JP2007188708A - 表示素子用基板 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、外光の影響を受けにくく、高コントラストおよび高輝度等の表示品位に優れ、三原色の光の散乱強度を制御可能な表示素子用基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、透明基板と、上記透明基板上に形成され、透明樹脂中に微粒子を分散させてなる光散乱層とを有し、上記光散乱層が、平均粒径が１．０μｍ以上１．６μｍ以下の範囲内である微粒子と、平均粒径が０．８μｍ以上１．０μｍ未満の範囲内である微粒子および１．６μｍ超２．８μｍ以下の範囲内である微粒子の少なくともいずれか一方の微粒子とを含有することを特徴とする表示素子用基板を提供することにより、上記目的を達成するものである。
【選択図】図２

Description

本発明は、例えばエレクトロルミネッセンス表示装置や液晶表示装置に用いられる表示素子用基板に関するものである。

従来のエレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬと略す。）素子の基本構造の一例としては、透明基板上に透明電極と、発光層と、背面電極とを積層した構造を挙げることができる。通常、背面電極には反射特性を有する金属電極が用いられており、発光層から発せられた光のうち、発光層の後方（金属電極側）に出射した光は、金属電極により反射され、前方（透明電極側）に出射されるので、素子の輝度が向上するという利点がある。
また、従来の反射型液晶表示素子の基本構造の一例としては、透明基板上に透明電極と、液晶層と、背面電極とを積層した構造を挙げることができる。この背面電極にはＥＬ素子の場合と同様に反射特性を有する金属電極が用いられており、反射型液晶表示素子では入射した外光を金属電極で反射させることにより表示を行うため、低消費電力を実現することができる。

しかしながら、この金属電極は素子に入射した外光を反射するため、非表示（非発光）であるべき画素から外光による反射が生じ、コントラストが低下したり、混色が生じたりするなど、視認性が低下するという問題がある。特に、屋外等明るい環境下で使用する携帯用の表示装置においては、このような外光の反射が問題になる。
また、出射する光のうち、透明基板の屈折率と出射媒質（例えば空気）の屈折率とによって決まる臨界角以上の入射角を有する光が、透明基板と出射媒質との界面で全反射し、素子の内部に閉じ込められて、効率良く光を外部に取り出すことができないという問題がある。

そこで、透明基板の前面に光散乱層を設けることが提案されている（例えば特許文献１〜３参照）。光散乱層を有する素子では、入射した外光が光散乱層によって適度に散乱するため、十分な視認性を確保することができる。また、光散乱層によって臨界角以上の入射角を有する光も出射媒質（例えば空気）に導かれることになるため、効率良く光を利用することができる。

しかしながら、光散乱層により光散乱効果が得られたとしても、例えば、光の散乱強度は波長に依存し、波長の短い光の方が強く散乱するため、青色光の散乱強度が緑色光や赤色光に比べて大きくなってしまう。このように、赤色光、緑色光および青色光の散乱強度が異なると、視野角によっては色シフトが生じるという問題がある。

特開平６−３４７６１７号公報 特開平６−１５１０６１号公報 特開２００４−３９３８８公報

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、外光の影響を受けにくく、高コントラストおよび高輝度等の表示品位に優れ、三原色の光の散乱強度を制御可能な表示素子用基板を提供することを主目的とするものである。

本発明は、上記目的を達成するために、透明基板と、上記透明基板上に形成され、透明樹脂中に微粒子を分散させてなる光散乱層とを有し、上記光散乱層が、平均粒径が１．０μｍ以上１．６μｍ以下の範囲内である微粒子と、平均粒径が０．８μｍ以上１．０μｍ未満の範囲内である微粒子および１．６μｍ超２．８μｍ以下の範囲内である微粒子の少なくともいずれか一方の微粒子とを含有することを特徴とする表示素子用基板を提供する。

本発明によれば、光散乱層に用いる微粒子の平均粒径を１．０μｍ以上１．６μｍ以下の範囲内とすることにより、ヘイズ値を高くすることができるので、本発明の表示素子用基板を例えばＥＬ表示装置に用いた場合には、外光の反射を抑制してコントラストを向上させ、透明基板と出射媒質との界面における発光の全反射を抑制して光の取り出し効率を向上させることが可能である。また、上記の微粒子の他に、平均粒径が０．８μｍ以上１．０μｍ未満の範囲内である微粒子および１．６μｍ超２．８μｍ以下の範囲内である微粒子の少なくともいずれか一方の微粒子を用いることにより、三原色の光の散乱強度を制御することができ、視野角に依存した色シフトの発生を防ぐことが可能である。このように、本発明においては所定の平均粒径の微粒子を混合して用いることにより、優れた散乱特性を得るとともに、視野角依存性を改善することができる。

また本発明においては、上記透明基板と上記光散乱層との間、または、上記光散乱層の上記透明基板が形成されている面とは反対側の面に、着色層が形成されていてもよい。

さらに本発明においては、上記透明基板上の非表示領域に遮光部が形成されていてもよい。これにより、コントラストをさらに向上させることができるからである。

また本発明は、上述した表示素子用基板が、ＥＬ表示装置に適用されるものであることを特徴とするＥＬ素子用基板を提供する。ＥＬ表示装置は、自発光型表示装置であるので、表示品位の向上のためには外光の反射を抑制することが好ましい。また、ＥＬ表示装置は、視野角が広いという利点を有するが、三原色の光の散乱強度が異なると視野角によって色シフトが生じてしまう。上記の表示素子用基板は、高コントラストおよび高輝度の表示を得るとともに、視野角依存性を改善することが可能であるので、ＥＬ素子用基板として好適に用いることができるのである。

上記発明のＥＬ表示素子用基板は、ヘイズ値が３０〜９５の範囲内であることが好ましい。ヘイズ値が上記範囲より小さいと、十分な光散乱効果が得られない場合があるからである。

さらに本発明は、上述したＥＬ素子用基板を用いたことを特徴とするＥＬ表示装置を提供する。本発明のＥＬ表示装置は、上記ＥＬ素子用基板を用いるので、色シフトを抑制することができ、視認性が良好である。

