(b)に示す第3の例のカラーフィルタ形成基板10bの作製は、図4、図5に示す作製方法において、それぞれ、図1(a)に示す第1の例のカラーフィルタ形成基板10を形成した後、該第1の例のカラーフィルタ形成基板10の画素区分用遮光部12、カラーフィルタ用の各色の着色層13R、13G、13B、WHITE層を覆うように、光吸収層を塗膜形成する。
光吸収層の形成は、フォトリソ法やインクジェット法等にて行うことができる。
実施例を挙げて、本発明を更に説明する。
(実施例1)
図1(a)に示す第1の例のカラーフィルタ形成基板10を、図4に示すカラーフィルタ形成基板の作製方法により形成したもので、以下のように、光硬化性の硬化性樹脂組成物Aを調製して作製し、作製された硬化性樹脂組成物Aを用いて、カラーフィルタ形成用の赤色硬化性樹脂組成物、緑色硬化性樹脂組成物、青色硬化性樹脂組成物、WHITE層(図示していない)形成用の硬化性樹脂組成物、画素区分用遮光部12形成用の硬化性樹脂組成物を作製し、これらの硬化性樹脂組成物を用いて、それぞれ、フォトリソ法を行うことにより、カラーフィルタ用の各色着色層、WHITE層、画素区分用遮光部12を形成した。
尚、図1(a)に示す画素区分用遮光領域18の幅(画素区分用遮光部12のd1に相当)を7μm、画素領域17の幅を20μmとした。
重合槽中にメタクリル酸メチル(MMA)を63重量部、アクリル酸(AA)を12重量部、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル(HEMA)を6重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)を88重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、2、2’ーアゾビス(2−メチルブチロニトリル)を7重量部添加し、均一に溶解させた。
その後、窒素気流下、85℃で2時間攪拌し、更に100℃で1時間反応させた。
得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル(GMA)を7重量部、トリエチルアミンを0.4重量部、及びハイドロキノンを0.2重量部添加し、100℃で5時間攪拌し、共重合樹脂溶液(固形分50%)を得た。
次に下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物Aとした。
・ 上記共重合樹脂溶液(固形分50%) :16重量部
・ ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399)
:24重量部
・ オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70) :4重量部
・ 2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン :4重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル :52重量部
(赤色の着色層13Rの形成)
先ず、ガラス基板(旭硝子社製、AN材)上に、下記組成の赤色硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布し、その後、70℃のオーブン中で3分間乾燥した。
次いで、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜から100μmの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより2.0kwの超高圧水銀ランプを用いて着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照射した。
次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後、基板を230℃の雰囲気下に15分間放置することにより、加熱処理を施して赤色画素パターンを表示用領域に形成した。
形成膜厚は2.4μmとなった。
<赤色硬化性樹脂組成物の組成>
・ C.I.ピグメントレッド177 :3重量部
・ C.I.ピグメントレッド254 :4重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 :3重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :23重量部
・ 酢酸−3−メトキシブチル :67重量部
次に、下記組成の緑色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が2.4μmとなるようにして、緑色画素を表示領域に緑色の着色層からなるレリーフパターンを形成した。
<緑色硬化性樹脂組成物の組成>
・ C.I.ピグメントグリーン7 :6重量部
・ C.I.ピグメントイエロー150 :2重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 :3重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :22重量部
・ 酢酸ー3−メトキシブチル :67重量部
更に、下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が2.4μmとなるようにして、表示領域に青色のレリーフパターンを形成した。
<青色硬化性樹脂組成物の組成>
・ C.I.ピグメントブルー15:6 :5重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 :3重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :25重量部
・ 酢酸−3−メトキシブチル :67重量部
