JP2014129559A - 多分割スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 隣り合ったターゲット材で形成される分割部の底部に沿って、ワイヤー状の保護材を設置することにより、分割部でハンダ材料の露出がないスパッタリングターゲットを製造することが可能となり、スパッタ中に分割部近傍でのノジュール発生量を低減できる多分割スパッタリングターゲットが得られる。
【選択図】 なし
Description
相対密度99.4%のITOターゲット材を100mm×58mm×5mmのサイズに2個加工した。このITOターゲット材とバッキングプレートとを156℃以上に加熱した後、それぞれの接合面にインジウムハンダ(融点:156℃)を塗布し、これら焼結体をその分割部の幅が室温で0.35mmになるようにバッキングプレートに接合した。このときバッキングプレート表面からターゲット材表面の高さは6mmであった。次に、直径0.3mmのワイヤー状のCu材を保護材とし、分割部の底部に露出しているハンダ材の上に設置し、ハンダ材で固定した。このとき保護材の高さは、0.4mmでハンダ材の露出はなかった。
DC電力 :1.7W/cm2
スパッタガス:Ar+O2
ガス圧 :5mTorr
O2/Ar :0.1%
放電後のターゲットの表面を検査した結果、分割部近傍のノジュール及び異常放電は発生しなかった。
保護材を設置する前に、分割部の底部に露出しているハンダ材を細い棒で剥ぎ取り、バッキングプレートの表面を露出させたこと以外、実施例1と同様のターゲットを得た。このときの保護材の高さは0.3mmでハンダ材の露出はなかった。同様にスパッタリングを実施した結果、分割部近傍のノジュール及び異常放電は発生しなかった。
保護材を直径0.3mmのワイヤー状のAl材としたこと以外、実施例1と同様のターゲットを得た。このときの保護材の高さは0.4mmでハンダ材の露出はなかった。同様にスパッタリングを実施した結果、分割部近傍のノジュール及び異常放電は発生しなかった。
保護材を直径0.5mmのワイヤー状のテフロン(登録商標)(PTFE)材としたこと以外、実施例1と同様のターゲットを得た。このときの保護材の高さは0.6mmでハンダ材の露出はなかった。同様にスパッタリングを実施した結果、分割部近傍のノジュール及び異常放電は発生しなかった。
保護材を設置しなかったこと以外、実施例1と同様のターゲットを得た。このときハンダ材の露出はあった。同様にスパッタリングを実施した結果、分割部近傍のノジュール及び異常放電が発生した。
保護材を直径1.0mmのワイヤー状のCu材としたこと以外、実施例1と同様のターゲットを得た。このときの保護材の高さは1.0mmでハンダ材の露出はなかった。同様にスパッタリングを実施した結果、分割部近傍のノジュール及び異常放電が発生した。
2 ターゲット材
3 ハンダ材
4 分割部の幅
5 保護材の高さ
6 保護材
7 バッキングプレート表面からターゲット材表面の高さ
Claims (3)
- 複数のターゲット部材を低融点ハンダ材により接合して形成される多分割スパッタリングターゲットにおいて、隣り合ったターゲット材で形成される分割部の底部に沿って、バッキングプレート表面からターゲット材表面の高さの1/10以下の高さであるワイヤー状の保護材をハンダ材が露出しないように設置したことを特徴とする多分割スパッタリングターゲット。
- 保護材が、融点300℃以上の材料からなることを特徴とする請求項1記載の多分割スパッタリングターゲット。
- 複数のターゲット材を、ハンダ材を用いて単一のバッキングプレート上の所望の位置に接合する工程前または工程後に、隣り合ったターゲット材で形成される分割部の底部に、ハンダ材が露出しないようにワイヤー状の保護材をバッキングプレート上に設置することを特徴とする請求項1又は2に記載の多分割スパッタリングターゲットの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012286958A JP6079228B2 (ja) | 2012-12-28 | 2012-12-28 | 多分割スパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014129559A true JP2014129559A (ja) | 2014-07-10 |
JP2014129559A5 JP2014129559A5 (ja) | 2015-11-05 |
JP6079228B2 JP6079228B2 (ja) | 2017-02-15 |
Family
ID=51408190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012286958A Active JP6079228B2 (ja) | 2012-12-28 | 2012-12-28 | 多分割スパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6079228B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7311290B2 (ja) | 2019-03-27 | 2023-07-19 | Jx金属株式会社 | 分割スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
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2012
- 2012-12-28 JP JP2012286958A patent/JP6079228B2/ja active Active
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---|---|
JP6079228B2 (ja) | 2017-02-15 |
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A977 | Report on retrieval |
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