本発明においては、所定の平均粒径を有する微粒子を混合して用いることにより、例えばＥＬ表示装置や液晶表示装置に用いた場合には、高コントラストおよび高輝度の表示が実現できるとともに、三原色の光の散乱強度を制御して、視野角依存性を改善することができるという効果を奏する。

以下、本発明の表示素子用基板、ＥＬ素子用基板、およびＥＬ表示装置について詳細に説明する。

Ａ．表示素子用基板
本発明の表示素子用基板は、透明基板と、上記透明基板上に形成され、透明樹脂中に微粒子を分散させてなる光散乱層とを有し、上記光散乱層が、平均粒径が１．０μｍ以上１．６μｍ以下の範囲内である微粒子と、平均粒径が０．８μｍ以上１．０μｍ未満の範囲内である微粒子および１．６μｍ超２．８μｍ以下の範囲内である微粒子の少なくともいずれか一方の微粒子とを含有することを特徴とするものである。

ここで一般的に、光散乱層の光学設計には微粒子の粒径が大きく影響し、具体的には微粒子の粒径ｄにより散乱状態が異なることが知られている。すなわち、
（１）粒径ｄが光波長λに比べて大きい場合（ｄ＞λ）は、幾何光学領域となり、幾何光学的な屈折、反射による散乱が発生し、波長依存性はない。
（２）粒径ｄが光波長λに近い場合（λ／３＜ｄ＜λ）は、回折散乱領域（ミー散乱）となり、幾何光学的な散乱と回折効果（光干渉）とによる散乱が発生し、複雑な波長依存性を有する。このため、散乱による色付きが生じる。
（３）粒径ｄが光波長λより小さい場合（ｄ＜λ／３）は、レイリー散乱領域となり、原子・分子との相互作用による散乱が発生し、ほぼ均一に全方向に散乱する。このため、前方散乱のみならず後方散乱も発生する。

本発明の表示素子用基板を例えばＥＬ表示装置に用いた場合、外光の反射を抑制してコントラストを向上させ、また透明基板と出射媒質（例えば空気）との界面における発光の全反射を抑制して光の取り出し効率を向上させるためには、全方向の散乱は好ましくない。したがって、微粒子の粒径が、上記のうち前方散乱特性に優れる（１）または（２）の場合に該当することが好ましい。さらに、散乱による色付きを防止するためには、微粒子の粒径が上記（１）の幾何光学的領域となることが好ましい。

また、光散乱層による散乱光の強度を十分なものとするためには、ヘイズ値［ヘイズ値＝（拡散光線透過率）／（全光線透過率）×１００］を高くする必要がある。特に、ＥＬ表示装置においては、より高いヘイズ値が要求される。これは、例えば反射型液晶表示素子は光源として外光を用いるものであり、積極的に反射光を表示に使用するのに対し、ＥＬ素子は自発光素子であるので、光源として外光を用いる必要がなく、表示品位の向上のためには外光の反射を抑制することが好ましいからである。ヘイズ値がより高いものであれば、外光の反射を効果的に抑制するとともに、透明基板と出射媒質（例えば空気）との界面における発光の全反射も効果的に抑制することができる。

高いヘイズ値（高にごり度）を可能とするには、微粒子の含有量を多くしたり、光散乱層の厚みを厚くしたりする必要があるが、このとき全光線透過率が低下するのは好ましくない。例えば、光散乱層に一般的な微粒子として知られている酸化チタンや炭酸カルシウムを用いた場合、微粒子の含有量を多くしたり、光散乱層の厚みを厚くしたりすることによってヘイズ値を高めることはできるが、その一方で微粒子のもつ遮光性が発現して、全光線透過率が著しく低下してしまう。
これに対し本発明においては、光散乱層に用いる微粒子の平均粒径を所定の範囲とすることにより、全光線透過率の低下を抑制しつつ、ヘイズ値を高めることが可能である。すなわち、微粒子の平均粒径が１．０μｍ以上１．６μｍ以下の範囲内であることにより、コントラストや輝度等を損なうことなく、光散乱効果を得ることができる。

図１は、従来の表示素子用基板の散乱特性の一例を示すグラフである。なお、このグラフは、透明基板および光散乱層を有する表示素子用基板を用い、表示素子用基板およびカラーフィルタを、光源／カラーフィルタ／表示素子用基板／受光器の順になるように、光源と受光器との間に配置して、受光器を±３０°で変化させて、赤色光（Ｒ）、緑色光（Ｇ）および青色光（Ｂ）のそれぞれの散乱強度を測定した結果である。図１に例示するグラフによると、例えば受光角度１０°のとき、散乱強度が青色光（Ｂ）＞緑色光（Ｇ）＞赤色光（Ｒ）の順に小さくなっている。これは、光の散乱強度が波長に依存し、波長の短い光の方が強く散乱するためである。

また、微粒子の平均粒径を変化させて三原色の光の散乱強度を測定したデータを下記表１に示す。なお、表１における散乱強度は、透明基板および光散乱層を有する表示素子用基板を用い、表示素子用基板およびカラーフィルタを、光源／カラーフィルタ／表示素子用基板／受光器の順になるように、光源と受光器との間に配置して、受光器を２０°変化させた際の輝度を測定し、青色光（BLUE）の輝度を基準にして赤色光（RED）および緑色光(GREEN)の輝度を算出したものである。

表１から、平均粒径が１．６μｍ以下の場合は青色光（BLUE）に対して赤色光（RED）および緑色光（GREEN）の散乱強度が小さくなり、平均粒径が１．６μｍ超の場合は青色光（BLUE）に対して赤色光（RED）および緑色光（GREEN）の散乱強度が大きくなった。また、平均粒径が０．９μｍから２．３μｍと大きくなるにつれて、青色光（BLUE）に対する赤色光（RED）および緑色光（GREEN）の散乱強度が大きくなった。以上のことから、光の散乱には微粒子の平均粒径が影響しており、微粒子の平均粒径を適切に選択することにより、三原色の光の散乱強度を制御することができることがわかった。