本例では、更に、下記組成のWHITE層形成用の硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が2.0μmとなるようにして、表示領域にWHITE層のレリーフパターンを形成した。
<WHITE層形成用の硬化性樹脂組成物の組成>
・ 硬化性樹脂組成物A :25重量部
・ 酢酸−3−メトキシブチル :67重量部
上記のようにして、図4(a)に示すように、カラーフィルタ用の各色の着色層、WHITE層を、各画素から画素区分用遮光領域18へ延設して配し、且つ、隣接する画素から延設された両方の着色層同士が該両方の画素を区分けする画素区分用遮光領域18で離間するように、着色層離間部13Mを設けて配したが、この後、前記着色層離間部13Mを埋め、且つ、着色層離間部13Mを形成する着色層離間部13M両側の着色層の上に跨る画素区分用遮光部12を以下のようにして形成した。
着色層離間部13Mの幅は3μmとした。
尚、以下、WHITE層も着色層として扱っている。
まず、下記分量の成分を混合し、ビーズミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調整した。
・ 樹脂被覆カーボンブラック(三菱化学社製MS18E) :20重量部
・ 高分子分散材(ビックケミー・ジャパン株式会社 Disperbyk 163) :5重量部
・ 溶剤(ジエチレングリコールジメチルエーテル) :75重量部
次に、下記分量の成分を十分混合して、遮光性の着色組成物を得た。
・ 上記黒色顔料分散液 :43重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :19重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル :38重量部
各着色層を覆うように、上記遮光性の着色組成物をスピンコーターで塗布し、100℃で3分間乾燥させた。
次いで、当該遮光性の着色組成物12aの塗布膜面から100μmの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより、2.0kWの超高圧水銀ランプで遮光パターンに露光した後、0.05wt%水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を230℃の雰囲気下に30分間放置することにより加熱処理を施して、画素区分用遮光部12を形成した。
加熱処理後の形成膜厚は、カラーフィルタ用の着色層上で、2.0μm程度となった。 本例では、同じフォトリソ工程で、同時に、額縁部(図示していない)用の遮光部を形成した。
尚、上記の樹脂被覆カーボンブラック(三菱化学社製MS18E)は、平均粒径25nmである。
粒径は、例えば、日機装社製のレーザードップラー散乱光解析粒度分析計(商品名「Microtrac934UPA」)を用い、通常は、着色組成物に含まれる溶剤(希釈溶剤と呼ぶ)で希釈し、着色組成物の顔料粒径の累積が50%を占める粒径を50%平均粒径とし、その値を測定して求める。
上記のようにして、実施例1のカラーフィルタ形成基板を作製した。
また、画素区分用遮光部12の断面はT字形状であり、図2(a)に示す従来の表示装置の場合に比べて、視野角度を大きくし、出射光の量を大きくすることができた。
図1(a)に示す第1の例のカラーフィルタ形成基板10を、図5に示すカラーフィルタ形成基板の作製方法により形成したものである。
ここでも、図1(a)に示す画素区分用遮光領域18の幅(画素区分用遮光部12のd1に相当)を7μm、画素領域17の幅を20μmとした。
先ず、実施例1と同様にして、光硬化性の硬化性樹脂組成物Aを調製して作製し、作製された硬化性樹脂組成物Aを用いて、カラーフィルタ形成用の赤色硬化性樹脂組成物、緑色硬化性樹脂組成物、青色硬化性樹脂組成物、WHITE層(図示していない)形成用の硬化性樹脂組成物を作製し、これらの硬化性樹脂組成物を用いて、それぞれ、フォトリソ法を行うことにより、カラーフィルタ用の各色着色層、WHITE層を形成した。(図5(a))
次いで、全面に基材11側から順にピュアクロム、酸化窒化クロム(CrxNyOz)を積層した遮光性のクロム系金属膜12bをスパッタリング形成した。(図5(b))
ここでは、先ず、アルゴンガスとクロムターゲツトを用いた不活性スパツタリング法によりピュアクロムを、カラーフィルタ用の着色層上で厚さ1200Åに成膜し、次いで、同じアルゴンガスと酸化クロム、窒化クロム混合組成ターゲツトを用いて、酸化窒化クロム(CrxNyOz)を厚さ300Åにスパツタリングによって成膜した。
ピュアクロムの成膜時のガス圧は1×10-2torr、基板−ターゲツト間距離は5cm、スパツタリング速度は100Å/minであつた。
また、酸化窒化クロム(CrxNyOz)の成膜時のガス圧は同じく1×10-2torr、基板−ターゲツト間距離は5cm、ターゲツト組成はCrxNyOzでx:y:z=1:0.3 :1.3 、スパツタリング速度は40Å/minであつた。
次いで、スパッタリングによ形成されたクロム系金属膜12b上に、市販のポジ型のフォトレジストAzー1350(シツプレー社製)を塗布し、画素区分用遮光部12形成領域以外の領域を露光して、画素区分用遮光部12形成領域にフォトレジストを残存して、それ以外の領域のフォトレジスト19を除去し(図5(c))、更に、露出した遮光性の金属膜12bを所定の汎用のエッチング液(硝酸第2セリウムアンモン液)を用いてエッチングした後、全面露光にて残存しているフォトレジスト19露光し、現像して、フォトレジスト19を除去した。(図5(d))
フォトレジスト19の膜厚は0.5μmであり、ピュアクロム、酸化窒化クロム(CrxNyOz)のエツチング液は、
(NH4 )2 Ce(NO3 )6 :硝酸第二セリウムアンモニウム 165g
HClO4 :過塩素酸 43cc
