JP2014130940A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014130940A5 JP2014130940A5 JP2012288326A JP2012288326A JP2014130940A5 JP 2014130940 A5 JP2014130940 A5 JP 2014130940A5 JP 2012288326 A JP2012288326 A JP 2012288326A JP 2012288326 A JP2012288326 A JP 2012288326A JP 2014130940 A5 JP2014130940 A5 JP 2014130940A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature adjustment
- liquid
- substrate
- organic solvent
- adjustment liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 47
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 36
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims 19
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N iso-propanol Chemical group CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 11
- 238000003672 processing method Methods 0.000 claims 6
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012288326A JP5955766B2 (ja) | 2012-12-28 | 2012-12-28 | 基板処理装置および基板処理方法 |
KR1020130164205A KR102007043B1 (ko) | 2012-12-28 | 2013-12-26 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
KR1020180027058A KR101987582B1 (ko) | 2012-12-28 | 2018-03-07 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012288326A JP5955766B2 (ja) | 2012-12-28 | 2012-12-28 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014130940A JP2014130940A (ja) | 2014-07-10 |
JP2014130940A5 true JP2014130940A5 (zh) | 2015-04-30 |
JP5955766B2 JP5955766B2 (ja) | 2016-07-20 |
Family
ID=51409084
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012288326A Active JP5955766B2 (ja) | 2012-12-28 | 2012-12-28 | 基板処理装置および基板処理方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5955766B2 (zh) |
KR (2) | KR102007043B1 (zh) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6586697B2 (ja) * | 2015-12-25 | 2019-10-09 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP6613181B2 (ja) * | 2016-03-17 | 2019-11-27 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
KR101935949B1 (ko) * | 2016-10-07 | 2019-01-08 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
JP6815873B2 (ja) | 2017-01-18 | 2021-01-20 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
JP6901944B2 (ja) * | 2017-09-20 | 2021-07-14 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法および基板処理装置 |
JP6843089B2 (ja) * | 2018-04-09 | 2021-03-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 結露防止方法および処理装置 |
JP7250566B2 (ja) * | 2019-02-26 | 2023-04-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
CN115881578A (zh) * | 2021-09-29 | 2023-03-31 | 盛美半导体设备(上海)股份有限公司 | 基板处理装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000058498A (ja) * | 1998-08-17 | 2000-02-25 | Seiko Epson Corp | ウェハ乾燥方法及び乾燥槽及び洗浄槽及び洗浄装置 |
JP2002085943A (ja) * | 2000-09-14 | 2002-03-26 | Sony Corp | ウエハ乾燥装置 |
JP2007227764A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板表面処理装置、基板表面処理方法および基板処理装置 |
JP2008034428A (ja) * | 2006-07-26 | 2008-02-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2008034612A (ja) | 2006-07-28 | 2008-02-14 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
CN103824757B (zh) * | 2007-05-23 | 2018-11-23 | 细美事有限公司 | 基板干燥的装置与方法 |
KR20120034948A (ko) * | 2010-10-04 | 2012-04-13 | 삼성전자주식회사 | 기판 건조 장치 및 이를 이용한 기판 건조 방법 |
JP5523502B2 (ja) * | 2012-05-21 | 2014-06-18 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理方法および基板処理装置 |
-
2012
- 2012-12-28 JP JP2012288326A patent/JP5955766B2/ja active Active
-
2013
- 2013-12-26 KR KR1020130164205A patent/KR102007043B1/ko active IP Right Grant
-
2018
- 2018-03-07 KR KR1020180027058A patent/KR101987582B1/ko active IP Right Grant
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2014130940A5 (zh) | ||
US7644512B1 (en) | Systems and methods for drying a rotating substrate | |
EA201171103A1 (ru) | Аппарат для сушки белья с фильтром ворсинок, установленным внутри контура технологического воздуха, и способ эксплуатации такого аппарата | |
DE602007003506D1 (de) | Flüssigkeitsverarbeitungsvorrichtung | |
TW201250890A (en) | Method and apparatus for drying a semiconductor wafer | |
KR101987582B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
EA201200923A1 (ru) | Способ химической обработки поверхности полупроводниковой подложки (варианты) | |
RU2013140721A (ru) | Способ и устройство для обработки белья | |
TW200703498A (en) | Methods for rinsing microelectronic substrates utilizing cool rinse fluid within a gas environment including a drying enhancement substance | |
ATE424038T1 (de) | Flüssigkeitsbearbeitungsvorrichtung und - verfahren | |
JP2011512645A5 (zh) | ||
TWI615895B (zh) | 自基板移除碳物質之製程 | |
ATE459097T1 (de) | Flüssigkeitsbehandlungsapparat | |
JP2015092538A5 (zh) | ||
JP2016512163A5 (zh) | ||
WO2012073574A1 (ja) | フォトレジストの除去方法 | |
TW201341070A (zh) | 液體管理系統及清洗液之回收再生裝置 | |
WO2008155196A3 (de) | Verfahren zur behandlung von wäschestücken sowie hierzu geeignete waschmaschine | |
CL2012000423A1 (es) | Un sistema para limpieza que comprende, un dispositivo de chorro aire-agua, que comprende, una primera y segunda boquilla, posicionadas con angulos entre 1° y 60°, entre 1° y 45° respecto al eje central respectivamente, donde el dispositivo de chorro aire-agua comprende ademas de un dispositivo dosificador de detergente posicionado entre la fuente de agua y la primera boquilla, y dicho dispositivo dosificador comprende un dispositivo automatico de apagado el cual cierra la entrada de agua y/o salida del dispositivo dosificador cuando la composicion detergente se gasta. | |
GB2465931A (en) | Vapour delivery system | |
TW200801853A (en) | Treating device and manufacturing method for substrate | |
TWI647001B (zh) | 二氧化碳回收方法 | |
JP6022765B2 (ja) | 液体管理システム | |
TW200707511A (en) | Substrate Processing method and substrate processing apparatus | |
JP2013128912A5 (ja) | 洗浄処理装置及び洗浄処理方法 |