例えば、平均粒径が１．０μｍ以上１．６μｍ以下の微粒子と、平均粒径が０．８μｍ以上１．０μｍ未満の微粒子とを含有する光散乱層を用いることにより、図１に例示するような光の波長に依存する散乱特性を改善することができる。光散乱層が平均粒径０．８μｍ以上１．０μｍ未満の微粒子を含有することにより、三原色の光の散乱強度分布を揃えることができるのである。
また例えば、白色を発光する発光層を用いたＥＬ表示装置では、発光層からの白色光が主に赤色成分および青色成分を有し、青味が強い光になる傾向が見られる。したがって、このようなＥＬ表示装置に本発明の表示素子用基板を適用する場合には、青色光に対して赤色光の散乱強度が高くなるように、上記微粒子の平均粒径を適宜選択することが好ましい。この場合、平均粒径が１．０μｍ以上１．６μｍ以下の微粒子と、平均粒径が０．８μｍ以上１．０μｍ未満の微粒子とを含有する光散乱層を用いることにより、三原色の光の散乱強度分布を揃えることができる。

このように本発明においては、所定の平均粒径を有する微粒子を混合して用いることにより、コントラストや輝度等を損なうことなく、高いヘイズ値を達成することが可能であるとともに、三原色の光の散乱強度を制御し、視野角に依存した色シフトの発生を抑制することが可能である。

一般に、例えば微粒子の含有量を調整することにより、散乱強度を制御できることが知られている。したがって、三原色の光の散乱強度を制御するためには、各色に応じて微粒子の含有量を適宜調整して光散乱層をパターニングすればよいとも考えられる。しかしながら、これでは製造工程が煩雑になる。
一方、本発明においては、所定の平均粒径を有する微粒子を混合して用いることにより、三原色の光の散乱強度を制御することができるので、特別な工程が増えることなく、散乱特性に優れる表示素子用基板を得ることができる。

本発明の表示素子用基板について図面を参照しながら説明する。
図２は、本発明の表示素子用基板の一例を示す概略断面図である。図２に例示するように、本発明の表示素子用基板１０は、透明基板１と、その上に形成された光散乱層２とを有するものである。光散乱層２は、透明樹脂中に、少なくとも２種類の所定の平均粒径を有する微粒子を分散させることにより構成されている。

また本発明においては、光散乱層上に着色層が形成されていてもよい。例えば図３（ａ）に示すように、透明基板１と光散乱層２との間に着色層３が形成されていてもよい。通常、着色層３は、赤色着色パターン３Ｒ、緑色着色パターン３Ｇ、および青色着色パターン３Ｂから構成される。
上述したように、光散乱層中の微粒子の粒径によっては、散乱により光散乱層に色付きが生じる場合がある。このような場合であっても、着色層が形成されている場合は、着色層の色特性補正で光散乱層の色付きを確実に補うことができるので、光散乱に伴う色特性の低下を効果的に抑えることが可能となる。

さらに本発明においては、透明基板上の非表示領域に遮光部が形成されていてもよい。遮光部を形成することで、コントラストを高めることができるからである。
以下、本発明の表示素子用基板の各構成について説明する。

１．光散乱層
本発明に用いられる光散乱層は、本発明の表示素子用基板を例えばＥＬ表示装置に用いた場合、ＥＬ表示装置における発光層から発せられた光に適度の散乱を生じさせて十分な視認性を確保するために設けられるものであり、透明樹脂中に、所定の平均粒径を有し光散乱作用を有する微粒子を分散させたものである。

本発明に用いられる微粒子は、平均粒径が１．０μｍ以上１．６μｍ以下の範囲内であるもの、平均粒径が０．８μｍ以上１．０μｍ未満の範囲内であるもの、平均粒径が１．６μｍ超２．８μｍ以下の範囲内であるものの３種類である。これらのうち、平均粒径が１．０μｍ以上１．６μｍ以下の範囲内である微粒子は必須である。高いヘイズ値を得ることができるからである。また、平均粒径が０．８μｍ以上１．０μｍ未満の範囲内である微粒子、および、平均粒径が１．６μｍ超２．８μｍ以下の範囲内である微粒子は、少なくともいずれか一方が用いられる。三原色の光の散乱強度を調整するためである。すなわち、光散乱層は、（１）平均粒径が１．０μｍ以上１．６μｍ以下の微粒子と平均粒径が０．８μｍ以上１．０μｍ未満の微粒子とを含有する場合、（２）平均粒径が１．０μｍ以上１．６μｍ以下の微粒子と平均粒径が１．６μｍ超２．８μｍ以下の微粒子とを含有する場合、および（３）平均粒径が１．０μｍ以上１．６μｍ以下の微粒子と平均粒径が０．８μｍ以上１．０μｍ未満の微粒子と平均粒径が１．６μｍ超２．８μｍ以下の微粒子を含有する場合がある。

平均粒径が１．０μｍ以上１．６μｍ以下の範囲内である微粒子は、中でも、平均粒径が１．２μｍ〜１．６μｍの範囲内であることが好ましく、特に１．２μｍ〜１．４μｍの範囲内であることが好ましい。平均粒径が上記範囲であることにより、高いヘイズ値を達成することができ、優れた散乱特性を得ることができるからである。

平均粒径が０．８μｍ以上１．０μｍ未満の範囲内である微粒子は、中でも、平均粒径が０．８μｍ〜０．９５μｍの範囲内であることが好ましく、特に０．８５μｍ〜０．９５μｍの範囲内であることが好ましい。平均粒径が上記範囲であることにより、三原色の散乱強度分布を揃えることができるからである。また、平均粒径が上記範囲より小さいと、干渉光が生じて、散乱による色付きが発生する可能性があるからである。

平均粒径が１．６μｍ超２．８μｍ以下の範囲内である微粒子は、中でも、平均粒径が１．６μｍ〜２．５μｍの範囲内であることが好ましく、特に１．８μｍ〜２．３μｍの範囲内であることが好ましい。平均粒径が上記範囲であることにより、三原色の散乱強度分布を揃えることができるとともに、光散乱層形成用塗工液中での微粒子の沈降を効果的に抑制することができるからである。