H2 O:脱イオン水 1000cc
からなる液で、液温は20℃とし、エツチング時間は約40秒であつた。
上記のようにして、実施例2のカラーフィルタ形成基板を作製した。
尚、ターゲツト組成は膜の作成条件にもよるが、同膜をCrxNyOzと表現した場合、通常、x=1、y=0.1〜0.3、z=0.8〜1.4の範囲が適当である。
また、画素区分用遮光部12の断面はT字形状であり、図2(a)に示す従来の表示装置の場合に比べて、視野角度を大きくし、出射光の量を大きくすることができた。
11 基材(透明基板とも言う)
11S 基材面
12 画素区分用遮光部(ブラックマトリクスとも言う)
12a (遮光性の)樹脂組成物
12b 遮光性の金属膜
13a 第1の着色層
13b 第2の着色層
13c 第3の着色層
13R 赤色の着色層(赤色着色層とも言う)
13G 緑色の着色層(緑色着色層とも言う)
13B 青色の着色層(青色着色層とも言う)
13M 着色層離間部
14 絶縁性の樹脂層
15 光吸収層
17 画素領域
17a〜17d 画素領域
18 画素区分用遮光領域
19 (ポジ型の)フォトレジスト
20 露光光
30 有機EL素子形成基板
31 基材(透明基板とも言う)
32 有機EL素子
32A 有機EL素子層
35 陽極
36 有機EL層
37 発光層
38 陰極
L11、L11a、L11b、L12、L13 光線
L21、L21a、L21b、L22、L23 光線
110、110a、110b、 カラーフィルタ形成基板
111 基材(透明基板とも言う)
112 ブラックマトリックス
113R 赤色の着色層(赤色着色層とも言う)
113G 緑色の着色層(緑色着色層とも言う)
113B 青色の着色層(青色着色層とも言う)
113W WHITE層
113WA 透過率調整部
113RL1、113RL2、113RL3 赤色の表示色
113GL1、113GL2、113GL3 緑色の表示色
113BL1、113BL2、113BL3 青色の表示色
114 絶縁性の樹脂層
120 有機EL素子形成基板
121 基材(透明基板とも言う)
122 有機EL素子
122W 白色光
Claims (8)
- 透明基板からなる基材の一面上に、画素区分用遮光領域を配して画素領域を区分けし、カラーフィルタ用の各色の着色層を、それぞれ、所定の画素領域に配している、白色光源タイプの有機EL表示装置用のカラーフィルタ形成基板であって、前記基材の一面上に、各画素領域のカラーフィルタ用の着色層を、該画素領域の全周にわたり、隣接する外側の画素区分用遮光領域内にまで達して延設し、各画素領域から延設された着色層同士を、画素区分用遮光領域内において離間して配しているものであり、前記画素区分用遮光領域には、前記各画素領域から延設された着色層同士が離間した部分を埋めて、着色層を覆うようにして、領域全体にわたり、遮光性材料が配されており、
前記遮光性材料にて形成される画素区分用遮光部の断面形状が略T字であり、
前記画素区分用遮光部の前記基材側の幅をd2とし、前記画素区分用遮光部の前記着色層の上にある最大幅となる部分の幅をd1とした場合、d1>d2であって、ある画素を表示するための有機EL素子からの白色光が、直接、隣接する画素の着色層に入り込まないように、d1の幅が設定されていることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。 - 請求項1に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記遮光性材料が、色材を分散させて含有する樹脂材からなることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
- 請求項1ないし2のいずれか1項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記画素領域に光吸収層が積層して形成されていることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
- 請求項3に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記光吸収層は、樹脂中に色材としてカーボンブラックを分散して含有しているものであることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
- 請求項3ないし4のいずれか1項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記光吸収層のC光源における平均透過率が45%〜95%であることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
- 請求項1に記載のカラーフィルタ形成基板を製造するカラーフィルタ形成基板の製造方法であって、前記基材の一面上にカラーフィルタ用の全着色層を配設した後、前記着色層同士が離間した部分を埋めて、前記全着色層を覆うように全面に感光性の色材を分散させて含有する遮光性の樹脂組成物からなる膜を形成し、該膜をフォトリソ法によりパターニングして、前記画素区分用遮光領域に遮光性の樹脂組成物からなる断面略T字形状の前記画素区分用遮光部を配することを特徴とするカラーフィルタ形成基板の製造方法。
- 請求項1ないし5のいずれか1項に記載のカラーフィルタ形成基板を用いて、表示部を形成していることを特徴とする表示装置。
- 有機EL素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを積層した構造の、白色光源タイプの有機EL表示装置であって、請求項1ないし5のいずれか1項に記載のカラーフィルタ形成基板を用いていることを特徴とする有機EL表示装置。
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