また、すべての微粒子の平均粒径が、０．８μｍ〜２．８μｍの範囲内であることにより、通常のスピンナーによる塗布で、均一な膜厚分布を達成することができ、さらにパターニング特性に優れる比較的厚みの薄い光散乱層が形成可能である。
ここで、平均粒径とは、一般に粒子の粒度を示すために用いられるものであり、本発明においては、レーザー法により測定した値である。レーザー法とは、粒子を溶媒中に分散し、その分散溶媒にレーザー光線を当てて得られた散乱光を細くし、演算することにより、平均粒径、粒度分布等を測定する方法である。なお、上記平均粒径は、レーザー法による粒径測定機として、リーズ＆ノースラップ（Leeds & Northrup）社製 粒度分析計 マイクロトラックUPA Model-9230を使用して測定した値である。

本発明に用いられる微粒子としては、光散乱作用を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば酸化珪素、酸化アルミニウム、硫酸バリウム等の無機物、アクリル系樹脂、ジビニルベンゼン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、スチレン系樹脂、メラミン系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等の有機物、あるいは、これらの２種以上の混合系等の微粒子を挙げることができる。

また、上記微粒子は透明性を有していることが好ましい。これにより、全光線透過率を向上させることができるからである。このような微粒子としては、上記の中でも、メラミン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、ポリメタクリル酸メチル系樹脂、およびその混合系樹脂や共重合体などが好ましく用いられる。なお、これらの微粒子は耐久性も有している。

さらに、上記微粒子の形状としては特に限定されるものではないが、球状であることが好ましい。

本発明においては、微粒子の屈折率が後述する透明樹脂の屈折率より大きいことが好ましい。一般的に、散乱特性を発現させるためには、微粒子と透明樹脂との屈折率差を利用しており、理想的には透明樹脂の屈折率が微粒子の屈折率より大きくなるように設定することが好ましい。しかしながら、微粒子と透明樹脂との屈折率差を明確にすることや、光散乱層の色付きを考慮すると、微粒子の屈折率が透明樹脂の屈折率より大きくなるように設定することが好ましいのである。

後述する透明樹脂の屈折率は一般的に１．５程度であることから、微粒子の屈折率は１．５より大きいことが好ましい。このような微粒子としては、例えば酸化アルミニウム（１．６２）、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合体（１．６６）、ベンゾクアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合体（１．６６、１．５２）、メラミン・ホルムアルデヒド縮合体（１．６６）、シリカ・アクリル複合化合物（１．５２）、メタクリル化合物（１．５１）等が挙げられる。なお、括弧内の数字は屈折率を示す。

光散乱層中の微粒子の含有量は、光を散乱させることができ、光散乱層の透明性を損なわない程度の量であれば特に限定されるものではなく、具体的には０．５〜７０重量％程度で設定することができ、好ましくは１．０〜５０重量％の範囲内である。微粒子の含有量が少なすぎると光散乱効果が得られない場合があり、また、微粒子の含有量が多すぎると光散乱層の透明性や強度を保つことが困難となる可能性があるからである。
また、平均粒径が１．０μｍ以上１．６μｍ以下の微粒子と、平均粒径が０．８μｍ以上１．０μｍ未満の微粒子と、平均粒径が１．６μｍ超２．８μｍ以下の微粒子との含有量の比は、目的とするヘイズ値や散乱強度等に応じて適宜調整される。

本発明に用いられる透明樹脂は、上記微粒子との屈折率差、光散乱層の透明性、透明基板や着色層との密着性等を考慮して適宜選択される。透明樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ビニルエーテル系樹脂等を挙げることができる。これらの透明樹脂は、単独で、または２種以上の混合物として使用することができる。

本発明に用いられる光散乱層の全光線透過率は、８５％以上であることが好ましく、より好ましくは９０％以上、最も好ましくは９５％以上である。全光線透過率が小さすぎると、本発明の表示素子用基板を例えばＥＬ表示装置に用いた場合に輝度が低下するおそれがあるからである。

また、光散乱層のヘイズ値は、３０〜９５程度であることが好ましく、より好ましくは４０〜８０の範囲内、最も好ましくは５０〜７０の範囲内である。ヘイズ値が上記範囲より小さいと、十分な光散乱効果が得られない場合があるからである。

なお、上記の全光線透過率およびヘイズ値は、積分球を用いて、東洋精機製作所（株）製の直読ヘイズメーターにより測定した値である。

光散乱層は、透明基板の全面に形成されていてもよく、パターン状に形成されていてもよい。また、パターン状の光散乱層は、例えばＥＬ表示装置における発光層のパターンに応じて形成されていてもよく、また後述する着色層が形成されている場合は着色層の着色パターンに応じて形成されていてもよい。

本発明に用いられる光散乱層は、微粒子および透明樹脂を含有する光散乱層形成用塗工液を塗布し、固化させることにより形成することができる。この際、光散乱層形成用塗工液は、紫外線硬化型レジストであることが好ましく、中でもネガ型紫外線硬化型レジストであることが好ましい。光散乱層形成用塗工液が紫外線硬化型レジストであれば、例えばフォトマスクを介して露光することにより、容易にパターニングできるからである。

またこの際、用いられる紫外線硬化型レジストには紫外線硬化性のバインダ樹脂や光重合開始剤などが含有される。この紫外線硬化性のバインダ樹脂や光重合開始剤などを紫外線硬化型レジストに多量に含有させて、厚膜の光散乱層を形成すると、光散乱層に色付きが生じる可能性がある。このため、光散乱層の厚みは比較的薄い方が好ましい。

光散乱層の厚みは、透明性を損なわないような厚みであれば特に限定されるものではなく、通常０．５μｍ〜２０μｍ程度であり、好ましくは１．０μｍ〜５μｍの範囲内である。さらに好ましくは、パターニングの観点より、２．０μｍ〜５．０μｍの範囲内である。光散乱層の厚みが上記範囲より薄い場合、透明基板との密着性を支配するレジスト成分が減少し、凹凸表面を形成するため、現像により膜あれが発生する可能性があるからである。この際、光散乱層の厚みが薄すぎると、微粒子ごとに現像されてしまい、所望のパターンが得られない場合がある。一方、光散乱層の厚みが厚すぎると、透明性を保つことが困難となる可能性がある。特に、光散乱層の厚みが５μｍより厚いと、紫外線露光を利用した場合、光散乱層の下部まで光が到達せず、未露光の状態となり、パターニング特性が得られない可能性がある。

２．透明基板
本発明に用いられる透明基板としては、一般にＥＬ表示装置や液晶表示装置等に用いることができるものであれば特に限定されるものではない。例えば石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。この中でも、コーニング社製イーグル２０００または１７３７材ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、好ましく用いられる。特に、これらは本発明の表示素子用基板を例えばアクティブ駆動方式のＥＬ表示装置に適用する場合に好適である。

３．着色層
本発明においては、光散乱層上に着色層が形成されていてもよい。着色層３は、例えば図３（ａ）に示すように透明基板１と光散乱層２との間に形成されていてもよく、例えば図３（ｂ）に示すように光散乱層２の透明基板１が形成された面とは反対側の面に形成されていてもよい。
透明基板と光散乱層との間に着色層が形成されている場合は、光散乱層に比べて透明基板表面の方が平坦であることから、着色層の成膜およびパターニングが容易であるという利点がある。また、光散乱層よりも色特性補正のための着色層の方が光の出射面側に設けられることになるので、光散乱層に色付きがあっても高いコントラストが得られる。さらに、着色層形成時の熱工程（ポストベーク）に曝されることなく光散乱層を形成できるので、光散乱層中の透明樹脂が熱により黄変するのを回避することができる。
一方、光散乱層の透明基板が形成された面とは反対側の面に着色層が形成されている場合は、光散乱層を介して着色層が形成されているため、光散乱層によって透明基板と着色層との密着性をより高いものとすることができる。

本発明に用いられる着色層は、通常、赤色着色パターン、緑色着色パターン、および青色着色パターンから構成される。各色着色パターンの配列としては特に限定されるものではなく、例えばストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等が挙げられる。

透明電極層上の非表示領域に後述する遮光部が形成されていない場合は、各色着色パターンは隙間なく形成されているか、必要に応じて２色の着色パターンが重なって形成されていることが好ましい。着色パターンを隙間なく形成することで、コントラストを向上させることができるからである。また、２色の着色パターンが重ねて形成された部分は、後述の遮光部と同様の役割を果たすため、２色の着色パターンを重ねて形成することで、より高いコントラストを得ることができるからである。

着色層の形成材料としては、一般的にカラーフィルタに用いられる材料を適用することができ、例えば有機顔料や無機顔料が挙げられる。

また、着色層の厚みとしては、特に限定されるものではないが、上記光散乱層の色付きの色特性補正が可能な厚みであることが好ましい。例えば着色層の厚みを比較的薄くすることにより、上記光散乱層の色付きの色特性補正ができる。この場合、着色層の厚みは、目的とする色特性補正に応じて適宜調整される。

上記着色層は、一般的な顔料分散法、染色法、電着法、印刷法等により形成することができる。顔料分散法により着色層を形成する場合は、着色層形成用塗工液として上述した有機顔料や無機顔料を分散させた顔料分散レジストが用いられる。

各色着色パターンを精度良く形成するためには、アライメントマークが形成されていることが好ましい。アライメントマークは、通常、１色目の着色パターンの形成と同時に形成される。後述する遮光部が所定の位置に形成されている場合には、この遮光部をアライメントマークとして用いることができる。

なお、本発明においては、光散乱層が着色層を兼ねていてもよい。これにより、着色層を別個に設ける必要がなく、製造工程を簡略化することができる。この場合、光散乱層（着色層）は、通常、上述した微粒子と着色剤とを透明樹脂中に分散させることにより構成される。

４．遮光部
本発明においては、例えば図４に示すように透明基板１上の非表示領域に遮光部５が形成されていてもよい。遮光部を形成することで、コントラストを向上させることができるからである。この遮光部は、上記着色層が形成されている場合は着色パターン間を遮光するため、または着色パターンのアライメントをとるため、あるいは、ＥＬ表示装置に適用する場合は発光層のパターン間を遮光するため、等に設けられるものである。

また、上記遮光部は、透明基板上に形成されていればよく、透明基板の光散乱層が形成されている側、または光散乱層が形成されていない側のいずれに形成されていてもよい。

本発明に用いられる遮光部は、例えば遮光性樹脂、クロム等の金属により形成することができる。

５．平坦化層
本発明においては、光散乱層表面の微細な凹凸をなくして平坦な面を形成するために、あるいは、上記着色層が形成されている場合には、着色層表面の微細な凹凸をなくして平坦な面を形成するために、また各色着色パターンによる凹凸をなくして平坦な面を形成するために、光散乱層や着色層の上に平坦化層が形成されていてもよい。

特に、本発明の表示素子用基板を用いて例えばＥＬ表示装置を作製する際に、表示素子用基板における光散乱層上に透明電極層等が形成される場合には、上記平坦化層が形成されていることが好ましい。光散乱層は微粒子を含有するため表面に微細な凹凸が生じやすく、均一な透明電極層の形成が困難となる場合があるが、光散乱層上に平坦化層が形成されていることにより、均一な透明電極層を形成することができるからである。

また、光散乱層上に着色層が形成されている場合には、光散乱層と着色層との間に平坦化層を設けることにより、光散乱層表面の微細な凹凸を平坦化することができ、着色層のパターニング特性が向上する。さらに、この場合には、着色層上に平坦化層が形成されていることにより、上記の場合と同様に、均一な透明電極層を形成することができる。また、着色層上に平坦化層が形成されていることにより、各色着色パターンによる凹凸によって生じる電極間の短絡を防止することができる。

一方、例えば表示素子用基板と対向基板とを別々に作製して貼り合わせることによりＥＬ表示装置を作製する場合には、上記平坦化層は形成されていなくてもよい。

上記平坦化層は、透明基板上に光散乱層のみが形成されている場合は、光散乱層上に形成されるものであるが、上記着色層が形成されている場合は、光散乱層および着色層の積層順にかかわらず、光散乱層および着色層が積層された上に形成されていてもよく、光散乱層と着色層との間に形成されていてもよい。

本発明に用いられる平坦化層は、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、プロピニル系樹脂等を用いて形成することができる。

６．ガスバリア層
本発明においては、光散乱層上にガスバリア層が形成されていてもよい。本発明のＥＬ表示素子を例えばＥＬ表示装置に適用する場合、ＥＬ表示装置における発光層やその他の有機層は、酸素、水蒸気、およびその他のガス等に弱い部材であるため、ガスバリア層を設けることにより、ダークスポットやダークエリアの発生を抑制することができるからである。特に、上記着色層が形成されている場合には、ＥＬ表示装置の製造時や駆動時に、この着色層等からガスが発生する場合があるが、ガスバリア層によって、この発生したガスにより発光層等が劣化するのを抑えることができる。

ガスバリア層は、透明基板上に光散乱層のみが形成されている場合は、光散乱層上に形成されるものであるが、上記着色層が形成されている場合は、光散乱層および着色層が積層された上に形成される。

ガスバリア層としては、一般にＥＬ表示装置のガスバリア層として用いられるものを使用することができ、例えば酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化窒化ケイ素等が用いられる。

７．透明電極層
本発明においては、光散乱層上に透明電極層が形成されていてもよい。透明電極層は、透明基板上に光散乱層のみが形成されている場合は、光散乱層上に形成されるものであるが、上記着色層が形成されている場合は、光散乱層および着色層が積層された上に形成される。

本発明に用いられる透明電極層としては、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等、またはその合金等が用いられる。また、透明電極層は、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等の一般的な成膜方法により形成することができる。

上記透明電極層の厚みは、０．０１μｍ〜１μｍ程度で設定することができ、好ましくは０．０３μｍ〜０．５μｍ程度である。

８．その他
本発明の表示素子用基板は、例えばＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などの自発光型表示装置、あるいは、液晶表示装置に適用することができる。本発明の表示素子用基板を用いることにより、三原色の光の散乱特性に優れ、高コントラストおよび高輝度の表示を得ることが可能である。これらの中でも、本発明の表示素子用基板は、ＥＬ表示装置に適用することが好ましい。

Ｂ．ＥＬ表示素子用基板
次に、本発明のＥＬ表示素子用基板について説明する。本発明のＥＬ表示素子用基板は、上述した表示素子用基板が、ＥＬ表示装置に適用されるものであることを特徴とするものである。

本発明のＥＬ素子用基板のヘイズ値としては、３０〜９５程度であることが好ましく、より好ましくは４０〜８０の範囲内、最も好ましくは５０〜７０の範囲内である。ヘイズ値が上記範囲より小さいと、十分な光散乱効果が得られない場合があるからである。また、正面輝度の観点からは、ヘイズ値の上限は９５であることが好ましい。
また、本発明のＥＬ素子用基板の全光線透過率としては、８５％以上であることが好ましく、より好ましくは９０％以上、最も好ましくは９５％以上である。全光線透過率が小さすぎると、本発明のＥＬ素子用基板をＥＬ表示装置に用いた場合、輝度が低下するおそれがあるからである。
なお、上記ヘイズ値および全光線透過率は、東洋精機製作所（株）製の直読ヘイズメーターを用いて測定した値である。

Ｃ．ＥＬ表示装置
次に、本発明のＥＬ表示装置について説明する。本発明のＥＬ表示装置は、上述したＥＬ素子用基板を用いたことを特徴とするものである。本発明のＥＬ表示装置は、上記ＥＬ素子用基板を用いるので、色シフトを抑制することができ、視認性が良好である。
ＥＬ表示装置としては、有機ＥＬ表示装置であっても無機ＥＬ表示装置であってもよい。

特に、本発明のＥＬ表示装置は、アクティブ駆動方式により駆動されるものであることが好ましい。これは、上記ＥＬ素子用基板が外光の反射を抑えることが可能であり、外部環境で使用するデジタルスチルカメラやデジタルビデオムービー等に用いられる表示装置に適しているからである。一般的に、デジタルスチルカメラやデジタルビデオムービー等の解像度はメガピクセルを有するものが用いられるため、それを表示する表示装置に対しても解像度が要求される。パッシブ駆動方式の表示装置では、その構成から高解像度を得ることができず、高精細の表示装置は一般的にアクティブ駆動方式に移行してきている。また、色の表示色に関しても、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）素子等で中間色を制御できるアクティブ駆動方式の表示装置の方が表示色を多く再現できる。

図５に、本発明のＥＬ表示装置の一例を示す。図５（ａ）はボトムエミッションのＥＬ表示装置の例であり、図５（ｂ）はトップエミッションのＥＬ表示装置の例である。
例えば図５（ａ）に示すＥＬ表示装置３０においては、ＥＬ素子用基板１０の光散乱層２上に透明電極層１２、発光層１１、および背面電極層１３が形成され、その上に基板１５が形成されている。発光層１１の間には隔壁１６が形成され、透明電極層１２は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１７とともに形成されている。
また例えば図５（ｂ）に示すＥＬ表示装置３０においては、ＥＬ素子用基板１０と、基板１５上に背面電極層１３、発光層１１、透明電極層１２および屈折率マッチング層１４が形成された対向基板２０とが積層されている。そして、発光層１１の間には隔壁１６が形成され、背面電極層１３は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１７とともに形成されている。

ボトムエミッションとトップエミッションとでは、トップエミッションの方が発光部分の割合（発光面積率）が大きい点で有利である。これは、ボトムエミッションでは、光の取出し面側にＴＦＴ回路が形成されるため、発光面積が狭くなってしまうが、トップエミッションでは、ＴＦＴ回路の形成面とは反対側の面から光を取り出すため、複雑なＴＦＴ回路が形成されていても、発光面積には影響しないからである。

また、本発明のＥＬ表示装置は、例えば白色を発光する発光層を用いたもの、三原色をそれぞれ発光する発光層を用いたもの、および青色を発光する発光層を用いたもののいずれであってもよい。
上記ＥＬ素子用基板が透明基板と光散乱層とを有するものである場合には、三原色をそれぞれ発光する発光層を用いたＥＬ表示装置とすることが好ましい。一方、上記ＥＬ素子用基板が透明基板と光散乱層と着色層とを有するものである場合には、白色を発光する発光層を用いたＥＬ表示装置とすることが好ましい。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

以下、本発明について実施例を用いて具体的に説明する。
［実施例１］
（ブラックマトリクスの形成）
透明基板として、３７０ｍｍ×４７０ｍｍ、厚み０．７ｍｍのソーダガラス（セントラル硝子社製）を用いた。この透明基板上に、スパッタリング法により酸化窒化複合クロムの薄膜（厚み０．２μｍ）を形成した。この複合クロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、および複合クロム薄膜のエッチングを順次行って、８０μｍ×２８０μｍの長方形状の開口部が、短辺方向に１００μｍのピッチ、長辺方向に３００μｍのピッチでマトリクス状に配列したブラックマトリクス（遮光部）を形成した。

（着色層の形成）
赤色、緑色、および青色の各着色パターン形成用塗工液を調製した。赤色着色剤としては縮合アゾ系顔料（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、クロモフタルレッドＢＲＮ）、緑色着色剤としてはフタロシアニン系緑色顔料（東洋インキ製造社製、リオノールグリーン２Ｙ−３０１）、および青色着色剤としてはアンスラキノン系顔料（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、クロモフタルブルーＡ３Ｒ）をそれぞれ用い、バインダ樹脂としてはポリビニルアルコール（１０％水溶液）を用い、ポリビニルアルコール水溶液１０部に対し、各着色剤を１部（部数はいずれも質量基準。）の割合で配合した。得られた溶液１００部に対し、１部の重クロム酸アンモニウムを架橋剤として添加し、各着色パターン形成用塗工液を得た。

上記の各着色パターン形成用塗工液を順次用いて各着色パターンを形成した。すなわち、ブラックマトリクスが形成された透明基板上に、赤色着色パターン形成用塗工液をスピンコート法により塗布し、１００℃で５分間のプリベイクを行った。その後、フォトマスクを用いて露光し、現像液（０．０５％ＫＯＨ水溶液）にて現像を行った。次いで、２００℃で６０分間のポストベイクを行い、ブラックマトリクスの所定の位置に幅８５μｍ、厚み１．５μｍのストライプ状の赤色着色パターンを形成した。続いて、緑色着色パターン形成用塗工液および青色着色パターン形成用塗工液を順次用い、緑色着色パターンおよび青色着色パターンを形成した。

（光散乱層の形成）
光散乱層形成用塗工液を調製した。
＜硬化性樹脂組成物の調製＞
重合槽中にメタクリル酸メチル（MMA）63重量部と、アクリル酸（AA）12重量部と、メタクリル酸-2-ヒドロキシエチル（HEMA）6重量部と、ジエチレングリコールジメチルエーテル（DMDG）88重量部とを仕込み、攪拌し溶解させた後、2,2´-アゾビス（2-メチルブチロニトリル）を7重量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、85℃で2時間攪拌し、さらに100℃で1時間反応させた。得られた溶液に、さらにメタクリル酸グリシジル（GMA）7重量部と、トリエチルアミン0.4重量部と、ハイドロキノン0.2重量部とを添加し、100℃で5時間攪拌し、硬化性樹脂組成物（固形分50%）を得た。
次に、下記の組成で材料を混合し、室温で攪拌して、光散乱層形成用塗工液を得た。
＜光散乱層形成用塗工液の組成＞
・上記硬化性樹脂組成物（固形分50%）：16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社 SR399）：24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社 エピコート180S70）：4重量部
・2-メチル-1-（4-メチルチオフェニル）-2-モルフォリノプロパン-1-オン：4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル：52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ（平均粒径1.2μｍ）：5重量部
・メラミン系樹脂ビーズ（平均粒径0.9μｍ）：5重量部

次に、上記光散乱層形成用塗工液を用い、光散乱層を形成した。すなわちブラックマトリクスおよび着色層が形成された基板上に光散乱層形成用塗工液をスピンコート法により塗布し、１００℃で５分間のプリベイクを行った。その後、フォトマスクを用いて露光し、現像液（０．０５％ＫＯＨ水溶液）にて現像を行った。次いで、２００℃で６０分間のポストベイクを行い、所定のパターンで厚み２．０μｍの光散乱層を形成した。

（平坦化層の形成）
アクリレート系光硬化性樹脂（新日鐵化学社製、品名：「Ｖ−２５９ＰＡ／ＰＨ５」）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈し、平坦化層形成用塗工液を調製した。この平坦化層形成用塗工液を、上記光散乱層上にスピンコート法により塗布し、１２０℃で５分間のプリベイクを行った。次いで、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行った後、２００℃で６０分間のポストベイクを行って、厚み５μｍの平坦化層を形成した。

（ガスバリア層の形成）
次に、上記平坦化層上にスパッタリング法により、Ｓｉ_３Ｎ_４ターゲット（３Ｎ）を用い、アルゴンガス導入量：４０ｓｃｃｍ、ＲＦパワー：４３０ｋＷ、基板温度：１００℃で成膜し、厚み１５０ｎｍの酸化窒化ケイ素膜を積層し、透明なガスバリア層を形成した。

（透明電極層の形成）
次いで、上記ガスバリア層上にイオンプレーティング法により膜厚１５０ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜を形成し、このＩＴＯ膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ膜のエッチングを行って、透明電極層を形成した。

（補助電極の形成）
次に、上記透明電極層を覆うようにガスバリア層上の全面にスパッタリング法によりクロム薄膜（厚み０．２μｍ）を形成し、このクロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、クロム薄膜のエッチングを行って、補助電極を形成した。

（絶縁層および隔壁部の形成）
平均分子量が約１００，０００であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ社製：ＡＲＴＯＮ）をトルエンで希釈し、絶縁層形成用塗工液を調製した。この絶縁層形成用塗工液を、スピンコート法により透明電極層を覆うようにガスバリア層上に塗布した後、ベーク（１００℃、３０分）を行って絶縁膜（厚み１μｍ）を形成した。次に、この絶縁膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、絶縁膜のエッチングを行って絶縁層を形成した。この絶縁層は、透明電極層と直角に交差するストライプ状（幅２０μｍ）のパターンであり、ブラックマトリクス上に位置するものとした。
次に、隔壁部形成用塗工液（日本ゼオン社製フォトレジスト：ＺＰＮ１１００）をスピンコート法により絶縁層を覆うように全面に塗布し、プリベーク（７０℃、３０分間）を行った。その後、マスク露光し、現像液（日本ゼオン社製：ＺＴＭＡ−１００）にて現像を行い、次いで、ポストベーク（１００℃、３０分間）を行って、絶縁層上に隔壁部を形成した。

（有機ＥＬ層の形成）
次いで、真空蒸着法により正孔注入層、白色発光層、および電子注入層からなる有機ＥＬ層を形成した。
すなわち、まずN,N´-ジフェニル-N,N´-ビス（3-メチルフェニル）-〔1,1´-ビフェニル〕-4,4´-ジアミンを、画像表示領域に対応する所定の開口部を備えたフォトマスクを介して600ｎｍまで蒸着して成膜することによって、透明電極層上に正孔注入層を形成した。同様にして、４，４´−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニルを５０ｎｍまで蒸着して成膜した。このとき同時にルブレン（アルドリッチ（株）製、蛍光ピーク波長585nm）を少量含有させた。これにより白色発光層を形成した。その後、トリス（８−キノリノール）アルミニウムを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することにより電子注入層とした。このようにして形成された有機ＥＬ層は、幅２８０μｍのストライプ状パターンとして各隔壁部間に存在するものであった。

（背面電極層の形成）
次に、画像表示領域よりも広い所定の開口部を備えたフォトマスクを介して、上記隔壁部が形成されている領域に、真空蒸着法によりマグネシウムと銀を同時に蒸着（マグネシウムの蒸着速度：１．３〜１．４ｎｍ／秒、銀の蒸着速度：０．１ｎｍ／秒）して成膜した。これにより、隔壁部がマスクとなって、マグネシウム／銀化合物からなる厚み２００ｎｍの背面電極層を有機ＥＬ層上に形成した。この背面電極層は、幅２８０μｍのストライプ状パターンとして有機ＥＬ層上に存在するものであった。
そして、得られた有機ＥＬ素子を封止し、有機ＥＬ表示装置を得た。

［実施例２］
実施例１において、光散乱層形成用塗工液に用いる微粒子を下記のように変更した以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。
・メラミン系樹脂ビーズ（平均粒径1.2μｍ）：5重量部
・メラミン系樹脂ビーズ（平均粒径2.3μｍ）：5重量部

［比較例１］
実施例１において、光散乱層形成用塗工液に用いる微粒子を下記のように変更した以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。
・メラミン系樹脂ビーズ（平均粒径1.2μｍ）：5重量部
・メラミン系樹脂ビーズ（平均粒径0.6μｍ）：5重量部

［比較例２］
実施例１において、光散乱層形成用塗工液に用いる微粒子を下記のように変更した以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。
・メラミン系樹脂ビーズ（平均粒径1.2μｍ）：5重量部
・メラミン系樹脂ビーズ（平均粒径3.5μｍ）：5重量部

［比較例３］
実施例１において、光散乱層形成用塗工液に用いる微粒子を下記のように変更した以外は、実施例１と同様にして、有機ＥＬ表示装置を作製した。
・メラミン系樹脂ビーズ（平均粒径1.2μｍ）：10重量部

［評価］
実施例１，２および比較例１〜３の有機ＥＬ表示装置の透明電極層と背面電極層に直流８．５Ｖの電圧を１０ｍＡ／ｃｍ^２の一定電流密度で印加して連続駆動させることにより、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の白色発光層を発光させた。
有機ＥＬ表示装置の任意の領域に関して分光放射輝度計（株式会社トプコン製 SR-2）にて基板正面と45°傾斜させた場合の色ずれ（CIE色度座標でのΔｘｙ）、および明室下での視認性（外光反射低減効果）について評価を行った。結果を表２に示す。
ここで、表２における添加比率とは、光散乱層形成用塗工液中のすべての微粒子の総重量に対する各平均粒径毎の微粒子の重量の比率（％）である。
また、Δｘｙとは、全色点灯時の基板正面でのWhite座標（ｘ１，ｙ１）に対し、基板面に対して４５°傾斜させた場合のWhite座標（ｘ２，ｙ２）から、下記式により算出される。
Δｘｙ＝（（ｘ１−ｘ２）^２＋（ｙ１−ｙ２）^２）^１／２

従来の表示素子用基板の散乱特性の一例を示すグラフである。 本発明の表示素子用基板の一例を示す概略断面図である。 本発明の表示素子用基板の他の例を示す概略断面図である。 本発明の表示素子用基板の他の例を示す概略断面図である。 本発明のＥＬ素子用基板を用いたＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図である。

符号の説明

１ … 透明基板
２ … 光散乱層
３ … 着色層
５ … 遮光部
１０ … 表示素子用基板

Claims (6)

1. 透明基板と、前記透明基板上に形成され、透明樹脂中に微粒子を分散させてなる光散乱層とを有し、前記光散乱層が、平均粒径が１．０μｍ以上１．６μｍ以下の範囲内である微粒子と、平均粒径が０．８μｍ以上１．０μｍ未満の範囲内である微粒子および１．６μｍ超２．８μｍ以下の範囲内である微粒子の少なくともいずれか一方の微粒子とを含有することを特徴とする表示素子用基板。
2. 前記透明基板上にさらに着色層が形成され、前記光散乱層および前記着色層が順不同に積層されていることを特徴とする請求項１に記載の表示素子用基板。
3. 前記透明基板上の非表示領域に遮光部が形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示素子用基板。
4. 請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の表示素子用基板が、エレクトロルミネッセンス表示装置に適用されるものであることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子用基板。
5. ヘイズ値が３０〜９５の範囲内であることを特徴とする請求項４に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板。
6. 請求項４または請求項５に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板を用いたことを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置。

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